JPH06204104A - 照度分布測定方法及びそれを用いた投影露光装置 - Google Patents
照度分布測定方法及びそれを用いた投影露光装置Info
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- JPH06204104A JPH06204104A JP4360797A JP36079792A JPH06204104A JP H06204104 A JPH06204104 A JP H06204104A JP 4360797 A JP4360797 A JP 4360797A JP 36079792 A JP36079792 A JP 36079792A JP H06204104 A JPH06204104 A JP H06204104A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 投影光学系によるレチクルの投影面上の照度
分布を高精度に測定することができる照度分布測定方法
及びそれを用いた投影露光装置を得ること。 【構成】 照明系からの光束で面積の略等しい複数の開
口パターンを２次元的に等間隔に配列したレチクルを照
明し、該レチクルの投影光学系による投影面近傍に該レ
チクルの１つの開口パターンを通過した光束のみを通過
させる開口部を有した絞りと、該絞りの開口部を通過し
た光束を検出する光電変換器とを有する受光手段を設
け、該受光手段を該投影面と平行な平面内で２次元的に
移動させることにより、該投影面内の照度分布を測定す
るようにしたこと。
分布を高精度に測定することができる照度分布測定方法
及びそれを用いた投影露光装置を得ること。 【構成】 照明系からの光束で面積の略等しい複数の開
口パターンを２次元的に等間隔に配列したレチクルを照
明し、該レチクルの投影光学系による投影面近傍に該レ
チクルの１つの開口パターンを通過した光束のみを通過
させる開口部を有した絞りと、該絞りの開口部を通過し
た光束を検出する光電変換器とを有する受光手段を設
け、該受光手段を該投影面と平行な平面内で２次元的に
移動させることにより、該投影面内の照度分布を測定す
るようにしたこと。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子製造に好適な
照明方法及びそれを用いた投影露光装置に関し、特にレ
チクル面上に形成されている回路パターンを投影光学系
により投影面（露光面）であるウエハ面に所定の倍率で
投影露光する際の該投影面内の照度及び照度分布を測定
するようにしたものである。
照明方法及びそれを用いた投影露光装置に関し、特にレ
チクル面上に形成されている回路パターンを投影光学系
により投影面（露光面）であるウエハ面に所定の倍率で
投影露光する際の該投影面内の照度及び照度分布を測定
するようにしたものである。
【０００２】
【従来の技術】最近の半導体素子製造技術は電子回路の
高集積化に伴い解像パターン線幅も例えば１μｍ以下と
なり、光学的な投影露光装置においても従来に比べてよ
り高解像力化されたものが要望されている。
高集積化に伴い解像パターン線幅も例えば１μｍ以下と
なり、光学的な投影露光装置においても従来に比べてよ
り高解像力化されたものが要望されている。
【０００３】一般にレチクル面上の回路パターンを投影
光学系を介してウエハ面（投影面）上に投影する際、回
路パターンの解像線幅は使用波長や投影光学系のＮ．Ａ
等と共に投影面上における照度分布の均一性の良否が大
きく影響してくる。
光学系を介してウエハ面（投影面）上に投影する際、回
路パターンの解像線幅は使用波長や投影光学系のＮ．Ａ
等と共に投影面上における照度分布の均一性の良否が大
きく影響してくる。
【０００４】この為、従来の多くの投影露光装置では投
影面上における照度分布を種々の方法により測定してい
る。
影面上における照度分布を種々の方法により測定してい
る。
【０００５】例えば、 （イ）照明系から出た光束をレチクルで制限せずに投影
光学系に導き、投影光学系で該レチクルと共役な露光面
のごく近傍に配置した光電変換手段（受光手段）の出力
により光強度を検出し、該光電変換手段を水平方向に移
動することによって露光面の光強度分布を測定する方
法。
