KR950029889A - 기판 처리장치 및 방법 - Google Patents

기판 처리장치 및 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR950029889A
KR950029889A KR1019950008125A KR19950008125A KR950029889A KR 950029889 A KR950029889 A KR 950029889A KR 1019950008125 A KR1019950008125 A KR 1019950008125A KR 19950008125 A KR19950008125 A KR 19950008125A KR 950029889 A KR950029889 A KR 950029889A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
processing
lot
substrates
interrupted
Prior art date
Application number
KR1019950008125A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100198477B1 (ko
Inventor
도오루 모리모토
겐지 하시노키
데츠야 하마다
겐지 가메이
Original Assignee
이시다 아키라
다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이시다 아키라, 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 filed Critical 이시다 아키라
Publication of KR950029889A publication Critical patent/KR950029889A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100198477B1 publication Critical patent/KR100198477B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00—Programme-control systems
    • G05B19/02—Programme-control systems electric
    • G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
    • G05B19/4189—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by the transport system
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/31—From computer integrated manufacturing till monitoring
    • G05B2219/31013—Second AGV with wafers already underway before processing first finished
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/34—Director, elements to supervisory
    • G05B2219/34388—Detect correct moment, position, advanced, delayed, then next command
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/45—Nc applications
    • G05B2219/45026—Circuit board, pcb
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

반송로보트는 기설정순서로 기판을 보지하면서 복수의 기판처리부에서 순환으로써 기판의 순환반송을 행한다. 콘토롤러는 제1 및 제2기판간의 간섭이 금지되는 조건하에서 제1기판의 최초순환에서 제2기판의 최초순환까지의 시간동안 순환반송의 회수에 상응하는 최소대기사이클을 산출한다. 최소대기사이클이 제1기판의 처리를 위한 순환반송의 회수에 상응하는 표준대기사이클보다 짧을 때 제2기판의 순환반송의 개시가 상기 표준대기 사이클에 대하여 최소대기사이클의 범위 내에서 지연된다. 따라서 제2기판처리가 제1기판의 처리완료동안 대기시키지 않고 개시될 수 있으며 그 결과 슬로우프트가 개선된다.

Description

기판 처리장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제7도는 발명의 바람직한 제1실시예에 의한 기판처리장치의 사시도.

Claims (14)

