KR101694986B1 - 코히어런스 감소를 위한 방법 및 시스템 - Google Patents

Abstract

코히어런스 감소 능력들을 갖는 광학 시스템은 제 1 광 펄스를 생성하는 광 소스; 제 1 광 펄스를 수신하고 펄스 시퀀스 생성 기간 동안 다수의 광 펄스들을 생성하도록 배열된 비대칭 펄스 스트레처로서, 비대칭 펄스 스트레처는 루프를 규정하는 다수의 광학 컴포넌트들을 포함하는, 상기 비대칭 펄스 스트레처; 및 비대칭 펄스 스트레처와 오브젝트 사이에 위치되어 다수의 펄스들을 오브젝트 상의 영역을 향해 지향시키는 집속 렌즈를 포함한다. 다수의 광학 컴포넌트들 중 적어도 2개의 광학 컴포넌트들은 서로에 관하여 거의 대칭적인 방식으로 배치되며 다수의 펄스들 중 적어도 2개의 펄스들 사이에 코히어런스 관련 차이를 도입한다. 펄스 시퀀스 생성 기간은 검출기의 응답 기간을 초과하지 않는다.

Description

코히어런스 감소를 위한 방법 및 시스템{METHOD AND SYSTEM FOR COHERENCE REDUCTION}

본 발명은 오브젝트들의 검사에 관한 것으로서, 특히, 반도체 디바이스들의 제조에 관련된 오브젝트들의 검사에 관한 것이다. 더 상세하게는, 본 발명은 반도체 디바이스들의 제조 동안 포토리소그래피에서 사용된 오브젝트들의 검사에 관한 것이다.

반도체 디바이스들에 있어서의 초대규모 집적과 관련된 고 밀도 및 성능에 대한 현재의 수요들은 서브마이크론 피처들, 증가된 트랜지스터 및 회로 속도들, 및 개선된 신뢰도를 요구한다. 그러한 수요들은 고 정밀도 및 균일도를 갖는 디바이스 피처들의 형성을 요구하며, 이는 또한 세심한 프로세스 모니터링을 필요로 한다.

세심한 검사를 요구하는 하나의 중요한 프로세스는 포토리소그래피이고, 여기서, 반도체 웨이퍼들로 회로 패턴들을 전사하는데 마스크들 또는 "레티클들"이 사용된다. 통상적으로 레티클들은 투명 기판 위에 패터닝된 크롬의 형태로 존재한다. 일련의 그러한 레티클들은 패턴들을 웨이퍼 상에 미리설정된 시퀀스로 투영하는데 채용된다. 각각의 포토리소그래픽 레티클은 웨이퍼 상으로 집적화될 회로 컴포넌트들에 대응하는 복잡한 기하학적 패턴들의 세트를 포함한다. 포토레지스트층 상으로의 레티클 패턴의 전사는 통상, 포토레지스트를 노광하기 위해 레티클을 통해 광 또는 다른 복사선을 지향시키는 스캐너 또는 스텝퍼와 같은 광학 노광 툴에 의해 수행된다. 그 후, 포토레지스트는 포토레지스트 마스크를 형성하도록 현상되고, 하위의 폴리-실리콘 절연체들 또는 금속층이 그 마스크에 따라 선택적으로 에칭되어, 라인들 또는 게이트들과 같은 피처들을 형성한다.

상기 설명으로부터, 여분의 또는 결여된 크롬과 같은 레티클 상의 임의의 결함이, 제조된 웨이퍼 상으로 반복적인 방식으로 전사될 수도 있음을 인식해야 한다. 따라서, 레티클 상의 임의의 결함은 제조 라인의 수율(yield)을 대폭 감소시킬 것이다. 이에 따라, 레티클들을 검사하고 그 상부의 임의의 결함들을 검출하는 것은 극히 중요하다. 그 검사는 일반적으로, 전송된 조명, 반사된 조명, 또는 이들 양 타입들의 조명들을 이용하여 광학 시스템에 의해 수행된다. 그러한 시스템의 일 예는 캘리포니아주 산타클라라 소재의 어플라이드 머티어리얼스로부터 입수가능한 Aera™ 시리즈 레티클 검사 시스템이다.

레티클들을 검사하기 위한 수개의 상이한 공지된 알고리즘 방법들이 존재한다. 이들 방법들은, 일 다이가 동일한 레티클 상의 알려진대로 동일한 다이와 비교되는 "다이 투 다이" 검사; 또는 레티클이 생성되었던 것일 수 있는, 소정의 다이에 관련된 데이터가 데이터베이스 내 정보와 비교되는 "다이 투 데이터베이스" 검사를 포함한다. 다른 검사 방법은 다이 투 골든 다이를 포함하며, 이 골든 다이는 웨이퍼들을 검사하기 위한 기준으로서 선택된 다이이다. 디자인 룰 기반 검사가 또한 존재하며, 이 검사에서 염료는 몇몇 라인 폭 및 간격 요건들을 충족해야 하며 피처 형상들은 미리정의된 형상들과 맞아야 한다. 이들 검사 방법들, 그리고 이들 방법들을 구현하기 위한 관련 장치 및 회로의 예들은, 특히, 미국특허 제4,805,123호; 제4,926,489호; 제5,619,429호; 및 제5,864,394호를 포함하여 다양한 미국특허들에 기술되어 있다. 이들 특허들의 개시 내용들은 인용에 의해 본 명세서에 포함된다.

공지된 검사 기술들은 통상적으로, 전하 커플링형 디바이스 (CCD) 카메라 상으로 오브젝트들을 큰 배율로 이미징하는 것을 이용한다. 이미징 기술은 오브젝트가 조명될 것을 요구한다. 조명 소스의 휘도는 카메라의 노출 시간 (integration time)을 감소시킴으로써 검사를 가속시킬 능력에 있어서 핵심 요인이다. 웨이퍼 상의 패턴들이 점점 더 작아짐에 따라, 패턴들을 검출할 수 있기 위해 더 작은 파장들을 이용할 필요가 있게 된다. 이는 물리적 해상도 한계가 조명 파장에 선형적으로 의존한다는 사실에 기인하고 그리고 리소그래픽 프로세스에서 사용된 파장과 유사한 파장에서 검사가 수행될 것을 요구하는 간섭 효과들에 기인한다. 파장이 점점 더 작아짐에 따라, 필라멘트 램프들 또는 가스 방전 램프들과 같은 종래의 인코히어런트(incoherent) 광 소스들은 충분한 휘도를 갖지 못하며, 선택되는 광 소스들은 단파장 레이저들이 된다. 광 경로를 따르는 패터닝된 오브젝트뿐 아니라 표면들의 거칠기 및 수차들과 함께 레이저의 코히어런스는, 오브젝트의 이미지에 걸친 잡음성 패턴인 스펙클로서 공지된 아티팩트(artifact)를 생성한다.