光学系に導き、投影光学系で該レチクルと共役な露光面
のごく近傍に配置した光電変換手段（受光手段）の出力
により光強度を検出し、該光電変換手段を水平方向に移
動することによって露光面の光強度分布を測定する方
法。
【０００６】（ロ）照明系の一部に通過光束の領域を制
限する開口径可変のマスキングブレードを設け、マスキ
ングブレードの像がレチクル面上に結像するようにし、
又レチクルの投影光学系による投影面の下方に受光手段
を設けている。そして投影面と共役な位置にあるマスキ
ングブレードの開口部を２次元的に変位させ、このとき
受光手段で得られる信号を利用して投影面内の照度分布
を測定する方法。等が用いられている。
限する開口径可変のマスキングブレードを設け、マスキ
ングブレードの像がレチクル面上に結像するようにし、
又レチクルの投影光学系による投影面の下方に受光手段
を設けている。そして投影面と共役な位置にあるマスキ
ングブレードの開口部を２次元的に変位させ、このとき
受光手段で得られる信号を利用して投影面内の照度分布
を測定する方法。等が用いられている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】前述の投影面の照度分
布測定方法のうち（イ）の方法は、照明系から射出され
た光束のほとんどが投影光学系に導かれるが、投影光学
系は光束のエネルギーに起因する熱的エネルギーで状態
が変化してしまう性質を持っている。
布測定方法のうち（イ）の方法は、照明系から射出され
た光束のほとんどが投影光学系に導かれるが、投影光学
系は光束のエネルギーに起因する熱的エネルギーで状態
が変化してしまう性質を持っている。
【０００８】したがって実際に照度分布を測定した系と
レチクルを装着し、露光する系とは投影光学系の状態が
異なってしまっているという問題点があった。
レチクルを装着し、露光する系とは投影光学系の状態が
異なってしまっているという問題点があった。
【０００９】又（ロ）の方法は、マスキングブレードに
てほとんどの光束をさえぎるため、熱による投影光学系
の状態の変化は抑えられるが、照度の測定精度がマスキ
ングブレードの位置決め精度に依存してしまうため、精
密な測定が難しいという問題点があった。
てほとんどの光束をさえぎるため、熱による投影光学系
の状態の変化は抑えられるが、照度の測定精度がマスキ
ングブレードの位置決め精度に依存してしまうため、精
密な測定が難しいという問題点があった。
【００１０】本発明は照明系からの光束により照明され
る被照射面上に配置する照度分布測定用のレチクルの開
口パターンの寸法や形状、そして投影面（露光面）近傍
に設ける受光手段の一部を構成する絞りの開口部の寸法
や形状等を適切に設定することにより、投影光学系の照
明光や露光光等の吸収による熱的エネルギーによる光学
的変化を極力防止し、高精度な照度分布の測定が可能な
照度分布測定方法及びそれを用いた投影露光装置の提供
を目的とする。
る被照射面上に配置する照度分布測定用のレチクルの開
口パターンの寸法や形状、そして投影面（露光面）近傍
に設ける受光手段の一部を構成する絞りの開口部の寸法
や形状等を適切に設定することにより、投影光学系の照
明光や露光光等の吸収による熱的エネルギーによる光学
的変化を極力防止し、高精度な照度分布の測定が可能な
照度分布測定方法及びそれを用いた投影露光装置の提供
を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の照度分布測定方
法は、照明系からの光束で面積の略等しい複数の開口パ
ターンを２次元的に等間隔に配列した照度分布測定用の
レチクルを照明し、該レチクルの投影光学系による投影
面近傍に該レチクルの１つの開口パターンを通過した光
束のみを通過させる開口部を有した絞りと、該絞りの開
口部を通過した光束を検出する光電変換器とを有する受
光手段を設け、該受光手段からの信号を利用して該投影
面内の照度分布を測定するようにしたことを特徴として
いる。
法は、照明系からの光束で面積の略等しい複数の開口パ
ターンを２次元的に等間隔に配列した照度分布測定用の
レチクルを照明し、該レチクルの投影光学系による投影
面近傍に該レチクルの１つの開口パターンを通過した光
束のみを通過させる開口部を有した絞りと、該絞りの開
