KR910007722B1 - 전자사진용 현상제 조성물 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

전자사진용 현상제 조성물

본 발명은 전자사진, 정전기록, 정전인쇄 등에 있어서 정전하상을 현상하기에 적합한 현상제 조성물에 관한 것이다.

종래의 전자사진법은 미국특허 제2297691호와 제2357809호에 기재된 바와 같이 광전도성 절연층을 균일하게 대전시키고, 다음에 그 층을 빛에 노출시켜 부분적으로 전하를 소산시켜 전기적인 잠상을 형성하고, 이 잠상에 전하를 띠는 착색된 미세분말(소위 토우너)을 부착시키고(현상공정), 얻어진 가시상을 전사지 등의 전사재료에 전사시킨후(전가공정), 가열, 압력 등과 같은 적당한 정착법에 의해 전사상을 영구적으로 정착시키는 공정으로 구성되어 있다.

따라서, 토우너는 현상공정에서 뿐만 아니라 전사공정과 정착공정에서도 요구되는 기능을 만족해야 한다.

일반적으로 토우너는 현상장치내에서 기계적으로 작동하는 중에 전단력과 충격력에 의해 야기되는 기계적인 마찰력을 받는다. 그러므로 복사를 수천번 내지 수만번 반복시킴으로서 그것은 저하된다. 이러한 토우너의 저하는 기계적인 마찰력을 견디기에 충분히 강인한 분자량이 큰 수지를 사용함으로서 억제될 수 있다. 그러나 이러한 수지는 일반적으로 연화점이 높기 때문에, 그러한 수지를 함유하는 토우너는 오븐정착 또는 적외선을 이용한 복사정착과 같은 열효율이 낮은 비접촉 정착방식에 의해 충분히 확고하게 정착될 수 없다.

이러한 토우너가 열효율이 우수한 접촉방식인 가열로울러 정착방식에 의해서 정착될때에도, 충분히 확고한 정착을 달성시키기 위해서는 로울러를 꽤 높은 온도로 가열시켜야 하며 이러한 고온에서의 정착은 정착 장치의 저하, 지의 커얼링, 에너지 소비의 증대 등을 초래한다. 더우기, 이러한 고분자량 수지를 함유하는 토우너의 제조효율은, 이러한 수지가 쉽게 분쇄되지 않기 때문에 현저하게 낮다.

따라서, 중합도가 높고 연화점이 높은 수지를 토우너의 결합제로 사용하기에는 부적합하다. 반면에 가열 로울러 정착방식은 가열로울러 표면과 토우너상 표면을 접속시키는 것을 포함하며, 그래서 열효율이 현저하게 우수해서 고속정착에서 뿐만 아니라 저속정착에서도 널리 사용된다. 그러나 토우너상 표면이 가열로울러와 접촉될때 전사상을 구성하는 토우너가 가열로울러에 부착하기 쉽고, 이렇게 가열로울러에 부착한 토우너가 후속의 전사지에 재전사되는 경향이 있기 때문에 열로울러 정착방식은 불리하다. 즉, 가열로울러 정착방식은 소위 오프셋 현상을 일으키기 쉽다. 이 현상을 억제하기 위해서 로울러 표면을 불소계 수지등의 이형성이 우수한 재료로 가공시키고, 또한 실리콘 오일 등의 이형제로 피복시킨다.

그러나 이와같은 실리콘 오일을 도포하는 방법은 확대된 정착장치를 필요로 하므로 가격이 높아지고 또한 복잡하게 되어 트러블의 원인이 되어 바람직하지 못하다.

특공소 55-6895호, 특개소 56-98202호 공보에 기재된 바와 같이, 결합제 수지로서 분자량 분포폭이 넓은 수지를 사용하는 것으로 구성된 오프셋 현상의 억제를 위한 방법이 공지되어 있다. 그러나, 일반적으로 그러한 수지는 중합도가 높아서 정착온도를 높게 설정할 필요가 있다.

게다가, 더욱 효율적으로 방법으로서 특공소57-439호, 특개소50-44836호, 특개소57-37353호 공보 등에 오프셋을 억제하기 위해 결합제 수지를 비대칭화 또는 가교결합화 하는 것으로 이루어진 방법이 보고되었다. 그러나 이 방법은 정착성을 개선시키지 못한다.

