JP2887219B2 - Transfer device and method - Google Patents

Transfer device and method

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JP2887219B2
JP2887219B2 JP10876892A JP10876892A JP2887219B2 JP 2887219 B2 JP2887219 B2 JP 2887219B2 JP 10876892 A JP10876892 A JP 10876892A JP 10876892 A JP10876892 A JP 10876892A JP 2887219 B2 JP2887219 B2 JP 2887219B2
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transfer
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誠 清田
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体ウエハを
搬送するための搬送装置及びその方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer apparatus for transferring a semiconductor wafer, for example, and a method therefor .

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウエハの製造工程においてウエハ
を搬送する場合、パーティクルの発生を極力避けなけれ
ばならないという特殊事情がある上、ウエハの処理工程
が多いため、ウエハの受け渡し速度がスループットに大
きな影響を与え、しかも確実な受け渡しが要求されるた
め、搬送機構の構造、受け渡し方法などについて、種々
の工夫がなされている。例えばウエハのレジスト膜形成
を行う処理ステーションとキャリア(ウエハを収納する
容器)ステーションとの間でウエハの受け渡しを行う場
合、ウエハを載置して保持するための進退自在なピンセ
ットを備えた搬送機構を用い、このピンセットをキャリ
アステーションの載置台上のキャリアの正面に対向させ
た後キャリア内に進入させ、ウエハをすくい上げた後後
退させてキャリア内から取り出し、その後アライメント
台を介して処理ステーションのメイン搬送アームに受け
渡す一方、ピンセットは別のメイン搬送アームからアラ
イメント台を介して処理後のウエハを受け取り、キャリ
アの正面に対向する位置まで戻って取り出しとは逆の方
法でウエハをキャリア内に収納するようにしている。そ
して例えばキャリア載置台を昇降機構により昇降させ
て、ピンセットにより処理すべき次のウエハをキャリア
から取り出したり、あるいは処理後の次のウエハをキャ
リア内に収納するようにして、キャリアステーションと
処理ステーションとの間でウエハの受け渡しを行ってい
る。
2. Description of the Related Art When transferring a wafer in a semiconductor wafer manufacturing process, there is a special circumstance that generation of particles must be avoided as much as possible. In addition, since there are many wafer processing processes, the wafer transfer speed has a great effect on throughput. In addition, various methods have been devised for the structure of the transport mechanism, the method of delivery, and the like. For example, when a wafer is transferred between a processing station for forming a resist film on a wafer and a carrier (container for storing a wafer) station, a transfer mechanism including tweezers that can move forward and backward for mounting and holding the wafer. Then, the tweezers are made to face the front of the carrier on the mounting table of the carrier station, and then enter the carrier.Then, the wafer is scooped, then retracted and taken out of the carrier. While being transferred to the transfer arm, the tweezers receive the processed wafer from the other main transfer arm via the alignment table, return to the position facing the front of the carrier, and store the wafer in the carrier in the reverse method of removal. I am trying to do it. Then, for example, the carrier mounting table is moved up and down by an elevating mechanism, and the next wafer to be processed is removed from the carrier by tweezers, or the next wafer after processing is stored in the carrier, and the carrier station and the processing station The wafer is transferred between the two.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところでキャリア内に
おいてウエハは前後、左右に遊びをもって収納されてい
るので、ウエハの平面位置はまちまちであり、更にウエ
ハのオリフラ(オリエンテーションフラット)の向きに
よって、あるいはキャリア自体の歪みによってウエハが
傾いたり、予定位置からずれてキャリア内よりはみ出す
こともある。一方搬送機構のピンセットの停止位置及び
伸び出しストロークが一定である場合、ピンセットがウ
エハをすくい上げたときに、ウエハがピンセット上の予
定位置よりも先端側にずれて保持される場合があり、ま
たウエハ間のクリアランスが例えば6mm程度と非常に
小さいため、ウエハの傾きが大きい場合にはピンセット
がウエハにぶつかって当該ウエハを破損したり落下させ
てしまうこともある。このようにウエハがピンセット上
に予定の位置からずれて保持されていると、その後の搬
送中にウエハが落下するおそれがあるし、ウエハがキャ
リア内で落下している場合には、次にピンセットが進入
してきたときにウエハを傷つけてしまうおそれもある。
However, since the wafers are accommodated in the carrier with play back and forth, left and right, the plane positions of the wafers vary, and furthermore, depending on the orientation of the wafer orientation flat (orientation flat) or the carrier. The wafer may be tilted due to its own distortion, or the wafer may be shifted from a predetermined position and protrude from the carrier. On the other hand, when the tweezers stop position and the extension stroke of the transfer mechanism are constant, when the tweezers scoop up the wafer, the wafer may be held displaced to the tip side from the expected position on the tweezers, and Since the clearance between them is very small, for example, about 6 mm, if the inclination of the wafer is large, the tweezers may hit the wafer and damage or drop the wafer. If the wafer is held on the tweezers at a position deviated from the expected position as described above, the wafer may drop during the subsequent transfer, and if the wafer falls in the carrier, the tweezers may be used next. When the wafer enters, the wafer may be damaged.

【0004】このようなことを防止するために、ピンセ
ットにバキューム機構などを組み込んでウエハを吸着す
る手法も考えられるが、この場合にはウエハがピンセッ
トの保持面に強い力で押し付けられるためピンセット上
のパーティクルがウエハに付着しやすくなるという問題
がある。
In order to prevent such a problem, a method of incorporating a vacuum mechanism or the like into the tweezers to suction the wafer is conceivable. In this case, however, the wafer is pressed against the holding surface of the tweezers with a strong force, so that the tweezers cannot be used. Particles tend to adhere to the wafer.

【0005】更にまた逆にウエハをキャリア内に収納す
るときにも、キャリアの歪みやオリフラの位置によっ
て、ピンセットがウエハをキャリア内に置きそこねて保
持したままキャリアから引き出してしまうこともあり、
この場合にはその後当該ウエハの上に別のウエハが受け
渡されるなどの不都合が生じる。
Further, when the wafer is stored in the carrier, the tweezers may pull the wafer out of the carrier while holding the wafer in the carrier due to the distortion of the carrier or the position of the orientation flat.
In this case, inconvenience such as another wafer being delivered on the wafer after that occurs.

