KR20050092724A - 진공 증착 장치 및 증착 필름 제조 방법 - Google Patents
진공 증착 장치 및 증착 필름 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20050092724A KR20050092724A KR1020057012013A KR20057012013A KR20050092724A KR 20050092724 A KR20050092724 A KR 20050092724A KR 1020057012013 A KR1020057012013 A KR 1020057012013A KR 20057012013 A KR20057012013 A KR 20057012013A KR 20050092724 A KR20050092724 A KR 20050092724A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- roll
- film
- coating
- vapor deposition
- guide roll
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/02631—Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
Claims (10)
- 진공 중에서 풀기 롤(11)로부터 풀어낸 소재 필름(f1)을 입측 가이드 롤 (13)에서 코팅 롤(14)로 도입하고, 이 코팅 롤 상에서 증착층을 소재 필름 표면에 형성하고, 상기 코팅 롤로부터 도출된 증착 필름 표면의 증착층을 출측 가이드 롤(15)로 누르면서 해당 증착 필름(f2)을 감기 롤(17)에 감기게 하는 진공 증착 장치(1)로서,상기 코팅 롤(14)의 외주 속도(v1)와 상기 출측 가이드 롤(15)의 외주 속도(v2)를 v1=v2가 되도록 동조시키기 위한 동조 수단(18)을 구비한 것을 특징으로 하는 진공 증착 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 동조 수단(18)은상기 코팅 롤(14)의 회전축을 회전중심으로 하는 제 1 기어(a1)와,상기 출측 가이드 롤(15)의 회전축을 회전중심으로 하는 제 2 기어(a2)와,상기 제 1 기어의 회전을 상기 제 2 기어에 전달하기 위한 짝수개의 중간기어(a3, a4),를 구비한 것을 특징으로 하는 진공 증착 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 동조 수단(18)은상기 코팅 롤(14)의 회전축을 회전중심으로 하는 제 1 벨트 차(b1)와,상기 출측 가이드 롤(15)의 회전축을 회전중심으로 하는 제 2 벨트 차(b2)와,상기 제 1 벨트 차의 회전을 상기 제 2 벨트 차에 전달하기 위한 벨트(b3),를 구비한 것을 특징으로 하는 진공 증착 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 출측 가이드 롤(15)을 회전시키기 위한 모터(M2)와,상기 코팅 롤(14)의 반경이 r1이며, 상기 출측 가이드 롤의 반경이 r2이며, 상기 코팅 롤의 단위 시간당의 회전수가 n1일 때, 상기 출측 가이드 롤의 단위 시간당의 회전수(n2)를 n2=n1(r1/r2)로 하도록, 상기 모터를 제어하는 제어 수단(c1~c3),을 구비한 것을 특징으로 하는 진공 증착 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 코팅 롤(142) 상의 필름(f)에 증착층을 형성하기 위한 증착 유닛(212)과,상기 증착 유닛을 수용하고, 적어도 외벽(222)의 일부(252)가 착탈 또는 개폐가능한 증착실(202)과,상기 코팅 롤의 상류측 또는 하류측에 개별적으로 설치한 1개 이상의 처리 롤(141)과,상기 처리 롤 상의 필름에, 상기 증착 유닛과는 다른 방식의 코팅 처리 또는 표면 처리를 실시하기 위한 1대 이상의 처리 유닛(211)과,상기 처리 유닛을 개별적으로 수용하고, 적어도 외벽(221)의 일부(231, 251)가 착탈 또는 개폐가능한 1실 이상의 처리실(201)과,상기 증착 유닛 및 상기 처리 유닛에 대하여, 상기 필름을 「상류측에서 하류측으로의 정방향」 또는 「하류측에서 상류측으로의 역방향」의 쌍방향으로 공급하기 위한 쌍방향 공급 수단(19),을 구비한 것을 특징으로 하는 진공 증착 장치.
