KR20110027979A - 마스크 불량 검사 장치 - Google Patents

마스크 불량 검사 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20110027979A
KR20110027979A KR1020090085852A KR20090085852A KR20110027979A KR 20110027979 A KR20110027979 A KR 20110027979A KR 1020090085852 A KR1020090085852 A KR 1020090085852A KR 20090085852 A KR20090085852 A KR 20090085852A KR 20110027979 A KR20110027979 A KR 20110027979A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
metal mask
unit
support
tension
mask
Prior art date
Application number
KR1020090085852A
Other languages
English (en)
Inventor
박시영
Original Assignee
삼성모바일디스플레이주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성모바일디스플레이주식회사 filed Critical 삼성모바일디스플레이주식회사
Priority to KR1020090085852A priority Critical patent/KR20110027979A/ko
Priority to US12/762,555 priority patent/US8505389B2/en
Priority to TW099114342A priority patent/TWI420235B/zh
Priority to JP2010129098A priority patent/JP5057491B2/ja
Priority to CN2010102122861A priority patent/CN102023162A/zh
Priority to EP10176043.7A priority patent/EP2296038B1/en
Publication of KR20110027979A publication Critical patent/KR20110027979A/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/20—Masks or mask blanks for imaging by charged particle beam [CPB] radiation, e.g. by electron beam; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84—Inspecting

Abstract

본 발명은 마스크 불량 검사 장치에 관한 것으로서, 본 발명의 실시예에 따른 마스크 불량 검사 장치는 검사 대상인 메탈 마스크가 놓여지는 지지대와 상기 지지대의 양 옆에 배치되어 상기 메탈 마스크의 양측 가장자리를 고정하는 클램프부와 상기 클램프부에 의해 고정된 상기 메탈 마스크에 인장력을 가하는 텐션부를 포함하는 인장 지그 유닛 및 상기 인장 지그 유닛에 의해 고정된 메탈 마스크를 검사하는 검사 유닛을 포함하며, 상기 지지대 위에 놓인 상기 메탈 마스크와 상기 검사 유닛 간의 수직 방향 거리는 상기 클램프부 및 상기 텐션부와 상기 검사 유닛 간의 수직 방향 거리와 같거나 짧게 형성된다.
메탈 마스크, 인장 지그 유닛, 검사 유닛, 마스크 불량 검사 장치

