JP2010156684A - アレイテスト装置と、該アレイテスト装置の基板一地点位置測定方法と、カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法 - Google Patents

アレイテスト装置と、該アレイテスト装置の基板一地点位置測定方法と、カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010156684A
JP2010156684A JP2009277911A JP2009277911A JP2010156684A JP 2010156684 A JP2010156684 A JP 2010156684A JP 2009277911 A JP2009277911 A JP 2009277911A JP 2009277911 A JP2009277911 A JP 2009277911A JP 2010156684 A JP2010156684 A JP 2010156684A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
camera
pixel
distance
substrate
mark
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009277911A
Other languages
English (en)
Inventor
Yong Kyu Seo
容珪 徐
Moon Jun Jang
文柱 張
Do Hyun Ryu
道鉉 柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Top Engineering Co Ltd
Original Assignee
Top Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Top Engineering Co Ltd filed Critical Top Engineering Co Ltd
Publication of JP2010156684A publication Critical patent/JP2010156684A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/302Contactless testing
    • G01R31/308Contactless testing using non-ionising electromagnetic radiation, e.g. optical radiation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/282Testing of electronic circuits specially adapted for particular applications not provided for elsewhere
    • G01R31/2825Testing of electronic circuits specially adapted for particular applications not provided for elsewhere in household appliances or professional audio/video equipment
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2832Specific tests of electronic circuits not provided for elsewhere
    • G01R31/2836Fault-finding or characterising
    • G01R31/2837Characterising or performance testing, e.g. of frequency response

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Testing Electric Properties And Detecting Electric Faults (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

【課題】本発明は、アレイテスト装置と、アレイテスト装置の基板一地点位置測定方法と、カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法を提供する。
【解決手段】本発明のアレイテスト装置は、テストされる基板を支持するテスト部を備える。少なくとも一つのモジュレータヘッドは、テスト部上に隣接配置され少なくともテスト部に位置した基板の不良位置を検出する。モジュレータヘッドは、固定ブロックを備える。カメラアセンブリーは、基準カメラ及び隣接カメラが一定に配されるように、固定ブロックに結合される。座標測定用モジュレータブロックは、固定ブロックに分離可能に結合され、カメラアセンブリと基板との間に位置し、カメラアセンブリを成すカメラの焦点距離に合わせて配された位置表示部材を備える。位置表示部材は、基準カメラによって撮像される基準位置マーク及び隣接カメラに撮像される少なくとも一つの対応位置マークが形成される。
【選択図】図1