【0006】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は、搬送機構と被搬送物収納部
との間で、被搬送物が確実な受け渡しが行われたか否か
を判定することにより被搬送物の搬送時のトラブルを避
けることにある。
The present invention has been made under such circumstances, and it is an object of the present invention to determine whether or not a transferred object has been reliably transferred between a transfer mechanism and a transferred object storage unit. The problem is to avoid trouble at the time of transporting the transported object.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、複数
の板状の被搬送物が各々ほぼ水平な状態で上下に間隔を
おいて配列して収納され、正面が開口している被搬送物
収納部と、被搬送物を保持する進退自在な搬送用保持部
材との間で被搬送物の受け渡しを行う搬送装置におい
て、前記搬送用保持部材を被搬送物収納部内に進入させ
て被搬送物を取り出すときに、当該搬送用保持部材上の
予め設定した位置における被搬送物の有無を検出する検
出部と、前記搬送用保持部材、及びこの保持部材の先端
にて被搬送物の載置面から突出 した段部、並びに被搬送
物の載置領域の後方側に設けられた位置合わせ部材を備
えた搬送機構と、を有し、前記検出部にて被搬送物が有
りと判定されたときに、搬送用保持部材を後退させて前
記段部と位置合わせ部材とが夫々被搬送物の前後に当接
して搬送用保持部材上で被搬送物の位置合わせを行う
とを特徴とする。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a computer system comprising:
Each of the plate-like objects to be conveyed is approximately horizontal,
Housed in Oite sequence, and the transported object storage portion front is open, in a transfer apparatus for transferring the transported object between the forward and backward freely transport holding member for holding the conveying object, the The transfer holding member enters the transferred object storage section
A detecting unit that detects the presence or absence of a transported object at a preset position on the transport holding member when the transported object is taken out , the transporting holding member, and a tip of the holding member.
Steps protruding from the mounting surface of the transferred object at
An alignment member provided on the rear side of the object loading area is provided.
And the transport mechanism is provided.
When it is determined that
The notch and the positioning member contact each other before and after the transferred object
The position of the transferred object is adjusted on the transfer holding member .

【0008】請求項2の発明は、複数の板状の被搬送物
が各々ほぼ水平な状態で上下に間隔をおいて配列して収
納され、正面が開口している被搬送物収納部と、被搬送
物を保持する進退自在な搬送用保持部材との間で被搬送
物の受け渡しを行う搬送装置において、前記搬送用保持
部材上の被搬送物の載置領域にて光路を透過あるいは反
射するように形成された光路部と、前記被搬送物収納部
に臨む位置に上下方向に光路軸が形成されるように設け
られ、前記光路部からの光路の受光の有無を検出して、
当該光路部上における被搬送物の有無を検出する、発光
部及び受光部よりなる検出部と、を有し、前記光路部
は、搬送用保持部材をその正面から被搬送物収納部内に
進入したときの最大ストロ−ク位置から少し手前に引い
たときに検出部の光軸を横切る位置に設定されたことを
特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, a plurality of plate-like transferred objects are provided.
Are arranged almost vertically and spaced apart vertically.
Is paid, and the transported object storage portion front is open, in a transfer apparatus for transferring the transported object between the forward and backward freely transport holding member for holding the conveying object, the holding said conveyor
Transmission or reflection through the optical path in the area where the transferred object is placed on the member
An optical path portion formed so as to emit light, and the transported object storage portion
Provided so that the optical path axis is formed vertically at the position facing the
And detecting the presence or absence of light reception from the optical path from the optical path,
Light emission that detects the presence or absence of a transported object on the optical path
And a detecting section comprising a light receiving section and the light path section.
Moves the transfer holding member from the front into the transferred object storage section.
Pull slightly forward from the maximum stroke position when entering
The position is set at a position crossing the optical axis of the detection unit when the detection is performed.

【0009】請求項3の発明は、被搬送物収納部と、被
搬送物を保持する進退自在な搬送用保持部材との間で被
搬送物の受け渡しを行うための搬送装置において、複数
の被搬送物収納部を互いに上下に配置し、互いに上下に
配置された各収納部正面に臨む位置に上下方向に沿って
共通の光路を形成する発光部と、前記光路上に配置され
た受光部と、各被搬送物収納部毎に被搬送物の受け渡し
中か否かを判定し、受け渡し中でない被搬送物収納部に
ついて受光部の受光の有無にもとづき被搬送物のはみ出
しの有無を判定すると共に、各被搬送物収納部の上下位
置関係デ−タを予め記憶し、このデ−タにもとづき当該
被搬送物収納部と上下位置関係にある他の被搬送物収納
部が受け渡し中のときには当該一の被搬送物収納部につ
いてはみ出し出力を禁止する制御部と、を設けたことを
特徴とする。請求項4の発明は、複数の板状の被搬送物
が各々ほぼ水平な状態で上下に間隔をおいて配列して収
納され、正面が開口している被搬送物収納部と、被搬送
物を保持する進退自在な搬送用保持部材との間で被搬送
物の受け渡しを行う搬送方法において、前記搬送用保持
部材を被搬送物収納部内に進入させて、被搬送物をすく
い上げて保持する動作を行う工程と、次いで搬送用保持
部材を少し後退させて、搬送用保持部材上の予め設定し
た位置における被搬送物の有無を検出する工程と、この
工程で被搬送物が有りと判定されたときに搬送用保持部
材を更に後退させて、搬送用保持部材の先端にて載置面
から突出する段部と被搬送物の載置領域の後方側に設け
られた位置合わせ部材とにより、夫々被搬送物の前後を
当接させて被搬送物を位置合わせする工程と、を有する
ことを特徴とする
According to a third aspect of the present invention, there is provided a transfer apparatus for transferring a transferred object between a transferred object storage unit and a movable holding member for holding the transferred object. A light-emitting unit that arranges the conveyed goods storage units one above the other, forms a common optical path along the up-down direction at a position facing each storage unit front arranged vertically, and a light-receiving unit disposed on the optical path. It is determined whether or not the transferred object is being transferred for each transferred object storage unit, and the presence or absence of the transferred object is determined based on whether or not the light receiving unit receives light for the transferred object storage unit that is not being transferred. The vertical positional relationship data of each transported object storage unit is stored in advance, and based on this data, when another transported object storage unit in the vertical positional relationship with the transported object storage unit is being transferred, the data is stored. Protrude output for one conveyed object storage section Characterized by providing a control unit for prohibiting. According to a fourth aspect of the present invention, there are provided a plurality of plate-like transferred objects.
Are arranged almost vertically and spaced apart vertically.
The transported object storage section, which is
Transported to and from the transportable holding member
In the transfer method for transferring an object, the transfer holding
Move the member into the object storage area to remove the object
Lifting and holding, and then holding for transport
Retract the member a little and set it on the transfer holding member.
Detecting the presence or absence of the transferred object at the position
Holder for transport when it is determined that there is an object to be transported in the process
The material is further retracted, and the mounting surface is
Provided on the rear side of the step area protruding from
With the positioning members
Contacting and positioning the transferred object.
It is characterized by the following .