Description

마스크 불량 검사 장치 {MASK DEFECT TESTING APPARATUS}
본 발명은 마스크 불량 검사 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 표시 패널 제조 공정에 사용되는 마스크의 불량 유무를 검사하는 마스크 불량 검사 장치에 관한 것이다.
표시 패널 제조 공정에는 다양한 종류의 마스크들이 사용되고 있다. 그 중에 메탈 마스크(metal mask)는 정밀한 공정에 사용된다. 따라서 메탈 마스크에 미세한 이물이 부착되거나 패턴이 손상되는 등의 불량이 발생되면, 해당 메탈 마스크를 사용하는 제조 공정 전체에 큰 손실을 야기할 수 있다.
따라서, 메탈 마스크는 사용전 또는 사용후 정기적으로 불량 유무를 검사할 필요가 있다. 메탈 마스크의 불량 유무를 검사 방법으로는 검사하고자 하는 메탈 마스크를 지그에 고정시킨 후, 검사용 카메라로 고정된 메탈 마스크의 불량 여부를 검사하는 방법이 있다. 이때, 카메라가 검사하고자 하는 메탈 마스크에 가까이 다가갈수록 패턴의 손상 여부 및 이물의 검출 능력이 향상된다.
하지만, 메탈 마스크의 가장자리를 고정하는 지그의 클램프 등이 일반적으로 위로 돌출된 구조를 가지므로, 검사를 위한 카메라는 지그와 충돌하지 않는 범위 내에서 지그에 고정된 메탈 마스크에게 다가갈 수 있다. 즉, 메탈 마스크를 고정시키는 지그의 구조로 인하여, 카메라가 검사를 위해 메탈 마스크에 가까이 다가가거나 메탈 마스크의 가장자리 부분을 검사하는데 한계가 있었다. 따라서, 메탈 마스크의 불량 유무를 정밀하고 안정적으로 검사하지 못하는 문제점이 있다.
본 발명은 전술한 배경기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 메탈 마스크의 불량 유무를 정밀하고 안정적으로 검사할 수 있는 마스크 불량 검사 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 실시예에 따른 마스크 불량 검사 장치는 검사 대상인 메탈 마스크(metal mask)놓여지는 지지대와 상기 지지대의 양 옆에 배치되어 상기 메탈 마스크의 양측 가장자리를 고정하는 클램프(clamp)부와 상기 클램프부에 의해 고정된 상기 메탈 마스크에 인장력을 가하는 텐션(tesion)부를 포함하는 인장 지그 유닛(jig unit) 및 상기 인장 지그 유닛에 의해 고정된 메탈 마스크를 검사하는 검사 유닛을 포함하며, 상기 지지대 위에 놓인 상기 메탈 마스크와 상기 검사 유닛 간의 수직 방향 거리는 상기 클램프부 및 상기 텐션부와 상기 검사 유닛 간의 수직 방향 거리와 같거나 짧게 형성된다.
상기 지지대에 놓여진 상기 메탈 마스크는 상기 지지대의 가장자리에서 기설정된 각도로 꺾어져 상기 클렘프부에 고정될 수 있다.
상기 기설정된 각도는 10도 내지 30도 범위 내에 속할 수 있다.
상기 메탈 마스크가 놓여진 상기 지지대의 표면에 대해 상기 메탈 마스크의 가장자리를 고정하는 상기 클램프부의 고정면은 소정의 경사각을 가질 수 있다.
상기 소정의 경사각은 10도 내지 30도 범위 내에 속할 수 있다.
상기 텐션부는 상기 클램프부를 잡아당겨 상기 메탈 마스크에 인장력을 가할 수 있다.
상기 검사 유닛 및 상기 인장 지그 유닛 중 어느 하나를 다른 하나에 대해 평행한 방향으로 이송시키는 이송 유닛을 더 포함할 수 있다.
상기한 마스크 불량 장치에 있어서, 상기 검사 유닛은 상기 지지대 위에 놓여진 상기 메탈 마스크의 불량 유무를 검출하기 위한 카메라부와, 상기 카메라부의 주변에 배치된 조명부를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 마스크 불량 검사 장치는 메탈 마스크의 불량 유무를 정밀하고 안정적으로 검사할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.
또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
이하, 도 1 내지 도 4를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 불량 검사 장치(100)를 설명한다.
도 1에 도시한 바와 같이, 마스크 불량 검사 장치(100)는 인장 지그 유닛(jig unit)(30)과 검사 유닛(20)을 포함한다. 그리고 마스크 불량 검사 장치(100)는 인장 지그 유닛(30)이 장착되는 베이스 부재(50)를 더 포함할 수 있다.
도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 인장 지그 유닛(30)은 지지대(31), 클램프(clamp)부(32), 및 텐션(tension)부(33)를 포함한다. 지지대(31) 위에는 검사 대상인 메탈 마스크(metal mask)(MM)가 놓여진다. 클램프부(32)는 지지대(31)의 양 옆에 배치되어 지지대(31) 위에 놓여진 메탈 마스크(MM)의 양측 가장자리를 고정한다. 텐션부(33)는 메탈 마스크(MM)의 양측을 고정하는 한 쌍의 클램프부(32) 중 어느 하나를 잡아당겨 클램프부(32)에 의해 고정된 메탈 마스크(MM)에 인장력을 가한다. 즉, 클램프부(32)와 텐션부(33)는 검사 대상인 메탈 마스크(MM)를 지지대(31) 위에 팽팽한 상태로 고정시켜 검사 유닛(20)이 메탈 마스크(MM)를 효과적으로 검사할 수 있게 한다.