  1. 제1 및 제2기판을 처리하기 위한 기판처리장치에 있어서, 적어도 상기 제1 및 제2기판의 하나를 각각이 처리하는 복수의 처리부와, 상기 제1 및 제2기판을 보지하면서 상기 처리부 사이를 순환하기 위한 반송수단과, 상기 제1 및 제2처리간의 간섭이 금지되는 조건하에서, 상기 제1기판의 반송 개시후 상기 제1처리가 완료되기전 상기 제2기판의 반송이 개시되도록, 상기 반송수단으로 서로 상이한 제1 및 제2순서로 상기 처리부 사이에서 상기 제1 및 제2기판을 방송하여 제1 및 제2처리에 의해 상기 제1 및 제2기판을 각각 처리하기 위한 반송제어수단과를 구비한 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1기판은 상기 제1처리를 받게 되는 복수의 기판으로 형성되는 선행로트에서 최종으로 처리되고, 상기 제2기판은 상기 제2처리를 받게 되는 복수의 기판으로 형성되는 후행로트내에서 최초로 처리되게 한 기판처리장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1기판은 상기 인터럽트 당한 로트의 상기 제1처리가 일시적으로 중단되어서 인터럽트한 러트의 상기 제2처리가 수행되는 인터럽트처리전에 최종으로 처리됨과 동시에 인터럽트 당한 로트내의 기판이며, 상기 인터럽트 당한 로트는 상기 제1처리에 의해 처리되는 복수의 기판으로 형성되고, 상기 인터럽트한 로트는 상기 제2처리로 처리되는 복수의 기판으로 형성되며, 상기 제2기판은 인터럽트한 로트의 기판임과 동시에 상기 인터럽트한 로트중 최초로 처리되는 기판인 기판처리장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1기판은 인터럽트한 로트의 기판임과 동시에 상기 인터럽트 당한 로트의 상기 제2처리가 일시중지되어 인터럽트한 로트의 상기 제1처리가 수행되는 인터럽트처리를 해제하기 전에 최후로 처리되는 기판이며, 상기 인터럽트한 로트는 상기 제1처리를 받은 복수의 기판으로 형성되는 반면에 상기 인터럽트 당한 로트는 상기 제2처리를 받는 복수의 기판으로 형성되며, 상기 제2기판은 상기 인터럽트 당한 로트의 기판임과 동시에 상기 인터럽트처리의 해제후 최초로 처리되는 기판인 기판처리장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2기판을 포함하는 복수기판이 하나씩 순차적으로 처리되는 기판처리장치.
  6. 제2항에 있어서, 상기 반송제어수단은, 상기 선행로트 및 상기 후행로트 간의 간섭이 금지되는 조건하에서, 상기 제1기판을 포함하는 기판의 최초순환에서 상기 제2기판을 포함하는 기판의 최초순환까지의 시간동안의 순환반송의 수에 상응하는 최소대기사이클을 산출하기 위한 연산수단과, 상기 선행로트의 상기 제1처리를 수행하기 위한 순환반송의 수에 상응하는 표준대기사이클보다 최소대기사이클이 더 짧은 경우에 상기 표준대기 사이클에 대하여 상기 최소사이클의 범위내로 상기 제2기판을 포함하는 기판의 상기 반송수단에 의한 순환반송의 개시를 지연시키기 위한 제어수단을 포함하는 기판처리장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 연산수단은, 상기 제1처리를 하기 위한 처리부의 수로부터 상기제2처리를 하기 위한 처리부의 수를 감하여 포지션차를 결정하기 위한 포지션차 연산수단과, 선행로트의 순환반송동안의 각처리부의 처리순위와 상기 후행로트의 순환반송동안의 각 처리부의 처리순위에서 상기 후행로트의 순환반송동안의 각 처리부의 처리순위를 감함으로써 상기 선행 및 후행로트 양자를 처리하기 위해 사용되는 각 처리부의 처리순위차를 산출하기 위한 처리순위차 연산수단과, 상기 처리순위차 중에서 최대값을 얻고 상기 포지션차와 상기 최대값에 근거하여 최소대기사이클을 구하기 위한 최대값 연산수단을 포함하는 기판처리장치.
  8. 제3항에 있어서, 상기 반송제어수단은, 상기 인터럽트 당한 로트와 인터럽트한 로트간의 간섭이 금지되는 조건하에서 상기 제1기판을 포함하는 기판의 최초순환으로부터 상기 제2기판을 포함하는 기판의 최초순환까지의 시간동안 순환반송의 수에 상응하는 최소대기사이클을 산출하기 위한 연산수단과, 인터럽트 당한 로트의 상기 제1처리를 수행하기 위한 순환반송의수에 상응하는 표준대기사이클보다 상기 최소대기사이클이 작은 경우에, 상기 표준대기사이클에 대하여 상기 최소대기사이클의 범위내에서 상기반송수단에 의한 상기 제2기판을 포함하는 기판의 순환반송의 개시를 지연시키기 위한 제어수단을 구비한 기판처리장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 제1처리를 위한 처리부의 수로부터 상기 제2처리를 위한 처리부의 수를 감하여 포지션차를 구하기 위한 포지션차 연산수단과, 상기 인터럽트 당한 로트의 순환반송동안의각 처리부의 처리순위로부터 상기 인터럽트한 로트의 순환반송동안의 각 처리부의 처리순위를 감하여 상기인터럽트 당한 로트 및 상기 인터럽트한 로트 양자를 처리하기 위하여 사용되는 각 처리부의 처리순위차를 연산하기 위한 처리순위차 연산수단과, 상기 처리순위차 중에서 최대값을 구하고 상기 포지션차 및 상기 최대값을 근거하여 최소대기사이클을 구하기 위한 최대값 연산수단을 구비하는 기판처리장치.