스펙클은 검사중인 오브젝트들의 표면들의 검출에 있어서 문제들을 야기하고, 검출기를 히트하는 광 패턴의 비-균일성 때문에 오경보들을 야기한다. 검출 정확도가 저하된다. 또한, 검사된 오브젝트들의 취해진 이미지들이 저하된다. 그 문제는, 검출 프로세스로부터 기인한 손실들의 결과로서, 다른 이유들 중에서도 코히어런트 광에 의해 제공된 전력이 주요하기 때문에, 이러한 타입의 오브젝트 검사에 있어서 중대한 것이다.

웨이퍼들 또는 레티클들과 같은 오브젝트들을 검사할 경우, 조명용으로 사용된 스폿 사이즈가 웨이퍼 상의 패턴의 엘리먼트보다 훨씬 더 작지 않기 때문에, 스펙클 현상이 발생할 수 있다. 하지만, (코히어런트 광 소스가 웨이퍼에 비스듬히 지향되는) 경사 조명과 같은 일부 상황들에 있어서, 스폿 사이즈가 충분히 커서 스펙클을 야기할 것이다. 스폿 사이즈를 감소시키는 것은 시스템 스루풋을 감소시킬 것이며, 예를 들어 리소그래픽 프로세스 동안 오브젝트를 이미징하는데 사용된 파장보다 더 작고 상이한 파장에서 작동할 것을 요구할 것이다. 결과적으로, 인식될 수 있는 바와 같이, 스펙클을 견디는 것과 검출 감도/처리량을 최적화하는 것 간의 균형(tradeoff)이 존재한다. 따라서, 스펙클 문제를 해결하고, 그에 따라 증가된 스폿 사이즈의 이용을 가능케 하고, 따라서 처리량을 개선시키는 것이 바람직할 것이다.

본 발명의 다양한 실시예들에 따르면, 일 시스템 및 방법이 제공된다.

그 방법은 코히어런스 감소를 위해 적용될 수도 있으며, 비대칭 펄스 스트레처(stretcher)에 의해, 제 1 광 펄스를 수신하는 단계로서, 비대칭 펄스 스트레처는 루프를 규정하는 다수의 광학 컴포넌트들을 포함하고, 다수의 광학 컴포넌트들 중 적어도 2개의 광학 컴포넌트들은 서로에 관하여 거의 대칭적인 방식으로 배치되는, 상기 제 1 광 펄스를 수신하는 단계; 펄스 시퀀스 생성 기간 동안 및 제 1 광 펄스에 응답하여, 펄스 스트레처에 의해, 다수의 펄스들의 시퀀스를 생성하는 단계로서, 적어도 2개의 광학 컴포넌트들은 다수의 펄스들 중 적어도 2개의 펄스들 사이에 코히어런스 관련 차이를 도입하고, 펄스 시퀀스 생성 기간은 검출기의 응답 기간을 초과하지 않는, 상기 다수의 펄스들의 시퀀스를 생성하는 단계; 다수의 펄스들에 의해 오브젝트의 영역을 조명하는 단계; 및 그 영역으로부터의 광을 검출기에 의해 검출하는 단계를 포함할 수도 있다.

그 방법은 다수의 펄스들을 오브젝트의 실질적으로 동일한 영역을 향하여 지향시키는 단계를 포함할 수도 있다.

코히어런스 관련 차이는 적어도 2개의 펄스들의 입사각 사이의 차이일 수도 있다.

코히어런스 관련 차이는 적어도 2개의 펄스들의 입사 위치 사이의 차이일 수도 있다.

그 방법은 다수의 펄스들 중 2개의 펄스들 사이에 각도 차이를 도입하는 단계, 및 다수의 펄스들 중 2개의 펄스들 사이에 입사 위치 차이를 도입하는 단계를 포함할 수도 있다.

그 방법은 다수의 펄스들을 제 2 스펙클 감소 컴포넌트를 향하여 지향시키는 단계를 포함할 수도 있으며; 여기서, 제 2 스펙클 감소 컴포넌트는 다수의 펄스들의 코히어런시를 감소시킨다.

그 방법은, 비대칭 펄스 스트레처에 의해, 펄스들을 오브젝트를 향해 지향시키는 집속 렌즈의 동공 평면에 배치될 수도 있는 출력부로부터 다수의 펄스들을 출력하는 단계를 포함할 수도 있다.

그 방법은 제 1 광 펄스를 레이저로부터 수신하는 단계를 포함할 수도 있으며, 여기서, 제 1 광 펄스의 지속기간은 수 나노초를 초과하지 않는다.

다수의 광학 컴포넌트들은 다수의 미러들을 포함할 수도 있으며, 여기서, 하나의 미러의 배향각은 (a) 다른 미러의 배향, 및 (b) 다른 미러의 배향의 반대 배향과 상이한 배향과는 상이하다.

다수의 광학 컴포넌트들은 다수의 미러들을 포함할 수도 있으며, 여기서, 적어도 하나의 미러는 다른 모든 미러들의 높이와는 상이한 높이에 위치될 수도 있다.

광학 시스템이 제공될 수도 있다. 그 광학 시스템은 코히어런스 감소 능력들을 가질 수도 있으며, 제 1 광 펄스를 생성하는 광 소스; 제 1 광 펄스를 수신하고 펄스 시퀀스 생성 기간 동안 다수의 광 펄스들을 생성하도록 배열된 비대칭 펄스 스트레처로서, 비대칭 펄스 스트레처는 루프를 규정하는 다수의 광학 컴포넌트들을 포함하고, 다수의 광학 컴포넌트들 중 적어도 2개의 광학 컴포넌트들은 서로에 관하여 거의 대칭적인 방식으로 배치되고, 적어도 2개의 광학 컴포넌트들은 다수의 펄스들 중 적어도 2개의 펄스들 사이에 코히어런스 관련 차이를 도입하고, 펄스 시퀀스 생성 기간은 검출기의 응답 기간을 초과하지 않는, 상기 비대칭 펄스 스트레처; 및 비대칭 펄스 스트레처와 오브젝트 사이에 위치되어, 다수의 펄스들을 오브젝트 상의 영역을 향해 지향시키는 집속 렌즈를 포함할 수도 있다.

집속 렌즈는 다수의 펄스들을 오브젝트의 실질적으로 동일한 영역을 향하여 지향시키도록 배열될 수도 있다.

코히어런스 관련 차이는 적어도 2개의 펄스들의 입사각 사이의 차이일 수도 있다.

코히어런스 관련 차이는 적어도 2개의 펄스들의 입사 위치 사이의 차이일 수도 있다.

비대칭 펄스 스트레처는 다수의 펄스들 중 2개의 펄스들 사이에 각도 차이를 도입하도록 배열될 수 있고, 다수의 펄스들 중 2개의 펄스들 사이에 입사 위치 차이를 도입하고 있을 수도 있다.

비대칭 펄스 스트레처는 다수의 펄스들을 제 2 스펙클 감소 컴포넌트를 향하여 지향하도록 배열될 수도 있으며; 여기서, 제 2 스펙클 감소 컴포넌트는 다수의 펄스들의 코히어런시를 감소시킨다.