다시 도 1을 참조하여 설명하면, 검사 유닛(20)은 카메라부(22)와 주명부(21)를 포함한다. 카메라부(22)는 인장 지그 유닛(30)의 지지대(31) 바로 위에 놓여진 메탈 마스크(MM)의 불량 유무를 검출한다. 조명부(21)는 카메라부(22) 주변에 배치되어 카메라부(22)가 메탈 마스크(MM)의 불량 유무를 더욱 정밀하게 검사할 수 있도록 메탈 마스크(MM)에 빛을 조사한다. 여기서, 조명부(21)는 경우에 따라 생략될 수도 있다.
검사 유닛(20)은 카메라(22)를 통해 메탈 마스크(MM)에 미세한 이물이 부착되었거나 패턴이 손상되었는지 등의 불량 유무를 검사한다. 따라서, 카메라(22)가 검사 대상인 메탈 마스크(MM)에 접근할수록 더욱 정밀한 검사가 이루어질 수 있다.
또한, 마스크 불량 검사 장치(100)는 검사 유닛(20)을 인장 지그 유닛(30)에 대해 평행한 방향으로 이송시키는 이송 유닛(60)을 더 포함한다. 그러나 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 이송 유닛(60)은 검사 유닛(20)이 아닌 인장 지그 유닛(30)을 검사 유닛(20)에 대해 평행한 방향으로 이송시킬 수도 있다.
또한, 인장 지그 유닛(30)의 지지대(31) 바로 위에 놓인 메탈 마스크(MM)와 검사 유닛(20) 간의 수직 방향 거리(d1)는 인장 지그 유닛(30)의 클램프부(32) 및 텐션부(33)와 검사 유닛(20) 간의 수직 방향 거리(d2)와 같거나 짧게 형성된다. 즉, 클램프부(32) 및 텐션부(33)는 지지대(31) 바로 위에 놓인 메탈 마스크(MM)보다 검사 유닛(20)으로부터 수직 방향으로 같거나 더 멀리 떨어지도록 배치된다.
따라서, 검사 유닛(20)이 메탈 마스크(MM)를 정밀하게 관찰하기 위해 메탈 마스크(MM)에 최대한 가까이 접근하여도 메탈 마스크(MM)를 고정하는 클램프부(32) 및 텐션부(33)와 충돌하는 일 없이 메탈 마스크(MM)의 가장자리까지 안정적으로 관찰하여 불량 유무를 검사할 수 있다.
도 4를 참조하여, 인장 지그 유닛(30)의 클램프부(32) 및 텐션부(33)가 지지대(31) 바로 위에 놓인 메탈 마스크(MM)와 같거나 낮은 높이에 위치하면서 메탈 마스크(MM)를 안정적으로 고정하기 위해 갖는 인장 지그 유닛(30)의 구조를 구체적으로 설명한다. 또한, 본 발명의 일 실시예서는, 텐션부(33)가 클램프부(32)보다 아래에 위치하므로, 클램프부(32)를 기준으로 설명한다.
도 4에 도시한 바와 같이, 지지대(31) 바로 위에 놓여진 메탈 마스크(MM)는 지지대(31)의 가장자리에서 기설정된 각도로 꺾어져 클램프부(32)에 고정된다. 이때, 기설정된 각도(θ)는 10도 내지 30도 범위 내에 속한다.
메탈 마스크(MM)가 지지대(31)의 가장자리에서 꺾이는 각도(θ)가 10도 보다 작으면, 클램프부(32)의 높이를 지지대(31) 바로 위에 놓여진 메탈 마스크(MM)와 같거나 낮은 높이에 위치하게 하기 어렵다. 반면, 메탈 마스크(MM)가 지지대(31)의 가장자리에서 꺾이는 각도(θ)가 30도 보다 크면, 텐션부(33)(도 2에 도시)가 메탈 마스크(MM)에 가하는 인정력으로 인해 메탈 마스크(MM)의 꺾어진 부분이 변형되거나 손상될 수 있다. 또한, 메탈 마스크(MM)가 지지대(31)의 가장자리에서 꺾 이는 각도(θ)가 30도 보다 크면, 지지대(31)의 중앙 부분 위에 놓여진 메탈 마스크(MM)가 들떠 검사 유닛(20)이 메탈 마스크(MM)를 정밀하게 검사하지 못하게 된다.
또한, 메탈 마스크(MM)가 놓여진 지지대(31)의 표면(315)에 대해 메탈 마스크(MM)의 가장자리를 고정하는 클램프부(32)의 고정면(325)은 소정의 경사각을 두고 형성된다. 여기서, 소정의 경사각은, 전술한 기설정된 각도(θ)와 마찬가지로, 10 내지 30도 범위 내에 속한다.
따라서, 클램프부(32)가 지지대(31) 바로 위에 놓여진 메탈 마스크(MM)와 같거나 낮은 높이를 가지면서도 메탈 마스크(MM)는 한번의 꺾임만으로 안정적으로 고정될 수 있다.
이와 같은 구성에 의하여, 마스크 불량 검사 장치(100)는 메탈 마스크(MM)의 불량 유무를 더욱 정밀하고 안정적으로 검사할 수 있다.
본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 검사 장치의 정면도이다.
도 2는 도 1의 인장 지그 유닛의 정면도이다.
도 3은 도 1의 인장 지그 유닛의 부분 평면도이다.
도 4는 도 1의 인장 지그 유닛의 부분 확대도이다.

