JP2019502156A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2015年12月15日に出願された欧州出願第15200110.3号の優先権を主張し、その全体が本明細書に援用される。
オブジェクトを保持するように構成されたオブジェクトテーブルと、
オブジェクトテーブルをレベルセンサに対して第1の方向に移動させるための位置決め装置と、を備える。
レベルセンサは、
オブジェクトの測定領域に測定ビームを投影するように構成された投影システムであって、測定領域が第1の方向に測定領域長を有する投影システムと、
測定領域内の第1の方向に配置された異なるサブ領域から反射された後に測定ビームの異なる部分を受光し、受光した異なる部分を表す出力信号を提供するように構成された検出器システムと、
検出器システムからの出力信号を処理するように構成された信号処理システムと、を備える。信号処理システムは、ステージによって第1の方向にオブジェクトが移動する間に、
目標領域がサブ領域内にあるときに、測定ビームの受光された部分を表す出力信号を、異なるサブ領域のそれぞれについて連続的に取り出し、
出力信号の組み合わせに基づいて、目標位置の高さレベルを決定するように構成される。
1.ステップモードにおいては、放射ビームBに付与されたパターンの全体が1回で目標部分Cに投影される間、マスクテーブルMTまたは「マスク支持部」及び基板テーブルWTまたは「基板支持部」は実質的に静止状態とされる(すなわち単一静的露光)。そして基板テーブルWTまたは「基板支持部」がX方向及び/またはY方向に移動されて、異なる目標部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で結像される目標部分Cのサイズを制限することになる。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームBに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、マスクテーブルMTまたは「マスク支持部」及び基板テーブルWTまたは「基板支持部」は同期して走査される(すなわち単一動的露光)。マスクテーブルMTまたは「マスク支持部」に対する基板テーブルWTまたは「基板支持部」の速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められうる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが単一動的露光での目標部分Cの(非走査方向の)幅を制限し、走査移動距離が目標部分Cの(走査方向の)長さを決定する。
3.別のモードにおいては、マスクテーブルMTまたは「マスク支持部」がプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とし、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、基板テーブルWTまたは「基板支持部」が移動または走査される。このモードではパルス放射源が通常用いられ、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTまたは「基板支持部」の毎回の移動後、または走査中の連続放射パルス間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述の形式のプログラマブルミラーアレイ等のプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
上記で記載した使用モードを組み合わせて動作させてもよいし、各モードに変更を加えて動作させてもよいし、さらに全く別の使用モードが用いられてもよい。
ピッチP=30μm
測定領域の数=30
領域530当たりの開口の数=60
測定スポットの幅w=1mm
このような格子を使用すると、約50mmの幅にわたる測定範囲を得ることができる。測定ビームの高さL’が投影によって図2に見ることができるような高さLを有する測定領域に変換されるのに対して、測定ビームの幅(すなわち、開口530.1の幅wに対応する)は、オブジェクトへの投影によって実質的に維持され、したがってオブジェクト上の測定スポットまたは領域の幅に対応することに留意されたい。
1.目標位置Tが第1測定サブ領域と位置合わせされている、またはその内部にあるとき(図8)の、検出器対852.1,852.2からの出力信号、
2.目標位置Tが第2測定サブ領域と位置合わせされている、またはその内部にあるとき(図9)の、検出器対854.1,854.2からの出力信号、および
3.目標位置Tが第3測定サブ領域と位置合わせされている、またはその内部にあるとき(図10)の、検出器対856.1,856.2からの出力信号、
を連続して受信するように構成される。
したがって、例えばオブジェクトを保持するオブジェクトテーブルとオブジェクトテーブルを移動させるための位置決め装置とを含むステージにより、レベルセンサに対してオブジェクトをY方向に移動させることによって、目標位置Tは、同じY方向に互いに隣接してまたは隣同士に設けられた全てのサブ領域によって連続して「見られる」。
Claims (13)
- オブジェクト上の目標位置における高さレベルを検出するように構成されたステージとレベルセンサとの組合せであって、
前記ステージは、
前記オブジェクトを保持するように構成されたオブジェクトテーブルと、
前記オブジェクトテーブルを前記レベルセンサに対して第1の方向に移動させるための位置決め装置と、を備え、
前記レベルセンサは、
前記オブジェクトの測定領域に測定ビームを投影するように構成された投影システムであって、測定領域が第1の方向に測定領域長を有する投影システムと、
測定領域内の第1の方向に配置された異なるサブ領域から反射された後に測定ビームの異なる部分を受光し、受光した異なる部分を表す出力信号を提供するように構成された検出器システムと、
前記検出器システムからの出力信号を処理するように構成された信号処理システムと、を備え、
前記信号処理システムは、前記ステージによって第1の方向に前記オブジェクトが移動する間に、
目標領域がサブ領域内にあるときに、測定ビームの受光された部分を表す出力信号を、異なるサブ領域のそれぞれについて連続的に取り出し、
出力信号の組み合わせに基づいて、目標位置の高さレベルを決定するように構成される、組合せ。 - 前記検出器システムは、複数の検出器を備え、複数の検出器の各検出器は、測定ビームの異なる部分をそれぞれ受光するように構成される、請求項1に記載の組合せ。
- 前記信号処理システムは、
出力信号に基づいて、それぞれの異なるサブ領域の複数の高さレベルを決定し、
複数の高さレベルを組み合わせることによって目標位置の高さレベルを決定するように構成される、請求項1に記載の組合せ。 - 前記信号処理システムは、目標位置の高さレベルを複数の高さレベルの平均として決定するように構成される、請求項3に記載の組合せ。
- サブ領域が重複していない、請求項1から4のいずれかに記載の組合せ。
- 前記投影システムは、光源と、前記光源からの光ビームを測定ビームに変換するように構成された投影格子とを備える、請求項1から5のいずれかに記載の組合せ。
- 前記投影格子は、透過型格子または反射型格子である、請求項6に記載の組合せ。
- 測定領域長は、サブ領域長のN倍であり、Nは1より大きい自然数である、請求項1から7のいずれかに記載の組合せ。
- 前記検出器システムは、測定領域から反射された測定ビームの異なる部分を受光するための検出格子を備える、請求項1から8のいずれかに記載の組合せ。
- 各検出器は、検出器対を備え、検出格子は、反射された測定ビームの受光された部分を、前記検出器対により捕捉される一対のビームに変換するように構成される、請求項2に記載の組合せ。
- 前記検出器システムは、測定領域内の異なるサブ領域から反射された後に測定ビームの異なる部分を受光するための2次元感光性アレイを備える、請求項1から10のいずれかに記載の組合せ。
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持部と、
パターン付き放射ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
請求項1から11のいずれかに記載の組合せと、を備え、
前記オブジェクトテーブルは、前記基板を保持するように構成され、前記レベルセンサは、前記基板上の目標位置における高さレベルを検出するよう構成される、リソグラフィ装置。 - パターン付き放射ビームを基板上に投影するステップを備えるデバイス製造方法であって、
パターン付き放射ビームを投影するステップは、請求項1から11のいずれかに記載の組合せを用いて前記基板の高さマップを決定するステップより先行する、デバイス製造方法。
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