비대칭 펄스 스트레처는, 펄스들을 오브젝트를 향해 지향시키는 집속 렌즈의 동공 평면에 배치될 수도 있는 출력부로부터 다수의 펄스들을 출력하도록 배열될 수도 있다.

광 소스는 레이저일 수도 있으며, 여기서 제 1 광 펄스의 지속기간은 수 나노초를 초과하지 않는다.

다수의 광학 컴포넌트들은 다수의 미러들을 포함할 수도 있으며, 여기서, 일 미러의 배향각은 (a) 다른 미러의 배향, 및 (b) 다른 미러의 배향의 반대 배향과 상이한 배향과는 상이하다.

다수의 광학 컴포넌트들은 다수의 미러들을 포함할 수도 있으며, 여기서, 적어도 하나의 미러는 다른 모든 미러들의 높이와는 상이한 높이에 위치될 수도 있다.

본 발명의 추가적인 세부 사항들, 양태들, 및 실시예들은 도면들을 참조하여, 오직 예로서 설명될 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 시스템을 개략적으로 도시한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 시스템을 개략적으로 도시한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저, 비대칭 펄스 스트레처, 집속 렌즈 및 오브젝트뿐 아니라 다양한 펄스들의 경로들을 도시한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 비대칭 펄스 스트레처에 의해 생성된 제 1 광 펄스 및 5개의 펄스들을 도시한다.
도 5는 대칭 펄스 스트레처를 도시한다.
도 6 내지 도 11은 본 발명의 다양한 실시예들에 따른 비대칭 펄스 스트레처들을 도시한다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 방법을 도시한다.

다음의 명세서에 있어서, 본 발명은 본 발명의 실시예들의 특정 예들을 참조하여 설명될 것이다. 하지만, 첨부된 청구항들에 기재된 바와 같은 본 발명의 더 넓은 사상 및 범위로부터 일탈함없이 다양한 변형예들 및 변경예들이 그 안에서 형성될 수도 있음이 명백할 것이다.

본 발명을 구현하는 장치가 대부분, 당업자에게 공지된 전자 컴포넌트들 및 회로들로 이루어지기 때문에, 회로 세부 사항들은, 본 발명의 기본 개념들의 이해 및 인식을 위해 그리고 본 발명의 교시들을 애매하게 하거나 그 교시로부터 산만하게 하지 않기 위해, 상기 예시된 바와 같이 필요한 것으로 고려된 것보다 임의의 더 큰 범위로 설명되진 않을 것이다.

전술한 바를 고려하여, 본 발명의 하나의 특징은 반도체 디바이스들의 제조에서 사용되는 오브젝트들의 검사 동안 스펙클을 감소시키는 광학 시스템의 제공이다. 본 발명의 다른 특징은 낮은 파장들에서, 특히 원자외선(deep UV) 영역에서 동작하는 검사 시스템들에 있어서 스펙클을 감소시키는 광학 시스템의 제공에 있다.

본 발명의 추가적인 특징은 펄스형 레이저 빔들을 이용한, 특히, 5-50ns 영역에서의 펄스들을 이용한 검사 시스템들에 있어서 스펙클의 감소이다.

전술한 특징 및 다른 특징을 제공하기 위해, 상기 설명된 종래기술에 있어서의 한계들을 극복하기 위해, 그리고 다음의 상세한 설명을 판독 및 이해할 시에 명백하게 될 다양한 문제들을 해결하기 위해, 본 발명은 반도체 디바이스들의 제조에서 사용된 오브젝트들, 특히, 웨이퍼들, 마스크들, 포토마스크들, 및 레티클들의 검사 동안에 스펙클을 감소시키는 방법 및 장치를 제공한다.

본 발명에 따르면, 비대칭 펄스 스트레처에 의해, 광 펄스가 펄스 시퀀스 생성 기간으로서 지칭되는 기간 동안에 다수의 펄스들로 변환된다. 펄스 시퀀스 생성 기간은 검출기의 응답 기간보다 더 짧고, 따라서, 검출기는 이들 다수의 펄스들에 기인한 오브젝트로부터 반사되거나 산란된 광을 사실상 통합한다. 다수의 펄스들은 그들의 입사각 차이, 그들의 입사 위치 차이 또는 이들 양자와 같은 코히어런스 관련 차이에 의해 서로 상이하다. 대안적으로, 다수의 펄스들 중 적어도 2개의 펄스들은 코히어런스 관련 차이에 의해 서로 상이하다. 다수의 펄스들의 생성은, 입사각, 비대칭 펄스 스트레처로부터 출력된 펄스의 위치, 또는 이들 양자와 같은 하나 또는 그 초과의 특성에 의해 서로 상이할 수도 있는 다수의 광 펄스들을 생성하는 비대칭 펄스 스트레처에 제 1 광 펄스를 제공하는 것을 포함한다. 비대칭 펄스 스트레처의 출력이, 펄스들을 오브젝트 상으로 집속하는 집속 렌즈의 동공 평면에 위치된다면, 출력된 펄스들의 각도들에서의 변경들은 공간 차이들로 전환되고, 출력된 펄스들의 위치에서의 변경들은 펄스들의 입사각의 변경들로 전환된다.

비대칭 펄스 스트레처는 비대칭 방식으로 배열되는 렌즈, 미러, 빔 스플리터, 그리드 등과 같은 광학 엘리먼트들을 가질 수 있다.

다수의 펄스들은 오브젝트의 실질적으로 동일한 영역을 향하여 지향된다. 이 영역으로부터의 광은 이미징 검출기와 같지만 이에 한정되지는 않는 검출기에 의해 검출된다. 검출기의 응답 기간은 그 통합 기간일 수 있다.

도 1은 본 발명에 따라 사용하기 위한 예시적인 시스템 (1)을 도시한다. 도 1에 도시된 시스템 디바이스는 투과 모드에서 동작하고 있지만, 도 2의 시스템은 반사 모드에서 동작하고 있다. 하지만, 투과 및 반사 모드 양자에서 동작하는 시스템들이 본 발명의 계획 내에 있음을 이해해야 한다. 적어도 동작의 투과 모드에 있어서, 빔 호모지나이저(homogenizer)는 빔이 코히어런스 감소/스펙클 감소 장치에 진입하기 이전에 채용되어야 한다.

양 도면들은 오브젝트의 실질적으로 정규적인 조명을 도시하였지만 이는 반드시 그럴 필요는 없음을 추가로 유의한다. 따라서, 명시야 반사 분포(정규), 암시야 반사 분포(하측) 및 Gray field™ 반사 분포(정규와 하측 사이)를 발생시키는 다양한 경사 조명 각도들이 사용될 수 있다.