- 제 5 항에 있어서,상기 증착 유닛(212)은 PVD방식에 의해 증착 처리를 상기 필름(f) 상에 실시하는 것을 특징으로 하는 진공 증착 장치.
- 진공 중에서 풀기 롤(11)로부터 풀어낸 소재 필름(f1)을 입측 가이드 롤 (13)에서 코팅 롤(14)로 도입하고, 이 코팅 롤 상에서 증착층을 소재 필름 표면에 형성하고, 상기 코팅 롤로부터 도출된 증착 필름 표면의 증착층을 출측 가이드 롤(15)로 누르면서 해당 증착 필름(f2)을 감기 롤(17)에 감기게 하는 증착 필름 제조 방법으로서,상기 코팅 롤(14)의 외주 속도(v1)와 상기 출측 가이드 롤(15)의 외주 속도(v2)를 v1=v2가 되도록 동조시키기 위한 동조 공정(18)을 구비한 것을 특징으로 하는 증착 필름 제조 방법.
- 제 7 항에 있어서,상기 동조 공정(18)은상기 코팅 롤(14)의 회전축을 회전중심으로 제 1 기어(a1)가 회전하는 공정과,이 제 1 기어의 회전에 따라 짝수개의 중간기어(a3, a4)가 회전하는 공정과,이 짝수개의 중간기어 중 최종단의 중간기어(a4)의 회전에 따라 상기 출측 가이드 롤(15)의 회전축을 회전중심으로 제 2 기어(a2)가 회전하는 공정,을 구비한 것을 특징으로 하는 증착 필름 제조 방법.
- 제 7 항에 있어서,상기 동조 공정(18)은상기 코팅 롤(14)의 회전축을 회전중심으로 제 1 벨트 차(b1)가 회전하는 공정과,이 제 1 벨트 차의 회전에 따라 벨트(b3)가 이동하는 공정과,이 벨트의 이동에 따라 상기 출측 가이드 롤(15)의 회전축을 회전중심으로 제 2 벨트 차(b2)가 회전하는 공정,을 구비한 것을 특징으로 하는 증착 필름 제조 방법.
- 제 7 항에 있어서,상기 동조 공정(18)은상기 출측 가이드 롤(15)을 모터(M2)에 의해 회전시키는 공정과,상기 코팅 롤(14)의 반경이 r1이며, 상기 출측 가이드 롤의 반경이 r2이며, 상기 코팅 롤의 단위 시간당의 회전수가 n1일 때, 상기 출측 가이드 롤의 단위 시간당의 회전수(n2)를 n2=n1(r1/r2)로 하도록 상기 모터를 제어하는 제어 공정(c1~c3),을 구비한 것을 특징으로 하는 증착 필름 제조 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002376933 | 2002-12-26 | ||
JPJP-P-2002-00376933 | 2002-12-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050092724A true KR20050092724A (ko) | 2005-09-22 |
KR101045515B1 KR101045515B1 (ko) | 2011-06-30 |
Family
ID=32677381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020057012013A KR101045515B1 (ko) | 2002-12-26 | 2003-12-26 | 진공 증착 장치 및 증착 필름 제조 방법 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7754015B2 (ko) |
EP (1) | EP1593754B1 (ko) |
JP (1) | JP4529688B2 (ko) |
KR (1) | KR101045515B1 (ko) |
CN (1) | CN100582295C (ko) |
AU (1) | AU2003292634A1 (ko) |
IN (1) | IN266855B (ko) |
RU (1) | RU2332523C2 (ko) |
WO (1) | WO2004059032A1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150047685A (ko) * | 2013-10-24 | 2015-05-06 | 주식회사 석원 | 무장력 상태에서의 진공 코팅 필름 건조 장치 |
KR102422431B1 (ko) * | 2021-07-07 | 2022-07-19 | 주식회사 서일 | 마찰대전수단을 구비한 진공증착장치 |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112004002818D2 (de) * | 2004-03-01 | 2006-12-14 | Applied Films Gmbh & Co Kg | Substrat mit einem Fabry-Perot-Filter und Verfahren zum Aufbringen des Filters auf das Substrat |
ATE507320T1 (de) | 2006-03-26 | 2011-05-15 | Lotus Applied Technology Llc | Atomlagenabscheidungssystem und verfahren zur beschichtung von flexiblen substraten |
JP5291875B2 (ja) * | 2006-11-01 | 2013-09-18 | 富士フイルム株式会社 | プラズマ装置 |
US20090255467A1 (en) | 2008-04-15 | 2009-10-15 | Global Solar Energy, Inc. | Apparatus and methods for manufacturing thin-film solar cells |
US7945344B2 (en) | 2008-06-20 | 2011-05-17 | SAKT13, Inc. | Computational method for design and manufacture of electrochemical systems |