  10. 제4항에 있어서, 상기 제어수단은, 인터럽트한 로트와 인터럽트 당한 로드 사이의 간섭이 금지되는 조건하에서, 상기 제1기판을 포함하는 기판의 최초순환으로부터 제2기판을 포함하는 기판의 최초순환까지의 시간동안의 순환반송의 수에 상응하는 최소대기사이클을 산출하기 위한 연산수단과, 상기 인터럽트한 로트의 상기 제1처리를 수행하기 위한 순환반송의 수에 상응하는 표준대기사이클보다 상기 최소대기사이클이 더 작은 경우에, 상기 표준대기사이클에 대하여 최소대기사이클의 범위에서 상기 반송수단에 의한 상기 제2기판을 포함하는 기판의 순환반송의 개시를 지연시키기 위한 제어수단을 포함한 기판처리장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 연산수단은, 상기 제1처리를 위한 처리부의 수로부터 상기 제2처리를 위한 처리부를 감하여 포지션차를 구하기 위한 포지션차 연산수단과, 상기 인터럽트한 로트의 순환반송동안의 각 처리부의 처리순위로부터 상기 인터럽트 당한 로트의 순환반송동안의 각 처리부의 처리순위를 감하여 상기 인터럽트 당한 로트와 상기 인터럽트한 로트 양자를 처리하기 위해 사용되는 각 처리부의 처리순위를 산출하기 위한 처리순위차 연산수단과, 상기 처리순위차중 최대값을 구하여서 상기 포지션차와 최대값에 근거하여 최소대기 사이클을 구하기 위한 최대값 연산수단을 포함한 기판처리장치.
  12. 각각 다른 처리에 의해 처리되는 선행 및 후행기판을 처리하기 위한 기판처리장치에 있어서, 상기 선행 및 후행기판을 처리하기 위한 복수위 처리부와, 상기 선행 및 후행의 기판을 보지하면서 상기 처리부 사이를 순환하기 위한 반송수단과, 상기 반송수단에 의해 상이한 순서로 상기 처리부 사이로 상기 선행 및 후행기판을 반송하여, 상기 선행 및 후행 기판을 각각 상이하게 처리하기 위한 반송제어수단을 구비하고, 상기 반송제어수단은, 상기 선행 및 후행기판간의 간섭이 금지되는 조건하에서, 상기 선행기판내에서 최후로 처리되는 기판의 최초순환으로부터 상기 후행기판내에서 최초로 처리되는 기판의 최초순환까지의 시간동안의 순환반송의 수에 상응하는 최소대기사이클을 산출하기 위한 연산수단과, 상기 선행기판내에서 최후로 처리되는 상기 기판의 반송의 개시후에 상기 후행기판내에서 최초로 처리되어지는 상기 기판의 순환반송의 개시를 지연시켜서 최소대기 사이클을 경과하도록 한 제어수단을 포함한 기판처리장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 연산수단은, 상기 선행기판의 처리를 위한 기판처리부의 수로부터 상기 후행기판의 처리를 위한 기판처리부의 수를 감하여 각 선행기판에 대한 포지션차를 구하기 위한 포지션차 연산수단과, 상기 선행기판의 순환반송동안의 각 처리부의 처리 순위와 상기 후행기판의 순환 반송 동안의 각 처리부의 처리 순위의 차로서 정의되고 상기선행 및 후행기판 양자를 처리하기 위해 사용되는 각처리부의 처리순위차를 산출하기 위한 처리순위차 연산수단과, 포지션차 및 상기 처리순위차의 최대값에 근거하여 각 선행기판에 대한 상대대기사이클을 구하기 위한 최대값 연산수단과, 순환되어진 상기 선행기판의 순환반송의 수를 상기 상대대기사이클에서 감하여 최소대기사이클을 구하기 위한 상대교정수단과를 구비한 기판처리장치.
  14. 제1 및 제2기판을 처리하는 방법에 있어서 각각에서 상기 제1 및 제2기판중 적어도 하나를 처리하는 복수의 처리부를 준비하는 스텝과, 상기 제1기판을 수용하는 상기 기판처리부에 의해 상기 제1기판을 처리하는 동안 제1순서로 상기 기판처리부중으로 상기 제1기판을 반송함으로써 제1처리로 상기 제1기판을 처리하는 스텝과, 상기 제2기판을 수용하는 상기 기판 처리부에 의해 상기 제2기판을 처리하는 동안 제2순서로 상기 처리부중으로 상기 제2기판을 반송함으로써 제2처리로 상기 제2기판을 처리하는 스텝을 구비하고, 상기 제1처리와 제2처리간의 간섭이 금지되는 조건하에서, 상기 제1기판의 반송개시후 상기 제1처리의 완료전에 상기 제2기판의 방송이 개시되고 상기 제2순서는 상기 제1순서와 서로 다르게 한 기판처리방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950008125A 1994-04-08 1995-04-07 기판처리장치 및 방법 KR100198477B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP94-71035 1994-04-08
JP7103594 1994-04-08
JP94-237652 1994-09-30
JP23765294 1994-09-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR950029889A true KR950029889A (ko) 1995-11-24
KR100198477B1 KR100198477B1 (ko) 1999-06-15