口部を通過した光束を検出する光電変換器とを有する受
光手段を設け、該受光手段からの信号を利用して該投影
面内の照度分布を測定するようにしたことを特徴として
いる。
【００１２】特に前記受光手段を前記投影面と平行な面
内で２次元的に移動させることにより該投影面の照度分
布を測定していることを特徴としている。
内で２次元的に移動させることにより該投影面の照度分
布を測定していることを特徴としている。
【００１３】又本発明の投影露光装置は、照明系からの
光束で被照射面上に載置した照度分布測定用のレチクル
を照明し、該レチクルの投影光学系による投影面の該投
影光学系では反対側の空間内に受光手段を設け、該受光
手段からの信号を利用して該投影面上の照度分布を測定
する際、該レチクルは面積の略等しい複数の開口パター
ンを縦横方向に等間隔に配列したパターンより成り、該
受光手段は該レチクルの１つの開口パターンを通過して
きた全光束を通過させると共に該開口パターンと隣接す
る他の開口パターンを通過してきた光束を遮光する開口
部を有する絞りと、該絞りの開口部を通過してきた光束
を検出する光電変換器とを有していることを特徴として
いる。
光束で被照射面上に載置した照度分布測定用のレチクル
を照明し、該レチクルの投影光学系による投影面の該投
影光学系では反対側の空間内に受光手段を設け、該受光
手段からの信号を利用して該投影面上の照度分布を測定
する際、該レチクルは面積の略等しい複数の開口パター
ンを縦横方向に等間隔に配列したパターンより成り、該
受光手段は該レチクルの１つの開口パターンを通過して
きた全光束を通過させると共に該開口パターンと隣接す
る他の開口パターンを通過してきた光束を遮光する開口
部を有する絞りと、該絞りの開口部を通過してきた光束
を検出する光電変換器とを有していることを特徴として
いる。
【００１４】特に前記レチクルの開口パターンは矩形状
より成っていることを特徴としている。
より成っていることを特徴としている。
【００１５】
【実施例】図１は本発明の実施例１の要部概略図であ
る。図中１は超高圧水銀灯等の光源でその発光点１ａは
楕円ミラー２の第１焦点近傍に配置している。この超高
圧水銀灯１より発した光が楕円ミラー２によって集光さ
れる。３は光路を曲げるためのミラー、４はシャッター
で通過光量を制限している。５はリレーレンズ系で超高
圧水銀灯１からの光を波長選択フィルター６を介してオ
プティカルインテグレータ７に効率よく集めている。オ
プティカルインテグレータ７は後述するように複数の微
小レンズを２次元的に配列した構成より成っている。
る。図中１は超高圧水銀灯等の光源でその発光点１ａは
楕円ミラー２の第１焦点近傍に配置している。この超高
圧水銀灯１より発した光が楕円ミラー２によって集光さ
れる。３は光路を曲げるためのミラー、４はシャッター
で通過光量を制限している。５はリレーレンズ系で超高
圧水銀灯１からの光を波長選択フィルター６を介してオ
プティカルインテグレータ７に効率よく集めている。オ
プティカルインテグレータ７は後述するように複数の微
小レンズを２次元的に配列した構成より成っている。
【００１６】本実施例においてはオプティカルインテグ
レータ（インテグレータ）７への結像状態はクリティカ
ル照明でもケーラー照明でもよく、また例えば楕円ミラ
ー２の射出口をオプティカルインテグレータ７に結像す
るものであっても良い。波長選択フィルター６は超高圧
水銀灯１からの光束の波長成分の中から必要な波長成分
の光のみを選択して通過させている。
レータ（インテグレータ）７への結像状態はクリティカ
ル照明でもケーラー照明でもよく、また例えば楕円ミラ
ー２の射出口をオプティカルインテグレータ７に結像す
るものであっても良い。波長選択フィルター６は超高圧
水銀灯１からの光束の波長成分の中から必要な波長成分
の光のみを選択して通過させている。
【００１７】１０，１２は各々レンズ系であり、オプテ
ィカルインテグレータ７の射出面７ｂからの光束を集光
している。１１は光路を折り曲げるためのミラーであ
る。１３は所謂マスキングを行なうマスキングブレード
であり、レチクル２０の露光されるべきパターン部の大
きさによって駆動系（不図示）によって位置の調整を行
なっている。１４はミラー、１５はレンズ系、１６はミ