Claims (8)

  1. 검사 대상인 메탈 마스크(metal mask)놓여지는 지지대와, 상기 지지대의 양 옆에 배치되어 상기 메탈 마스크의 양측 가장자리를 고정하는 클램프(clamp)부와, 상기 클램프부에 의해 고정된 상기 메탈 마스크에 인장력을 가하는 텐션(tesion)부를 포함하는 인장 지그 유닛(jig unit); 및
    상기 인장 지그 유닛에 의해 고정된 메탈 마스크를 검사하는 검사 유닛
    을 포함하며,
    상기 지지대 위에 놓인 상기 메탈 마스크와 상기 검사 유닛 간의 수직 방향 거리는 상기 클램프부 및 상기 텐션부와 상기 검사 유닛 간의 수직 방향 거리와 같거나 짧게 형성된 마스크 불량 검사 장치.
  2. 제1항에서,
    상기 지지대에 놓여진 상기 메탈 마스크는 상기 지지대의 가장자리에서 기설정된 각도로 꺾어져 상기 클렘프부에 고정되는 마스크 불량 검사 장치.
  3. 제2항에서,
    상기 기설정된 각도는 10도 내지 30도 범위 내에 속하는 마스크 불량 검사 장치.
  4. 제1항에서,
    상기 메탈 마스크가 놓여진 상기 지지대의 표면에 대해 상기 메탈 마스크의 가장자리를 고정하는 상기 클램프부의 고정면은 소정의 경사각을 갖는 마스크 불량 검사 장치.
  5. 제4항에서,
    상기 소정의 경사각은 10도 내지 30도 범위 내에 속하는 마스크 불량 검사 장치.
  6. 제1항에서,
    상기 텐션부는 상기 클램프부를 잡아당겨 상기 메탈 마스크에 인장력을 가하는 마스크 불량 검사 장치.
  7. 제1항에서,
    상기 검사 유닛 및 상기 인장 지그 유닛 중 어느 하나를 다른 하나에 대해 평행한 방향으로 이송시키는 이송 유닛을 더 포함하는 마스크 불량 검사 장치.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에서,
    상기 검사 유닛은 상기 지지대 위에 놓여진 상기 메탈 마스크의 불량 유무를 검출하기 위한 카메라부와, 상기 카메라부의 주변에 배치된 조명부를 포함하는 마 스크 불량 검사 장치.
KR1020090085852A 2009-09-11 2009-09-11 마스크 불량 검사 장치 KR20110027979A (ko)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090085852A KR20110027979A (ko) 2009-09-11 2009-09-11 마스크 불량 검사 장치
US12/762,555 US8505389B2 (en) 2009-09-11 2010-04-19 Mask defect testing apparatus
TW099114342A TWI420235B (zh) 2009-09-11 2010-05-05 光罩缺陷檢驗器械
JP2010129098A JP5057491B2 (ja) 2009-09-11 2010-06-04 マスク不良検査装置
CN2010102122861A CN102023162A (zh) 2009-09-11 2010-06-22 掩膜缺陷检测装置
EP10176043.7A EP2296038B1 (en) 2009-09-11 2010-09-09 Mask defect testing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090085852A KR20110027979A (ko) 2009-09-11 2009-09-11 마스크 불량 검사 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20110027979A true KR20110027979A (ko) 2011-03-17

Family

ID=43332986

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090085852A KR20110027979A (ko) 2009-09-11 2009-09-11 마스크 불량 검사 장치

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8505389B2 (ko)
EP (1) EP2296038B1 (ko)
JP (1) JP5057491B2 (ko)
KR (1) KR20110027979A (ko)
CN (1) CN102023162A (ko)
TW (1) TWI420235B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011056782A1 (de) 2011-03-29 2012-10-04 Hyundai Motor Company Ansaugkrümmermodul zum verhindern von kraftstoffleckage eines fahrzeugs und herstellungsverfahren desselben