【0010】[0010]

【作用】請求項1、2及び4の発明によれば例えば被搬
送物を収納部内に収納する場合、搬送機構の搬送用保持
部材が被搬送物収納部内に入り込み、所定距離だけ若干
上昇した後引き出される。ここで被搬送物が保持部材の
正常位置に載っていれば、保持部材が例えば予め設定し
た位置だけ引き出されたときに被搬送物により検出部の
発光部からの光が遮られるため、受け渡しが正常である
と判定される。これに対し被搬送物が保持部材の先端側
に寄り過ぎているときには前記光は透過または反射して
しまうので受け渡しが異常であると判定される。
According to the first, second and fourth aspects of the present invention, for example, when storing a transported object in the storage section, the transport holding member of the transport mechanism enters the transported object storage section and rises slightly by a predetermined distance. Drawn out. Here, if the transferred object is placed on the normal position of the holding member, the light from the light emitting unit of the detection unit is blocked by the transferred object when the holding member is pulled out, for example, to a preset position. It is determined that it is normal. On the other hand, when the transported object is too close to the leading end of the holding member, the light is transmitted or reflected, so that it is determined that the delivery is abnormal.

【0011】更に、請求項3の発明では、上下に配置さ
れた複数の被搬送物収納部毎に被搬送物の受け渡しの有
無及びはみ出しの有無を管理しているので、一の被搬送
物収納部が被搬送物の受け渡し中であるときには他の被
搬送物収納部の光は遮られてしまい、このままでは「は
み出し」と判断されてしまうが、被搬送物収納部の上下
位置関係を把握して、関連する収納部の受け渡しを考慮
しているので誤って「はみ出し」の出力を発することが
ない。
Further, according to the third aspect of the present invention, the presence / absence of transfer of the transferred object and the presence / absence of the protrusion are controlled for each of the plurality of transferred object storage sections arranged vertically, so that one transferred object storage section is provided. When a unit is transferring a transferred object, the light of the other transferred object storage unit is blocked, and it is judged that it is "overhanging" as it is, but the vertical position relationship of the transferred object storage unit is grasped. Therefore, the output of the "protruding" is not erroneously issued because the delivery of the related storage unit is considered.

【0012】[0012]

【実施例】図1は本発明の実施例の要部を示す斜視図、
図2は本発明の実施例の全体構成を示す斜視図である。
この実施例では、4個のウエハキャリアCを横に並べて
配置できるようにキャリアガイド部11を備えたキャリ
ア載置台1が例えばレジスト膜形成のための処理ステー
ションSに対向して設置されると共に、載置台1と処理
ステーションSとの間には、横方向(キャリアCの並び
方向)に沿って移動自在な搬送基台2及びこの搬送基台
2に沿って進退自在な搬送用保持部材をなすピンセット
3を備えた搬送機構4が設けられている。なおこの実施
例ではキャリアCは本発明の収納部に、またウエハWは
被搬送物に相当する。
FIG. 1 is a perspective view showing a main part of an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing the overall configuration of the embodiment of the present invention.
In this embodiment, a carrier mounting table 1 provided with a carrier guide section 11 is installed facing a processing station S for forming a resist film, for example, so that four wafer carriers C can be arranged side by side. Between the mounting table 1 and the processing station S, a transport base 2 movable in the lateral direction (the direction in which the carriers C are arranged) and a transport holding member movable in and out along the transport base 2 are formed. A transport mechanism 4 having tweezers 3 is provided. In this embodiment, the carrier C corresponds to the storage section of the present invention, and the wafer W corresponds to the transferred object.

【0013】前記ピンセット3には、図3に示すように
先端及び基端部側(手前側)にウエハの周縁の位置を規
制するよう載置面より突出した段部31、32が夫々形
成されると共に、手前側の段部32から例えばウエハW
の載置許容領域の限界位置に相当する数ミリ先端側に寄
った位置に、後述の検出部の光を透過するための光路部
である透孔33が形成されている。そして載置台1に正
常に載置されたキャリアの正面直前に光路を形成するよ
うに、キャリアの正面直前位置の上下に夫々発光部51
及び受光部52が図示しない支持部材に支持されてい
る。前記発光部51及び受光部52の具体的位置につい
ては、ピンセット3が最大ストローク位置(キャリア内
に最も伸び出した位置)から例えば10mm引き出され
たときに透孔33が位置する場所を光路Pが横切るよう
に位置設定されている。
As shown in FIG. 3, the tweezers 3 are formed with stepped portions 31 and 32 protruding from a mounting surface to regulate the position of the peripheral edge of the wafer at the front end and the base end (front side), respectively. At the same time, the wafer W
A hole 33, which is an optical path for transmitting light from a detection unit described later, is formed at a position closer to the front end of a few millimeters corresponding to the limit position of the mounting allowable area. The light-emitting portions 51 are provided above and below the position immediately in front of the carrier so as to form an optical path immediately in front of the carrier normally mounted on the mounting table 1.
The light receiving section 52 is supported by a support member (not shown). Regarding the specific positions of the light emitting section 51 and the light receiving section 52, the optical path P is set so that the through hole 33 is located when the tweezers 3 is pulled out, for example, by 10 mm from the maximum stroke position (the position where the tweezers extend most in the carrier). Positioned to cross.