도 1에 있어서, 웨이퍼, 마스크, 포토마스크, 또는 레티클과 같이 검사될 오브젝트(80)가 x-y 스테이지(75) 상에 배치되고, 이 x-y 스테이지는 오브젝트(80)의 검사된 면에 의해 규정된 평면에서 오브젝트(80)를 두 방향들로 이동시킨다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 시스템(1)은 오브젝트(80)의 일측 상에 위치된 레이저(20)와 같은 펄스화 광 소스를 포함한다. 레이저(20)는 코히어런트 펄스들, 거의 코히어런트 펄스들, 또는 낮은 코히어런스 레벨을 갖는 펄스들을 생성할 수 있다. 펄스들의 코히어런스는 비대칭 펄스 스트레처(100)에 의해, 및 선택적으로 시스템(1)의 제 2 스펙클 감소 컴포넌트(40) 또는 다른 엘리먼트들(도시 안됨)에 의해 추가로 감소된다. 펄스들은 UV 또는 원자외선(deep UV) 영역에서의 저파장 레이저 펄스들일 수 있다. 레이저(20)에 의해 방출된 펄스들은, 다수의 펄스들을 생성하는 비대칭 펄스 스트레처(100)를 통해 지향된다. 다수의 펄스들은 필 디퓨저(fill diffuser)(30), 제 2 스펙클 감소 컴포넌트(40), 부가적인 옵틱스(60), 집속 렌즈(70), 오브젝트(80)를 통해 전파되어, 최종적으로 검출기(90)에 도달한다.

적절한 구조에 의해 규정된 다른 광학 경로들을 포함하여 빔들을 오브젝트(80) 상으로 지향하는 다른 수단이 또한 사용될 수도 있음을 유의해야 한다.

오브젝트(80)를 통과하는 광은 검출기(90)에 의해 검출된다. 검출기(90)는, 라인 센서 또는 2차원 센서일 수 있는 TDI(time delay integration) 센서 또는 CCD 센서일 수 있다.

검출기(90)는, 오브젝트(80)를 지지하는 스테이지(75)로 하여금 레이저(20)에 대해 계속 이동하게 하면서 오브젝트(80)의 이미징을 가능케 한다.

부가적인 옵틱스(60)는 디퓨저들, 오토 포커스 옵틱스, 호모지나이저들(homogenizers), 릴레이 렌즈들 등을 포함할 수 있다.

시스템(1)의 다양한 컴포넌트들은 제어기(10)에 의해 제어될 수 있다. 분산형 및 집중형 제어 방식들 양자가 적용될 수 있음을 유의한다. 제어기(10)는 광 펄스를 생성할 때 및 비대칭 펄스 스트레처(100)의 특성을 변경할 때 및 변경 방법을 결정할 수 있다.

비대칭 펄스 스트레처(100)는, 제 2 스펙클 감소 컴포넌트(40)와 같은 다른 컴포넌트의 입력 영역보다 더 작은 출력 영역을 통해 펄스들을 출력한다. 이들 차이들을 보상하기 위하여, 필 디퓨저(30)는 비대칭 펄스 스트레처(100) 이후에 배치된다.

검출기(90)에 도달한 광은 영역에 관한 정보, 그리고 특히, 오브젝트(80)의 조명된 영역 내의 하나 또는 그 초과의 패턴들에 관한 정보 및 오브젝트(80) 내에 및 그 표면 상에 존재하는 임의의 결함들에 관한 정보를 포함한다.

가능한 결함들의 사이즈와 비교하여 레이저(20)의 코히어런트 특성 및 그 동작 파장은 검출기(90)에서 스펙클을 생성할 수 있다. 스펙클은 예측되지 않은 신호 비-균일성들을 야기하고, 따라서, 결함들을 구별하기 더 어렵게 하며, 일부 미세한 결함들을 검출되지 않은 채로 잔류하게 할 수도 있다. 따라서, 광 빔의 코히어런스를 차단함으로써 스펙클 현상을 감소시키는 것이 필요하다. 코히어런스 감소는 비대칭 펄스 스트레처(100) 및 제 2 스펙클 감소 컴포넌트(40)에 의해 수행된다.

제 2 스펙클 감소 컴포넌트(40)는 종래기술의 스펙클 감소 기술들을 적용할 수 있다. 이는 하나 또는 그 초과의 유리 단차들을 포함할 수 있고 하나 또는 그 초과의 파이버 번들들을 포함할 수 있으며, 기타 등등을 포함할 수 있다. 다양한 스펙클 감소 엘리먼트들 및 방법들이 "Method and apparatus for object inspection including speckle reduction"의 명칭인 미국특허 제7463352호; "Method and apparatus for reticle inspection using aerial imaging"의 명칭인 미국특허 제7133548호, "Method and apparatus for object inspection including speckle reduction"의 명칭인 미국특허 제6924891호, "Method and apparatus for object inspection including speckle reduction"의 명칭인 미국특허 제6,798,505호, "Illumination optical arrangement"의 명칭인 미국특허 제4619508호, 및 "Controllable spatial incoherence echelon for laser"의 명칭인 미국특허 제4521075호에 예시되어 있으며, 이들 모두는 인용에 의해 본 명세서에 포함된다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 시스템(2)을 도시한다. 시스템(2)은 반사 모드에서 동작한다. 도 1에 도시된 시스템(1)을 참조하여, 동일한 엘리먼트들은 동일한 번호들로 마킹된다. 시스템(2)은, (a) 광 펄스들을 집속 렌즈(70) 및 오브젝트(80)를 향해 지향시키고 (b) 오브젝트(80) 및 집속 렌즈(70)로부터의 광을 검출기(90)를 향해 지향시키는 빔 스플리터(65)를 더 포함한다.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저(20), 비대칭 펄스 스트레처(100), 집속 렌즈(70) 및 오브젝트(80)뿐 아니라 다양한 펄스들의 경로들(점선들에 의해 도시됨)을 도시한다. 설명의 단순화를 위해, 이들 펄스들의 경로들은 스케일에 맞지 않게 도시되고, 시스템(1)의 다수의 컴포넌트들은 도시되지 않는다.

펄스들(A210, B220, C230, D240 및 E250)은 레이저(20)로부터의 단일 펄스에 응답하여 비대칭 펄스 스트레처(100)에 의해 상이한 시점들에서 출력된다.

비대칭 펄스 스트레처(100)는 이들 펄스들 사이에 측방향 변위들을 도입하고, 이들 측방향 변위들은 오브젝트(80)에 관하여 입사각 변경들로 전환된다. 펄스들(A210, B220, C230, D240 및 E250)은 오브젝트(80) 상의 실질적으로 동일한 스폿을 조명한다.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저(20), 비대칭 펄스 스트레처(100), 집속 렌즈(70) 및 오브젝트(80)뿐 아니라 다양한 펄스들의 경로들(점선들에 의해 도시됨)을 도시한다. 설명의 단순화를 위해, 이들 펄스들의 경로들은 스케일에 맞지 않게 도시되고, 시스템(1)의 다수의 컴포넌트들은 도시되지 않는다.

펄스들(A310, B320, C330, D340 및 E350)은 레이저(20)로부터의 단일 펄스에 응답하여 비대칭 펄스 스트레처(100)에 의해 상이한 시점들에서 출력된다.