ラー、１７はレンズ系で、これらの各部材を介した超高
圧水銀灯１からの光束でレチクルステージ２０ａ上に載
置されたレチクル２０を照明している。
ィカルインテグレータ７の射出面７ｂからの光束を集光
している。１１は光路を折り曲げるためのミラーであ
る。１３は所謂マスキングを行なうマスキングブレード
であり、レチクル２０の露光されるべきパターン部の大
きさによって駆動系（不図示）によって位置の調整を行
なっている。１４はミラー、１５はレンズ系、１６はミ
ラー、１７はレンズ系で、これらの各部材を介した超高
圧水銀灯１からの光束でレチクルステージ２０ａ上に載
置されたレチクル２０を照明している。
【００１８】一般にレチクル２０には電子回路パターン
が形成されているが、同図に示すレチクル２０は照度分
布測定用のレチクルであり、例えば図２に示すようなパ
ターンを有している。
が形成されているが、同図に示すレチクル２０は照度分
布測定用のレチクルであり、例えば図２に示すようなパ
ターンを有している。
【００１９】２１は投影光学系であり、レチクル２０上
のパターンをウエハ（露光面）２２に投影結像させてい
る。ウエハ２２はウエハチャック２３に吸着しており、
更にウエハチャック２３はレーザー干渉計３３ａによっ
て制御されるステージ２４上に載置している。尚、３３
はミラーであり、ＸＹステージ２４上に載置しており、
あるレーザー干渉計３３ａからの光を反射させている。
のパターンをウエハ（露光面）２２に投影結像させてい
る。ウエハ２２はウエハチャック２３に吸着しており、
更にウエハチャック２３はレーザー干渉計３３ａによっ
て制御されるステージ２４上に載置している。尚、３３
はミラーであり、ＸＹステージ２４上に載置しており、
あるレーザー干渉計３３ａからの光を反射させている。
【００２０】本実施例において、オプティカルインテグ
レータ７の射出面７ｂは各要素１０，１１，１２，１
４，１５，１６，１７を介して投影光学系２１の瞳面２
１ａと略共役関係と成っている。即ち、投影光学系２１
の瞳面２１ａに射出面７ｂに相当する有効光源像が形成
している。
レータ７の射出面７ｂは各要素１０，１１，１２，１
４，１５，１６，１７を介して投影光学系２１の瞳面２
１ａと略共役関係と成っている。即ち、投影光学系２１
の瞳面２１ａに射出面７ｂに相当する有効光源像が形成
している。
【００２１】３４は受光手段であり、光源変換器３０、
ケース３２、絞り３１とを有している。光電変換器３０
はウエハ２２面上の照度を測定するためにＸＹステージ
２４面上に載置している。絞り３１はガラス板（透明
体）より成り、その上部には開口部（直径１ｍｍ程度）
３１ａと遮光膜３１ｂとが形成されている。ケース３２
はその上部に開口部を有し、光電変換器３０を収納して
いる。
ケース３２、絞り３１とを有している。光電変換器３０
はウエハ２２面上の照度を測定するためにＸＹステージ
２４面上に載置している。絞り３１はガラス板（透明
体）より成り、その上部には開口部（直径１ｍｍ程度）
３１ａと遮光膜３１ｂとが形成されている。ケース３２
はその上部に開口部を有し、光電変換器３０を収納して
いる。
【００２２】本実施例において、レチクル２０とマスキ
ングブレード１３とはレンズ系１５，１７を介して共役
となっており、又レチクル２０とウエハ面（露光面）２
２とは投影光学系２１を介して共役となっている。
ングブレード１３とはレンズ系１５，１７を介して共役
となっており、又レチクル２０とウエハ面（露光面）２
２とは投影光学系２１を介して共役となっている。
【００２３】レチクルステージ２０ａに保持したレチク
ル２０のパターンはウエハ面２２上の照度分布測定のた
めに図２に示すような規則的に配置された複数の開口パ
ターンより成っている。
ル２０のパターンはウエハ面２２上の照度分布測定のた
めに図２に示すような規則的に配置された複数の開口パ
ターンより成っている。
【００２４】このレチクル２０面上の複数の開口パター
ンは矩形状より成り、その面積は誤差が０．１％程度と
なるようにクロム層が形成されている。これはマスキン
グブレード１３で光束を制限するよりも精度良く光束を
整形している（尚、開口パターンは矩形状の他に円形、
楕円等どのような形状であっても良い。）。
ンは矩形状より成り、その面積は誤差が０．１％程度と