Family

ID=26412153

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950008125A KR100198477B1 (ko) 1994-04-08 1995-04-07 기판처리장치 및 방법

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5687085A (ko)
KR (1) KR100198477B1 (ko)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3370537B2 (ja) * 1997-01-07 2003-01-27 東京エレクトロン株式会社 制御装置及び処理装置
JPH10329069A (ja) * 1997-03-31 1998-12-15 Daihen Corp 搬送システムの制御方法
JPH1165644A (ja) * 1997-08-12 1999-03-09 Handotai Sentan Technol:Kk データ分類方法及びこれによるデータ管理方法、データベース及びデータ記録媒体
JP4233908B2 (ja) * 2003-04-02 2009-03-04 東京エレクトロン株式会社 基板処理システム
JP4279102B2 (ja) * 2003-09-22 2009-06-17 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP4080405B2 (ja) * 2003-09-22 2008-04-23 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
US7699021B2 (en) 2004-12-22 2010-04-20 Sokudo Co., Ltd. Cluster tool substrate throughput optimization
US7651306B2 (en) 2004-12-22 2010-01-26 Applied Materials, Inc. Cartesian robot cluster tool architecture
US7396412B2 (en) 2004-12-22 2008-07-08 Sokudo Co., Ltd. Coat/develop module with shared dispense
US7819079B2 (en) 2004-12-22 2010-10-26 Applied Materials, Inc. Cartesian cluster tool configuration for lithography type processes
US7798764B2 (en) 2005-12-22 2010-09-21 Applied Materials, Inc. Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool
US7694688B2 (en) 2007-01-05 2010-04-13 Applied Materials, Inc. Wet clean system design
US7950407B2 (en) 2007-02-07 2011-05-31 Applied Materials, Inc. Apparatus for rapid filling of a processing volume
KR100989851B1 (ko) * 2008-08-28 2010-10-29 세메스 주식회사 이송부재의 속도 조절 방법, 이를 이용한 기판 이송 방법 및 기판 처리 장치
KR101094387B1 (ko) * 2008-08-28 2011-12-15 세메스 주식회사 기판 처리장치 및 이의 기판 이송 방법
JP5431901B2 (ja) * 2008-12-26 2014-03-05 キヤノンアネルバ株式会社 インライン真空処理装置、インライン真空処理装置の制御方法、情報記録媒体の製造方法
JP5445006B2 (ja) * 2009-10-05 2014-03-19 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4896269A (en) * 1988-02-29 1990-01-23 General Electric Company Job shop scheduling and production method and apparatus
US5255181A (en) * 1990-06-01 1993-10-19 Motorola, Inc. Method of planning organizational activities
US5436848A (en) * 1990-09-03 1995-07-25 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Method of and device for transporting semiconductor substrate in semiconductor processing system
JP2638668B2 (ja) * 1990-09-03 1997-08-06 大日本スクリーン製造株式会社 基板搬送方法および基板搬送装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR100198477B1 (ko) 1999-06-15
US5687085A (en) 1997-11-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR950029889A (ko) 기판 처리장치 및 방법
KR950029888A (ko) 기판처리장치 및 방법
KR960030309A (ko) 레지스트처리장치 및 레지스트처리방법
JPH04113612A (ja) 基板搬送方法および基板搬送装置
JP2011091334A (ja) 基板処理装置
JP2660285B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
KR101445352B1 (ko) 도포 현상 장치, 도포 현상 방법 및 기억매체
JP2002043208A (ja) 塗布現像処理方法
JP2009043927A (ja) 塗布、現像装置及び塗布、現像方法並びに記憶媒体
JPH08321537A (ja) 処理装置及び処理方法
JP2004356560A (ja) 基板搬送方法
KR960009094A (ko) 웨이퍼 이송장치 및 방법
JPH06132696A (ja) 基板搬送装置
JP3955116B2 (ja) 半導体製造装置のスケジューリング方法
JP2008210956A (ja) 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム
JPH10247679A (ja) 半導体処理装置
JPS56135266A (en) Data processing system
KR100223961B1 (ko) 반도체 제조공정간 정체관리시스템 및 정체제어방법
CN117841359A (zh) 一种蜡膜加工方法、装置、电子设备及存储介质
JP2006523948A (ja) 半導体ウェハ製造システムにおいてスキャナシステムのタイミング変動を補償するための方法及びシステム
KR100949610B1 (ko) 노광 후 웨이퍼 이송을 제어하는 방법 및 시스템
JPH07105619B2 (ja) プリント基板供給方法
JPH05111888A (ja) 複数台のロボツトによる協調パレタイジング制御方式
JPS56168272A (en) Parallel processing system for program of information processor
JPH074744B2 (ja) 複数作業における適正作業時期決定方法及び装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
O035 Opposition [patent]: request for opposition
O035 Opposition [patent]: request for opposition
O132 Decision on opposition [patent]
O074 Maintenance of registration after opposition [patent]: final registration of opposition
O074 Maintenance of registration after opposition [patent]: final registration of opposition
O132 Decision on opposition [patent]
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130227

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140204

Year of fee payment: 16

EXPY Expiration of term