KR930013155A - 고순도 강의 용제방법(溶製方法) - Google Patents

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Abstract

용선 예비 처리공정, 전로공정을 거친 용강의 2차 제련에 있어, 탈탄종료후의 용강을 수용한 레이들내 욕면위에 환원제나 플럭스를 첨가함으로써 그 욕면 위에 형성시키는 슬랙의 조성을 FeO및 MnO의 합계 농도가 5wt%이하가 되도록 조정하고, 이어서 RH 진공 탈가스장치를 사용하여 용강 속의 불순물을 극저 영역까지 효율좋게 저감하는 고순도 강의 용제방법.

Description

고순도 강의 용제방법(溶製方法)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예를 나타낸 공정도,
제2도는 (FeO+Mn0)와 RH처리후 강 속의 전산소량과의 관계를 나타낸 그래프,
제3도는 RH 처리장치를 나타낸 모식도.

Claims (15)

  1. 전로(轉爐)에서 탈탄 종료후의 용강을 수용한 레이들내 욕면 위에 환원제나 플럭스를 첨가함으로써 이 용면위에 형성시키는 슬랙의 조성을 조정하고 RH 진공 탈가스장치를 사용하여 용강 속의 불순물을 극저 영역까지 효율좋게 저감하는 것을 특징으로 하는 고순도 강의 용제방법.
  2. (1)고로(高爐)로부터의 용선에 함유된 P및 S를 각각 0.05wt%이하, 0.01wt%이하로 억제하는 예비 처리공정, (2)상기 예비 처리 공정을 거친 용선을 전로에서 C:0.02~0.1wt%의 범위까지 탈탄하는 공정, (3)탈탄 종료후의 용강을 수용한 레이들내 욕면 위에 환원제나 플럭스를 첨가함으로써 그 욕면위에 형성되는 슬랙의 조성을 FeO및 MnO의 합계 농도가 5wt%이하가 되도록 조정하는 공정, (4) 이 레이들로부터 RH진공가스 장치의 진공조내에 도입하는 용각 욕면 위에 산화성 가스를 분석함으로써 이 용강의 산소농도 및 온도를 조정한후, 함유수소 분체를 분사하여 용강의 C 농도를 소정 범위로 조정하고, 그후 진공조 내에 탈산제를 첨가하여 용강의 탈산을 실시하는 공정을 거치는 것을 특징으로하는 고순도강의 용제방법.
  3. RH 진공 탈가스장치로 극저 탄소강을 용제할 때 우선 전로에서 탈탄한 용강을 레이들내에 수용하고, 그 레이들내의 욕면 위에 출강 중 또는 출강 후에 환원제를 첨가함으로써 FeO및 MnO의 합계 농도가 5wt%이하가 되도록 조정된 슬랙을 형셩하고, 이이서 그 레이들에 RH 진공 탈가스장치를 설치한후, 이 장치의 진공조내에 도입한 용강 욕면위에 적어도 RH 진공 탈가스처리의 일부 기간에 걸쳐 고소(高所) 분사 랜스로부터 산소성 가스를 분사하고, 이이서 RH 진공 탈가스처리의 종료후의 용강에 Al을 첨가하여, 계속해서 그 용강 욕면에 대하여 상기 고소 분사랜스로부터 CaO를 50wt%이상 함유하는 플러스 가루를 용강 1t당 3kg이상 분사하는 것을 특징으로 하는 고순도 강의 용제방법.
  4. 고소 분사 랜스를 갖추는 RH 진공 탈가스장치를 사용하여 레이들내의 용강을 탈황하는 방법에 있어서, 레이들내 용강의 표면에 존재하는 슬랙의 T·Fe 농도를 10%이하로 하고, 진공조내에 환류하는 용강의 표면에 대하여 연직으로 상기 고소 분사 랜스로부터 유속 10m/초 이상의 캐리어 가스를 통해서 CaO를 주성분으로 하여 CaF2및/또는 Al2O3을 5~40중량% 함유하는 플럭스를 아래 식에 나타낸 양만큼 분사하는 것을 특징으로 하는 고순도강의 용제방법.
  5. w/p0.015A
  6. 여기서 w:CaO를 주성분으로 하는 분체(kg) p:CaO를 주성분으로 하는 분체밀도(kg/㎡) A: 용강 표면 위치에서의 레이들의 단면적(㎡) 0.015:플럭스 층의 두께에 상당하는 계수