비대칭 펄스 스트레처(100)는 이들 펄스들 사이에 각도 차이들을 도입하고, 이들 각도 차이들은 오브젝트(80)에 관하여 위치 차이들로 전환된다. 따라서, 펄스들(A310, B320, C330, D340 및 E350)은 오브젝트(80)의 면 상의 영역을 조명한다.

도 5는 대칭 펄스 스트레처(1000)를 도시한다.

대칭 펄스 스트레처(1000)는 입력 빔 스플리터(104), 출력 빔 스플리터(114), 및 좌상측 미러(102), 우상측 미러(112), 좌하측 미러(106) 및 우하측 미러(116)와 같은 4개의 반사 엘리먼트들과 같은 다수의 광학 컴포넌트들을 포함한다.

이들 광학 컴포넌트들은 2개의 컬럼들로 배열된다. 입력 빔 스플리터(104)는 좌상측 미러(102) 아래 및 좌하측 미러(106) 위에 위치된다. 출력 빔 스플리터(114)는 우상측 미러(112) 아래 및 우하측 미러(116) 위에 위치된다.

이들 다수의 광학 컴포넌트들은, (a) 좌상측 미러(102)가 우상측 미러(112)에 대칭적인 방식으로 배치 및 배향되고 (b) 좌하측 미러(106)가 우하측 미러(116)에 대칭적인 방식으로 배치 및 배향되며 (c) 출력 빔 스플리터(114)가 입력 빔 스플리터(104)에 대칭적인 방식으로 배치 및 배향되도록, 가상의 수직 축(111) 주위로 대칭적인 방식으로 배열된다.

이러한 대칭성은, 이들 광학 엘리먼트들에 의해 규정된 루프에 진입하는 광 빔이 동일 방향 및 포지션에서 대칭 펄스 스트레처(1000)를 빠져나가는 광 펄스들의 시퀀스로 변환되는 것을 제공한다.

도 6 내지 도 11은 본 발명의 다양한 실시예들에 따른 비대칭 펄스 스트레처들(100)을 도시한다.

이들 비대칭 펄스 스트레처들(100)에 있어서, 적어도 하나의 광학 컴포넌트들은 도 5에 도시된 대칭 배열로부터 (배향, 높이, 포지션 또는 이들의 조합에 의해) 일탈한다. 이들 일탈들은 출력된 광 빔들로 하여금 그들의 위치에 의해 및 부가적으로 또는 대안적으로 전파의 방향(각도)에 의해 서로 상이하게 한다.

예를 들어, 102, 106, 112 및 116 중 하나 또는 그 초과의 미러들이 도 5에 도시된 대칭 구성의 약간 외부에 위치될 수 있거나, 또는 그 대칭 포지션의 약간 상부에 배치된다. 동일한 것이 빔 스플리터들(104 및 114)에 적용된다.

이러한 비대칭성은, 루프 내에서 각각의 반복 동안 광이 통과하는 경로를 변경하고, 출력된 빔들은 그들의 지연, 이득 및 부가적으로 또는 대안적으로 그들의 방향에 의해 서로 상이하다.

예를 들어, 광학 엘리먼트의 위치에 있어서의 약 0.1μ의 약간의 오배치(misplacement)는 출력된 펄스들 간의 약 1μ의 차이를 제공할 수도 있다.

이들 광학 컴포넌트들 중 적어도 일부는 대칭 구성에 관하여 회전될 수 있거나, 또는 대칭 구성에 관하여 그 변경된 그 위치를 가질 수 있다.

도 6에 있어서, 우상측 미러(112)는 그 대칭 포지션(121에 의해 표기됨)에 관하여 상승되고, 좌하측 미러(106)는 그 대칭 포지션(126에 의해 표기됨)에 관하여 상승된다.

도 7에 있어서, 우상측 미러(112)는 그 대칭 포지션(121에 의해 표기됨)에 관하여 기울어진다.

도 8에 있어서, 우상측 미러(112)는 그 대칭 포지션(121에 의해 표기됨)에 관하여 회전 및 상승된다.

도 9에 있어서, 우상측 미러(112)는 그 대칭 포지션(121에 의해 표기됨)에 관하여 상승된다.

도 10에 있어서, 우상측 미러(112) 및 출력 빔 스플리터(114)는 그들의 대칭 포지션(각각 121 및 124에 의해 표기됨)에 관하여 상승된다.

도 11에 있어서, 우상측 미러(112)는 그 대칭 포지션(121에 의해 표기됨)에 관하여 상승되고, 좌하측 미러(106)는 그 대칭 포지션(126에 의해 표기됨)에 관하여 상승되고 그 대칭 포지션에 관하여 회전된다.

대칭성으로부터의 일탈은 광학 컴포넌트들(102, 104, 106, 112, 114 및 116) 중 임의의 컴포넌트에 적용될 수 있음을 유의한다. 대칭 포지션으로부터의 일탈들은 좌로 시프트, 우로 시프트, 및 이들의 조합을 포함할 수도 있음을 유의한다.

이전 도면들을 참조하면, 레이저(20)로부터 전송되는 (도 5의) 펄스(400)의 제 1 입력 펄스(A) 부분이 빔 스플리터들(104 및 114)을 통해 전파하여 제 1 펄스를 제공할 수 있다. 이 펄스의 부분들은 입력 빔 스플리터(104)에 의해 좌하측 미러(106), 우하측 미러(116) 및 출력 빔 스플리터(114)를 향해 지향되어 다른 펄스를 제공할 수 있다. 우하측 미러(116)로부터의 펄스의 부분은 출력 빔 스플리터(114)를 통과하고 우상측 미러(112)를 향해 전파하여 좌상측 미러(102) 및 입력 빔 스플리터(104)를 향해 반사된다. 이 펄스의 부분은 입력 빔 스플리터(104)로부터 출력 빔 스플리터(114)를 향해 지향되고, 다른 부분은 입력 빔 스플리터(104)를 통과하고 좌하측 미러(106)를 향해 전파된다. 따라서, 적어도 2개의 광학 컴포넌트들의 상대적인 각도 및/또는 상대적인 변위, 예를 들어, 미러(112)와 임의의 다른 컴포넌트(102, 104, 106, 114, 116) 간의 각도; 또는 임의의 다른 컴포넌트(102, 104, 106, 112, 116)에 대한 빔 스플리터(114)의 상대적인 변위를 변경함으로써, 조명 경로의 더 하류에 위치된 집속 렌즈에 대하여 상이한 입사각들 및/또는 상이한 입사 위치들을 갖는 다수의 펄스들이 생성된다. 펄스 시퀀스 생성 기간은 검출기의 응답 기간보다 더 작기 때문에, 검출기는 이들 다수의 펄스들에 기인한 오브젝트로부터 반사 또는 산란된 광을 실질적으로 통합한다.

비대칭 펄스 스트레처(100)는 다른 구성들을 가질 수 있음을 유의한다.

