JP2006194628A - 検査装置、検査方法及びパターン基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
本発明にかかる検査装置は光を透過するガラス基板21を有する試料を検査する検査装置であって、ガラス基板21の一方の面である入射面から試料に光を入射させる光源11と、開口数が0.002以上0.2以下で、光源11からの光を試料に設けられた反射面上に集光する対物レンズ17と、反射面で正反射され、ガラス基板21を通過して入射面から出射された光を検出する光検出器32とを備えるものである。
【選択図】図1
Description
発明の実施の形態1.
発明の実施の形態2.
発明の実施の形態3.
発明の実施の形態4.
15 ビームスプリッタ、16 アパーチャ、17 対物レンズ、
21 試料、22 ミラー、24反射面、25 入射光、26 反射光、27 欠陥、
28 ハーフトーン膜、29 反射膜、31 レンズ、32 光検出器
Claims (19)
- 光源と、
前記光源からの光を集光して光を透過する試料に照射する対物レンズと、
前記試料の前記対物レンズ側と反対側に配置された反射部材であって、前記試料に近接して配置され、前記対物レンズからの光を正反射する反射部材と、
前記反射部材で正反射され前記試料を通過した光を検出する光検出器とを備える検査装置。 - 前記試料と前記反射部材との間隔が1mm以下である請求項1に記載の検査装置。
- 前記対物レンズの開口数が0.002以上0.2以下である請求項1又は2に記載の検査装置。
- 光を透過する光透過性基板を有する試料を検査する検査装置であって、
前記光透過性基板の一方の面である入射面から前記試料に光を入射させる光源と、
開口数が0.002以上0.2以下で、前記光源からの光を前記試料に設けられた反射面上に集光する対物レンズと、
前記反射面で正反射され、前記光透過性基板を通過して前記入射面から出射された光を検出する光検出器とを備える検査装置。 - 前記光透過性基板の前記入射面と反対側の面を反射面とする請求項4記載の検査装置。
- 前記光透過性基板の前記入射面と反対側の面に反射膜が設けられており、前記反射膜と前記光透過性基板との界面が前記反射面となる請求項4記載の検査装置。
- 前記試料が、
前記光透過性基板の前記入射面と反対側に設けられた第1の反射膜と、
前記第1の反射膜と前記光透過性基板との間に設けられた第2の反射膜とをさらに備え、
前記第1の反射膜と前記第2の反射膜との界面が前記反射面となる請求項4記載の検査装置。 - 前記光検出器が前記試料の画像を撮像する撮像手段である請求項1乃至7のいずれかに記載の検査方法。
- 前記光源からの光を波長に応じて分散させる光分散手段と、
前記光分散部材で分散された光のうち一部の波長の光を通過させる空間フィルタと
前記空間フィルタ上に前記光分散手段からの光を集光する集光手段をさらに備え、
前記一部の波長の光を前記試料に入射させる請求項1乃至8のいずれかに記載の検査装置。 - 光を透過する試料に照射された光を検出して検査を行う検査方法であって、
対物レンズに光を照射するステップと、
前記対物レンズで集光された光を、前記試料の前記対物レンズ側と反対側に配置された反射部材であって、前記試料に近接して配置され、前記対物レンズからの光を正反射する反射部材に入射させるステップと、
前記反射部材で正反射された光を検出するステップとを備える検査方法。 - 前記試料と前記反射部材との間隔が1mm以下である請求項10に記載の検査方法。
- 前記対物レンズにより光を前記反射部材の表面に集光して、当該反射部材に入射させる請求項11記載の検査方法。
- 光を透過する光透過性基板を有する試料に光を照射して検査する検査方法であって、
開口数が0.002以上0.2以下の対物レンズで、光源からの光を前記試料に設けられた反射面上に集光するステップと、
前記集光された光を前記光透過性基板の一方の面である入射面に入射させるステップと、
前記入射面に入射した光を前記光透過性基板を介して前記反射面に入射させるステップと、
前記反射面で正反射して、前記光透過性基板を通過した光を検出するステップとを備える検査方法。 - 前記光透過性基板の前記入射面と反対側の面を反射面とする請求項13記載の検査方法。
- 前記光透過性基板の前記入射面と反対側の面に反射膜が設けられており、前記反射膜と前記光透過性基板との界面が前記反射面となる請求項13記載の検査方法。
- 前記試料が、
前記光透過性基板の前記入射面と反対側に設けられた第1の反射膜と、
前記第1の反射膜と前記光透過性基板との間に設けられた第2の反射膜とをさらに備え、
前記第1の反射膜と前記第2の反射膜との界面が前記反射面となる請求項13記載の検査方法。 - 前記試料と前記試料上における光の入射位置を相対的に移動させ、
前記検出される光の強度の変化から前記第1の反射膜の膜厚の変化を検出する請求項16に記載の検査方法。 - 前記光源からの光を波長に応じて分散させるステップと、
前記分散された光を開口を有する空間フィルタ上に集光するステップと、
前記空間フィルタ上に集光された光のうち一部の波長の光を通過させるステップとをさらに備え、
前記一部の波長の光を前記試料に入射させる請求項10乃至17のいずれかに記載の検査方法。 - 請求項10乃至18のいずれかに記載の検査方法により、試料を検査するステップと、
前記検査された試料のうち、前記光透過性基板に欠陥がないと判定された試料によりマスクを製造するステップと、
前記マスクを基板を用いて露光するステップと、
前記露光された基板を現像して、パターンを形成するステップとを有するパターン基板の製造方法。
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