【0014】また前記受光部52は、処理システム全体
を監視する制御部6に電気的に接続されており、この制
御部6は、受光部52からの検出結果にもとずいて、キ
ャリアCからのウエハWの取り出しモードとキャリアC
へのウエハWの収納モードとに応じてウエハの受け渡し
の状況を判定し、異常時にはアラームを発する機能を有
する。例えばウエハWの取り出しモードにおいて、ピン
セット3の進入時に光を受けなければ、あるいはピンセ
ットの後退時に光を受ければ異常と判定される。またこ
の実施例においては、図2に示すように前記搬送基台2
の前端に、左右に配置された発光部、受光部からなるマ
ッピングセンサ21(ウエハ検出センサ)が進退自在に
設けられる一方、後端部に、ピンセット3の後退時に段
部31と共にウエハWの周縁に当接してウエハWをセン
タリング(中心の位置決め)するための位置決め部材2
2が左右に固定されている。更に処理ステーションSに
は、搬送機構4との間でウエハの受け渡しを行うための
メイン搬送アーム7が配設されている。
The light receiving section 52 is electrically connected to a control section 6 for monitoring the entire processing system. The control section 6 receives signals from the carrier C based on the detection result from the light receiving section 52. Mode of taking out wafer W and carrier C
Has a function of determining the status of transfer of a wafer according to the storage mode of the wafer W to the wafer and issuing an alarm when an abnormality occurs. For example, in the take-out mode of the wafer W, if no light is received when the tweezers 3 enter, or if light is received when the tweezers are retracted, it is determined that there is an abnormality. In this embodiment, as shown in FIG.
At the front end, a mapping sensor 21 (wafer detection sensor) composed of a light-emitting unit and a light-receiving unit disposed on the left and right sides is provided so as to be able to advance and retreat, and at the rear end, the peripheral edge of the wafer W together with the step 31 when the tweezers 3 retreat. Positioning member 2 for centering (positioning the center) of the wafer W in contact with the wafer W
2 is fixed to the left and right. Further, the processing station S is provided with a main transfer arm 7 for transferring a wafer to and from the transfer mechanism 4.

【0015】次に上述実施例の作用について述べる。先
ずキャリア載置台1上のガイド部材11で決まる所定位
置に処理前のウエハWを例えば25枚収納したキャリア
Cを載置し、当該キャリアCの正面に対向する位置に搬
送基台2を移動させる。次いでマッピングセンサ21を
キャリアC内に進入して例えば載置台1を間欠的に昇降
させることによりマッピングすなわち各段のウエハの有
無を検出した後ピンセット3をキャリアC内に進入さ
せ、若干上昇させてウエハWをすくい上げた後後退させ
る。
Next, the operation of the above embodiment will be described. First, a carrier C containing, for example, 25 wafers W before processing is placed at a predetermined position determined by the guide member 11 on the carrier mounting table 1, and the transport base 2 is moved to a position facing the front of the carrier C. . Next, the mapping sensor 21 is inserted into the carrier C and the mounting table 1 is intermittently moved up and down, for example, so that the mapping, that is, the presence / absence of wafers at each stage is detected, and then the tweezers 3 are advanced into the carrier C and slightly raised. After the wafer W is scooped up, it is retracted.

【0016】ここでこの例では、ピンセット3を最大ス
トローク位置から10mm後退させたときにピンセット
3の透孔33は前記発光部51及び受光部52よりなる
検出部の光路上に位置することになるが、ウエハWの周
縁が図4(a)に示すように載置許容領域である透孔3
3よりもピンセット3の手前側に位置していれば、発光
部51よりの光はウエハWによって遮られるので受光部
52からは光検出信号が出力されず、この結果制御部6
は受け渡しが正常であると判定する。一方ウエハWの周
縁が図4(b)に示すように透孔33よりもピンセット
3の先端側に寄って位置していれば、発光部51よりの
光は透孔33を通って受光部52に達するので制御部6
は、光検出信号の入力により受け渡しが異常であると判
定し、アラームの出力指令を発すると共に例えば搬送工
程を停止させる。
Here, in this example, when the tweezers 3 are retracted by 10 mm from the maximum stroke position, the through holes 33 of the tweezers 3 are located on the optical path of the detection unit including the light emitting unit 51 and the light receiving unit 52. However, as shown in FIG. 4A, the periphery of the wafer W
If it is located closer to the tweezers 3 than the tweezers 3, the light from the light emitting unit 51 is blocked by the wafer W, so that no light detection signal is output from the light receiving unit 52.
Determines that the delivery is normal. On the other hand, if the peripheral edge of the wafer W is located closer to the tip end of the tweezers 3 than the through hole 33 as shown in FIG. 4B, the light from the light emitting unit 51 passes through the through hole 33 and the light receiving unit 52 Control unit 6
Determines that the delivery is abnormal due to the input of the light detection signal, issues an alarm output command, and stops, for example, the transport process.

【0017】従ってピンセット3を少し手前にこの例で
は10mm後退したときにウエハWがピンセット3に保
持されてこなかったか、あるいは先端側に片寄って載っ
てしまったことを検出でき、例えば搬送工程を停止でき
るので、搬送すべきウエハWをキャリアC内に取り残し
たり、ウエハWを異常な状態のままで取り出した後にピ
ンセット3からウエハWを落下させたりすることがな
い。そして受け渡しが正常に行われている場合には、ピ
ンセット3を後退させ、後退と同時にピンセット3の段
部31と位置決め部材32とがウエハWの周縁に当接し
てウエハWのセンタリングが行われる。続いて搬送基台
2が中央位置まで移動した後ウエハWはピンセット3か
らメイン搬送アーム7に受け渡されて、処理ステーショ
ンS内に搬送され、例えばレジスト膜形成処理が行われ
る。
Therefore, it is possible to detect that the wafer W is not held by the tweezers 3 when the tweezers 3 are retracted slightly in this example by 10 mm in this example, or that the wafer W is shifted to the leading end side. Therefore, the wafer W to be transferred is not left in the carrier C, and the wafer W is not dropped from the tweezers 3 after the wafer W is taken out in an abnormal state. When the delivery is performed normally, the tweezers 3 are retracted, and the stepped portion 31 of the tweezers 3 and the positioning member 32 abut on the periphery of the wafer W at the same time as the retraction, and the centering of the wafer W is performed. Subsequently, after the transfer base 2 moves to the center position, the wafer W is transferred from the tweezers 3 to the main transfer arm 7 and transferred into the processing station S, for example, where a resist film forming process is performed.

