KR970076861A - 포획 전하들을 추출하는 비휘발성 반도체 메모리 장치 - Google Patents

포획 전하들을 추출하는 비휘발성 반도체 메모리 장치 Download PDF

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Abstract

플레시 EEPROM을 초기화하는 방법에 있어서, 메모리 셀 어레이의 다수의 메모리 셀 내에 소정의 데이타를 사전 프로그래밍하는 동작이 먼저 수행된 다음, 다수의 메모리 셀에 대한 소거 동작이 수행된다. 그 다음, 소거 동작이 정확히 수행되었는지에 대한 검증 동작이 수행된다. 사전 프로그래밍 동작, 소거 및 검증 동작으로 이루어지는 초기화 동작시, 터널 산화막 내에 포획된 전자들 또는 정공들이 추출된다.

Description

포획 전하들을 추출하는 비휘발성 반도체 메모리 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 전기적으로 소거 가능한 비휘발성 반도체 메모리 장치의 구조를 나타내는 블록도, 제4도는 제3도에 도시된 비휘발성 반도체 장치의 메모리 셀 어레이 및 제어 회로의 구조를 나타내는 회로도.

Claims (12)

  1. 플레시 EEPROM을 초기화 방법에 있어서, 제어 게이트, 부동 게이트, 소스 및 드레인을 각각 구비한 메모리 셀 어레이의 다수의 메모리 셀 내에 소정의 데이타를 기록하는 단계; 상기 다수의 메모리 셀에 대한 소거 동작을 실시하는 단계; 및 터널 산화막 내에 포획된 전자들 또는 정공들을 추출하는 단계를 포함하는 플레시 EEPROM 초기화 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 추출 단계는, 상기 제어 게이트 및 상기 소스를 상기 포획된 전자들에 영향을 미치지 않는 전압들로 설정하고 상기 드레인을 전원 전압보다 낮은 양(+)의 전압으로 설정함으로써 상기 포획된 전자들을 추출하기 위하여 실시되는 플레시 EEPROM 초기화 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 기록 동작이 소정의 회수만큼 실시되었는지를 결정하는 단계를 더 포함하며, 상기 추출 단계는, 상기 기록 동작이 상기 소정의 회수만큼 실시된 것으로 결정된 경우에 실시되는 플레시 EEPROM 초기화 방법.
  4. 제1항 내지 3항 중 어는 한 항에 있어서, 상기 추출 단계는, 상기 제어 게이트를 상기 포획된 정공들에 영향을 미치지 않는 전압으로 설정하고 상기 드레인 및 상기 소스를 음(-)의 전압들로 설정함으로써 상기 포획된 정공들을 추출하기 위하여 실시되는 플레시 EEPROM 초기화 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 소거 동작이 소정의 회수만큼 실시되었는지를 결정하는 단계를 더 포함하며, 상기 추출 단계는, 상기 소거 동작이 상기 소정의 회수만큼 실시된 것으로 결정된 경우에 실시되는 플레시 EEPROM 초기화 방법.
  6. 제어 게이트, 부동 게이트, 소스 및 드레인을 각각 구비한 다수의 메모리 셀로 구성된 메모리 셀 어레이; 상기 메모리 셀 어레이의 상기 다수의 메모리 셀 내에 소정의 데이타를 기록하는 동작을 수행하기 위한 기록수단; 상기 다수의 메모리 셀에 대한 소거 동작을 수행하기 위한 소거 수단; 추출 명령에 응답하여, 터널 산화막 내에 포획된 전자들 또는 정공들을 추출하기 위한 추출 수단; 및 상기 추출 수단에 상기 추출 명령을 발하기 위한 제어 수단을 포함하는 플레시 EEPROM.
  7. 제6항에 있어서, 상기 추출 수단은 상기 추출 명령에 응답하여 상기 제어 게이트 및 상기 소스를 상기 포획된 전자들에 영향을 미치지 않는 전압들로 설정하고 상기 드레인을 전원 전압보다 낮은 양의 전압으로 설정하는 플레시 EEPROM.
  8. 제7항에 있어서, 상기 제어 수단은 상기 기록 동작 후 상기 소거 동작 전에 상기 추출 수단에 대하여 상기 추출 명령을 발하는 플레시 EEPROM.
  9. 제7항에 있어서, 상기 제어 수단은 상기 기록 동작이 소정의 회수만큼 수행되었는지를 결정하기 위한 결정 수단을 포함하며, 상기 제어 수단은 상기 기록 동작이 상기 소정의 회수만큼 수행된 것으로 결정되는 경우에 상기 추출 수단에 대하여 상기 추출 명령을 발하는 플레시 EEPROM.
  10. 제6항 내지 9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 추출 수단은 상기 추출 명령에 응답하여 상기 제어 게이트를 상기 포획된 정공들에 영향을 미치지 않는 전압으로 설정하고 상기 드레인 및 상기 소스를 음의 전압들로 설정하는 플레시 EEPROM.
  11. 제10항에 있어서, 상기 제어 수단은 소거 동작 후에 상기 추출 수단에 대하여 상기 추출 명령을 발하는 플레시 EEPROM.
  12. 제10항에 있어서, 상기 제어 수단은 소거 동작이 소정의 회수만큼 수행되었는지를 결정하기 위한 결정 수단을 포함하며, 상기 제어 수단은 상기 소거 동작이 상기 소정의 회수만큼 수행된 것으로 결정되는 경우에 상기 추출 수단에 대하여 상기 추출 명령을 발하는 플레시 EEPROM.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970020306A 1996-05-24 1997-05-23 포획전하들을 추출하는 비휘발성 반도체 메모리장치 KR100266521B1 (ko)