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103206924A (zh) * 2012-01-11 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 金属掩模板面形测量系统及其测量方法
JP6146638B2 (ja) * 2012-11-05 2017-06-14 大日本印刷株式会社 金属薄板の寸法測定装置及び金属薄板の寸法測定方法
JP6016103B2 (ja) * 2012-11-13 2016-10-26 大日本印刷株式会社 金属薄板の寸法測定装置及び金属薄板の寸法測定方法
JP6193028B2 (ja) * 2013-07-12 2017-09-06 新東エスプレシジョン株式会社 検査装置
US9518935B2 (en) * 2013-07-29 2016-12-13 Kla-Tencor Corporation Monitoring changes in photomask defectivity
CN105489517B (zh) * 2014-09-15 2018-07-31 上海和辉光电有限公司 一种检测掩模缺陷的方法
CN105093820A (zh) * 2015-09-01 2015-11-25 武汉华星光电技术有限公司 光罩检查机和光罩检查方法
JP6399119B2 (ja) * 2017-02-14 2018-10-03 大日本印刷株式会社 金属薄板の寸法測定装置及び金属薄板の寸法測定方法
CN107245694B (zh) * 2017-06-09 2019-05-31 京东方科技集团股份有限公司 张网装置、基台、夹具及掩膜板的夹持方法
CN109643055A (zh) * 2017-07-31 2019-04-16 深圳市柔宇科技有限公司 金属掩膜板缺陷的判断方法和制造设备
CN108844480A (zh) * 2018-07-03 2018-11-20 上海帆声图像科技有限公司 用于多层光传导介质下的膜材形变识别系统
CN109099851A (zh) * 2018-07-03 2018-12-28 上海帆声图像科技有限公司 多层光传导介质下的膜材形变识别及检验设备
CN109540668B (zh) * 2018-11-22 2022-02-08 京东方科技集团股份有限公司 拉力施加装置及掩膜条的抵抗力确定方法
CN112648920B (zh) * 2019-10-12 2022-05-24 上海微电子装备（集团）股份有限公司 掩模开口尺寸测量方法、掩模版拉伸装置以及张网机
CN110609044B (zh) * 2019-10-29 2021-11-09 山东瑞谱检测技术有限公司 一种用于膜片结构安装时的品质检查装置
KR102304697B1 (ko) * 2020-05-27 2021-09-24 (주)엠시스 메탈 마스크 검사 장치
CN111982811B (zh) * 2020-07-20 2024-03-08 湖北光安伦芯片有限公司 一种芯片检测系统和芯片检测方法
CN112122164B (zh) * 2020-08-28 2022-04-26 阜阳恒泰纺织有限公司 一种防毒口罩生产装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3227434A1 (de) * 1982-07-22 1984-01-26 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Spannvorrichtung fuer duenne folien, z.b. aus metall oder kunststoff
JPH032290U (ko) * 1989-05-30 1991-01-10
GB2264460B (en) * 1992-06-03 1994-02-16 David Godfrey Williams Improved stencil or mask for applying solder to circuit boards and support frame
JP3002290U (ja) 1994-03-23 1994-09-20 日本無線株式会社 メタルマスク保持機構
JP2000030610A (ja) * 1998-07-13 2000-01-28 Toppan Printing Co Ltd シャドウマスクの検査用治具およびそれを用いた検査方法
JP2000173464A (ja) 1998-12-10 2000-06-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd シャドウマスクの検査装置
JP2002140989A (ja) 2000-10-31 2002-05-17 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 金属薄板の検査装置
JP2004037134A (ja) 2002-07-01 2004-02-05 Nec Corp メタルマスク検査方法及びメタルマスク検査装置
US6729927B2 (en) * 2002-08-01 2004-05-04 Eastman Kodak Company Method and apparatus for making a shadow mask array
KR100526035B1 (ko) 2003-05-07 2005-11-08 홍성국 메탈 마스크 검사 장치 및 그의 검사 방법
KR100942841B1 (ko) * 2003-06-02 2010-02-18 엘지디스플레이 주식회사 액정표시소자의 검사 방법 및 장치와 리페어방법 및 장치
JP3580550B1 (ja) 2003-08-20 2004-10-27 レーザーテック株式会社 パターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法
JP4562488B2 (ja) * 2004-10-15 2010-10-13 大日本印刷株式会社 メタルマスク位置アラインメント方法及び装置
JP4510609B2 (ja) 2004-12-21 2010-07-28 株式会社アルバック 基板とマスクのアライメント方法および有機薄膜蒸着方法ならびにアライメント装置
JP2006249542A (ja) * 2005-03-14 2006-09-21 Dainippon Printing Co Ltd 基準位置指示装置及びメタルマスク位置アラインメント装置
JP4587851B2 (ja) 2005-03-17 2010-11-24 大日本印刷株式会社 メタルマスクセット方法
JP2006265712A (ja) 2005-03-25 2006-10-05 Dainippon Printing Co Ltd 基準位置指示装置及びメタルマスク位置アラインメント装置
JP5026429B2 (ja) * 2006-09-14 2012-09-12 パナソニック株式会社 金属識別装置及び金属識別方法
JP4224863B2 (ja) 2007-02-02 2009-02-18 レーザーテック株式会社 検査装置及び検査方法、並びにパターン基板の製造方法
JP2008249921A (ja) 2007-03-30 2008-10-16 Advanced Mask Inspection Technology Kk レチクル欠陥検査装置およびレチクル欠陥検査方法
JP5325406B2 (ja) 2007-10-10 2013-10-23 オリンパス株式会社 基板検査装置
JP5310982B2 (ja) 2007-11-26 2013-10-09 凸版印刷株式会社 メタルマスク用保持具