なるようにクロム層が形成されている。これはマスキン
グブレード１３で光束を制限するよりも精度良く光束を
整形している（尚、開口パターンは矩形状の他に円形、
楕円等どのような形状であっても良い。）。
【００２５】絞り３１の開口部３１ａは図３に示すよう
にレチクル２０の１つの開口パターン２０ａを通過し、
投影光学系２１を通過してきた光束を光電変換器３０に
導光して測定し、その隣の開口パターン２０ｂからの光
束は遮光膜３１ｂで遮光するように構成している。又絞
り３１の開口部３１ａは投影面２２より、光軸方向に投
影光学系２１より離して配置している。
にレチクル２０の１つの開口パターン２０ａを通過し、
投影光学系２１を通過してきた光束を光電変換器３０に
導光して測定し、その隣の開口パターン２０ｂからの光
束は遮光膜３１ｂで遮光するように構成している。又絞
り３１の開口部３１ａは投影面２２より、光軸方向に投
影光学系２１より離して配置している。
【００２６】本実施例では、このような構成のもとでレ
チクル２０の各開口パターンのウエハ面２２上での投影
位置に絞り３１の開口部３１ａが順次位置するようにＸ
Ｙステージ２４をＸＹ面内で移動させることにより、ウ
エハ面２２上の照度分布を測定している。
チクル２０の各開口パターンのウエハ面２２上での投影
位置に絞り３１の開口部３１ａが順次位置するようにＸ
Ｙステージ２４をＸＹ面内で移動させることにより、ウ
エハ面２２上の照度分布を測定している。
【００２７】本実施例において、受光手段３１を照度分
布測定用のレチクルの開口パターンの数と同数だけ２次
元的に等ピッチに設けても良く、これによればＸＹステ
ージを固定した状態で投影面上の照度分布を求めること
ができる。
布測定用のレチクルの開口パターンの数と同数だけ２次
元的に等ピッチに設けても良く、これによればＸＹステ
ージを固定した状態で投影面上の照度分布を求めること
ができる。
【００２８】尚、本実施例の受光手段３４を用いれば投
影面２２上の照度分布測定の他にレチクルを通過してく
る光量とレチクル面に照射される光量の比、所謂レチク
ル透過率を測定することができる。このときは図２の照
度分布測定用のレチクルは用いず透過率を測定したり透
過率測定用のレチクルをレチクルステージ２０ａに載置
する。そして透過率測定用のレチクルをレチクルステー
ジに載置した場合と除去した場合での受光手段３４から
の出力信号の比を求めればレチクル透過率を求めること
ができる。
影面２２上の照度分布測定の他にレチクルを通過してく
る光量とレチクル面に照射される光量の比、所謂レチク
ル透過率を測定することができる。このときは図２の照
度分布測定用のレチクルは用いず透過率を測定したり透
過率測定用のレチクルをレチクルステージ２０ａに載置
する。そして透過率測定用のレチクルをレチクルステー
ジに載置した場合と除去した場合での受光手段３４から
の出力信号の比を求めればレチクル透過率を求めること
ができる。
【００２９】一般に照度分布測定は測定点による差を抽
出する目的で測定する光束の断面積を小さくしたいとい
う要求がある。しかしながらレチクル透過率の測定はレ
チクル面での平均的な透過率を得るため、露光面中の測
定領域をなるべく広くしたいという要求がある。
出する目的で測定する光束の断面積を小さくしたいとい
う要求がある。しかしながらレチクル透過率の測定はレ
チクル面での平均的な透過率を得るため、露光面中の測
定領域をなるべく広くしたいという要求がある。
【００３０】本実施例の受光手段３４の絞り３１の開口
部３１ａの寸法は、前述の条件を満足する程度まで拡大
させることができるのでＸＹステージの少ない移動回数
でレチクル透過率を測定することができる。
部３１ａの寸法は、前述の条件を満足する程度まで拡大
させることができるのでＸＹステージの少ない移動回数
でレチクル透過率を測定することができる。
【００３１】本実施例ではレチクルを通過してくる光束
のもつエネルギーが熱エネルギーに変わり、投影光学系
２１の光学的状態を変えてしまう。この照度分布測定法
ではレチクル透過率が、従来なにもレチクルを入れない
測定法（レチクル透過率＝１．０）の半分以下になるの
で投影光学系２１の状態変化も遅く、測定精度を上げら
れる。
のもつエネルギーが熱エネルギーに変わり、投影光学系
