KR960026749A - 집적회로 장치의 퓨즈 구조물 - Google Patents
집적회로 장치의 퓨즈 구조물Info
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Abstract
본 발명은 집적회로를 제조하거나 또는 프로그래밍하는 동안 선택적으로 결합될 수도 있는 집적회로 소자사이에 증착된 프로그램 가능한 퓨즈 소자에 관한 것으로서, 상기 퓨즈 소자는 집적회로 소자를 전기적으로 분리하는 정상적인 개방 퓨즈이고, 상기 퓨즈 소자는 유전체 재료의 구역에 의해 집적회로 소자로부터 절연된 전도성 재료의 중앙 구역으로 이루어지고, 상기 집적회로 소자 및 상기 퓨즈 소자가 얇은 산화물 층상에서 반도체 기판에 대해 또는 서로에 대해 상기 소자들이 쇼트되는 것을 방지하도록 반도체 기판을 커버하여 배치되고, 보호 유전체 층은 전체 집적회로를 제조하는 동안 퓨즈 소자와 집적회로 소자위에 증착될 수 있고, 레이저비임이 보호층을 통해서 태우는 데 사용되어 퓨즈 소자를 형성하는 유전체 재료와 전도성 재료를 용융시키고, 상기 퓨즈 소자가 용융되면서, 상기 전도성 재료는 집적회로 소자와 접촉하여 저 저항 경로를 함께 집적회로소자를 전기적으로 커플링하는 것에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 개방된 상태로 있는 바람직한 실시예의 단면도.
Claims (20)
- 제1집적회로 소자가 상기 기판상에 제2집적회로 소자에 인접하게 배치되는, 제1집적회로 소자를 제2집적회로 소자와 선택적으로 결합하는 퓨즈장치에 있어서, 레이저 방사선의 예정된 노광에 의해 용융될 수 있고 상기 제1집적 회로 소자와 제2집적회로 소자사이의 기판상에 증착된 전도성 재료와, 레이저 방사선에 상기 예정된 노광에 의해 변쇠될 수 있고 그리고 제1집적 회로 소자와 제2집적 회로 소자와 그리고 제2집적회로소자로부터 상기 전도성재료를 전기적으로 분리하여 기판상에 증착되는 유전체 재료를 포함하여, 레이저 방사선에 상기 예정된 노광으로 노출될 때, 상기 유전체 재료는 상기 전도성 재료와 분리되지 않고 그리고 상기 전도성 재료는 상기 제1집적 회로 소자를 제2집적회로 소자에 전기적으로 접속시키도록 하는 것을 특징으로 하는 퓨즈장치.
- 제1항에 있어서, 상기 전도성 재료가 폴리실리콘 및 규화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 퓨즈 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 유전체 재료가 실리콘 기재인 것을 특징으로 하는 퓨즈 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 전도성 재료로 결합된 매스는 상기 유전체 재료와 인접하여 집중되는 것을 특징으로 하는 퓨즈 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 전도성 재료가 상기 유전체 재료에 인접한 상기 전도성 재료로 결합된 대부분의 매스를 위치시키는 일반적으로 U자 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 퓨즈 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 유전체 재료와 상기 전도성 재료의 조합된 폭이 대략적으로 0.5㎛인 것을 특징으로 하는 퓨즈 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 유전체 재료와 상기 전도성 재료를 가로질러 증착된 보호 유전체 층을 더 포함하는 퓨즈 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 보호 유전체 층이 규산인 유리를 포함하는 것을 특징으로 하는 퓨즈 장치.
- 제1집적회로 소자가 상기 기판상에 제2집적회로 소자에 인접하게 배치되는, 제1집적회로 소자를 제2집적회로 소자를 선택적으로 결합하는 퓨즈장치를 제조하는 방법에 있어서, 제1집적 회로 소자와 제2집적회로 소자사이에 유전체 재료를 증착시키는 단계와, 상기 제1집적회로 소자와 상기 제2집적회로 소자로부터 등거리로 상기 유전체 재료의 부분을 제거하는 단계와, 및 상기 제거된 유전체 재료의 부분내에 전도성 재료를 증착하여, 상기 유전체 재료가 상기 집적회로 소자로부터 상기 전도성 재료를 절연하도록하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 퓨즈 장치 제조 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 유전체 재료와 전도성 재료를 보호 유전체 재료로 커버하는 단계를 더 포함하는 퓨즈 장치 제조 방법.
- 제9항에 잇어서, 상기 유전체 재료의 부분을 제거하는 단계가 상기 유전체 재료아래에서 기판을 노광시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 퓨즈 장치 제조 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 전도성 재료의 층이 폴리실리콘과 규화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 퓨즈 장치 제조 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 유전체 재료의 층이 실리콘이 기재인 것을 특징으로 하는 퓨즈 장치 제조 방법.
- 제11항에 있어서, 상기 보호 유전체 재료가 규산인 것을 특징으로 하는 퓨즈 장치 제조 방법.
- 제1집적회로 소자와 제2집적회로 소자를 선택적으로 결합하는 방법에 있어서, 퓨즈 소자가 유전체 재료에 의해 제1집적회로 소자와 제2집적회로 소자로부터 전기적으로 절연된 전도성 재료를 구비하는 상기 제1집적회로 소자와 제2집적회로 소자사이에 증착된 퓨즈 소자를 제공하는 단계와, 상기 퓨즈 소자를 레이저 광선에 노광시키고, 상기 레이저 방서선이 상기 유전체 재료를 변쇠시키고 그리고 상기 전도성 재료가 제1집적회로 소자 및 제2집적회로 소자와 접촉하도록 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제15항에 있어서, 상기 전도성 재료의 층이 폴리실리콘과 규화물질로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제15항에 있어서, 상기 유전체 재료의 층이 실리콘이 기재인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제15항에 있어서, 상기 전도성 재료로 결합된 매스가 상기 유전체 재료와 인접하여서 집중되는 거을 특징으로 하는 방법.
- 제15항에 있어서, 상기 전도성 재료가 상기 전도성 재료로 결합된 대부분의 매스가 상기 유전체 재료와 인접하게 위치되는 U형의 형태를 갖춘 것을 특징으로 하는 방법.
- 제15항에 있어서, 상기 유전체 재료와 상기 전도성 재료가 결합된 폭이 대략적으로 0.5㎛인 것을 특징으로 하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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