일반적으로 최저 정착온도는 저온 오프셋 소멸온도와 고온 오프셋 발생온도의 사이에 있기 때문에, 사용 가능한 온도영역은 최저 정착온도와 고온 오프셋 발생온도 사이에 있다. 그러므로 최저 정착온도를 가능한 낮게 하강시키고 고온 오프셋 발생온도를 가능한 높게 상승시킴에 의해 사용가능한 온도영역을 확장시켜 사용정착온도를 하강시킬 수 있으며 이로 인해 에너지감소, 고속정착화 및 지의 커얼링 억제를 달성할 수 있다. 또한 최저 정착온도를 낮추고 고온 오프셋 발생온도를 증가시킴으로서 어떠한 트러블을 초래하지 않고 양면 복사가 허용되어 복사기가 인텔리젠트(intelligent)해지고 정착장치의 온도조절의 정밀도와 허용폭이 완화되는 등 각종 이점이 발생한다.

따라서, 정착성과 내오프셋성이 우수한 수지와 이러한 수지를 함유하는 토우너의 개발이 오랫동안 기대되어 왔다.

특개소49-65232호, 특개소50-28840호, 특개소50-81342호 공보에 기재된 바와 같이 결합제로서 스티렌수지를 함유하는 토우너의 내오프셋성은 파라핀 왁스, 저분자량 폴리올레핀 등을 첨가함으로서 향상될 수 있음이 공지되어 있다. 그러나 첨가량이 아주 적을 때 효과가 나타나지 않으며, 반면에 아주 많은 양을 첨가 했을 경우 현상제의 저하를 촉진시킴이 확인되었다.

미국특허 제3,590,000호에 기재된 바와 같이, 폴리에스테르 수지는 본질적으로 정착성이 양호해서 비접촉 정착방식에 의해서도 충분히 확고하게 정착될 수 있다. 그러나 오프셋현상이 빈번히 발생하기 때문에 가열로울러 정착방식을 폴리에스테르 수지에는 사용하기가 곤란하다. 특개소50-44836호, 특개소57-37353호, 특개소57-109875호 공보에 개시된 바와 같이 폴리카르복실산을 사용하여 제조된 폴리에스테르 수지는 내오프셋성을 향상시킨다. 그러나 이러한 폴리에스테르 수지의 일부는 충분한 내오프셋성을 나타내지 않는 반면, 그 나머지 수지 대부분은 개선된 내오프셋성을 나타낼지라도 폴리에스테르가 본래 가지고 있는 저온 정착성을 희생시키는 경우가 많으며, 그러므로 그들의 대부분이 문제가 있다.

폴리에스테르 수지를 함유하는 토우너는 스티렌 수지를 함유하는 토우너보다 열등한 유동성을 나타내는 경향이 있다. 즉 전자의 경우는 응집하기 쉬워 현상기내에서 열등한 운반성을 나타내어, 현상성이 저하되어 불균일하고 비화상 영역에 더럼 등이 있는 화질이 낮은 가시화상을 형성한다.

토우너의 유동성을 개선시킬 목적으로, 예를들면 소수성 실리카 분말과 같은 유동성 향상제를 다량으로 첨가하는 것이 일반적이다. 그러나 첨가한 결과 잠상 지지체의 표면이 우레탄 고무로 된 블레이드(blade)등에 의해 클리이닝될때 토우너 입자가 블레이드와 잠상 지지체 사이에 들어가서 클리이닝이 불량해진 결과 가시화상을 오염시킨다. 또한, 현상되었으나 전사되지 않은 토우너를 현상기에 재순환시켜 재사용하는 재순환형 화상 형성장치를 사용하는 경우에는 소수성 실리카 미세분말이 토우너 입자의 표면부에 매몰되며 그리하여 결과 생긴 토우너의 유동성이 저하되어 화질이 낮은 가시화상을 형성한다.

