RU2005120006A - Устройство вакуумного осаждения и способ получения пленки вакуумным осаждением - Google Patents

Устройство вакуумного осаждения и способ получения пленки вакуумным осаждением Download PDF

Info

Publication number
RU2005120006A
RU2005120006A RU2005120006/02A RU2005120006A RU2005120006A RU 2005120006 A RU2005120006 A RU 2005120006A RU 2005120006/02 A RU2005120006/02 A RU 2005120006/02A RU 2005120006 A RU2005120006 A RU 2005120006A RU 2005120006 A RU2005120006 A RU 2005120006A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
roller
vacuum
vacuum deposition
guide roller
gear
Prior art date
Application number
RU2005120006/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2332523C2 (ru
Inventor
Нобору САСАКИ (JP)
Нобору САСАКИ
Хироси СУЗУКИ (JP)
Хироси Сузуки
Фумитаке КОИЗУМИ (JP)
Фумитаке КОИЗУМИ
Нобухико ИМАЙ (JP)
Нобухико ИМАЙ
Кунимаса АРАЙ (JP)
Кунимаса АРАЙ
Хироюки КОНАГАЙ (JP)
Хироюки КОНАГАЙ
Original Assignee
Топпан Принтинг Ко., Лтд. (Jp)
Топпан Принтинг Ко., Лтд.
Эпплайд Филмз Гмбх Унд Ко. Кг (De)
Эпплайд Филмз Гмбх Унд Ко. Кг
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Топпан Принтинг Ко., Лтд. (Jp), Топпан Принтинг Ко., Лтд., Эпплайд Филмз Гмбх Унд Ко. Кг (De), Эпплайд Филмз Гмбх Унд Ко. Кг filed Critical Топпан Принтинг Ко., Лтд. (Jp)
Publication of RU2005120006A publication Critical patent/RU2005120006A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2332523C2 publication Critical patent/RU2332523C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02612—Formation types
    • H01L21/02617—Deposition types
    • H01L21/02631—Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Claims (10)

