KR900007082A - 포토마스크의 결함검출방법 및 장치 - Google Patents

포토마스크의 결함검출방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

포토마스크의 결함검출방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 본 발명의 1실시예인 마스크 결함검출장치의 구성도.
제 2 도A는 결함이 없는 마스크 패턴을 도시한 도면.
제 2 도B는 결함이 없는 마스크 패턴의 검출상을 도시한 도면.
제 3 도A는 결함이 있는 마스크 패턴을 도시한 도면.
제 3 도B는 결함이 있는 마스크 패턴의 검출상을 도시한 도면.
제 6 도는 포토마스크를 투과하는 검출광의 광량을 측정해서 결함의 유무를 판별하는 구성도.

Claims (25)

  1. 포토마스크에 조사한 광의 투과량 강도 또는 반사광 강도의 어느 하나 또는 양자를 검출하여 결함을 검출하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출방법.
  2. 포토마스크에 광을 조사하는 조사수단, 포토마스크에서의 광의 반사광강도를 검출하여 결함을 검출하는 검출수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  3. 포토마스크에 광을 조사하는 조사수단, 포토마스크에서의 광의 반사광강도를 검출하는 제 1 의 광검출수단, 상기 포토마스크를 통과한 광의 강도를 검출하는 제 2 의 광검출수단, 포토마스크 구동수단, 포토마스크 위치검출수단을 포함하며, 상기 2개 또는 1개의 광검출수단에서 얻어지는 신호정보의 조합과 위치검출수단에서 얻어지는 위치정보 및 패턴설계데이타를 비교하고, 포토마스크의 결함을 검출하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  4. 위상시프트형 마스크의 결함검출방법에 있어서, 포토마스크에 조사한 광의 투과광의 강도가 상기 포토마스크의 광투과부 및 투명막(위상시프터)부에서 동일하며, 광의 반사광 강도가 광투과부에서는 약하고, 상기 투명막부에서는 강한 것을 이용해서 상기 투명막의 존재의 유무를 식별하고, 투명막의 패턴설계 데이타와 비교하는 것에 의해 위상시프터의 결함을 검출하는 것을 특징으로 하는 프토마스크의 결함검출방법.
  5. 특허청구의 범위 제 3 항에 있어서, 포토마스크에 조사한 광의 투과광의 강도가 상기 포토마스크의 광투과부 및 투명막(위상시프터)부에서 동일하며, 광의 반사광강도가 광투과부에서는 약하고, 상기 투명막부에서는 강한 것을 이용해서 상기 투명막의 결함을 검출하는 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  6. 특허청구의 범위 제 3 항에 있어서, 상기 포토마스크에 조사하는 광의 파장을 투명막(위상시프터)부에서의 광반사강도가 최대로 되도록 선택하는 선택수단 또는 선택한 광원을 갖는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  7. 광원으로써 코히어런트 또는 부분코히어런트의 성질을 가지며, 상기 광원의 파장을 선택하고, 상기 선택후의 조명광으로 포토마스크 표면상에 배치되어 있는 패턴을 조명하고, 상기 패턴에 의해 조명광에 대해서 위상차를 부여하고, 상기 조명광이 패턴통과후의 투과광으로 상을 형성하여 상기 패턴상의 결함을 상중의 명암정보로써 검출하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출 방법.
  8. 코히어런트 또는 부분 코히어런트의 광원수단, 상기 광원수단에서의 광선의 파장을 선택하는 선택수단, 상기 선택후의 광선을 포토마스크에 조명하는 광학계수단, 상기 포토마스크를 이동시키는 스테이지 구동수단, 상기 포토마스크 표면상의 패턴의 일부에 위상차를 부여하는 수단, 상기 포토마스크의 투과량이 형성하는 상을 취할수 있는 촬상수단으로 되는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  9. 조명광으로써 단일파장을 갖는 광원수단, 상기 조명광을 포토마스크에 투광하는 광학계수단, 상기 포토마스크를 이동시키는 스테이지 구동수단, 상기 포토마스크 표며상의 패턴의 일부에 위상차를 부여하는 수단, 상기 포토마스크의 투과광이 형성하는 상을 취할 수 있는 촬상수단으로 되는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  10. 특허청구의 범위 제 8 항에 있어서, 상기 포토마스크의 위치를 검출하는 검출수단, 상기 위치검출수단에서 얻어지는 위치정보와 상기 촬상수단에서 얻어지는 신호정보를 대응시키는 처리수단을 갖는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  11. 특허청구의 범위 제 9 항 또는 제10항에 있어서, 상기 조명수단에서 발하는 광선을 분기하는 제 1 의 분기수단, 상기 분기광중 포토마스크를 투과한 광을 분기하는 제 2 의 분기수단, 상기 제 2 의 분기수단에서 얻어지는 한쪽의 분기광을 제 1 의 촬상소자에 거두어 들이는 수단, 상기 제 1 의 분기수단에서 얻어지는 포토마스크를 투과하지 않은 분기광과 상기 제 2 의 분기수단에서 얻어지는 다른쪽의 분기광을 간섭시켜서 제 2 의 촬상소자에 거두어들이는 수단으로 되는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  12. 