【0018】ここで前記検出部は、ウエハWの取り出し
モードにおいて、ピンセット3がウエハWを取りに行く
ときに最大ストローク直前位置すなわちピンセット3が
最大ストロ−ク位置より少し戻った位置でピンセット3
上のウエハWの有無を検出するので、取り出しミスでウ
エハWがキャリアC内に残ったままウエハWの取り出し
動作が行われるのを防止することができ、更にウエハW
の収納モードにおいては、ウエハWを置きにいくときに
ウエハWがピンセット3上の正常な位置に載置されてい
るか否かを検出すると共に、ウエハを置いた後ピンセッ
ト3をキャリアC内から引き出すときにピンセット3上
のウエハWの有無を検出できるので、ウエハWの収納時
にキャリアC内でウエハWを落としたり、あるいはキャ
リアCの歪みなどによりウエハWをキャリアCに受け渡
さずに載置した状態で次の動作に移ることを防止でき
る。
Here, in the take-out mode of the wafer W, when the tweezers 3 goes to take out the wafer W, the detection unit detects the tweezers 3 at a position immediately before the maximum stroke, that is, at a position where the tweezers 3 is slightly returned from the maximum stroke position.
Since the presence / absence of the upper wafer W is detected, it is possible to prevent the removal operation of the wafer W while the wafer W remains in the carrier C due to a removal error.
In the storage mode (1), when the wafer W is to be set, it is detected whether or not the wafer W is placed at a normal position on the tweezers 3, and after the wafer is set, the tweezers 3 is pulled out from the carrier C. Sometimes the presence or absence of the wafer W on the tweezers 3 can be detected, so the wafer W is dropped in the carrier C when the wafer W is stored, or the wafer W is placed without being transferred to the carrier C due to distortion of the carrier C or the like. In this state, it is possible to prevent the next operation.

【0019】以上において前記検出部としては、発光部
51と受光部52とを各々ピンセット3の一面側に配置
する一方、ピンセット3上に透孔33の代わりに光路部
をなす反射面を形成し、この反射面で発光部51よりの
光を反射させて受光部52に受光させるようにしても同
様の作用効果が得られる。そして光路部はピンセットの
長さ方向に複数形成し複数回検出動作を行うようにして
もよく、このようにすればピンセット上におけるウエハ
の位置ずれの程度をも検出することができる。
In the above description, as the detecting section, the light emitting section 51 and the light receiving section 52 are respectively arranged on one surface side of the tweezers 3, while a reflecting surface forming an optical path section is formed on the tweezers 3 instead of the through hole 33. Even if the light from the light emitting unit 51 is reflected by the reflecting surface and is received by the light receiving unit 52, the same operation and effect can be obtained. Then, a plurality of optical path portions may be formed in the length direction of the tweezers and the detection operation may be performed a plurality of times. In this case, the degree of the positional shift of the wafer on the tweezers can be detected.

【0020】また、上述実施例のごとくキャリアCの正
面の直前に光路を形成するように発光部51と受光部5
2とを配置すればキャリアCからのウエハWのはみ出し
を同時に検出できるので好ましい。
Further, as in the above-described embodiment, the light emitting section 51 and the light receiving section 5 are so formed as to form an optical path immediately before the front of the carrier C.
Arrangement 2 is preferable because the protrusion of the wafer W from the carrier C can be simultaneously detected.

【0021】このようにウエハWのはみ出しを発光部及
び受光部により検出する場合の一例について述べると、
例えば図5に示すようにキャリア載置台1を複数段(図
5では便宜上2段としている。)設けて各キャリア載置
台1上にキャリアを上下方向に重なるように載置すると
共に、縦列方向(上下方向)に配列されたキャリア列毎
にキャリアの正面に臨む位置に共通の光路を上下方向に
沿って形成するように、各キャリア列の上下に夫々発光
部51及び受光部52を配置する。
An example of the case where the protrusion of the wafer W is detected by the light emitting unit and the light receiving unit will be described.
For example, as shown in FIG. 5, a plurality of carrier mounting tables 1 are provided (in FIG. 5, two stages are provided for convenience), the carriers are mounted on each carrier mounting table 1 so as to overlap in the vertical direction, and in the column direction ( The light emitting unit 51 and the light receiving unit 52 are arranged above and below each carrier row so that a common optical path is formed along the vertical direction at a position facing the front of the carrier for each carrier row arranged in the (up and down direction).

