KR960030309A - 레지스트처리장치 및 레지스트처리방법 - Google Patents

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Abstract

인터페이스부에 있어서, 노광처리장치로부터 반출된 상기 기판을 받아들이고, 이어서, 기판반송수단에 의해 인터페이스부로부터 기판을 열처리부까지 반송하고, 열처리부에 있어서, 기판에 열처리를 수행한다. 그 다음, 기판 반송수단에 의해 열처리부로부터 냉각처리부까지 반송하고, 냉각처리부에 있어서 기판을 냉각한다. 냉각처리종료후, 기판 반송수단에 의해 냉각처리부로부터 현상처리부까지 반송하고, 현상처리부에 있어서 기판상의 레지스트막을 현상한다. 이 레지스트처리에 있어서, 노광처리장치에서의 처리 소요시간을 토대로 열처리부에서의 처리 소요시간을 변경한다. 열처리부에서의 처리 소요시간은, 노광처리장치에서의 처리 소요시간과 같게 한다. 열처리부에서의 처리 소요시간의 변경은, 열처리부에서의 전대기 시간의 연장 또는 단축에 의해 수행된다.

Description

레지스트처리장치 및 레지스트처리방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 레지스트처리장치의 실시예를 도시한 사시도, 제2도는 본 발명의 레지스트처리방치의 실시예를 도시한 평면도.

Claims (33)

