JP4224863B2 - 検査装置及び検査方法、並びにパターン基板の製造方法 - Google Patents
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Description
14 レンズ、15 開口絞り、16 レンズ、
20 反射照明光学系、21 反射照明光源、22 開口絞り、23 レンズ、
24 視野絞り、25 レンズ、30 検出光学系、
31 ビームスプリッタ、32 レンズ、33 フォトマスク、34 X−Yステージ、
41 レンズ、42 反射部材、43 透過像用センサ、44 合成像用センサ
50 処理装置、
60 視野、61 透過照明領域、62 同時照明領域、65 透過像撮像領域、
66 合成像撮像領域、67 直線、
70 視野、71 透過照明領域、72 反射照明領域、75 透過像撮像領域、
76 反射像撮像領域、77 直線、
Claims (9)
- 試料を透過した透過光と前記試料で反射した反射光とを用いて検査を行う検査装置であって、
対物レンズと、
前記対物レンズの視野の一部である第1の領域を、前記試料の対物レンズ側から照明する反射照明光学系と、
前記第1の領域と前記対物レンズの視野内において前記第1の領域以外の第2の領域とを、前記試料の対物レンズ側の反対側から照明する透過照明光学系と、
前記透過照明光学系からの透過照明光、及び前記反射照明光学系からの反射照明光の前記試料上の位置を調整する調整手段と、
前記第1の領域において、前記透過照明光学系からの透過照明光のうち前記試料を透過した透過光と前記反射照明光学系からの反射照明光のうち前記試料で反射した反射光とを前記対物レンズを介して検出する第1検出器と、
前記第2の領域において、前記透過照明光学系からの光のうち、前記透過照明光学系からの光のうち前記試料を透過した透過光を、前記対物レンズを介して検出する第2検出器と、を備える検査装置。 - 前記透過照明光学系からの透過照明光が前記対物レンズの視野全体に入射していることを特徴とする請求項1に記載の検査装置。
- 前記反射照明光学系からの反射照明光が前記対物レンズの視野の略半分に入射していることを特徴とする請求項2に記載の検査装置。
- 前記第1検出器によって、前記透過照明光による透過像と前記反射照明光による反射像とを合成した合成像を撮像し、
前記第2検出器によって、前記透過照明光による透過像を撮像し、
前記試料上の同じ位置の前記合成像から前記透過像を引くことによって、前記試料の反射像を求める請求項1乃至3のいずれかに記載の検査装置。 - 試料を透過した透過光と前記試料で反射した反射光とを対物レンズを介して検出して、検査を行う検査方法であって、
前記試料の前記対物レンズ側から反射照明光を試料に照射して、前記対物レンズの視野の一部である第1の領域を照明するステップと、
前記試料の対物レンズ側の反対側から透過照明光を試料に照射して、前記第1の領域と前記対物レンズの視野内において前記第1の領域以外の第2の領域とを照明するステップと、
前記透過照明光、及び前記反射照明光の前記試料上の位置を変化させながら、前記反射照明光のうち前記試料で反射した反射光と、前記透過照明光のうち前記試料を透過した透過光とを前記対物レンズに入射させるステップと、
前記対物レンズの視野の一部である前記第1の領域からの前記透過光、及び前記反射光を前記対物レンズを介して検出するステップと、
前記対物レンズの視野の一部であり、前記第1の領域以外の前記第2の領域からの前記透過光を前記対物レンズを介して検出するステップと、を備える検査方法。 - 前記透過照明光学系からの透過照明光が対物レンズの視野全体に入射していることを特徴とする請求項5に記載の検査方法。
- 前記反射照明光源からの反射照明光が前記対物レンズの視野の略半分に入射していることを特徴とする請求項6に記載の検査方法。
- 前記第1の領域からの前記透過光、及び前記反射光を前記対物レンズを介して検出することによって、前記透過照明光による透過像と前記反射照明光による反射像とを合成した合成像を撮像し、
前記第2の領域からの前記透過光を前記対物レンズを介して検出することによって、前記透過照明光による透過像を撮像し、
前記試料上の同じ位置の前記合成像から前記透過像を引くことによって、前記試料の反射像を求める請求項5乃至7のいずれかに記載の検査方法。 - 請求項5乃至請求項8のいずれか一項に記載の検査方法により、フォトマスクを検査する検査ステップと、
前記検査ステップによって検査されたフォトマスクの欠陥を修正する欠陥修正ステップと、
前記欠陥修正ステップで修正されたフォトマスクを介して基板を露光する露光ステップと、
前記露光された基板を現像する現像ステップを有するパターン基板の製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012052991A (ja) * | 2010-09-03 | 2012-03-15 | Topcon Corp | 検査装置 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20110027979A (ko) * | 2009-09-11 | 2011-03-17 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 마스크 불량 검사 장치 |
JP4590521B1 (ja) * | 2009-10-30 | 2010-12-01 | レーザーテック株式会社 | 検査装置、及び検査方法 |
JP2011163766A (ja) * | 2010-02-04 | 2011-08-25 | Omron Corp | 画像処理方法および画像処理システム |
TWI497055B (zh) * | 2010-07-30 | 2015-08-21 | Hoya Corp | 透過率測定裝置、光罩之透過率檢查裝置、透過率檢查方法、光罩製造方法、圖案轉印方法、光罩製品 |
US8873596B2 (en) | 2011-07-22 | 2014-10-28 | Kla-Tencor Corporation | Laser with high quality, stable output beam, and long life high conversion efficiency non-linear crystal |
US8964088B2 (en) | 2011-09-28 | 2015-02-24 | Semiconductor Components Industries, Llc | Time-delay-and-integrate image sensors having variable intergration times |