【0022】そして制御部6には、載置台1の各載置領
域毎に即ちキャリア毎(載置台1に置かれたときのキャ
リアを指す)にウエハが受け渡し(アクセス)中である
か否かを判定し、受け渡し中でなければ、対応する受光
部52、即ち当該キャリアの下方側の受光部52におけ
る受光の有無にもとづいてキャリアからのウエハのはみ
出しの有無を検出すると共に、受け渡し中であれば上述
の受け渡しの正常/異常を監視する機能が付与されてい
る。更に制御部6内のメモリには、各キャリアの上下位
置関係デ−タが記憶され、例えば図5の例では、C1、
C2が上下位置にあり、…Cn、C(n+1)が上下位
置にあることが記憶されており、制御部6は、このデ−
タを参照して一のキャリアと上下位置関係にある他のキ
ャリアが受け渡し中のときには当該一のキャリアについ
てはみ出し出力を禁止する機能を備えている。 このよ
うな実施例では、図6に示すようにピンセット3がキャ
リアC1に対してアクセス中(ウエハWの受け渡し中)
であれば制御部6は、受光部52よりの信号にもとづい
て先述のようにウエハの受け渡しの正常/異常を監視
し、一方キャリアC1の下方側のキャリアC2に対して
はウエハのはみ出しを判定する。キャリアC2ではピン
セット3はアクセス中でないし、またその上方側のアク
セス動作によって発光部51よりの光が遮られているの
でこのままではウエハのはみ出しと判定されてはみ出し
である旨の信号例えばアラ−ムが発せられてしまうが、
メモリ内にキャリアC1、C2の位置関係が記憶されて
いるのでキャリアC2と上下位置関係にあるキャリアC
1を読み出すことができ、そしてこのキャリアC1はア
クセス中であるから当該キャリアC2についてははみ出
し出力、例えばアラ−ム出力が禁止され、誤ってアラ−
ムを発することがない。従ってこのようにしてウエハの
はみ出しの検出を行えば、上下関係にある複数のキャリ
アに対して共通の発光部、受光部を用いて、各キャリア
(各載置領域)毎にウエハの受け渡しの正常/異常やは
み出しを監視するなど、各ユニット毎に管理するプログ
ラムを採用しても、キャリアからウエハWのはみ出しが
ないのにアラ−ムを発するという不都合を回避すること
ができる。
The control unit 6 determines whether or not a wafer is being delivered (accessed) for each mounting area of the mounting table 1, that is, for each carrier (indicating the carrier when placed on the mounting table 1). If the transfer is not being performed, the presence or absence of the protrusion of the wafer from the carrier is detected based on the presence or absence of the light reception in the corresponding light receiving unit 52, that is, the light receiving unit 52 on the lower side of the carrier. For example, a function of monitoring the normal / abnormal of the above-mentioned delivery is provided. Further, the memory in the control section 6 stores data on the vertical position of each carrier. For example, in the example of FIG.
It is stored that C2 is at the upper and lower positions, and that Cn and C (n + 1) are at the upper and lower positions.
When another carrier in a vertical positional relationship with one carrier is being transferred with reference to the data, a function of protruding the one carrier and prohibiting output is provided. In such an embodiment, as shown in FIG. 6, the tweezers 3 is accessing the carrier C1 (during transfer of the wafer W).
If so, the control unit 6 monitors the normal / abnormality of the wafer transfer based on the signal from the light receiving unit 52 as described above, and determines that the wafer has protruded from the carrier C2 below the carrier C1. I do. In the carrier C2, the tweezers 3 are not being accessed, and the light from the light emitting unit 51 is blocked by the access operation on the upper side thereof. Therefore, if the tweezers 3 are left as they are, it is determined that the wafer is outside the signal, and a signal indicating that the wafer is outside the signal, for example, an alarm Is issued,
Since the positional relationship between the carriers C1 and C2 is stored in the memory, the carrier C which is in a vertical positional relationship with the carrier C2 is stored.
1 can be read out, and since the carrier C1 is being accessed, an overflow output, for example, an alarm output is prohibited for the carrier C2, and an erroneous alarm is output.
Does not emit noise. Therefore, if the protruding portion of the wafer is detected in this manner, a plurality of carriers in a vertical relationship can be shared by a common light-emitting portion and a light-receiving portion, and the normal delivery of the wafer can be performed for each carrier (each mounting area). Even if a program for managing each unit, such as monitoring abnormalities or protrusions, is adopted, it is possible to avoid the inconvenience that an alarm is issued even though the wafer W does not protrude from the carrier.

【0023】更に、本発明にてウエハの受け渡しの正
常、異常を監視するにあったっては、発光部51及び受
光部52を設ける代わりに、例えばピンセット3上の前
記透孔33が形成された位置に静電容量スイッチ部や機
械的なスイッチ部や、反射式の光スイッチ部を設けて、
ウエハWが正常位置に載置されているか否かを判定する
ようにしてもよい。
Further, when monitoring the normal or abnormal transfer of the wafer in the present invention, instead of providing the light emitting section 51 and the light receiving section 52, for example, the position of the tweezers 3 where the through hole 33 is formed is provided. Provide a capacitance switch unit, a mechanical switch unit, and a reflection type optical switch unit
It may be determined whether or not the wafer W is placed at a normal position.

【0024】なお本発明では、ウエハWに限らずLCD
基板などの板状体を受け渡す場合、あるいは板状体に限
らず厚さの大きい被搬送物を収納部と搬送機構との間で
受け渡す場合にも適用できる。
In the present invention, not only the wafer W but also the LCD
The present invention is also applicable to a case where a plate-like body such as a substrate is transferred, or a case where a thick transported object is transferred between the storage unit and the transfer mechanism without being limited to the plate-like body.

【0025】ここで図2に示したウエハWの受け渡しを
行うステ−ション(以下「受け渡しステ−ション」とい
う。)、レジスト膜形成を行うコーティングステ−ショ
ンも含めたフォトレジスト処理室全体の制御方式の一例
について図7を参照しながら説明する。同図中A1〜A
nは各々フォトリソグラフィー装置であり、この中に受
け渡しステ−ション81、コーティングステ−ション8
2、露光を行うステッパステ−ション83、現像を行う
ディベロッパステ−ション84が設置されている。この
制御システムでは各ステ−ション81〜84がリモート
コントローラRCを介してブロックコントローラBCに
より制御されるように、また各ブロックコントローラB
CがホストコントピュータHCにより制御されるように
構成されている。前記ブロックコントローラBCは、各
ステ−ション81〜84に対して制御指令を発すると共
に、各ステ−ション81〜84から情報を受け取ってフ
ォトリソグラフィー装置全体をコントロールする役割を
有し、リモートコントローラRCは、ブロックコントロ
ーラBCからの制御指令を翻訳して各ステ−ション81
〜84に与える一方、各ステ−ション81〜84からの
情報を翻訳してブロックコントローラBCに与える役割
を有する。
Here, the control of the entire photoresist processing chamber including the station for transferring the wafer W shown in FIG. 2 (hereinafter referred to as "transfer station") and the coating station for forming the resist film. An example of the method will be described with reference to FIG. A1 to A in FIG.
n is a photolithography apparatus, in which a transfer station 81 and a coating station 8 are provided.
2. A stepper station 83 for performing exposure and a developer station 84 for performing development are provided. In this control system, each of the stations 81 to 84 is controlled by the block controller BC via the remote controller RC.
C is configured to be controlled by the host computer HC. The block controller BC issues a control command to each of the stations 81 to 84, receives information from each of the stations 81 to 84, and controls the entire photolithography apparatus. , The control commands from the block controller BC are translated to each station 81.
To 84, while translating the information from each of the stations 81 to 84 and giving it to the block controller BC.