  1. 표면에 레지스트막이 형성된 상기 기판에 대하여 열처리를 하기 위한 열처리부, 상기 열처리부에서 열처리된 상기 기판을 냉각하기 위한 냉각처리부, 상기 냉각처리부에서 냉각된 상기 기판의 표면에 형성된 상기 레지스트막을현상하기 위한 현상처리부, 노광처리장치와의 사이에서 상기 기판을 수수하기 위한 인터페이스부, 상기 열처리부, 상기 냉각처리부, 상기 현상처리부 및 인터페이스부 사이에서 상기 기판을 반송하기 위한 기판반송수단, 및 적어도 상기 열처리부및 상기 기판반송수단의 동작이 제어가능하며, 상기 노광처리장치에서의 상기 기판에 대한 처리의 소요시간에 따라 상기 열처리부에서의 처리소요시간을 변경할 수가 있는 제어부를 구비한 기판에 레지스트처리를 실시하는 레지스트처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 열처리부에서의 처리 소요시간이, 상기 열처리부에 기판반송수단으로부터 기판이 수수되고 나서부터 실질적으로 열처리가 개시하기 까지의 전대기시간과, 실질적으로 열처리가 개시되고 부터 상기 기판이 열처리부로부터 배출되기 까지의 열처리시간으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제2항에 있어서, 제어부가 전대기시간을 변경하는 것에 의해, 상기 열처리부에서의 처리 소요시간을 변경하는 것을 특징으로 장치.
  4. 제1항에 있어서, 제어부가, 열처리부에서의 처리 소요시간을, 상기 노광처리장치에서의 처리 소요시간과같게 하거나, 또는 상기 노광처리 장치에서의 처리 소요시간보다도 길게하는 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제4항에 있어서, 제어부가, 열처리부에서의 처리 소요시간을, 상기 노광처리장치에서의 처리 소요시간과같게 하는 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서, 제어부가, 열처리부에서의 처리 소요시간을, 세정 처리부및 현상처리부에서의 처리 소요시간보다도 길게 하는 것을 특징으로 하는 장치.
  7. 제1항에 있어서, 제어부가, 노광처리장치로부터의 출력신호를 토대로 노광처리 장치에서의 처리 소요시간을 결정하는 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제7항에 있어서, 제어부가, 노광처리장치로부터의 노광개시신호및 노광종료신호를 토대로 노광처리 장치에서의 처리 소요시간을 결정하는 것을 특징으로하는 장치.
  9. 제7항에 있어서, 제어부가, 노광처리에 입력된 상기 노광처리장치에서의 노광처리시간이 신호로서 상기 제어부에 상기 노광처리장치로부터 전달되며, 상기 신호를 토대로 노광처리 장치에서의 처리 소요시간을 결정하는 것을 특징으로 하는 장치.
  10. 제1항에 있어서, 제어부가 입력수단을 갖추고, 한편, 상기 입력수단으로부터 입력된 노광처리장치에서의노광처리시간을 토대로 상기 노광처리장치에서의 처리 소요시간을 결정하는 것을 특징으로하는 장치.
  11. 열처리부가, 표면상에 재치된 상태의 기판을 가열할 수 있는 재치대와, 상기 재치대로부터 떨어져 상기기판을 보호유지할 수 있음과 동시에 상기 기판을 상기 재치대로 둘 수 있는 기판보호기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 제11항에 있어서, 제어부가, 상기 기판보호 기구가 상기 기판을 기판 반송수단으로부터 수수된 후, 상기재치대에 두기 까지의 시간을 변경하는 것에 의해, 상기 열처리부에서의 처리 소요시간을 변경하는 것을 특징으로 하는 장치.
  13. 제11항에 있어서, 기판보호 기구가, 재치대에 승강자유롭게 관통삽입되고, 그들의 상단부에서 기판을 지지하는 여러개의 핀과, 상기 핀이 고정된 틀과, 상기 틀을 승강시키는 승강기구를 구비하는 것을 특징으로하는 장치.
  14. 표면에 레지스트막이 형성되고 또한 상기 레지스트막이 노광된 상기 기판에 대해 열처리를 하기 위한 열처리부, 상기 열처리부에서 열처리가 이루어진 상기 기판을 냉각하기 위한 냉각처리부, 상기 냉각처리부에서 냉각처리된상기 기판의 표면에 형성된 상기 레지스트막을 현상하기 위한 현상처리부, 노광처리장치와의 사이에서 상기 기판을 수수하기 위한 인터페이스부 및, 상기 도포처리부, 상기 열처리부, 상기 냉각처리부, 상기 현상처리부 및 인터페이스부 사이에서 상기 기판을 반송하기 위한 기판반송수단을 갖춘 레지스트처리장치에서, 상기 인터페이스부에 있어서 상기 노광처리장치로부터 반출된 상기 기판을 받아들이는 공정, 상기 기판 반송수단에 의해 상기 인터페이스부로부터 상기 기판을 상기 열처리부까지 반송하는 공정, 상기 열처리부에 있어서 상기 기판에 열처리를 수행하는 공정, 상기 기판 반송수단에 의해 상기 열처리부로부터 상기 냉각처리부까지 반송하는 공정, 상기 냉각처리부에 있어서 상기 기판을 냉각하는 공정, 상기 기판 반송수단에 의해 상기 냉각처리부로부터 상기 현상처리부까지 반송하는 공정, 및 상기 현상처리부에 있어서, 상기 기판상의 상기 레지스트막을 현상하는 공정을 구비하고, 상기 노광처리장치에서의 처리 소요시간을 토대로 상기 열처리부에서의 처리 소요시간을 변경하는 것을 특징으로하는 기판에 레지스트처리를 수행하는 레지스트처리방법.