Description

本発明は、アレイテスト装置と、該アレイテスト装置の基板一地点位置測定方法と、カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法とに関し、より詳細には、複数のカメラとして基板に形成された電極の電気的欠陥の有無を検査するアレイテスト装置と、該アレイテスト装置の基板一地点位置測定方法と、複数のカメラを備えたカメラアセンブリーで撮像されたピクセルの位置座標を測定する方法とに関する。
電光機器とは、電気エネルギーを供給されて光を発する装置であって、LCD(Liquid Crystal Display)、PDP(Plasma Display Panel)などの平板ディスプレイ装置を含む概念である。
前記電光機器は、通常、電極が形成された基板を備える。例えば、TFT(Thin Film Transister)LCD基板は、TFT基板と、カラーフィルター及び共通電極が形成されて、前記TFT基板と対向配置されたカラー基板と、前記TFT基板とカラー基板との間に注入された液晶及びバックライトとを備える。
前記基板上に形成された電極の欠陷は、アレイテスト装置(array tester)によって検査される。前記アレイテスト装置は、少なくとも一つのモジュレーターヘッドを備える。モジュレーターヘッドは、少なくとも一方向に移送されながら基板電極の不良位置を探すものであって、モジュレーターブロックと、カメラとを備える。
前記モジュレーターブロックは、前記基板電極との間に電場を形成させるためのモジュレーター電極と、前記電場の大きさによって物性が変わる物性変化部とを備える。前記モジュレーターブロックは、基板の一部分に対してアレイテストを実施後に、隣接する次のテスト位置に移動して、前記アレイテストを反復する。
カメラは、前記モジュレーターブロックの前記基板の反対側に配されて、前記モジュレーターブロック及び基板を撮影する。前記物性変化部で物性が変化するにつれて基板電極のうち不良のある地点がカメラに撮影されたピクセルは、他のピクセルと差がある。これにより、前記カメラのピクセルの位置座標値で不良電極の位置を探す。
ところが、モジュレーターヘッドごとに単一カメラが設置される。これにより、前記カメラのFOV(Field of View)の大きさは限界がある。
特に、ディスプレイのサイズが大型化されるにつれて、前記ディスプレイの基板電極の良否を迅速に検出するためには、次第に大面積のFOVを有したカメラを必要とするが、これは現実的に不可能である。
同様に、前記カメラのサイズが増加するほど、大きな駆動電力が必要となり、カメラのコストも幾何級数的に多くかかる。
本発明は、一回に撮影されるFOVが、ディスプレイのサイズに合わせて、制御可能な構造を有すると同時に、大きな駆動電圧が不要で製造コストが低減されるアレイテスト装置を提供することを目的とする。
同様に、前記アレイテスト装置で、不良基板電極の位置を迅速で正確に把握することができるアレイテスト装置の基板一地点位置測定方法を提供することを目的とする。
また、本発明の他の目的は、カメラアセンブリーに備えられた複数のカメラで同時に撮影対象物を撮影する場合、撮影対象物の一地点の位置を正確で迅速に把握することができるカメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法を提供することである。
本発明の実施形態によるアレイテスト装置は、テストされる基板を支持するテスト部と、前記テスト部の上に隣接して配されて、少なくとも前記テスト部に位置した基板の不良位置を検出する少なくとも一つのモジュレーターヘッドと、を含む。
そして、前記モジュレーターヘッドは、固定ブロックと、基準カメラ及び少なくとも一つの隣接カメラが一定に配されるように、前記固定ブロックに結合されたカメラアセンブリーと、前記固定ブロックに分離可能に結合されたものであって、前記カメラアセンブリーと前記基板との間に位置し、前記カメラアセンブリーを成すカメラの焦点距離に合わせて配された位置表示部材を備える座標測定用モジュレーターブロックと、を備える。前記位置表示部材は、前記基準カメラによって撮像される基準位置マーク及び前記隣接カメラのそれぞれに撮像される少なくとも一つの対応位置マークが形成される。
本発明の他の側面で、前記のような構造を有したアレイテスト装置に適用可能な基板一地点位置測定方法であって、前記隣接カメラ上のピクセルのそれぞれの位置座標を前記基準カメラの基準ピクセルを基準に求める段階と、前記基板の既定の基準点を基準にした前記基準カメラの基準ピクセルの位置座標値及び前記基準ピクセルを基準にした前記基板の一地点を撮像したピクセルの位置座標値を加算する段階と、を含む。
本発明のまた他の側面での望ましい実施形態によるカメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法は、基準カメラ及び少なくとも一つの隣接カメラを含み、少なくとも水平移動可能なカメラアセンブリーを備えた装備で、前記隣接カメラの特定ピクセルに撮像された位置を測定する方法であって、前記基準カメラに撮像される基準位置マーク及び前記隣接カメラに撮像され、前記基準位置マークと第1軸の正方向に実際隔離距離ほど離隔した対応位置マークとを配置させる段階と、前記基準、対応位置マークを前記基準、対応カメラでそれぞれ撮像する段階と、前記基準カメラのFOV及び隣接カメラのFOVが正確にかみ合う場合の前記基準、対応位置マーク撮像ピクセル間の距離である基準隔離距離を求める段階と、前記基準、対応位置マーク間の実際隔離距離及び基準隔離距離を用いて、前記離隔カメラの特定ピクセル位置座標を前記基準カメラの基準ピクセルを基準に求める段階と、を含む。