【0026】ここにブロックコントローラBCのプロト
コルは工場毎に異なることがあるため、このようにリモ
ートコントローラRCを介在させれば、リモートコント
ローラRCの中に、ブロックコントローラBCで予定さ
れる各プロトコルに対する翻訳プログラムを設けておく
ことにより、リモートコントローラRC及び各ステ−シ
ョン81〜84よりなるユニットが汎用化するため、シ
ステムを組むに当たって非常に便利である。これに対し
てリモートコントローラRCを設けなければ各ステ−シ
ョンを、ブロックコントローラBCが変わる度に組み直
さなければならないので不便である。なおこのような制
御方式は、フォトリソグラフィー処理の場合に限定され
るものではない。
Here, since the protocol of the block controller BC may differ from factory to factory, if the remote controller RC is interposed as described above, the translation for each protocol scheduled by the block controller BC is included in the remote controller RC. By providing the program, the unit consisting of the remote controller RC and each of the stations 81 to 84 is generalized, which is very convenient for assembling the system. On the other hand, if the remote controller RC is not provided, each station must be reassembled every time the block controller BC changes, which is inconvenient. Note that such a control method is not limited to the case of the photolithography process.

【0027】そして各ステ−ション間を流れていくウエ
ハを管理するにあたっては、ロット単位、キャリア単位
で管理する方法もあるが、ウエハ単位つまり枚葉管理す
ることが望ましく、この場合各ウエハに対してどのキャ
リアに属するか、どのロットに属するか、あるいはどの
プロセスまで進んでいるかなどの情報を持たせることに
よって、同じキャリアからあるいは同じロットから出た
ウエハであっても、異なった処理を行うことができ、多
品種のウエハの製造にあたって非常に有利である。
In order to manage wafers flowing between the stations, there is a method of managing wafers in lot units and carrier units. However, it is desirable to manage wafer units, that is, single wafers. Information such as which carrier belongs to which lot, or which process has progressed, so that wafers from the same carrier or the same lot can be processed differently. This is very advantageous in manufacturing a wide variety of wafers.

【0028】また図7のシステムにおいて図2に示す搬
送機構4とキャリアCとの間での受け渡しの異常を検出
部が検出したときには、ブロックコントローラBCから
アラーム指令が発せられると共に、例えば受け渡しステ
−ションに対して受け渡し動作の停止指令が発せられ
る。
In the system shown in FIG. 7, when the detection unit detects an abnormality in the transfer between the transport mechanism 4 and the carrier C shown in FIG. 2, an alarm command is issued from the block controller BC and, for example, the transfer stage is started. An instruction to stop the delivery operation is issued to the application.

【0029】[0029]

【発明の効果】請求項1の発明によれば、搬送用の保持
部材の上の予め設定した位置に被搬送物が有るか無いか
を検出するようにしているため、収納部と保持部材との
間で被搬送物の受け渡しが正常に行われたか否かを確認
することができ、受け渡し異常に伴うトラブルを避ける
ことができる。
According to the first aspect of the present invention, it is detected whether or not an object is present at a preset position on the holding member for conveyance. It is possible to confirm whether or not the transfer of the transported object has been performed normally between the devices, and it is possible to avoid troubles due to the transfer abnormality.

【0030】請求項2の発明によれば、保持部材上に光
路部を設けてここからの透過光あるいは反射光の有無に
よって被搬送物の受け渡しが正常か否かを確認している
ため、保持部材の構造に左右されること無く容易に確認
することができ、しかも光路の位置を変えることで、検
出のタイミングを例えば収納部から保持部材をどのくら
い引き出した時に検出するかを決めることができるの
で、非常に便利である。
According to the second aspect of the present invention, since the optical path is provided on the holding member, and whether or not the transfer of the conveyed object is normal is checked by the presence or absence of the transmitted light or the reflected light from the optical path, the holding is performed. It can be easily checked without being affected by the structure of the members, and by changing the position of the optical path, it is possible to determine the timing of detection, for example, how long the holding member is pulled out of the storage unit when the detection is performed. , Very convenient.

【0031】更に請求項3の発明では互いに上下に配置
された複数の被搬送物収納部よりの被搬送物のはみ出し
の有無を一括して判定することができ、「はみ出し」異
常の信号が誤って出力されるおそれもない。
Further, according to the third aspect of the present invention, it is possible to collectively determine the presence or absence of a conveyed object from a plurality of conveyed object storage units arranged vertically, and a "protruded" abnormality signal is erroneously detected. Output.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例をキャリアと処理ステ−ション
との間の搬送装置に適用した例を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an example in which the embodiment of the present invention is applied to a transfer device between a carrier and a processing station.

【図3】上記実施例で用いた保持部材を示す側面図であ
る。
FIG. 3 is a side view showing a holding member used in the embodiment.

【図4】上記実施例の作用説明図である。FIG. 4 is an operation explanatory view of the embodiment.

【図5】本発明の他の実施例の要部を示す概観斜視図で
ある。
FIG. 5 is a schematic perspective view showing a main part of another embodiment of the present invention.

【図6】ウエハのはみ出しの検出の様子を示す説明であ
る。
FIG. 6 is a diagram illustrating a state of detection of protrusion of a wafer.

【図7】ウエハの処理ステ−ションの制御方式の一例を
示すブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram illustrating an example of a control method of a wafer processing station.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 載置台 2 搬送基台 3 ピンセット 4 搬送機構 51 発光部 52 受光部 6 制御部 C キャリア W ウエハ REFERENCE SIGNS LIST 1 mounting table 2 transfer base 3 tweezers 4 transfer mechanism 51 light emitting unit 52 light receiving unit 6 control unit C carrier W wafer

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B65G 1/00 - 1/20 B65G 49/07 H01L 21/68 Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) B65G 1/00-1/20 B65G 49/07 H01L 21/68

