JP4903453B2 - 成膜方法 - Google Patents
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Description
また、本発明の方法による場合には、シートの上に、湿気及び酸素の透過を防止するための窒化シリコンからなるバリヤ層と、酸化シリコン、窒酸化シリコンおよび炭化シリコンのうちの少なくとも一つからなる応力緩和層とを有する保護膜を形成するので、バリヤ層におけるクラックの発生を効果的に防止でき、更に上記保護膜の上に例えば有機EL素子などを形成してもその有機EL素子などを長期にわたって湿気、酸素から保護することが可能になる。つまり、シート上に形成した窒化シリコンからなるバリヤ層は、湿気、酸素の透過率が非常に低いので、湿気、酸素から保護することができる。また、バリヤ層の他に、酸化シリコン、窒酸化シリコンおよび炭化シリコンのうちの少なくとも一つからなる応力緩和層を形成しているので、成膜後の残留応力が大きいバリヤ層におけるクラックの発生を効果的に防止することができ、これにより長期にわたって湿気、酸素から保護することが可能になる。
2 供給ローラ
3、4、5 薄膜形成ゾーン
6 巻取ローラ
8 出入り口
10 シート
11、12、13、14、15、16 ガス導入管
20 保護膜
21 バリヤ層
22 応力緩和層
23 第2バリヤ層
32 誘導コイル
Claims (3)
- 一定幅のシートが巻回された供給ローラから一定距離離れた巻取ローラにより、前記供給ローラから解かれたシートを、2以上のプラズマCVD法による薄膜形成ゾーンを通過させて巻取る工程と、
上記薄膜形成ゾーンを通過することに伴って上記シート上に上記ゾーンと同数の薄膜のそれぞれを順次プラズマCVD法により成膜する工程とを含み、
前記2以上の薄膜形成ゾーンを通過させ、前記シートの上に、湿気及び酸素の透過を防止するための窒化シリコンからなるバリヤ層と、酸化シリコン、窒酸化シリコンおよび炭化シリコンのうちの少なくとも一つからなる応力緩和層とを有する保護膜を形成することを特徴とする成膜方法。 - 請求項1に記載の成膜方法において、
前記シートの移動速度を変えることにより前記薄膜の厚みを調整することを特徴とする成膜方法。 - 請求項1または2に記載の成膜方法において、
前記薄膜形成ゾーンのシート移動方向に沿った長さを調節することにより前記薄膜の厚みを調整することを特徴とする成膜方法。
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