２１の光学的状態を変えてしまう。この照度分布測定法
ではレチクル透過率が、従来なにもレチクルを入れない
測定法（レチクル透過率＝１．０）の半分以下になるの
で投影光学系２１の状態変化も遅く、測定精度を上げら
れる。
【００３２】ところで、レチクル２０を実際のＬＳＩ配
線用のレチクル（＝実レチクル）に交替して同様の測定
を行なったときの各開口パターンの光量の和は、実レチ
クルのレチクル透過率を反映している。
線用のレチクル（＝実レチクル）に交替して同様の測定
を行なったときの各開口パターンの光量の和は、実レチ
クルのレチクル透過率を反映している。
【００３３】図４，図５は絞り３１の開口部３１ａの径
と、検出光量（検出効率）についての関係を示した説明
図である。
と、検出光量（検出効率）についての関係を示した説明
図である。
【００３４】通常、レチクルによる光束制御がないとき
は各点での微小面積部分での照度を測定したいために、
開口径を小さくしなければならないが、そのような遮光
膜を使うとレチクル透過率測定時の抽出点の領域が狭く
なり、精度が悪い。
は各点での微小面積部分での照度を測定したいために、
開口径を小さくしなければならないが、そのような遮光
膜を使うとレチクル透過率測定時の抽出点の領域が狭く
なり、精度が悪い。
【００３５】本発明では開口径を例えば１ｍｍφにする
ことができ、このときのＸＹステージのピッチを１ｍｍ
とすると、図４，５，６に示すようにレチクル全面の情
報をもった光束がムラなく入ることがわかる。このよう
にレチクル透過率測定の精度も上がることがわかる。
尚、図５，図６は測定点と検出範囲との関係を示してい
る。
ことができ、このときのＸＹステージのピッチを１ｍｍ
とすると、図４，５，６に示すようにレチクル全面の情
報をもった光束がムラなく入ることがわかる。このよう
にレチクル透過率測定の精度も上がることがわかる。
尚、図５，図６は測定点と検出範囲との関係を示してい
る。
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば以上のように、照明系か
らの光束により照明される被照射面上に配置する照度分
布測定用のレチクルの開口パターンの寸法や形状、そし
て投影面（露光面）近傍に設ける受光手段の一部を構成
する絞りの開口部の寸法や形状等を適切に設定すること
により、投影光学系の照明光や露光光等の吸収による熱
的エネルギーによる光学的変化を極力防止し、高精度な
照度分布の測定が可能な照度分布測定方法及びそれを用
いた投影露光装置を達成することができる。
らの光束により照明される被照射面上に配置する照度分
布測定用のレチクルの開口パターンの寸法や形状、そし
て投影面（露光面）近傍に設ける受光手段の一部を構成
する絞りの開口部の寸法や形状等を適切に設定すること
により、投影光学系の照明光や露光光等の吸収による熱
的エネルギーによる光学的変化を極力防止し、高精度な
照度分布の測定が可能な照度分布測定方法及びそれを用
いた投影露光装置を達成することができる。
【図１】 本発明の実施例１の要部概略図
【図２】 図１のレチクル２０の説明図
【図３】 図１の一部分の拡大説明図
【図４】 図１の絞り３１の開口径と検出光量との関係
を示す説明図
を示す説明図
【図５】 図１の絞り３１の開口径と検出光量との関係
を示す説明図
を示す説明図
【図６】 図１の投影面の検出点と検出範囲との関係を
示す説明図
示す説明図
１ 光源 ２ 楕円ミラー ３，１１，１４，１６ ミラー ５，１０，１２，１５，１７ レンズ系 ６ 波長選択フィルター ７ オプティカルインテグレータ １３ マスキングブレード ２０ レチクル ２１ 投影光学系 ２２ ウエハ ２３ ウエハチャック ２４ ＸＹステージ ３１ 絞り ３１ａ 開口部 ３１ｂ 遮光部 ３２ ケース ３３ ミラー ３４ 受光手段
Claims (5)
- 【請求項１】 照明系からの光束で面積の略等しい複数
の開口パターンを２次元的に等間隔に配列した照度分布
測定用のレチクルを照明し、該レチクルの投影光学系に
よる投影面近傍に該レチクルの１つの開口パターンを通
過した光束のみを通過させる開口部を有した絞りと、該
絞りの開口部を通過した光束を検出する光電変換器とを
有する受光手段を設け、該受光手段からの信号を利用し