또한, 폴리에스테르 자체는 적당한 마찰대전성을 가지므로 폴리에스테르 수지를 함유하는 토우너는 하전제어제를 첨가하지 않아도 대전될 수 있다. 그러나 폴리에스테르 수지 전체가 대전되었기 때문에 복사가 반복되는 동안에 폴리에스테르 수지를 함유하는 토우너의 마찰전하가 점차로 증가한다. 예를들면 50,000번이상 연속적으로 복사를 반복한 후 이러한 토우너는 토우너의 변화에 의해 악영향을 받아 화상농도가 감소되는 등의 가시화상을 제공한다.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것이며 본 발명의 목적은 가열로울러 정착방식에 의해서 오프셋 억제액을 도포하지 않을때에도 오프셋을 일으킴이 없이 정착될 수 있고 저온에서 정착가능한 현상제를 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 유동성이 우수하고, 수명이 길며(저하가 더딤), 블로킹을 일으키지 않는 현상제를 제공하는 것이다.

본 발명은 결합제 수지의 주성분이 (i) 다음 일반식

(상기 식에서 R은 에틸렌 또는 프로필렌기이고 x와 y는 각각 1이상의 정수이며, 단 x+y의 평균치는 2 내지 7이다)으로 표시되는 디올성분과, (ii) 디카르복실산 또는 그의 무수물 또는 그의 저급 알킬에스테르와, (iii) 최소간 3개의 카르복실기를 갖는 폴리카르복실산 또는 그의 무수물 또는 그의 저급 알킬에스테르, 또는 최소한 3개의 수산기를 갖는 다가알코올을 공축중합시켜 얻어진 폴리에스테르 수지에 있어서, 이 폴리에스테르의 산가를 AV, 수산기가를 OHV로 할때, OHV/AV의 값이 최소한 1.2인 폴리에스테르로 구성된 최소한 2종류의 하전제어제를 함유하는 전자사진용 현상제 조성물에 관한 것이다.

본 발명에 의하면 결합제 수지의 연화점이 106 내지 160℃이고 유리전이온도가 50 내지 80℃인 것이 바람직하다. 또한 사용되는 하전제어제는 바람직하게는 최소한 1종류의 양대전성 하전제어제와 최소한 1종류의 음대전성 하전제어제를 함유한다. 더우기, 양대전성 하전제어제의 사용량은 음대전성 하전제어제의 사용량의 1/2이하로 하는 것이 바람직하다.

에스테르 교환반응 또는 1염기 카르복실산 또는 1가 알코올과의 반응을 제조중에 겪지 않는다면 폴리에스테르 수지는 그의 분자 말단에 카르복실기 또는 수산기가 잔존한다. 이 말단기의 양에 따라서 폴리에스테르 수지의 마찰대전량이 변한다는 것이 공지되어 있다. 말단기량, 특히 산가가 지나치게 저하된다면 폴리에스테르 수지의 마찰대전량이 저하된다. 말단기가 너무 많이 존재하면, 즉 산가가 너무 높으면 폴리에스테르의 마찰대전량이 일정한 수준까지 증가한다.

그러나 결과 생긴 토우너가 환경조건, 특히 습도에 의해 쉽게 영향받기 때문에 토우너로 사용하기에 부적합하다. 산가가 5 내지 60(KOH mg/g)인 폴리에스테르는 토우너로 흔히 사용된다. 현재, 폴리에스테르 수지의 산가를 AV, 수산기가를 OHV로 할때 OHV/AV 값이 최소한 1.2인 폴리에스테르 수지를 함유하는 토우너가 유동성이 우수하며 그것을 사용함으로서 최저 정착온도를 저하시킬 수 있음이 공지되어 있다.

본 발명에 따라서 결합제 수지의 주성분으로 사용되는 폴리에스테르 수지는 알코올 성분과 카르복실산 성분(예를들면 카르복실산 또는 그의 에스테르 또는 그의 무수물)과의 축중합에 의해 제조될 수 있다. 알코올 성분을 구성하는 멤버들중의 하나인 디올성분(i)의 예로서는 폴리옥시프로필렌(2.2)-2, 2-비스(4-히드록시페닐)프로판, 폴리옥시프로필렌(3.3)-2, 2-비스(4-히드록시페닐)프로판, 폴리옥시에틸렌(2.0)폴리옥시에틸렌(2,0)-2, 2-비스(4-히드록시페닐)프로판, 폴리옥시프로필렌(2.0)-2, 2-비스(4-히드록시페닐)프로판, 폴리옥시프로필렌(6)-2, 2-비스(4-히드록시페닐)프로판 등이 포함된다.

