JP5847841B2 - コヒーレンス低減のための方法及びシステム - Google Patents
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Description
20:レーザー
30:フィルディフューザ
40:第2のスペックル低減部品
60:追加の光学系
70:集光レンズ
75:ステージ
80:オブジェクト
90:検出器
100:調整可能パルスストレッチャ
Claims (15)
- コヒーレンス低減方法であって、
ループを形成する複数の光学部品を備えた非対称パルスストレッチャにより最初の光パルスを受光するステップと、ここで、前記複数の光学部品のうち少なくとも2つは互いにほぼ対称的に配置され、前記複数の光学部品のうち少なくとも1つは他の複数の光学部品と非対称に配置されており、
パルスシーケンス生成期間中に、前記最初の光パルスに応答して、前記パルスストレッチャにより一連の複数のパルスを生成するステップと、
を含み、前記少なくとも2つの光学部品は、前記複数のパルスのうちの少なくとも2つの間にコヒーレンスに関する空間的差異をもたらし、前記パルスシーケンス生成期間は、検出器の応答期間を超えず、
前記方法は、さらに、
集光レンズにより前記複数のパルスを集光して、集光された複数のパルスを生成するステップと、
前記集光された複数のパルスによりオブジェクトの範囲を照明するステップと、
前記範囲からの光を前記検出器によって検出するステップと、
をさらに含むことを特徴とする方法。 - 前記集光された複数のパルスを、前記オブジェクトの実質的に同じ範囲の方に導くステップを含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記コヒーレンスに関する空間的差異は、前記少なくとも2つのパルスの入射角の差異である、
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記コヒーレンスに関する空間的差異は、前記少なくとも2つのパルスの入射位置の差異である、
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記複数のパルスのうちの2つのパルス間に入射角差をもたらすステップと、
前記集光された複数のパルスのうちの2つのパルス間に入射位置差をもたらすステップとを含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記複数のパルスを、該複数のパルスのコヒーレント性を低減する第2のスペックル低減部品の方に導くステップを含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - コヒーレンス低減能力を有する光学系であって、
最初の光パルスを生成するための光源と、
パルスシーケンス生成期間中に、前記最初の光パルスを受光して、複数の光パルスを生成するように構成された非対称パルスストレッチャと、
を備え、
前記非対称パルスストレッチャは、ループを形成する複数の光学部品を備え、前記複数の光学部品のうち少なくとも2つは互いにほぼ対称的に配置され、前記複数の光学部品のうち少なくとも1つは他の複数の光学部品と非対称に配置され、前記少なくとも2つの光学部品は、前記複数のパルスのうちの少なくとも2つのパルス間にコヒーレンスに関する空間的差異をもたらし、
前記光学系は、前記非対称パルスストレッチャとオブジェクトの間に位置し前記複数のパルスを集光するための集光レンズであって、前記集光された複数のパルスを前記オブジェクトの範囲の方に導く集光レンズをさらに備える、
ことを特徴とする光学系。 - 前記集光レンズは、前記集光された複数のパルスを前記オブジェクトの実質的に同じ範囲の方に導くように構成される、
ことを特徴とする請求項7に記載の光学系。 - 前記コヒーレンスに関する空間的差異は、前記少なくとも2つのパルスの入射角の差異である、
ことを特徴とする請求項7に記載の光学系。 - 前記コヒーレンスに関する空間的差異は、前記少なくとも2つのパルスの入射位置の差異である、
ことを特徴とする請求項7に記載の光学系。 - 前記非対称パルスストレッチャは、前記複数のパルスのうちの2つのパルス間に入射角差をもたらし、前記集光された複数のパルスのうちの2つのパルス間に入射位置差をもたらすように構成される、
ことを特徴とする請求項7に記載の光学系。 - 前記非対称パルスストレッチャは、前記複数のパルスを、該複数のパルスのコヒーレント性を低減する第2のスペックル低減部品の方に導くように構成される、
ことを特徴とする請求項7に記載の光学系。 - 前記非対称パルスストレッチャは、前記パルスを前記オブジェクトの方に導く集光レンズの瞳面に位置する出力部から前記集光された複数のパルスを出力するように構成される、
ことを特徴とする請求項7に記載の光学系。 - 前記複数の光学部品は複数のミラーを含み、1つのミラーの配向角は、別のミラーの配向と異なる、
ことを特徴とする請求項7に記載の光学系。 - 前記複数の光学部品は複数のミラーを備え、少なくとも1つのミラーは、他の全てのミラーの高さとは異なる高さに位置する、
ことを特徴とする請求項7に記載の光学系。
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