1. Устройство (1) вакуумного осаждения, в котором несущая пленка (f1), подаваемая с подающего валика (11), направляется в вакуум с подающего направляющего валика (13) на покрывающий валик (14), осажденный в вакууме слой формируется на несущей пленке, проходящей вокруг покрывающего валика, образующего осажденную в вакууме пленку (f2), и осажденная в вакууме пленка сматывается на отводящий валик (17), в то время как отводящий направляющий валик (15) удерживает осажденный в вакууме слой осажденной в вакууме пленки, направляемой с покрывающего валика, отличающееся тем, что оно содержит средство (18) синхронизации, выполненное с возможностью уравнивания периферийной скорости V1 покрывающего валика (14) и периферийной скорости V2 отводящего направляющего валика (15), так что V1=V2.
2. Устройство вакуумного осаждения по п.1, отличающееся тем, что средство (18) синхронизации содержит первое зубчатое колесо (а1), вращающееся вокруг оси покрывающего валика (14), второе зубчатое колесо (а2), вращающееся вокруг оси отводящего направляющего валика (15), и промежуточные зубчатые колеса (а3 и а4), количество которых является четным, и которые передают вращение первого зубчатого колеса второму зубчатому колесу.
3. Устройство вакуумного осаждения по п.1, отличающееся тем, что средство (18) синхронизации содержит первый шкив (b1), вращающийся вокруг оси покрывающего валика (14), второй шкив (b2), вращающийся вокруг оси отводящего направляющего валика (15), и ремень (b3), передающий вращение первого шкива (b1) второму шкиву (b2).
4. Устройство вакуумного осаждения по п.1, отличающееся тем, что оно содержит двигатель (М2), вращающий отводящий направляющий валик (15), и средство (с1-с3) управления, которое управляет двигателем так, что число n2 оборотов, которое совершает отводящий направляющий валик за единицу времени, могло бы стать n1(r1/r2), где n1 является числом оборотов, которое совершает покрывающий валик за единицу времени, r1 является радиусом покрывающего валика (14), и r2 является радиусом отводящего направляющего валика.
5. Устройство вакуумного осаждения по п.1, отличающееся тем, что оно содержит блок (212) вакуумного осаждения, с помощью которого получают осажденный в вакууме слой на пленке (f), проходящей вокруг покрывающего валика (142), камеру (202) вакуумного осаждения, содержащую блок вакуумного осаждения и имеющую наружную стенку (222), по меньшей мере, одна часть (252) которой выполнена с возможностью снятия или открытия и закрытия, по меньшей мере, один обрабатывающий валик (141), расположенный перед или после обрабатывающего валика, по меньшей мере, один блок (211) обработки, который осуществляет процесс покрытия или обработки поверхности на пленке, проходящей вокруг обрабатывающего валика, причем процесс покрытия или обработки поверхности отличается от процесса, осуществляемого блоком вакуумного осаждения, по меньшей мере, одну камеру (201) обработки, содержащую блок обработки и имеющую наружную стенку (221), по меньшей мере, одна часть (232, 251) которой выполнена с возможностью снятия или открытия и закрытия, и работающий в двух направлениях блок (19) управления подачей, подающий пленку в блок вакуумного осаждения в направлении вперед, сверху вниз или в обратном направлении, снизу вверх.
6. Устройство вакуумного осаждения по п.5, отличающееся тем, что блок (212) вакуумного осаждения реализует способ конденсации из паровой (газовой) фазы, тем самым осуществляя вакуумное осаждение на пленку (f).
7. Способ образования осажденной в вакууме пленки, при котором несущую пленку (f1), подаваемую с подающего валика (11), направляют в вакуум с подающего направляющего валика (13) на покрывающий валик (14), осажденный в вакууме слой формируют на несущей пленке, проходящей вокруг покрывающего валика, образующего осажденную в вакууме пленку (f2), и сматывают осажденную в вакууме пленку на отводящий валик (17), в то время как отводящий направляющий валик (15) удерживает осажденный в вакууме слой осажденной в вакууме пленки, направляемой с покрывающего валика, отличающийся тем, что осуществляют этап синхронизации для уравнивания периферийной скорости V1 покрывающего валика (14) и периферийной скорости V2 отводящего направляющего валика (15), так что V1=V2.
8. Способ образования осажденной в вакууме пленки по п.7, отличающийся тем, что этап синхронизации содержит этап вращения первого зубчатого колеса (а1) вокруг оси покрывающего валика (14), этап вращения четного числа промежуточных зубчатых колес (а3, а4) при вращении первого зубчатого колеса, этап вращения второго зубчатого колеса (а2) вокруг оси отводящего направляющего валика (15) при вращении последнего промежуточного зубчатого колеса (а4), и этап вращения промежуточных зубчатых колес (а3 и а4), количество которых является четным, и которые передают вращение первого зубчатого колеса второму зубчатому колесу.
9. Способ образования осажденной в вакууме пленки по п.7, отличающийся тем, что этап синхронизации содержит этап вращения первого шкива (b1) вокруг оси покрывающего валика (14), этап привода ремня (b3) при вращении первого шкива, и этап вращения второго шкива (b2) вокруг оси отводящего направляющего валика (15) при приведении ремня.
10. Способ образования осажденной в вакууме пленки по п.7, отличающийся тем, что этап синхронизации содержит этап вращения отводящего направляющего валика (15) посредством двигателя (М2), и этап (с1-с3) управления двигателем так, что число n2 оборотов, которое совершает отводящий направляющий валик (15) за единицу времени, могло бы стать n1(r1/r2), где n1 является числом оборотов, которое совершает покрывающий валик за единицу времени, r1 является радиусом покрывающего валика (14), и r2 является радиусом отводящего направляющего валика.
RU2005120006/02A 2002-12-26 2003-12-26 Устройство вакуумного осаждения и способ получения пленки вакуумным осаждением RU2332523C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002376933 2002-12-26
JP2002-376933 2002-12-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2005120006A true RU2005120006A (ru) 2006-02-10
RU2332523C2 RU2332523C2 (ru) 2008-08-27

Family

ID=32677381

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2005120006/02A RU2332523C2 (ru) 2002-12-26 2003-12-26 Устройство вакуумного осаждения и способ получения пленки вакуумным осаждением

Country Status (9)

Country Link
US (1) US7754015B2 (ru)
EP (1) EP1593754B1 (ru)
JP (1) JP4529688B2 (ru)
KR (1) KR101045515B1 (ru)
CN (1) CN100582295C (ru)
AU (1) AU2003292634A1 (ru)
IN (1) IN266855B (ru)
RU (1) RU2332523C2 (ru)
WO (1) WO2004059032A1 (ru)