상기 알코올성분은 필요하다면, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 1, 2-프로필렌글리콜, 1, 3-프로필렌글리콜, 1, 4-부탄디올, 네오펜틸글리콜, 1, 4-부텐디올, 1, 5-펜탄디올, 1, 6-헥산디올, 1, 4-시클로헥산디메탄올, 디프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜과 폴리테트라메틸렌글리콜 등과 같은 디올류 및 비스페놀 A와 수소화 비스페놀 A와 같은 기타 2가 알코올로부터 선택된 다른 알코올을 알코올성분 전체를 기준으로 하여 10몰% 이하의 양으로 함유할 수 있다.

디카르복실산 성분(ii)으로서는 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 이타콘산, 글루타콘산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 시클로헥산 디카르복실산, 숙신산, 아티프산, 세바스산, 아젤라산, 말론산, n-도데케닐숙신산, n-도데실숙신산과 같은 알케닐숙신산 또는 알킬숙신산, 그의 무수물과 그의 저급 알킬에스테르가 포함된다.

본 발명에 의해서, 최소한 3개의 관능기를 갖는 다관능성 단량체(iii)는 오프셋 현상을 억제하는 역할을 한다. 다관능성 단량체의 양이 너무 적으면 효과를 거의 달성할 수 없게 된다. 이에 반하여 그것의 양이 너무 많으면 반응의 조절이 어려워져 안정한 성능을 갖는 폴리에스테르 수지를 얻기가 힘들어지고 얻어진 수지는 너무 경질이어서 쉽게 분쇄되어 토우너 제조효율이 현저히 감소하거나 최저 정착온도가 증가하는 등의 바람직하지 않은 현상이 발생하게 된다. 따라서 다관능성 단량체(iii)의 사용량은 바람직하게는 카르복실산 성분 또는 알코올성분을 기준으로 하여 5 내지 60몰%이다.

다관능성 단량체(iii)로서 사용되는 최소한 3개의 수산기를 갖는 다가알코올의 예로서는 소르비톨, 1, 2, 3, 6-헥산테트롤, 1, 4-소르비탄, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리펜타에리트리톨, 1, 2, 4-부탄트리올, 1, 2, 5-펜탄트리올, 글리세롤, 2-메틸프로판트리올, 2-메틸-1, 2, 4-부탄트리올, 트리메틸롤에탄, 트리메틸롤프로판, 1, 3, 5-트리히드록시메틸벤젠과 최소한 3개의 수산기를 갖는 다른 다가알코올이 포함되며, 반면에 다관능성 단량체(iii)로서 사용되는 최소한 3개의 카르복실기를 갖는 폴리카르복실산의 예로서는 1, 2, 4-벤젠트리카르복실산, 2, 5, 7-나프탈렌트리카르복실산, 1, 2, 4-나프탈렌트리카르복실산, 1, 2, 4-부탄트리카르복실산, 1, 2, 5-헥산트리카르복실산, 1, 3-디카르복시-2-메틸-2-메틸렌카르복시프로판, 1, 2, 4-시클로헥산트리카르복실산, 테트라(에틸렌카르복시)메탄, 1,2,7,8-옥탄테트라카르복실산, 피로멜리트산, 엠폴 삼합체산(Empol trimer acid), 그의 무수물과 그의 저급 알킬에스테르와 최소한 3개의 카르복실기를 갖는다른 카르복실산이 포함된다.

본 발명에 의하면, 상기 폴리에스테르 수지를 주성분으로 함유하는 결합제 수지는 연화점이 106 내지 160℃이고 유리전이온도가 50 내지 80℃인 것이 바람직하다. 연화점이 106℃ 이하이면 충분히 넓은 비오프셋 온도 영역을 얻을 수 없고, 반면에 160℃를 초과하면 최저 정착온도의 상승과 같은 바람직하지 않은 현상이 발생한다. 한편, 유리전이온도가 50℃ 이하이면 그러한 수지를 함유하는 토우너는 열등한 저장안정성을 나타내고 반면에 80℃를 초과하면 바람직하지 않게 정착성에 악영향을 미친다.

폴리에스테르 수지의 산가와 수산기가는 JIS K 0070에 따라서 측정될 수 있다. 상세히는 불용분중의 아세트산에틸 함량이 3중량% 이상일때 산가측정 용매로서 디옥산을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따라서, 수지의 산가를 AV, 수산기가를 OHV로 할때 OHV/AV 값이 최소한 1.2인 폴리에스테르 수지를 결합제 수지의 주성분으로 사용한다.