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011056782A1 (de) 2011-03-29 2012-10-04 Hyundai Motor Company Ansaugkrümmermodul zum verhindern von kraftstoffleckage eines fahrzeugs und herstellungsverfahren desselben

Also Published As

Publication number Publication date
EP2296038A1 (en) 2011-03-16
US8505389B2 (en) 2013-08-13
TW201109830A (en) 2011-03-16
CN102023162A (zh) 2011-04-20
JP5057491B2 (ja) 2012-10-24
EP2296038B1 (en) 2017-07-19
TWI420235B (zh) 2013-12-21
JP2011059098A (ja) 2011-03-24
US20110061468A1 (en) 2011-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20110027979A (ko) 마스크 불량 검사 장치
TWI498542B (zh) 光學檢測裝置
KR20160033832A (ko) 표시장치의 테스트 장치 및 그 장치를 이용한 테스트 방법
TWI335635B (en) Repair apparatus for substrate circuit of flat display panel
JP2010156684A (ja) アレイテスト装置と、該アレイテスト装置の基板一地点位置測定方法と、カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法
KR20130078721A (ko) 평판 디스플레이 패널 검사 장치 및 방법
US9568303B2 (en) Device and method for inspecting a sealing member
JP2015017930A (ja) 検査装置
KR20200068117A (ko) 검사 장치 및 이의 구동 방법
KR20070035783A (ko) 인쇄회로기판 자동 검사장비
KR20160117815A (ko) 광학 검사 장치
KR101042885B1 (ko) 시트 필름 검사용 정렬장치
WO2018030603A1 (ko) 광학 필름의 결함 검사 방법 및 장치
KR100781605B1 (ko) 평판 디스플레이 패널 검사장치에 구비되는 패널 고정용클램프
JP4560578B1 (ja) 液晶パネル点灯検査装置
TW200804796A (en) Method of inspecting a pattern defect, substrate, having a test pattern for inspecting a pattern defect, apparatus for inspecting a pattern defect, method of producing a photomask, and method of producing a substrate for a display device
JP6035168B2 (ja) 基板検査装置
KR20140139929A (ko) 표시 패널의 검사 장치 및 검사 방법
TWI807567B (zh) 多功能標準校正片及光學檢測設備的檢測方法
CN104155192B (zh) 导光板扭力测试方法
KR102147128B1 (ko) 기판 검사 장치
KR102147130B1 (ko) 기판 검사 장치
JP2013137257A (ja) 基板検査装置および基板検査方法
JP2001280940A (ja) ワーク表面検査装置
KR20080053052A (ko) 액정표시소자의 검사장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application