US9249502B2 (en) * | 2008-06-20 | 2016-02-02 | Sakti3, Inc. | Method for high volume manufacture of electrochemical cells using physical vapor deposition |
US20100196591A1 (en) * | 2009-02-05 | 2010-08-05 | Applied Materials, Inc. | Modular pvd system for flex pv |
US20110177622A1 (en) * | 2009-12-28 | 2011-07-21 | Global Solar Energy, Inc. | Apparatus and methods of mixing and depositing thin film photovoltaic compositions |
US8357464B2 (en) | 2011-04-01 | 2013-01-22 | Sakti3, Inc. | Electric vehicle propulsion system and method utilizing solid-state rechargeable electrochemical cells |
EP2292339A1 (en) * | 2009-09-07 | 2011-03-09 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Coating method and coating apparatus |
DE102009060413A1 (de) * | 2009-09-07 | 2011-03-24 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Vorrichtung zum Transport bandförmigen Materials |
CN102639749B (zh) | 2009-10-14 | 2015-06-17 | 莲花应用技术有限责任公司 | 在原子层沉积系统中抑制过量前体在单独前体区之间运送 |
KR101791033B1 (ko) | 2010-07-23 | 2017-10-27 | 로터스 어플라이드 테크놀로지, 엘엘씨 | 롤-투-롤 박막 증착을 위한 유연한 웹 기재의 한쪽 측면과 접촉하는 기재 이동 메커니즘 |
CN102021529A (zh) * | 2010-12-01 | 2011-04-20 | 常州常松金属复合材料有限公司 | 一种真空镀翻转辊道装置 |
US9065080B2 (en) | 2011-04-01 | 2015-06-23 | Sakti3, Inc. | Electric vehicle propulsion system and method utilizing solid-state rechargeable electrochemical cells |
JP2012219322A (ja) * | 2011-04-07 | 2012-11-12 | Ulvac Japan Ltd | 巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 |
JP5930791B2 (ja) | 2011-04-28 | 2016-06-08 | 日東電工株式会社 | 真空成膜方法、及び該方法によって得られる積層体 |
US9127344B2 (en) | 2011-11-08 | 2015-09-08 | Sakti3, Inc. | Thermal evaporation process for manufacture of solid state battery devices |
EP2799589B1 (en) * | 2011-12-28 | 2021-04-07 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Vapor deposition method having pretreatment that uses plasma |
JP5794151B2 (ja) * | 2012-01-19 | 2015-10-14 | 住友金属鉱山株式会社 | 長尺帯状体の搬送制御方法と長尺帯状体の表面処理方法 |
EP2626144A1 (en) * | 2012-02-07 | 2013-08-14 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Roll to roll manufacturing system having a clean room deposition zone and a separate processing zone |
US9627717B1 (en) | 2012-10-16 | 2017-04-18 | Sakti3, Inc. | Embedded solid-state battery |
US9435028B2 (en) | 2013-05-06 | 2016-09-06 | Lotus Applied Technology, Llc | Plasma generation for thin film deposition on flexible substrates |
US9627709B2 (en) | 2014-10-15 | 2017-04-18 | Sakti3, Inc. | Amorphous cathode material for battery device |
US9508976B2 (en) | 2015-01-09 | 2016-11-29 | Applied Materials, Inc. | Battery separator with dielectric coating |
CN105986235B (zh) * | 2016-06-27 | 2018-09-07 | 广东腾胜真空技术工程有限公司 | 多功能卷绕镀膜设备及方法 |
JP6772663B2 (ja) | 2016-08-23 | 2020-10-21 | 住友金属鉱山株式会社 | ロールツーロール方式による長尺基材の処理装置及びこれを用いた成膜装置 |