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1660848B1 (de) * 2004-03-01 2011-05-04 Applied Materials GmbH & Co. KG Verfahren zum aufbringen eines filters auf einer folie
ATE507320T1 (de) 2006-03-26 2011-05-15 Lotus Applied Technology Llc Atomlagenabscheidungssystem und verfahren zur beschichtung von flexiblen substraten
JP5291875B2 (ja) * 2006-11-01 2013-09-18 富士フイルム株式会社 プラズマ装置
US8202368B2 (en) * 2008-04-15 2012-06-19 Yakima Products, Inc. Apparatus and methods for manufacturing thin-film solar cells
US9249502B2 (en) 2008-06-20 2016-02-02 Sakti3, Inc. Method for high volume manufacture of electrochemical cells using physical vapor deposition
US7945344B2 (en) 2008-06-20 2011-05-17 SAKT13, Inc. Computational method for design and manufacture of electrochemical systems
US20100196591A1 (en) * 2009-02-05 2010-08-05 Applied Materials, Inc. Modular pvd system for flex pv
US8357464B2 (en) 2011-04-01 2013-01-22 Sakti3, Inc. Electric vehicle propulsion system and method utilizing solid-state rechargeable electrochemical cells
DE102009060413A1 (de) * 2009-09-07 2011-03-24 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Vorrichtung zum Transport bandförmigen Materials
EP2292339A1 (en) * 2009-09-07 2011-03-09 Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Coating method and coating apparatus
EP2488678B1 (en) 2009-10-14 2019-01-16 Lotus Applied Technology, LLC Inhibiting excess precursor transport between separate precursor zones in an atomic layer deposition system
WO2011082179A1 (en) * 2009-12-28 2011-07-07 Global Solar Energy, Inc. Apparatus and methods of mixing and depositing thin film photovoltaic compositions
WO2012012744A2 (en) 2010-07-23 2012-01-26 Lotus Applied Technology, Llc Substrate transport mechanism contacting a single side of a flexible web substrate for roll-to-roll thin film deposition
CN102021529A (zh) * 2010-12-01 2011-04-20 常州常松金属复合材料有限公司 一种真空镀翻转辊道装置
US9065080B2 (en) 2011-04-01 2015-06-23 Sakti3, Inc. Electric vehicle propulsion system and method utilizing solid-state rechargeable electrochemical cells
JP2012219322A (ja) * 2011-04-07 2012-11-12 Ulvac Japan Ltd 巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法
JP5930791B2 (ja) 2011-04-28 2016-06-08 日東電工株式会社 真空成膜方法、及び該方法によって得られる積層体
US9127344B2 (en) 2011-11-08 2015-09-08 Sakti3, Inc. Thermal evaporation process for manufacture of solid state battery devices
WO2013100073A1 (ja) * 2011-12-28 2013-07-04 大日本印刷株式会社 プラズマを使った前処理装置を有した蒸着装置
JP5794151B2 (ja) * 2012-01-19 2015-10-14 住友金属鉱山株式会社 長尺帯状体の搬送制御方法と長尺帯状体の表面処理方法
EP2626144A1 (en) * 2012-02-07 2013-08-14 Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Roll to roll manufacturing system having a clean room deposition zone and a separate processing zone
US9627717B1 (en) 2012-10-16 2017-04-18 Sakti3, Inc. Embedded solid-state battery
US9435028B2 (en) 2013-05-06 2016-09-06 Lotus Applied Technology, Llc Plasma generation for thin film deposition on flexible substrates
KR101697609B1 (ko) * 2013-10-24 2017-01-19 주식회사 석원 무장력 상태에서의 진공 코팅 필름 건조 장치
US9627709B2 (en) 2014-10-15 2017-04-18 Sakti3, Inc. Amorphous cathode material for battery device
US9508976B2 (en) 2015-01-09 2016-11-29 Applied Materials, Inc. Battery separator with dielectric coating
CN105986235B (zh) * 2016-06-27 2018-09-07 广东腾胜真空技术工程有限公司 多功能卷绕镀膜设备及方法
JP6772663B2 (ja) 2016-08-23 2020-10-21 住友金属鉱山株式会社 ロールツーロール方式による長尺基材の処理装置及びこれを用いた成膜装置
WO2018149510A1 (en) * 2017-02-20 2018-08-23 Applied Materials, Inc. Deposition apparatus for coating a flexible substrate and method of coating a flexible substrate
KR102357946B1 (ko) 2017-08-17 2022-02-08 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 올레핀 분리기가 없는 Li-이온 배터리
EP3841631A4 (en) 2018-08-21 2022-03-30 Applied Materials, Inc. ULTRA-THIN CERAMIC COATING ON SEPARATOR FOR BATTERIES
CN112368413B (zh) 2019-03-12 2022-04-29 株式会社爱发科 真空蒸镀装置
SG11202100867RA (en) * 2019-03-12 2021-03-30 Ulvac Inc Vacuum deposition apparatus
DE102019135296A1 (de) * 2019-07-18 2021-01-21 Tdk Electronics Ag Metallisierte Folie, Vorrichtung für die Herstellung einer metallisierten Folie, Verfahren zur Herstellung einer metallisierten Folie und Folienkondensator, der die metallisierte Folie enthält
KR102422431B1 (ko) * 2021-07-07 2022-07-19 주식회사 서일 마찰대전수단을 구비한 진공증착장치
CN113684464B (zh) * 2021-08-27 2023-06-02 辽宁分子流科技有限公司 一种用于石墨烯复合薄膜制备的卷绕式设备