  7. RH 진공 탈가스장치의 진공조내에 레이들로부터의 환류 용강의 욕면 위에 캐리어 가스와 더불어 플럭스 가루를 분사하여 용강의 탈황을 실시할때, 상기 레이들내의 용강 위의 슬랙에 있는 산화철 및 산화 망간의 합계농도를 5wt%이하로 하고, 또한 레이들내 용강 속의 Al농도를 0.02wt%이상으로 조정하는 것을 특징으로 하는 고순도 강의 용제방법.
  8. 제4항에 있어서, 플럭스의 분사량이 용강 1t당 0.2kg/min 이상인 고순도 강의 용제방법.
  9. 레이들 슬랙속의 산화철과 산화망간의 합계 농도를 5wt% 이하로 함과 동시에 RH 진공 탈가스장치의 진공조내에 설치한 고소 분사 랜스로부터는 조내 강 욕면을 향하여 가스와 탈황제를 불어 넣어 용강을 탈황하는 방법에 있어서, 상기 고소 분사랜스로부터 진공조내의 강 욕면에 산소 또는 산화성 가스를 분사함과 동시에 알루미늄 또는 알루미늄 함유 환원제를 첨가하고, 그 후 그 고소 분사 랜스로부터 CaO를 주성분으로 하는 플럭스 분말을 적어도 1kg/t분사하는 것을 특징으로 하는 고순도 강의 용제방법.
  10. 레이들 슬랙속의 산화철과 산화망간의 합계 농도를 5wt%이하로 함과 동시에 RH 진공 탈가스장치의 진공조내에 설치한 고소 분사 랜스로 부터는 조내 강 욕면을 향하여 가스와 탈황제를 분사하여 용강을 탈황하는 방법 있어서, 상기 고소 분사 랜스로부터 CaO를 주성분으로 한 플럭스 분말을 적어도 1kg/t분사함과 동시에 상기 진공조내에 체류하는 용강의 욕 깊이를 저하시킴으로써 상기 분사 플럭스 분말을 용강과 더불어 진공조와 레이들사이에 순환시키는 것을 특징으로 하는 RH 진공 탈가스장치를 사용하는 고순도 강의 용제방법.
  11. 레이들 슬랙속의 산화철과 산화망간의 합계 농도를 5wt% 이하로 함과 동시에 RH진공 탈가스장치의 진공조내에 설치한 고소 분사 랜스로부터는 조내 강 욕면을 향하여 가스와 탈황제를 분사시켜서 용강을 탈황하는 방법에 있어서, 상기 고소 분사 랜스로부터 진공조내의 강 욕면에 산소 또는 산화성 가스를 분사한 후, 알루미늄 또는 알루미늄 함유 환원제를 첨가하고, 그 후 그 고소 분사 랜스로부터 CaO를 주성분으로 한 플럭스 분말을 적어도 1kg/t분사하며, 또한 레이들의 위치를 내려서 상기 진공조내에 체류하는 용강의 욕깊이를 저하시킴으로써 상기 분사 플럭스 분말을 용강과 더불어 진공조와 레이들 사이에 순환시키는 것을 특징으로 하는 RH 진공 탈가스장치를 사용하는 고순도 강의 용제방법.
  12. 고소 분사 랜스를 갖춘 RH진공 탈가스장치의 진공조내의 강 욕면 위에 CaO를 주성분으로 한 플럭스 가루를 고소 분사 랜스를 통해서 캐리어 가스와 더불어 분사함으로써 용강의 탈황을 실시하는 방법에 있어서 출강중 또는 출강후의 용강에 환원제를 첨가함으로써 레이들 슬랙의 성분이 그 속에 함유된 산화철과 산화망간의 합계량이 5wt%이하가 되도록 개질함과 동시에 출강 중 및 출강 후의 레이들내에 CaO를 투입하여 RH 진공 탈가스처리전의 레이들 슬랙의 성분 조성을 아래 식으로 하고, 그후 RH진공 탈가스처리에 있어서 진공조내의 강에 상기 고소 분사랜스로부터 CaO를 주성분으로 한 플럭스를 적어도 1.0kg/t 분사하는 것을 특징으로 하는 RH진공 탈가스장치를 사용하는 고순도 강의 용제방법.
  13. WCAO/(WA1203+2.5 WsiO2)0.9
  14. 식중 : WCaO: 슬랙 속의 CaO wt% WA1203:슬랙 속의 Al2O3wt% WsiO2 :슬랙 속의SiO2wt%
  15. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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