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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6064596A (en) * 1997-12-26 2000-05-16 Samsung Electronics Co., Ltd. Nonvolatile integrated circuit memory devices and methods of operating same
US6981091B2 (en) * 2001-10-25 2005-12-27 Xilinx,Inc. Using transfer bits during data transfer from non-volatile to volatile memories
JP3980874B2 (ja) * 2001-11-30 2007-09-26 スパンション エルエルシー 半導体記憶装置及びその駆動方法
US7599228B1 (en) * 2004-11-01 2009-10-06 Spansion L.L.C. Flash memory device having increased over-erase correction efficiency and robustness against device variations
JP2007035214A (ja) * 2005-07-29 2007-02-08 Renesas Technology Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP2007193862A (ja) 2006-01-17 2007-08-02 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP2007257827A (ja) * 2007-04-27 2007-10-04 Spansion Llc 不揮発性半導体記憶装置および不揮発性半導体記憶装置のデータ保持方法
JP2009266356A (ja) * 2008-04-30 2009-11-12 Toshiba Corp Nand型フラッシュメモリ
JP2010170591A (ja) * 2009-01-20 2010-08-05 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置及びその駆動方法
JP4881401B2 (ja) * 2009-03-23 2012-02-22 株式会社東芝 Nand型フラッシュメモリ
JP2010231872A (ja) * 2009-03-30 2010-10-14 Toppan Printing Co Ltd 不揮発性半導体メモリ装置
JP5347649B2 (ja) * 2009-03-30 2013-11-20 凸版印刷株式会社 不揮発性半導体メモリ装置
US8947940B2 (en) * 2012-01-30 2015-02-03 Freescale Semiconductor, Inc. Structure and method for healing tunnel dielectric of non-volatile memory cells
JP6378123B2 (ja) * 2015-04-02 2018-08-22 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP6144741B2 (ja) * 2015-09-28 2017-06-07 ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション 不揮発性半導体メモリ

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2645122B2 (ja) * 1989-01-20 1997-08-25 株式会社東芝 不揮発性半導体メモリ
US5077691A (en) * 1989-10-23 1991-12-31 Advanced Micro Devices, Inc. Flash EEPROM array with negative gate voltage erase operation
EP0458212B1 (en) * 1990-05-22 1996-12-27 Nec Corporation High speed non-volatile programmable read only memory device fabricated by using selective doping technology
JP2709751B2 (ja) * 1990-06-15 1998-02-04 三菱電機株式会社 不揮発性半導体記憶装置およびそのデータ消去方法
JP2790735B2 (ja) * 1991-05-25 1998-08-27 ローム株式会社 不揮発性メモリ
US5452248A (en) * 1991-06-27 1995-09-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of operating a nonvolatile semiconductor memory device
JPH06291327A (ja) * 1993-04-05 1994-10-18 Nec Corp 半導体不揮発性メモリ
US5563823A (en) * 1993-08-31 1996-10-08 Macronix International Co., Ltd. Fast FLASH EPROM programming and pre-programming circuit design
JP2725575B2 (ja) * 1993-10-28 1998-03-11 日本電気株式会社 不揮発性半導体記憶装置とその書き込み特性回復方法
US5485423A (en) * 1994-10-11 1996-01-16 Advanced Micro Devices, Inc. Method for eliminating of cycling-induced electron trapping in the tunneling oxide of 5 volt only flash EEPROMS
US5600593A (en) * 1994-12-06 1997-02-04 National Semiconductor Corporation Apparatus and method for reducing erased threshold voltage distribution in flash memory arrays

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