WO2018149510A1 (en) * | 2017-02-20 | 2018-08-23 | Applied Materials, Inc. | Deposition apparatus for coating a flexible substrate and method of coating a flexible substrate |
CN111201634B (zh) | 2017-08-17 | 2023-04-04 | 应用材料公司 | 无烯烃隔板的锂离子电池 |
CN112534636A (zh) | 2018-08-21 | 2021-03-19 | 应用材料公司 | 在用于电池的隔板上的超薄陶瓷涂层 |
CN112368413B (zh) | 2019-03-12 | 2022-04-29 | 株式会社爱发科 | 真空蒸镀装置 |
WO2020183777A1 (ja) * | 2019-03-12 | 2020-09-17 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置 |
DE102019135296A1 (de) * | 2019-07-18 | 2021-01-21 | Tdk Electronics Ag | Metallisierte Folie, Vorrichtung für die Herstellung einer metallisierten Folie, Verfahren zur Herstellung einer metallisierten Folie und Folienkondensator, der die metallisierte Folie enthält |
CN113684464B (zh) * | 2021-08-27 | 2023-06-02 | 辽宁分子流科技有限公司 | 一种用于石墨烯复合薄膜制备的卷绕式设备 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2900772C2 (de) * | 1979-01-10 | 1984-08-30 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur Erzeugung von Schichten auf einer bandförmigen Trägerfolie |
SU1234306A1 (ru) * | 1984-09-15 | 1986-05-30 | Godzdanker Solomon B | Устройство дл нат жени ленты конвейера |
JPH062954B2 (ja) * | 1986-03-31 | 1994-01-12 | 圭弘 濱川 | 薄膜製造装置 |
DE3738722C2 (de) * | 1987-11-14 | 1995-12-14 | Leybold Ag | Vorrichtung zum beidseitigen Beschichten von Bändern |
JPH0214423A (ja) | 1988-06-30 | 1990-01-18 | Sony Corp | 磁気記録媒体製造用真空蒸着装置 |
JPH062954A (ja) | 1992-06-18 | 1994-01-11 | Sharp Corp | 蓄熱型電気温風暖房機 |
JPH08311650A (ja) * | 1995-05-16 | 1996-11-26 | Meiwa Packs:Kk | 連続真空蒸着装置および蒸着方法 |
CN2232924Y (zh) | 1995-09-04 | 1996-08-14 | 青州市包装装璜材料厂 | 一种真空镀膜机收卷装置 |
JPH09176855A (ja) | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 薄膜形成装置 |
JPH09195041A (ja) * | 1996-01-12 | 1997-07-29 | Sony Corp | スパッタリング装置 |
JP3199162B2 (ja) * | 1996-03-18 | 2001-08-13 | 松下電器産業株式会社 | 連続真空処理装置 |
JPH1197446A (ja) | 1997-09-18 | 1999-04-09 | Tokyo Electron Ltd | 縦型熱処理装置 |
JPH11158630A (ja) * | 1997-11-26 | 1999-06-15 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 真空搬送装置 |
JP4430165B2 (ja) * | 1999-09-02 | 2010-03-10 | 日東電工株式会社 | 真空薄膜形成装置および真空薄膜形成方法 |
JP4630443B2 (ja) | 2000-10-23 | 2011-02-09 | キヤノン株式会社 | スパッタリングによる成膜方法 |
-
2003
- 2003-12-26 JP JP2004562952A patent/JP4529688B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-26 RU RU2005120006/02A patent/RU2332523C2/ru active
- 2003-12-26 IN IN2696DEN2005 patent/IN266855B/en unknown
- 2003-12-26 CN CN200380107480A patent/CN100582295C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-26 AU AU2003292634A patent/AU2003292634A1/en not_active Abandoned
- 2003-12-26 WO PCT/JP2003/016846 patent/WO2004059032A1/ja active Application Filing