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数の板状の被搬送物が各々ほぼ水平な
状態で上下に間隔をおいて配列して収納され、正面が開
口している被搬送物収納部と、被搬送物を保持する進退
自在な搬送用保持部材との間で被搬送物の受け渡しを行
う搬送装置において、前記搬送用保持部材を被搬送物収納部内に進入させて被
搬送物を取り出すときに、当該 搬送用保持部材上の予め
設定した位置における被搬送物の有無を検出する検出部
と、 前記搬送用保持部材、及びこの保持部材の先端にて被搬
送物の載置面から突出した段部、並びに被搬送物の載置
領域の後方側に設けられた位置合わせ部材を備えた搬送
機構と、を有し、 前記検出部にて被搬送物が有りと判定されたときに、搬
送用保持部材を後退させて前記段部と位置合わせ部材と
が夫々被搬送物の前後に当接して搬送用保持部材上で被
搬送物の位置合わせを行う ことを特徴とする搬送装置。
A plurality of plate-like objects to be conveyed are each substantially horizontal.
It is stored in an array with an interval up and down, and the front is open.
In a transfer device that transfers a transferred object between a transferred object storage unit that is open and a movable transfer holding member that holds the transferred object, the transfer holding member is disposed inside the transferred object storage unit. To enter
Detecting section for detecting the presence or absence of a transferred object at a preset position on the transfer holding member when removing the transferred object
And the carrying holding member, and
Steps protruding from the loading surface of the consignment, and placing of conveyed objects
Transport with alignment member provided on the rear side of the area
A transport mechanism when the detection unit determines that there is an object to be transported.
By retreating the feeding holding member, the step and the positioning member
Contact each other before and after the object to be transferred, and
A transfer device for performing alignment of a transferred object.
【請求項2】 複数の板状の被搬送物が各々ほぼ水平な
状態で上下に間隔をおいて配列して収納され、正面が開
口している被搬送物収納部と、被搬送物を保持する進退
自在な搬送用保持部材との間で被搬送物の受け渡しを行
う搬送装置において、前記搬送用保持部材上の被搬送物の載置領域にて光路を
透過あるいは反射するように形成された光路部と、 前記被搬送物収納部に臨む位置に上下方向に光路軸が形
成されるように設けられ、前記 光路部からの光路の受光
の有無を検出して、当該光路部上における被搬送物の有
無を検出する、発光部及び受光部よりなる検出部と、を
有し、 前記光路部は、搬送用保持部材をその正面から被搬送物
収納部内に進入したときの最大ストロ−ク位置から少し
手前に引いたときに検出部の光軸を横切る位置に設定さ
れた ことを特徴とする搬送装置。
2. A method according to claim 1, wherein each of the plurality of plate-like objects is substantially horizontal.
It is stored in an array with an interval up and down, and the front is open.
In a transfer device for transferring a transferred object between a transferred object storage unit that is opened and a transferable holding member that holds the transferred object, a transfer device that transfers the transferred object on the transfer holding member. Light path in the mounting area
An optical path axis formed vertically or vertically at a position facing the transported object storage section and an optical path section formed to transmit or reflect.
Is provided to detect the presence or absence of light reception of the optical path from the optical path unit, to detect the presence or absence of an object to be conveyed on the optical path unit, a detection unit consisting of a light emitting unit and a light receiving unit,
The optical path section includes a transport holding member from the front surface of the transport holding member.
A little from the maximum stroke position when entering the storage
Set to a position that crosses the optical axis of the detector when pulled toward you.
Conveying apparatus characterized by that.
【請求項3】 被搬送物収納部と、被搬送物を保持する
進退自在な搬送用保持部材との間で被搬送物の受け渡し
を行うための搬送装置において、 複数の被搬送物収納部を互いに上下に配置し、 互いに上下に配置された各被搬送物収納部正面に臨む位
置に上下方向に沿って共通の光路を形成する発光部と、 前記光路上に配置された受光部と、 各被搬送物収納部毎に被搬送物の受け渡し中か否かを判
定し、受け渡し中でない被搬送物収納部について受光部
の受光の有無にもとづき被搬送物のはみ出しの有無を判
定すると共に、各被搬送物収納部の上下位置関係デ−タ
を予め記憶し、このデ−タにもとづき当該被搬送物収納
部に対して上下位置関係にある他の被搬送物収納部が受
け渡し中のときには当該一の被搬送物収納部については
み出し出力を禁止する制御部と、 を設けたことを特徴とする搬送装置。
3. A transfer device for transferring a transferred object between a transferred object storage section and a transferable holding member for holding the transferred object, wherein a plurality of transferred object storage sections are provided. A light-emitting unit that is arranged vertically above and below, and that forms a common optical path along the up-down direction at a position facing the front of each transported object storage unit that is arranged vertically above and below, a light-receiving unit arranged on the optical path, It is determined whether or not the transported object is being delivered for each transported object storage unit, and the presence or absence of the transported object is determined based on whether or not the light receiving unit receives light for the transported object storage unit that is not being transferred. The data on the vertical position of the transported object storage section is stored in advance, and based on this data, when another transported object storage section having a vertical positional relationship with the transported object storage section is being transferred, the data is stored. Protrude output for one conveyed object storage section Conveying apparatus characterized by comprising a control unit for prohibiting.
【請求項4】 複数の板状の被搬送物が各々ほぼ水平な4. A plurality of plate-like objects to be conveyed are each substantially horizontal.
状態で上下に間隔をおいて配列して収納され、正面が開It is stored in an array with an interval up and down, and the front is open.
口している被搬送物収納部と、被搬送物を保持する進退Entry and exit storage section and forward / backward holding the transported object
自在な搬送用保持部材との間で被搬送物の受け渡しを行Transfers the transferred object to and from the flexible holding member
う搬送方法において、In the transport method, 前記搬送用保持部材を被搬送物収納部内に進入させて、The transport holding member is caused to enter the transported object storage portion,
被搬送物をすくい上げて保持する動作を行う工程と、A step of performing an operation of picking up and holding the transferred object, 次いで搬送用保持部材を少し後退させて、搬送用保持部Next, the transfer holding member is slightly retracted, and the transfer holding portion is moved.
材上の予め設定した位置における被搬送物の有無を検出Detects the presence or absence of a transferred object at a preset position on the material
する工程と、The process of この工程で被搬送物が有りと判定されたときに搬送用保When it is determined in this step that there is an object to be transported,
持部材を更に後退させて、搬送用保持部材の先端にて載The holding member is further retracted and placed at the tip of the transfer holding member.
置面から突出する段部と被搬送物の載置領域の後方側にSteps protruding from the loading surface and behind the loading area of the load
設けられた位置合わせ部材とにより、夫々被搬送物の前With the positioning member provided, each of them is in front of the transported object.
後を当接させて被搬送物を位置合わせする工程と、を有Abutting the rear to align the transferred object.
することを特徴とする搬送方法。A transport method characterized in that:
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