  15. 제14항에 있어서, 열처리부에서의 처리 소요시간이, 상기 열처리부에 기판 반송수단으로부터 기판이 수수되고 나서 실질적으로 열처리가 개시하기 까지의 전대기시간과, 실질적으로 열처리가 개시되고 나서부터 상기 기판이 열처리부로부터 배출되기 까지의 열처리시간으로 이루어지는 것을 특징으로하는 방법.
  16. 제15항에 있어서, 전대기시간을 변경하는 것에 의해, 상기 열처리부에서의 처리 소요시간을 변경하는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제14항에 있어서, 열처리부에서의 처리 소요시간을, 현상처리부에서의 처리 소요시간과 같게 하거나, 또는 현상처리부에서의 처리 소요시간보다도 길게하는 열처리부에서의 처리 소요시간을 변경하는 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제17항에 있어서, 열처리부에서의 처리 소요시간을, 현상처리부에서의 처리 소요시간과 같게 하는 것을특징으로 하는 방법.
  19. 제17항 도는 제18항에 있어서, 열처리부에서의 처리 소요시간을, 세정처리부및 현상처리부에서의 처리 소요시간보다도 길게하는 것을 특징으로 하는 방법.
  20. 제14항에 있어서, 노광처리장치로부터의 출력신호를 토대로 노광처리장치에서의 처리소요시간을 결정하는것을 특징으로 하는 방법.
  21. 제20항에 있어서, 노광처리장치로부터의 노광개시신호및 노광종료신호를 토대로 노광처리장치에서의 처리소요시간을 결정하는 것을 특징으로 하는 방법.
  22. 제20항에 있어서, 노광처리에 입력된, 노광처리장치에서의 노광처리시간이 신호로서 출력되고, 상기 신호를 토대로 노광처리장치에서의 처리 소요시간을 결정하는 것을 특징으로 하는 방법.
  23. 제14항에 있어서, 레지스트처리장치가 입력수단을 구비하고, 상기 입력수단에 의해 입력된 노광처리장치에서의 노광처리시간을 토대로 상기 노광처리장치에서의 처리 소요시간을 결정하는 것을 특징으로 하는 방법.
  24. 인터페이스부에 있어서 노광처리장치로부터 반출된 상기 기판을 받아들이는 공정, 기판반송수단에 의해상기 인터페이스부로부터 상기 기판을 열처리부까지 반송하는 공정, 상기 열처리부에 있어서 상기 기판에 열처리를 수행하는 공정, 상기 기판 반송수단에 의해 상기 열처리부로부터 상기 냉각처리부까지 반송하는 공정, 상기 냉각처리부에 있어서 상기 기판을 냉각하는 공정, 상기 기판 반송수단에 의해 상기 냉각처리부로부터 현상처리부까지 반송하는 공정, 및상기 현상처리부에 있어서 상기 기판상의 상기 레지스트막을 현상하는 공정을 구비하고, 상기 노광처리 장치에서의 처리소요시간을 토대로 상기 열처리부에서의 처리 소요시간을 변경하는 것을 특징으로 하는 기판에 레지스트처리를 수행하는 레지스트처리방법.
  25. 제24항에 있어서, 열처리부에서의 처리 소요시간이, 상기 열처리부에 기판 반송수단으로부터 기판이 수수되고 나서 실질적으로 열처리가 개시되기까지의 전대기시간과, 실질적으로 열처리가 개시되고나서 상기 기판이 열처리부로부터 배출되기 까지의 열처리시간으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  26. 제25항에 있어서, 전대개시간을 변경하는 것에 의해, 상기 열처리부에서의 처리 소요시간을 변경하는 것을 특징으로하는 방법.
  27. 제24항에 있어서, 열처리부에서의 처리 소요시간을, 현상처리부에서의 처리 소요시간과 같게 하거나, 또는 현상처리부에서의 처리 소요시간보다도 길게하는 열처리부에서의 처리 소요시간을 변경하는 것을 특징으로 하는 방법.
  28. 제27항에 있어서, 열처리부에서의 처리 소요시간을, 현상처리부에서의 처리 소요시간과 같게 하는 것을특징으로 하는 방법.
  29. 제27항 또는 제28항에 있어서, 열처리부에서의 처리 소요시간을, 세정처리부및 현상처리부에서의 처리 소요시간보다도 길게하는 것을 특징으로 하는 방법.
  30. 제24항에 있어서, 노광처리장치로부터의 출력신호를 토대로 노광처리장치에서의 처리소요시간을 결정하는 것을 특징으로 하는 방법.
  31. 제30항에 있어서, 노광처리장치로부터의 노광개시신호및 노광종료신호를 토대로 노광처리장치에서의 처리소요시간을 결정하는 것을 특징으로 하는 방법.
  32. 제30항에 있어서, 노광처리장치에 입력된, 노광처리장치에서의 노광처리시간이 신호로서 출력되고, 상기신호를 토대로 노광처리장치에서의 처리 소요시간을 결정하는 것을 특징으로 하는 방법.
  33. 제24항에 있어서, 레지스트처리장치가 입력수단을 구비하고, 상기 입력수단에 의해 입력된 노광처리장치에서의 노광처리시간을 토대로 상기 노광처리장치에서의 처리 소요시간을 결정하는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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