- 2003-12-26 EP EP03782915.7A patent/EP1593754B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-26 KR KR1020057012013A patent/KR101045515B1/ko active IP Right Grant
-
2005
- 2005-06-21 US US11/157,163 patent/US7754015B2/en active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150047685A (ko) * | 2013-10-24 | 2015-05-06 | 주식회사 석원 | 무장력 상태에서의 진공 코팅 필름 건조 장치 |
KR102422431B1 (ko) * | 2021-07-07 | 2022-07-19 | 주식회사 서일 | 마찰대전수단을 구비한 진공증착장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4529688B2 (ja) | 2010-08-25 |
WO2004059032A1 (ja) | 2004-07-15 |
US7754015B2 (en) | 2010-07-13 |
AU2003292634A1 (en) | 2004-07-22 |
KR101045515B1 (ko) | 2011-06-30 |
JPWO2004059032A1 (ja) | 2006-04-27 |
EP1593754B1 (en) | 2018-05-23 |
RU2332523C2 (ru) | 2008-08-27 |
RU2005120006A (ru) | 2006-02-10 |
CN1732284A (zh) | 2006-02-08 |
US20050249875A1 (en) | 2005-11-10 |
CN100582295C (zh) | 2010-01-20 |
IN266855B (ko) | 2015-06-09 |
EP1593754A4 (en) | 2011-03-23 |
EP1593754A1 (en) | 2005-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101045515B1 (ko) | 진공 증착 장치 및 증착 필름 제조 방법 | |
JP2012511106A5 (ko) | ||
US5460853A (en) | System and method for multilayer film production on tape substrate | |
US7829156B2 (en) | Method and apparatus for producing biaxially oriented thin films | |
CN109554680B (zh) | 一种卷绕式真空镀膜机 | |
TWI620833B (zh) | 捲取成膜裝置 | |
JP4623349B2 (ja) | 薄膜型ndフィルタおよびその製造方法 | |
JP2012516946A (ja) | 真空コーティングロール基板のための高生産性装置 | |
CN107949656A (zh) | 用于向基材的表面提供涂覆层的设备和方法 | |
US11058010B2 (en) | Evaporation apparatus for depositing material on a flexible substrate and method therefore | |
JP4903453B2 (ja) | 成膜方法 | |
JP4238565B2 (ja) | 真空蒸着装置及び蒸着フィルム製造方法 | |
JP4327440B2 (ja) | 誘電体多層膜の製造装置 | |
JP3608838B2 (ja) | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 | |
WO2020025102A1 (en) | Method of coating a flexible substrate with a stack of layers, layer stack, and deposition apparatus for coating a flexible substrate with a stack of layers | |
JP7481150B2 (ja) | 真空成膜装置及び真空成膜方法 | |
CN210127269U (zh) | 柔性卷对卷磁控溅射镀膜中超薄基带牵引装置 | |
KR101327271B1 (ko) | 스테인레스 스틸 증착필름 및 그의 제조방법 | |
JP6153243B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
WO2022210395A1 (ja) | 真空成膜装置 | |
JPS61278032A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 | |
JPH08325732A (ja) | 真空成膜装置 | |
JPH03191051A (ja) | ガスバリアフイルム | |
JPS62205271A (ja) | 帯板の連続複合コ−テイング設備 | |
JPS62294170A (ja) | 薄膜の形成方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140603 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150601 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160527 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170601 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180529 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190530 Year of fee payment: 9 |