US9042006B2 (en) | 2012-09-11 | 2015-05-26 | Kla-Tencor Corporation | Solid state illumination source and inspection system |
CN104704417B (zh) * | 2012-12-05 | 2017-03-01 | 松下知识产权经营株式会社 | 图像生成装置及图像生成方法 |
US8929406B2 (en) | 2013-01-24 | 2015-01-06 | Kla-Tencor Corporation | 193NM laser and inspection system |
US9529182B2 (en) | 2013-02-13 | 2016-12-27 | KLA—Tencor Corporation | 193nm laser and inspection system |
US9608399B2 (en) | 2013-03-18 | 2017-03-28 | Kla-Tencor Corporation | 193 nm laser and an inspection system using a 193 nm laser |
JP5517179B1 (ja) * | 2013-05-13 | 2014-06-11 | レーザーテック株式会社 | 検査方法及び検査装置 |
US9778207B2 (en) | 2013-05-14 | 2017-10-03 | Kla-Tencor Corp. | Integrated multi-pass inspection |
JP6032828B2 (ja) * | 2013-06-10 | 2016-11-30 | レーザーテック株式会社 | 同期装置及び検査装置 |
US9804101B2 (en) | 2014-03-20 | 2017-10-31 | Kla-Tencor Corporation | System and method for reducing the bandwidth of a laser and an inspection system and method using a laser |
US9419407B2 (en) | 2014-09-25 | 2016-08-16 | Kla-Tencor Corporation | Laser assembly and inspection system using monolithic bandwidth narrowing apparatus |
US9748729B2 (en) | 2014-10-03 | 2017-08-29 | Kla-Tencor Corporation | 183NM laser and inspection system |
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CN106769947B (zh) * | 2017-01-26 | 2023-07-21 | 夏明亮 | 待测样品图像的辅助获取装置及吸光度检测方法 |
JP2022109566A (ja) * | 2021-01-15 | 2022-07-28 | 株式会社ブイ・テクノロジー | フォトマスク修正装置およびフォトマスクの修正方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3209645B2 (ja) * | 1993-10-12 | 2001-09-17 | 三菱電機株式会社 | 位相シフトマスクの検査方法およびその方法に用いる検査装置 |
JPH09311108A (ja) | 1996-05-24 | 1997-12-02 | Nikon Corp | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
US6175645B1 (en) * | 1998-01-22 | 2001-01-16 | Applied Materials, Inc. | Optical inspection method and apparatus |
US6879390B1 (en) * | 2000-08-10 | 2005-04-12 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Multiple beam inspection apparatus and method |
JP4041854B2 (ja) * | 2002-04-05 | 2008-02-06 | レーザーテック株式会社 | 撮像装置及びフォトマスクの欠陥検査装置 |
US6850321B1 (en) * | 2002-07-09 | 2005-02-01 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Dual stage defect region identification and defect detection method and apparatus |
JP4220287B2 (ja) | 2003-03-31 | 2009-02-04 | 株式会社東芝 | パターン欠陥検査装置 |
JP2004354088A (ja) | 2003-05-27 | 2004-12-16 | Toshiba Corp | 検査装置及びマスク製造方法 |
JP2006014133A (ja) | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Lasertec Corp | 撮像装置及び撮像方法 |
JP4025859B2 (ja) | 2004-09-03 | 2007-12-26 | レーザーテック株式会社 | 検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法 |
JP4185037B2 (ja) | 2004-10-14 | 2008-11-19 | 株式会社東芝 | 欠陥検査装置 |
JP4285613B2 (ja) | 2007-06-28 | 2009-06-24 | レーザーテック株式会社 | 検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法 |
-
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-
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012052991A (ja) * | 2010-09-03 | 2012-03-15 | Topcon Corp | 検査装置 |
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