OHV/AV 값이 최소한 1.2인 폴리에스테르 수지를 사용하면, 얻어지는 토우너는 OHV/AV 값이 1.2 이상인 폴리에스테르 수지를 함유하는 토우너보다 더 높은 최저 정착온도를 나타낼 것이며 그리고 유동성이 열등하여 소수성 실리카 분말과 같은 유동성 향상제를 다량으로 첨가하여 유동성을 충분히 높여야 된다. 이러한 첨가의 경우 상기한 바와 같이 화잘이 낮은 가시화상이 형성되기 쉽다.

OHV/AV 값이 최소한 1.2인 폴리에스테르는 알코올성분 총량이 관능기수에 의해서 카르복실산성분 총량보다 많은 축중합에 의해 쉽게 제조될 수 있다.

본 발명의 현상제 조성물은 상기 폴리에스테르 수지와 최소한 2종류의 하전제어제, 바람직하게는 최소한 1개의 양대전성 하전제어제와 최소한 1개의 음대전성 하전제어제를 필수성분으로 하고 양대전성 하전제어제의 사용량은 음대전성 하전제어제 사용량의 1/2을 초과하지 못한다. 현상제 조성물은 50,000번 이상 복사를 반복한 후에도 농도 감소를 발생시키지 않고 화질이 높은 가시화상을 얻을 수 있다.

양대전성 하전제어제의 예로서는 니그로신 베이스 EX, 오일블랙 BS, 오일블랙 SO, 본트론 N-01과 본트론 N-11(이상은 오리엔트화학사제)등의 니그로신계 염료; 3급 아민을 측쇄로서 갖는 트리페닐메탄계염료; 본트론 P-51(오리엔트화학사제)와 브롬화 세틸트리메틸암모늄 등의 4급 암모늄염; AFP-B(오리엔트화학사제)등의 폴리아민수지 등이 포함된다.

음대전성 하전제어제의 예로서는 바리패스트 블랙 3804, 본트론 S-31, 본트론 S-32, 본트론 S-34와 본트론 S-36(이상은 오리엔트화학사제)등의 금속함유 아조계 염료; 아이젠 스필론 블랙 TVH(호도가야 화학사제); 구리프탈로시아닌 염료; 본트론 E-82, 본트론 E-84와 본트론 E-85(이상은 오리엔트 화학사제)등의 살리실산알킬의 금속착물 등이 포함된다.

상기 하전제어제는 결합제 수지를 기준으로 하여 0.1 내지 8.0중량%, 바람직하게는 0.2 내지 5.0중량% 양으로 조성물내에 함유될 수 있다.

본 발명에서 사용되는 폴리에스테르 수지는 카르복실산 성분과 알코올 성분을 예를들면 불활성가스 분위기에서 180 내지 250℃의 온도에서 축중합을 수행하여 제조될 수 있다. 이제법에서 산화아연, 산화제일주석, 산화디부틸주석 또는 디라우르산 디부틸주석과 같은 통상의 에스테르롸 촉매가 축중합 반응을 촉진시키기 위해 사용될 수 있다. 양자택일로 축중합반응은 동일한 목적을 위해 감압하에서 수행될 수 있다.

본 발명에 의해서, 상기 폴리에스테르 수지를 결합제 수지의 주성분으로 사용함으로서 토우너를 제조한다. 또한 결합제 수지는 분쇄성을 향상시키기 위해 수평균 분자량이 11,000 이하인 스티렌수지 또는 스티렌-아크릴계 수지 등의 다른 수지를 결합제 수지를 기준으로 하여 30중량%까지 함유할 수 있다. 토우너 제조시에 착색제와 자성체와에 또 각종의 첨가제, 예를들면 왁스와 같은 오프셋 억제제 또는 소수성 실리카와 같은 유동성 향상제를 일반적으로 첨가한다. 그러나 본 발명에 따르는 폴리에스테르 수지를 결합제 수지로 사용할때 상기 첨색제를 첨가할 필요가 없으며 또는 이들이 첨가될지라도 첨가량은 적게한다.