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2900772C2 (de) * 1979-01-10 1984-08-30 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur Erzeugung von Schichten auf einer bandförmigen Trägerfolie
SU1234306A1 (ru) * 1984-09-15 1986-05-30 Godzdanker Solomon B Устройство дл нат жени ленты конвейера
JPH062954B2 (ja) * 1986-03-31 1994-01-12 圭弘 濱川 薄膜製造装置
DE3738722C2 (de) * 1987-11-14 1995-12-14 Leybold Ag Vorrichtung zum beidseitigen Beschichten von Bändern
JPH0214423A (ja) 1988-06-30 1990-01-18 Sony Corp 磁気記録媒体製造用真空蒸着装置
JPH062954A (ja) 1992-06-18 1994-01-11 Sharp Corp 蓄熱型電気温風暖房機
JPH08311650A (ja) * 1995-05-16 1996-11-26 Meiwa Packs:Kk 連続真空蒸着装置および蒸着方法
CN2232924Y (zh) 1995-09-04 1996-08-14 青州市包装装璜材料厂 一种真空镀膜机收卷装置
JPH09176855A (ja) * 1995-12-22 1997-07-08 Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd 薄膜形成装置
JPH09195041A (ja) * 1996-01-12 1997-07-29 Sony Corp スパッタリング装置
JP3199162B2 (ja) * 1996-03-18 2001-08-13 松下電器産業株式会社 連続真空処理装置
JPH1197446A (ja) * 1997-09-18 1999-04-09 Tokyo Electron Ltd 縦型熱処理装置
JPH11158630A (ja) * 1997-11-26 1999-06-15 Shin Meiwa Ind Co Ltd 真空搬送装置
JP4430165B2 (ja) * 1999-09-02 2010-03-10 日東電工株式会社 真空薄膜形成装置および真空薄膜形成方法
JP4630443B2 (ja) * 2000-10-23 2011-02-09 キヤノン株式会社 スパッタリングによる成膜方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP1593754A1 (en) 2005-11-09
KR20050092724A (ko) 2005-09-22
US7754015B2 (en) 2010-07-13
IN266855B (ru) 2015-06-09
JP4529688B2 (ja) 2010-08-25
WO2004059032A1 (ja) 2004-07-15
EP1593754B1 (en) 2018-05-23
US20050249875A1 (en) 2005-11-10
JPWO2004059032A1 (ja) 2006-04-27
EP1593754A4 (en) 2011-03-23
AU2003292634A1 (en) 2004-07-22
CN100582295C (zh) 2010-01-20
KR101045515B1 (ko) 2011-06-30
CN1732284A (zh) 2006-02-08
RU2332523C2 (ru) 2008-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2005120006A (ru) Устройство вакуумного осаждения и способ получения пленки вакуумным осаждением
JP6255341B2 (ja) 基板上に原子層を堆積させる方法および装置
KR101799609B1 (ko) 기판 상에 원자 층을 증착시키는 장치 및 방법
KR20150115942A (ko) 기판 상에 원자 층을 증착시키는 장치 및 방법
RU2240271C2 (ru) Устройство для транспортировки контейнеров (варианты)
US20120145080A1 (en) Substrate support unit, and apparatus and method for depositing thin layer using the same
US3962019A (en) Floating mandrel duct making apparatus
RU2004112868A (ru) Установка для электронно-лучевого нанесения покрытий
US20180037983A1 (en) Sputtering device
JP2009526668A (ja) ブランクからなる製品（シガレットパッケージ）を製造および／または包装するための方法ならびに該方法を実施するための製造ユニット
EP0619260A1 (fr) Procédé de fabrication d'enroulements tronconiques de fil et enroulements en résultant
KR20050115281A (ko) 액체가 스며든 종이 또는 건조 종이를 선택적으로 운반하기위한 종이 분배기
GB2097027A (en) Apparatus for the continous production and laying down of yarn loops
JP3095119B2 (ja) 被覆種子の硬化装置
US2082486A (en) Process and apparatus for the manufacture of films and foils
US4475479A (en) Machine for the continuous coating of a body of revolution
US3071301A (en) Apparatus for feeding a multifilament strand
US5288524A (en) Process for coating hollow bodies
FR2502129A1 (fr) Dispositif pour alimenter en feuilles des machines a faconner les feuilles, notamment des machines a doubler
WO2009125803A1 (ja) 成膜装置及び成膜方法
JP4238565B2 (ja) 真空蒸着装置及び蒸着フィルム製造方法
US4310113A (en) Apparatus and method for storage and reaction treatment of textile material in web form
JP2003180322A (ja) 帯状またはテープ状の材料のための連続貯蔵装置およびそれらを連続貯蔵するための方法
KR20160134267A (ko) 증착시스템
US1365517A (en) Machine for making paper cups