특허청구의 범위 제 9 항 또는 제10항에 있어서, 상기 조명수단에서 발하는 광선을 분기하는 제 1 의 분기수단, 상기 포토마스크를 투과한 상기 분기광중의 한쪽의 광을 분기하는 제 2 의 분기수단, 상기 제 2 의 분기수단에서 얻어지는 한쪽의 분기광을 제 2 의 촬상소자에 거두어들이는 수단, 상기 제 1 의 분기수단에서 얻어져서 상기 포토마스크의 통과점의 근방을 투과하는 다른 분기광과 상기 제 2 의 분기수단에서 얻어지는 다른쪽의 분기광을 간섭시켜서 제 1 의 촬상소자에 거두어들이는 수단으로 되는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  13. 특허청구의 범위 제 9 항 또는 제10항에 있어서, 상기 위상차를 일으키는 수단으로써 위상변화가 180°근방으로 되는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  14. 특허청구의 범위 제 7 항에 있어서, 상기 포토 마스크로써 투명한 기판을 가지며, 상기 기판표면상의 패턴으로써 투명박막과 차광박막을 갖고, 조명광의 파장이 노출광과는 다르며, 또한 투명한 기판에 대해서 투과율을 낮게한 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출방법.
  15. 특허청구의 범위 제 7 항에 있어서, 상기 광원으로써 노출광과 동일 파장성분 및 다른 파장의 2개의 파장성분을 포함하는 광을 발하고, 상기 포토마스크를 투과한 2개의 파장성분의 광을 분기하고, 각각의 분기광을 각각 다른 파장성분의 광으로 선택한 후에 명암의 정보를 검출하고, 상기 포토마스크상의 투명 박막 및 차광용 박막의 유무를 각각 검출하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출방법.
  16. 특허청구의 범위 제 9 항 또는 제10항에 있어서, 상기 노출광과는 다른 파장의 광을 발하는 광원, 상기 포토마스크의 투과광량을 검출하는 광량계측수단, 상기 투과광량에 따라서 차광, 반투명 및 투명의 판별을 하는 처리수단을 적어도 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  17. 특허청구의 범위 제 8 항에 또는 제10항에 있어서, 상기 광원으로써 노출광과 동일 파장의 광 및 노출광과 다른 파장의 광을 발생하는 조명 수단, 상기 포토마스크를 투과한 후의 광을 분기하는 분기수단, 각각의 분기광에서 서로 다른 파장의 광만을 인출해내는 파장선택수단, 2개의 분기광의 광량을 각각 계측하는 광량 계측수단과 상기 광량계측수단에 의해 얻어지는 신호정보를 서로 비교처리하는 처리수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  18. 특허청구의 범위 제17항 기재의 포토마스크의 결함검출장치의 포토마스크에 있어서, 노출광과는 다른 파장에 대해서는 투명 박막을 갖는 투과부의 투과율이 상기 투명박막을 갖고 있지 않은 투과부의 투과율과는 다른것을 특징으로 하는 포토마스크.
  19. 특허청구의 범위 제17항 기재의 포토마스크의 결함 검출장치의 포토마스크에 있어서, 노출광에 대해서는 투명한 박막을 가지며, 또한 투명박막에 상기 노출광과는 다른 파장의 광에 대해서는 흡광특성을 갖는 흡광제를 첨가한 것을 특징으로 하는 포토마스크.
  20. 특허청구의 제14항에 있어서, 상기 결함검출에 이용하는 상기 조명광의 파장을 340㎚이하로 한 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출방법.
  21. 특허청구의 범위 제14항에 있어서, 상기 결함검출에 이용하는 조명광의 파장을 280㎚이하로 한 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  22. 특허청구의 범위 제16항에 있어서, 상기 결함검출에 이용하는 조명광의 파장을 340㎚이하로 한 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  23. 특허청구의 범위 제16항에 있어서, 상기 광원에서 발하는 조명광의 파장을 280㎚이하로 한 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  24. 특허청구의 범위 제17항에 있어서, 상기 노출광과는 다른 파장의 조명광을 340㎚이하로 한 것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
  25. 특허청구의 범위 제17항에 있어서, 노출광과는 다른 파장의 조명광을 280㎚이하의 파장의 광인것을 특징으로 하는 포토마스크의 결함검출장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890014616A 1988-10-12 1989-10-12 포토마스크의 결함검출 방법 및 장치 KR0141496B1 (ko)

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