하나의 비-한정적인 예에 따르면, 펄스 스트레처(100)는, "Compact pulse stretcher"의 명칭인 미국특허 제7084959호에 예시된 펄스 스트레처에 기초할 수 있다. 이러한 펄스 스트레처는 서로 반대편에 배치된 제 1 프리즘 및 제 2 프리즘을 포함한다. 제 1 커플링 프리즘은, 빔을 제 2 프리즘을 향해 나선형 경로로 지향시키는 부분적으로 반사형 인터페이스로 제 1 프리즘에 광학적으로 커플링된다. 제 1 프리즘 및 제 1 커플링 프리즘은 빔 스플리터를 형성한다. 재순환 프리즘(또는 반사 엘리먼트)은 빔을 제 1 프리즘으로부터 제 2 프리즘으로 반사한다. 미러들은 제 1 및 제 2 프리즘들 주위에 배치되어, 제 1 및 제 2 프리즘들을 통한 빔의 재순환을 허용한다. 빔은 2개 또는 그 초과의 나선형 경로들을 이용하여 제 1 및 제 2 프리즘들을 통해 재순환한다. 미국특허 제7084959호에 설명된 펄스 스트레처는 일부 변형예들을 갖는 리소그래픽 시스템에 통합될 수 있다. 이러한 펄스 스트레처는, 그 프리즘들 중 하나 또는 그 초과의 프리즘들 간의 공간 관계를 변경하여 광이 통과하여 전파되는 나선형 경로를 변경함으로써 비대칭 스트레처가 될 수 있다.

다른 비-한정적인 예에 따르면, 펄스 스트레처(100)는, "Helical optical pulse stretcher"의 명칭인 미국특허 제7321605호에 예시된 펄스 스트레처에 기초할 수 있다. 이러한 펄스 스트레처는 단일 패스 펄스 스트레처를 포함한다. 광학 시스템은 단일 패스 펄스 스트레처 주위로 배열된다. 빔은 단일 패스 스트레처에 진입하고, 단일 패스 펄스 스트레처를 통한 다수의 패스들에 대한 광학 시스템을 이용하여 나선형 경로에서 반사된다. 단일 패스 펄스 스트레처는, 그 사이에 빔 스플리터가 위치되는 2개의 90도 프리즘들을 포함할 수 있다. 광학 시스템은 제 1 및 제 2 프리즘들을 포함할 수 있다. 제 1 및 제 2 프리즘들 중 적어도 하나는 루프 프리즘일 수 있다. 제 1 및 제 2 프리즘들은, 빔들을 나선형 경로로 지향시키도록 배향된 적어도 하나의 표면을 가질 수 있다. 광학 시스템은 적어도 하나의 미러 또는 복수의 미러들을 가질 수 있다. 이러한 펄스 스트레처는, 그 프리즘들, 빔 스플리터들 및 단일 패스 스트레처 중 하나 또는 그 초과 사이의 공간 관계를 변경함으로써 비대칭 스트레처가 될 수 있다.

도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 방법(500)을 도시한다.

방법(500)은 시스템들(1 및 2) 중 어느 하나에 의해 실행될 수 있다.

방법(500)은 비대칭 펄스 스트레처에 의해 제 1 광 펄스를 수신하는 스테이지 510에 의해 시작한다. 비대칭 펄스 스트레처는 루프를 규정하는 다수의 광학 컴포넌트들을 포함한다. 다수의 광학 컴포넌트들 중 적어도 2개의 광학 컴포넌트들은 서로에 관하여 거의 대칭적인 방식으로 배치된다.

제 1 광 펄스는 레이저에 의해 생성될 수 있으며, 제 1 광 펄스의 지속기간은 수 나노초를 초과하지 않는다.

스테이지 510 이전에, 레이저와 같은 광 소스에 의해 제 1 광 펄스를 생성하는 스테이지(도시 안됨)가 선행될 수 있다. 제 1 광 펄스는 코히어런트 또는 거의 코히어런트일 수 있지만 이는 반드시 그럴 필요는 없다.

스테이지 510 이후, 펄스 시퀀스 생성 기간 동안 및 제 1 광 펄스에 응답하여 비대칭 펄스 스트레처에 의해 다수의 펄스들을 생성하는 스테이지 520이 뒤따른다. 비대칭 펄스 스트레처의 적어도 2개의 광학 컴포넌트들은 다수의 펄스들 중 적어도 2개의 펄스들 사이에 코히어런스 관련 차이를 도입한다. 펄스 시퀀스 생성 기간은 검출기의 응답 기간을 초과하지 않는다.

코히어런스 관련 차이는 적어도 2개의 펄스들의 입사각 간의 차이, 적어도 2개의 펄스들의 입사 위치 간의 차이, 또는 이들의 조합일 수 있다.

비대칭 펄스 스트레처는, 펄스들을 오브젝트를 향해 지향시키는 집속 렌즈의 동공 평면에 배치되는 출력부로부터 다수의 펄스들을 출력할 수 있다.

이에 따라, 다수의 펄스들은 그들의 입사각에 의해 서로 상이한 펄스들의 쌍, 및 그들의 입사 위치에 의해 상이한 펄스들의 또 다른 쌍을 포함할 수 있다. 또 다른 예에 있어서, 다수의 펄스들은 그들의 입사각뿐아니라 그들의 입사 위치에 의해 서로 상이한 펄스들의 쌍을 포함할 수 있다.

스테이지 520 이후, 다수의 빔들로 하여금 비대칭 펄스 스트레처와 오브젝트 사이에 위치된 다수의 컴포넌트들과 상호작용하도록 허용하는 스테이지 530이 뒤따른다.

스테이지 530은 예를 들어, 다수의 빔들을 필 디퓨저, 호모지나이저, 하나 또는 그 초과의 렌즈들 및 제 2 스펙클 감소 컴포넌트를 통해 통과시키는 것을 포함할 수 있다. 후자의 경우, 스테이지 530은 제 2 스펙클 감소 컴포넌트에 의해 다수의 펄스들의 코히어런시를 감소시키는 것을 포함할 수 있다.

스테이지 530 이후, 다수의 펄스들에 의해 오브젝트의 영역을 조명하는 스테이지 540이 뒤따른다.

스테이지 540은 그 영역으로부터의 광을 검출기에 의해 검출하는 것을 포함할 수 있다. 그 영역은 매우 작을 수 있으며, 오브젝트에 대한 광 펄스들 중 하나에 의해 형성된 약 하나의 스폿의 사이즈와 실질적으로 동일할 수 있다. 그 영역은, 특히, 공간 변위가 스폿들 사이에 도입될 경우에 수개의 스폿들과 동일 할 수 있다. 그 영역은 수 제곱 마이크론 내지 수 제곱 밀리미터의 범위일 수 있다.