본 발명에서 사용되는 착색제의 예로서는 열블랙법, 아세틸렌블랙법, 채널블랙법 또는 램프블랙법 등에 의해 제조되는 각종의 카아본블랙, 프탈로시아닌블루, 퍼머먼트 브라운 FG, 브릴리안트 패스트 스카알렛, 피그먼트 그린 B, 로다민 B 베이스, 솔벤트 레드 49와 146, 솔벤트 블루 35 및 그들의 혼합물 등이 포함된다. 착색제 결합제수지 100중량부에 대해 1 내지 15중량부 정도가 사용된다.

본 발명에 의해서 상기 폴리에스테르 수지, 최소한 2종류의 하전제어제, 착색제 그리고 필요하다면 각종 첨가제를 균일하게 분산시킨 후 혼련, 냉각, 분쇄 그리고 분급하여 평균입경 5 내지 15μm인 토우너를 얻는다. 얻어진 토우너는 산화철 담체, 구상 산화철 담체 또는 페라이트 담체 등의 자성분체, 또는 이상의 담체를 수지로 피복시켜 얻어진 재료와 혼합시켜 건식 이성분계 현상제로 사용될 수 있다.

본 발명에 의한 결합제 수지를 이용해서 자성 토우너가 제조될때, 평균입경 0.1 내지 1μ의 미세분말 상태로 자성체 약 40 내지 70중량부를 결합제 수지 100중량부에 분산시킨다. 자성체의 예로서는 철, 코발트, 니켈 등의 강자성 금속의 분말과 페라이트, 적철석, 자철석 등 강자성 원소를 함유하는 합금 또는 화합물이 포함된다.

[실시예]

결합제 수지의 제조실시예와 본 발명의 실시예를 기술하기로 한다. 그러나 본 발명은 이들 예에 의해 한정되지 않는다.

실시예에서 모든 부는 중량에 의한 것이다.

[제조실시예 1]

폴리옥시프로필렌(2.2)-2, 2-비스(4-히드록시페닐)프로판 840g, 폴리옥시에틸렌(2)-2, 2-비스(4-히드록시페닐)프로판 195g, 테페프탈산 249g, 푸마르산 132g, 1, 2, 4-벤젠트리카르복실산 29g, 산화디부틸틴 2g 및 1.5g의 히드로퀴논을 온도계, 스테인레스강 교반봉, 환류냉각기 및 질소도입관이 장비된 2l의 4목 유리 플라스크에 넣고 맨틀 히터중에서, 질소기류하에 200℃까지 가열하여 반응을 수행하였다. 중합도는 ASTM 28-51T에 의해 연화점을 측정함으로서 추적했다. 연화점이 122℃에 도달했을 때 반응을 종료시켰다. 얻어진 수지는 담황색의 고체이며, 시차열량계(DSC)를 이용하여 측정한바 유리전이온도가 66℃로 되었다. 수지의 산가는 14KOH mg/g이었으며, 수산기가는 28KOH mg/g이었다. 이후로, 이 수지를 "결합제 수지(1)"로 표시한다.

[제조실시예 2]

폴리옥시프로필렌(2.2)-2, 2-비스(4-히드록시페닐)프로판 1050g, 아젤라산 339g 및 1, 2, 4-벤젠트리카르복실산 141g을 제조실시예 1에 기술된 것과 동일한 방법에 의해 응결시켜 연화점이 122℃, 유리전이온도가 60℃, 산가가 19KOH mg/g이고 수산기가가 31KOH mg/g인 폴리에스테르 수지를 얻었다. 이후로 이 수지를 "결합제 수지(2)"로 표시한다.

[제조실시예 3]

테레프탈산의 양이 280g인 것을 제외하고는 제조실시예 1에 기술된 것과 동일한 방법을 되풀이하여 연화점 122℃, 유리전이온도 68℃, 산가 25KOH mg/g이고 수산기가 23KOH mg/g인 폴리에스테르 수지를 얻었다. 이후로, 이 수지를 "결합제 수지(3)"로 표시한다.

[제조실시예 4]

연화점이 105℃에 도달했을 때 반응을 종료시키는 것을 제외하고는 제조실시예 1에 기술된 것과 동일한 방법을 되풀이하였다. 유리전이온도 64℃, 산가 20KOH mg/g이고 수산기가 35KOH mg/g인 폴리에스테르 수지를 얻었다. 이후로, 이 수지를 "결합제 수지(4)"로 표시한다.