て該投影面内の照度分布を測定するようにしたことを特
徴とする照度分布測定方法。 - 【請求項２】 前記受光手段を前記投影面と平行な面内
で２次元的に移動させることにより該投影面の照度分布
を測定していることを特徴とする請求項１の照度分布測
定方法。 - 【請求項３】 照明系からの光束で被照射面上に載置し
た照度分布測定用のレチクルを照明し、該レチクルの投
影光学系による投影面の該投影光学系では反対側の空間
内に受光手段を設け、該受光手段からの信号を利用して
該投影面上の照度分布を測定する際、該レチクルは面積
の略等しい複数の開口パターンを縦横方向に等間隔に配
列したパターンより成り、該受光手段は該レチクルの１
つの開口パターンを通過してきた全光束を通過させると
共に該開口パターンと隣接する他の開口パターンを通過
してきた光束を遮光する開口部を有する絞りと、該絞り
の開口部を通過してきた光束を検出する光電変換器とを
有していることを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項４】 前記レチクルの開口パターンは矩形状よ
り成っていることを特徴とする請求項３の投影露光装
置。 - 【請求項５】 前記受光手段は前記投影面と平行な面内
において２次元的に移動し、該投影面の照度分布を測定
していることを特徴とする請求項３の投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4360797A JPH06204104A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 照度分布測定方法及びそれを用いた投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4360797A JPH06204104A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 照度分布測定方法及びそれを用いた投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06204104A true JPH06204104A (ja) | 1994-07-22 |
Family
ID=18470963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4360797A Pending JPH06204104A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 照度分布測定方法及びそれを用いた投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06204104A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002373840A (ja) * | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Fuji Electric Co Ltd | 露光装置および露光方法 |
| JP2007142292A (ja) * | 2005-11-22 | 2007-06-07 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | 基板検査装置 |
-
1992
- 1992-12-28 JP JP4360797A patent/JPH06204104A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002373840A (ja) * | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Fuji Electric Co Ltd | 露光装置および露光方法 |
| JP2007142292A (ja) * | 2005-11-22 | 2007-06-07 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | 基板検査装置 |
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