스테이지들 510-540은, 상대적인 움직임이 비대칭 펄스 스트레처, 집속 렌즈 등과 같은 광학 컴포넌트와 오브젝트 사이에 도입되는 동안에 반복될 수 있다. 이러한 상대적인 움직임은 전체 오브젝트, 또는 오브젝트의 선택된 영역들의 이미징을 허용할 수 있다.

이러한 반복은 오브젝트와 광학 컴포넌트 사이에 상대적인 움직임을 도입하는 스테이지 550에 의해 예시된다. 스테이지 550 이전에는 스테이지 540이 선행되고, 그 이후에는 스테이지 510 및 560이 후속된다. 스테이지 560은 스테이지들 510-550의 반복에 의해 획득된 이미지들에 기초하여 결함들을 검출하는 것, 측정들을 수행하는 것, 또는 이들 양자를 포함한다.

더욱이, 당업자는 상기 설명된 동작들의 기능 사이의 경계들이 단지 예시적일 뿐임을 인식할 것이다. 다수의 동작들의 기능은 단일 동작으로 결합될 수도 있고 및/또는 단일 동작의 기능은 부가적인 동작들로 분산될 수도 있다. 더욱이, 대안적인 실시예들이 특정 동작의 다수의 실례들을 포함할 수도 있으며, 동작들의 순서는 다양한 다른 실시예들에 있어서 변경될 수도 있다.

따라서, 본 명세서에서 도시된 아키텍처들은 단지 예시적일 뿐이며, 실제로, 동일한 기능을 달성하는 다수의 다른 아키텍처들이 구현될 수 있음을 이해해야 한다. 요약적으로 그러나 그럼에도 불구하고 명확한 의미로, 동일 기능을 달성하기 위한 컴포넌트들의 임의의 배열은, 원하는 기능이 달성되도록 효과적으로 "연관"된다. 따라서, 특정 기능을 달성하도록 결합되는 본 명세서의 임의의 2개의 컴포넌트들은, 아키텍처들 또는 중간 컴포넌트들과 무관하게 원하는 기능이 달성되도록 서로 "연관된" 것으로 보일 수 있다. 유사하게, 그렇게 연관된 임의의 2개의 컴포넌트들은 또한, 원하는 기능을 달성하기 위해 서로 "동작가능하게 접속" 또는 "동작가능하게 커플링"되는 것으로 간주될 수 있다.

부가적으로, 본 발명은 비-프로그램가능 하드웨어로 구현된 물리 디바이스들 또는 유닛들로 한정되지 않지만, 적절한 프로그램 코드에 따라 동작함으로써 원하는 디바이스 기능들을 수행할 수 있는 프로그램가능 디바이스들 또는 유닛들에 또한 적용될 수 있다. 더욱이, 그 디바이스들은 단일 디바이스로서 기능적으로 동작하면서 다수의 장치들에 걸쳐 물리적으로 분산될 수도 있다.

하지만, 다른 변형예들, 변이예들, 및 변경예들이 또한 가능하다. 이에 따라, 명세서들 및 도면들은 한정적 의미로보다는 예시적 의미로 간주되어야 한다.

청구항들에 있어서, 단어 '포함하는'은 청구항에 리스트된 엘리먼트들 또는 단계들로부터 다른 엘리먼트들 또는 단계들의 존재를 배제하지는 않는다. 더욱이, 존재한다면, 상세한 설명에서 및 청구항들에서의 용어들 "전", "후", "상부", "저부", "위", "아래" 등은, 영구적인 상대적인 포지션들을 기술하기 위해 필수적인 것이 아니며 설명의 목적들로 사용된다. 그렇게 사용된 용어들은, 본 명세서에서 설명된 본 발명의 실시예들이 예를 들어 본 명세서에 예시되거나 그렇지 않으면 설명된 배향들과는 다른 배향들에서의 동작이 가능하도록 적절한 상황들 하에서 대체가능함이 이해된다.

더욱이, 본 명세서에서 사용된 바와 같은 용어들 "a" 또는 "an"은 하나 또는 하나 초과로서 정의된다. 또한, 청구항들에 있어서의 "적어도 하나" 및 "하나 또는 그 초과"와 같은 도입 어구들의 사용은, 부정의 오브젝트들, 즉, "a" 또는 "an"에 의한 다른 청구항 엘리먼트의 도입이, 동일 청구항이 도입 어구들, 즉 "하나 또는 그 초과" 또는 "적어도 하나" 및 "a" 또는 "an"과 같은 부정의 오브젝트들을 포함할 경우라도, 그러한 도입된 청구항 엘리먼트를 포함하는 임의의 특정 청구항을 오직 하나의 그러한 엘리먼트를 포함하는 발명들로 한정함을 의미하도록 해석되지 않아야 한다. 확정된 오브젝트들의 이용에 대해 동일한 것이 유효하다. 달리 언급되지 않으면, "제 1" 및 "제 2"와 같은 용어들은 그러한 용어들이 기술하는 엘리먼트들 사이를 임의적으로 구별하는데 사용된다. 따라서, 이들 용어들은 그러한 엘리먼트들의 시간적 또는 다른 우선순위화를 나타내도록 반드시 의도되지는 않는다. 특정 측정치들이 상호간에 상이한 청구항들에 기재된다는 단순한 사실은 이들 측정치들의 조합이 이점을 얻기 위해 사용될 수 없음을 나타내지는 않는다.

Claims (20)

1. 코히어런스(coherence) 감소를 위한 방법으로서,
   비대칭 펄스 스트레처(asymmetrical pulse stretcher)에 의해, 제 1 광 펄스를 수신하는 단계 ― 상기 비대칭 펄스 스트레처는 루프를 형성하는 광학 경로의 코너(corner)들을 규정하는 다수의 반사 컴포넌트들을 포함하고, 상기 다수의 반사 컴포넌트들 중 적어도 2개의 반사 컴포넌트들은 상기 광학 경로에 관한 배향 또는 상기 광학 경로에 관한 포지션 중 적어도 하나에 대하여 서로 대칭되는 방식으로 위치되고, 상기 다수의 반사 컴포넌트들 중 적어도 2개의 반사 컴포넌트들은 상기 광학 경로에 관한 배향 또는 상기 광학 경로에 관한 포지션 중 적어도 하나에 대하여 서로 비대칭되는 방식으로 위치됨 ―;
   상기 제 1 광 펄스에 응답하여 그리고 펄스 시퀀스 생성 기간 동안에, 상기 펄스 스트레처에 의해, 다수의 펄스들의 시퀀스를 생성하는 단계 ― 상기 다수의 반사 컴포넌트들은 상기 다수의 펄스들 중 적어도 2개의 펄스들 사이의 코히어런스-관련 차이를 도입하고, 상기 펄스 시퀀스 생성 기간은 검출기의 응답 기간을 초과하지 않음 ―;
   상기 다수의 펄스들을 집속 렌즈(condenser lens)에 의해 집속함으로써 집속된 다수의 펄스들을 생성하는 단계;
   상기 집속된 다수의 펄스들에 의해 오브젝트(object)의 영역을 조명하는 단계; 및
   상기 검출기에 의해 상기 영역으로부터의 광을 검출하는 단계를 포함하는, 코히어런스 감소를 위한 방법.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 집속된 다수의 펄스들을 상기 오브젝트의 실질적으로 동일한 영역을 향하여 지향시키는(directing) 단계를 포함하는, 코히어런스 감소를 위한 방법.
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 코히어런스-관련 차이는 상기 적어도 2개의 펄스들의 입사각 사이의 차이인, 코히어런스 감소를 위한 방법.
4. 제 1 항에 있어서,
   상기 코히어런스-관련 차이는 상기 적어도 2개의 펄스들의 입사 위치 사이의 차이인, 코히어런스 감소를 위한 방법.
5. 제 1 항에 있어서,
   상기 집속된 다수의 펄스들 중 2개의 펄스들 사이에 입사 각도 차이를 도입하는 단계, 및 상기 집속된 다수의 펄스들 중 2개의 펄스 사이에 입사 위치 차이를 도입하는 단계를 포함하는, 코히어런스 감소를 위한 방법.
6. 청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