[실시예 1 내지 3 및 비교실시예 1 내지 5]

다음 조성의 각각의 재료를 보올밑에서 혼합한 후 가압연사기에서 혼련시키고, 냉각후 분쇄, 분급공정을 거쳐 평균입경이 11μm인 토우너를 얻었다.

이후로, 실시예 3에서 제조된 토우너를 각각 "토우너 1 내지 3"으로 표시하고, 비교실시예 1 내지 5에서 제조된 토우너를 각각 "비교토우너 1 내지 5"로 표시한다.

이러한 토우너 각각 39g을 수지피복된 철분말 1261g과 혼합시켜 현상제를 얻었다. 무정형 셀렌감광체와 회전속도 255mm/sec으로 조정된 정착로울러가 장비되고 정착장치중의 온도를 가변시킬 수 있으며 오일 도포장치를 제거한 시판되는 전자사진복사기를 이용하여 이 현상제로 상을 복사하였다.

정착온도를 120℃ 내지 220℃에서 변화시켜 상의 정착성, 오프셋성을 평가하였다. 그 결과가 표 1에 제시되어 있다.

최저 정착온도를 다음과 같이 측정했다 : 저면이 15mm×7.5mm인 타자기 지우개로 500g 하중하에 정착기를 통과한 정착화상의 위를 5번 문질렀다. 마찰전후에 맥베드사제의 반사농도계로 이상의 광학반사 밀도를 측정했다. 최저 정착온도는 다음 식으로 정의된 바와 같은 정착률이 70%에 이르는 정착로울러의 온도를 의미한다.

비교토우너 4는 유동성이 열등해서 현상기내에서의 운반성이 역시 열등하여 복사 초기부터 불균일한 상과 더러워진 비화상 영역을 갖는 복사가 얻어졌다. 비교토우너 5는 최저 정착온도가 낮을지라도 좁은 비오프셋온도 영역을 나타냈다. 비교토우너 1과 2로 복사함에 있어서 화상농도는 연속복사 매수가 53,000을 초과할 때 저하되기 시작했으며 70,000매를 초과한 후에도 여전히 낮았다. 토우너 3에 의한 복사는 복사 초기부터 더러워진 비화상 영역을 갖는 복사가 얻어졌다.

한편, 본 발명에 따르는 토우너 1 내지 3은 정착성과 운반성이 우수했으며 복사매수가 120,000에 이를때 까지 복사초기부터 화질이 높은 가시화상을 제공했다.

[표 1]

Claims (4)

1. 결합제 수지의 주성분이 (i)다음 일반식

   

   (상기 식에서 R은 에틸렌 또는 프로필렌기이고 x와 y는 각각 1이상의 정수이며, 단 x+y의 평균치는 2 내지 7이다.)으로 표시되는 디올성분과, (ii) 디카르복실산 또는 그의 무수물 또는 그의 저급 알킬에스테르와, (iii) 최소한 3개의 카르복실기를 갖는 폴리카르복실산 또는 그의 무수물 또는 그의 저급 알킬에스테르, 또는 최소한 3개의 수산기를 갖는 다가알코올을 공축중합시켜 얻어진 폴리에스테르의 수지에 있어서, 이 폴리에스테르 산가를 AV, 수산기가를 OHV로 할때, OHV/AV의 값이 최소한 1.2인 폴리에스테르로 구성된 최소한 2종류의 하전제어제를 함유하는 것을 특징으로 하는 전자사진용 현상제 조성물.
2. 제1항에 있어서, 상기 결합제 수지의 연화점은 106 내지 160℃이고 유리전이온도는 50 내지 80℃인 것을 특징으로 하는 전자사진용 현상제 조성물.
3. 제1항에 있어서, 상기 하전제어제는 최소한 1종류의 양대전성 하전제어제와 최소한 1종류의 음대전성 하전제어제를 함유하는 것을 특징으로 하는 전자사진용 현상제 조성물.
4. 제3항에 있어서, 상기 양대전성 하전제어제의 양은 상기 음대전성 하전제어제의 양의 1/2 이하인 것을 특징으로 하는 전자사진용 현상제 조성물.