JP4521548B2 - 検査装置、検査方法及びパターン基板の製造方法 - Google Patents
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Description
発明の実施の形態1.
発明の実施の形態2.
発明の実施の形態3.
発明の実施の形態4.
15 ビームスプリッタ、16 アパーチャ、17 対物レンズ、
21 試料、22 ミラー、24反射面、25 入射光、26 反射光、27 欠陥、
28 ハーフトーン膜、29 反射膜、31 レンズ、32 光検出器
Claims (8)
- 光源と、
前記光源からの光を集光して光を透過する試料に照射する対物レンズと、
前記試料の前記対物レンズ側とは反対側に配置されたミラーであって、前記試料に1mm以下の一定の間隔を保って近接して配置され、前記対物レンズからの光を正反射するミラーと、
前記試料に斜めに入射した入射光が前記ミラーで正反射されることによって、前記試料において前記入射光が通過した位置と近い位置を斜めに通過した光を検出する光検出器とを備える検査装置。 - 前記対物レンズの開口数が0.002以上0.2以下である請求項1記載の検査装置。
- 前記光検出器が前記試料の画像を撮像する撮像手段である請求項1、又は2に記載の検査装置。
- 前記光源からの光を波長に応じて分散させる光分散手段と、
前記光分散部材で分散された光のうち一部の波長の光を通過させる空間フィルタと
前記空間フィルタ上に前記光分散手段からの光を集光する集光手段をさらに備え、
前記一部の波長の光を前記試料に入射させる請求項1乃至3のいずれかに記載の検査装置。 - 光を透過する試料に照射された光を検出して検査を行う検査方法であって、
対物レンズに光を照射するステップと、
前記対物レンズで集光された光を、前記試料の前記対物レンズ側とは反対側に配置されたミラーであって、前記試料に1mm以下の一定の間隔を保って近接して配置され、前記対物レンズからの光を正反射するミラーに入射させるステップと、
前記試料に斜めに入射した入射光が前記ミラーで正反射されることによって、前記試料において前記入射光が通過した位置と近い位置を斜めに通過した光を検出するステップとを備える検査方法。 - 前記対物レンズにより光を前記ミラーの表面に集光して、当該ミラーに入射させる請求項5に記載の検査方法。
- 前記光源からの光を波長に応じて分散させるステップと、
前記分散された光を開口を有する空間フィルタ上に集光するステップと、
前記空間フィルタ上に集光された光のうち一部の波長の光を通過させるステップとをさらに備え、
前記一部の波長の光を前記試料に入射させる請求項5、又は6に記載の検査方法。 - 請求項5乃至7のいずれかに記載の検査方法により、試料を検査するステップと、
前記検査された試料のうち、前記光透過性基板に欠陥がないと判定された試料によりマスクを製造するステップと、
前記マスクを基板を用いて露光するステップと、
前記露光された基板を現像して、パターンを形成するステップとを有するパターン基板の製造方法。
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