   제 1 항에 있어서,
   상기 다수의 펄스들을 제 2 스펙클(speckle) 감소 컴포넌트를 향하여 지향시키는 단계를 포함하고,
   상기 제 2 스펙클 감소 컴포넌트는 상기 다수의 펄스들의 코히어런시(coherency)를 감소시키는, 코히어런스 감소를 위한 방법.
7. 제 1 항에 있어서,
   상기 비대칭 펄스 스트레처에 의해, 상기 펄스들을 상기 오브젝트를 향하여 지향시키는 상기 집속 렌즈의 동공 평면(pupil plane)에 위치되는 출력으로부터 상기 다수의 펄스들을 출력하는 단계를 포함하는, 코히어런스 감소를 위한 방법.
8. 청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

   제 1 항에 있어서,
   상기 제 1 광 펄스를 레이저로부터 수신하는 단계를 포함하고,
   상기 제 1 광 펄스의 지속기간은 수(few) 나노초를 초과하지 않는, 코히어런스 감소를 위한 방법.
9. 청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

   제 1 항에 있어서,
   상기 다수의 반사 컴포넌트들은 다수의 미러들을 포함하는, 코히어런스 감소를 위한 방법.
10. 제 1 항에 있어서,
    상기 다수의 반사 컴포넌트들은 다수의 미러들을 포함하고, 적어도 하나의 미러는 다른 모든 미러들의 높이와는 상이한 높이에 위치되는, 코히어런스 감소를 위한 방법.
11. 코히어런스 감소 능력들을 갖는 광학 시스템으로서,
    제 1 광 펄스를 생성하기 위한 광 소스;
    상기 제 1 광 펄스를 수신하고, 펄스 시퀀스 생성 기간 동안에, 다수의 광 펄스들을 생성하도록 배열된 비대칭 펄스 스트레처 ― 상기 비대칭 펄스 스트레처는 루프를 형성하는 광학 경로의 코너들을 규정하는 다수의 반사 컴포넌트들을 포함하고, 상기 다수의 반사 컴포넌트들 중 적어도 2개의 반사 컴포넌트들은 상기 광학 경로에 관한 배향 또는 상기 광학 경로에 관한 포지션 중 적어도 하나에 대하여 서로 대칭되는 방식으로 위치되고, 상기 다수의 반사 컴포넌트들 중 적어도 2개의 반사 컴포넌트들은 상기 광학 경로에 관한 배향 또는 상기 광학 경로에 관한 포지션 중 적어도 하나에 대하여 서로 비대칭되는 방식으로 위치되고, 상기 다수의 반사 컴포넌트들은 상기 다수의 펄스들 중 적어도 2개의 펄스들 사이의 코히어런스-관련 차이를 도입하고, 상기 펄스 시퀀스 생성 기간은 검출기의 응답 기간을 초과하지 않음 ―; 및
    상기 다수의 펄스들을 오브젝트 상의 영역을 향하여 지향시키기 위해 상기 비대칭 펄스 스트레처와 상기 오브젝트 사이에 위치되는 집속 렌즈를 포함하고, 상기 집속 렌즈는 상기 다수의 펄스들을 집속함으로써 집속된 다수의 펄스들을 생성하는, 코히어런스 감소 능력들을 갖는 광학 시스템.
12. 제 11 항에 있어서,
    상기 집속 렌즈는 상기 집속된 다수의 펄스들을 상기 오브젝트의 실질적으로 동일한 영역을 향하여 지향시키도록 배열되는, 코히어런스 감소 능력들을 갖는 광학 시스템.
13. 제 11 항에 있어서,
    상기 코히어런스-관련 차이는 상기 적어도 2개의 펄스들의 입사각 사이의 차이인, 코히어런스 감소 능력들을 갖는 광학 시스템.
14. 제 11 항에 있어서,
    상기 코히어런스-관련 차이는 상기 적어도 2개의 펄스들의 입사 위치 사이의 차이인, 코히어런스 감소 능력들을 갖는 광학 시스템.
15. 제 11 항에 있어서,
    상기 비대칭 펄스 스트레처는, 상기 집속된 다수의 펄스들 중 2개의 펄스들 사이에 입사 각도 차이를 도입하도록 배열되고, 상기 집속된 다수의 펄스들 중 2개의 펄스들 사이에 입사 위치 차이를 도입하고 있는, 코히어런스 감소 능력들을 갖는 광학 시스템.
16. 제 11 항에 있어서,
    상기 비대칭 펄스 스트레처는 상기 다수의 펄스들을 제 2 스펙클 감소 컴포넌트를 향하여 지향시키도록 배열되고,
    상기 제 2 스펙클 감소 컴포넌트는 상기 다수의 펄스들의 코히어런시를 감소시키는, 코히어런스 감소 능력들을 갖는 광학 시스템.
17. 청구항 17은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

    제 11 항에 있어서,
    상기 비대칭 펄스 스트레처는, 상기 펄스들을 상기 오브젝트를 향하여 지향시키는 상기 집속 렌즈의 동공 평면에 위치되는 출력으로부터 상기 다수의 펄스들을 출력하도록 배열되는, 코히어런스 감소 능력들을 갖는 광학 시스템.
18. 제 11 항에 있어서,
    상기 광 소스는 레이저이고,
    상기 제 1 광 펄스의 지속기간은 수 나노초를 초과하지 않는, 코히어런스 감소 능력들을 갖는 광학 시스템.
19. 제 11 항에 있어서,
    상기 다수의 반사 컴포넌트들은 다수의 미러들을 포함하는, 코히어런스 감소 능력들을 갖는 광학 시스템.
20. 청구항 20은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.

    제 11 항에 있어서,
    상기 다수의 광학 컴포넌트들은 다수의 미러들을 포함하고, 적어도 하나의 미러는 다른 모든 미러들의 높이와는 상이한 높이에 위치되는, 코히어런스 감소 능력들을 갖는 광학 시스템.

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