JP2008202069A - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る成膜装置(巻取式プラズマCVD装置)20は、成膜部21(21A,21B)と、巻出しローラ22と、巻取りローラ23とを備えたステッピングロール方式の成膜装置であって、成膜部21は、成膜室24と、成膜室24のフィルム導入側およびフィルム導出側に各々設けられフィルムFを挟んで開閉する一対のシール機構31A,32A(31B,32B)とを備え、これら一対のシール機構の間の距離を、成膜室24で成膜されるフィルム長の(N+2)倍(Nは自然数)とする。これにより、上記シール機構によって挟持される領域(シール領域)を除くほぼすべてのフィルム領域を成膜領域とすることが可能となり、フィルムの使用効率の向上が図れるようになる。
【選択図】図1
Description
21 成膜部
21A 第1成膜部
21B 第2成膜部
22 巻出しローラ
23 巻取りローラ
24 成膜室
25 予備室
30 真空チャンバ
31A,32A,31B,32B シール機構
40 高周波電極
41 対向電極
44 シャワープレート
48 マスク部材
49 遮蔽部材
Claims (5)
- 成膜部と、前記成膜部にフィルムを供給する巻出しローラと、前記成膜部で成膜したフィルムを巻き取る巻取りローラとを備えたステッピングロール方式の成膜装置であって、
前記成膜部は、成膜室と、前記成膜室のフィルム導入側およびフィルム導出側に各々設けられ前記フィルムを挟んで開閉する一対のシール機構とを備え、
前記一対のシール機構の間の距離は、前記成膜室で成膜されるフィルム長の(N+2)倍(Nは自然数)であることを特徴とする成膜装置。 - 前記一対のシール機構の各々は、前記成膜室に関して対称な位置に設置されていることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 前記成膜部は、フィルム走行方向に関して直列的に複数配置されており、隣接する前記成膜部の間には、前記成膜室で成膜されるフィルム長の自然数倍に相当する長さのフィルムを待機させるフィルム待機領域が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 前記フィルム待機領域には、前記フィルムの走行をガイドするガイドローラと、前記フィルムの張力を制御するテンションローラとを備えた予備室が設置されていることを特徴とする請求項3に記載の成膜装置。
- 前記成膜部は、真空チャンバと、前記フィルムの成膜面側に配置された高周波電極と、前記フィルムの非成膜面側に配置された対向電極と、前記高周波電極と前記成膜面との間に原料ガス又はクリーニングガスを導入するガス導入手段と、前記高周波電極と前記成膜面との間を遮断可能な遮蔽部材とを有していることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
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