本発明によれば、複数のカメラが同時に基板上を撮影することによって、一回に撮影される領域が広くなると同時に、それぞれのカメラを駆動させる駆動電圧が低くなり、カメラのコストが低減される。
また、基板の特定基準点を基準に基準カメラの基準ピクセルの位置座標のみティーチングすれば、隣接カメラのそれぞれのピクセルの位置座標を求めることができるので、特定位置の測定時間が短縮される。
また、基板の特定基準点を基準に隣接カメラの特定ピクセルを別途にティーチングする必要がないので、前記ティーチングによる誤差が減って、特定位置を正確に求めることができる。
本発明の望ましい実施形態によるアレイテスト装置を概略的に示した斜視図である。 図1のカメラアセンブリーのFOVを示した背面図である。 カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法の各段階を示した概念図であって、基準カメラ基準位置マーク撮像ピクセルと隣接カメラの対応位置マーク撮像ピクセルとの間の実際隔離距離を求める段階を示した図である。 カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法の各段階を示した概念図であって、基準位置マーク撮像ピクセルと対応位置マーク撮像ピクセルとの間の基準隔離距離を求める段階を示した図である。 カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法の各段階を示した概念図であって、基準隔離距離及び実際隔離距離の間の差を求めて、第1オフセット値を求める段階を示した図である。 カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法の各段階を示した概念図であって、基準カメラと離隔カメラとの間の第2オフセット値を求める段階を示した図である。 カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法の各段階を示した概念図であって、基準カメラの基準ピクセルを基準に離隔カメラの特定位置ピクセルの位置座標値を求める段階を示した図である。 カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法の各段階を示した概念図であって、基板の基準点を基準に離隔カメラの特定位置ピクセルの位置座標値を求める段階を示した図である。 隣接カメラが複数個である場合のオフセット値を求める段階を示した図である。
以下、添付した図面を参照して、本発明の実施形態を詳しく説明する。
図1は、本発明の望ましい実施形態によるアレイテスト装置の一例を概略的に示した斜視図である。この場合、アレイテスト装置10とは、基板2に形成された基板電極の電気的欠陷をテストする装備である。
前記基板2は、平板ディスプレイパネルに備えられた一つのパネルであり、例えば、TFT LCD基板でTFTが形成されたTFTパネルであり得る。
アレイテスト装置10は、テストモジュール50と、ローディング部20と、テスト部30と、アンローディング部40とを備えることができる。
ローディング部20は、少なくとも二つ以上のローディングプレート22を備えることができる。前記ローディングプレート22は、互いに遊隙を有して平行に配され、テストされる基板が支持される。前記基板2は、基板チャック70によって支持されてテスト部30に移送されることができる。
テスト部30は、前記ローディング部20の一側に配され、ここで、前記ローディングプレート22に沿って移送された基板2の電気的欠陷がテストされる。前記テスト部30は、前記基板が載置されるテスト用ステージ32と、前記基板2の基板電圧に電圧を印加するための電圧印加部38とを備えることができる。
テストモジュール50は、前記テスト部30の上側、または下側、あるいは上側及び下側に共に配されて、前記テスト用ステージ32上に配された基板電極のエラー有無を検出する。
前記テストモジュール50は、少なくとも一つ以上のモジュレーターヘッド100を備える。
前記モジュレーターヘッド100は、少なくとも一軸方向に水平移動可能に配され、固定ブロック110と、カメラアセンブリー120と、座標測定用モジュレーターブロック130とを備える。
固定ブロック110は、前記テスト部30を横切る方向に配されたガントリー60のガイドに沿って水平移動可能に結合される。
カメラアセンブリー120は、基準カメラ121及び少なくとも一つの隣接カメラ123からなる複数のカメラを備える。前記カメラアセンブリー120は、全体的に長方形、正方形などに配列される。アレイテスト作業時に、前記カメラアセンブリーに備えられたカメラは、同時に基板2上を撮影する。したがって、前記カメラアセンブリーに備えられたカメラの数に比例して一回に撮影される区間が広くなり、テスト時間が短縮される。また、それぞれのカメラのサイズが大きくないので、これを駆動する駆動電力が大きくない。
座標測定用モジュレーターブロック130は、前記固定ブロック110に分離可能に結合されたものであって、実際アレイテスト作業前に、前記隣接カメラ123のそれぞれのピクセル位置座標を前記基準カメラ121の基準ピクセルを基準に求める。すなわち、隣接カメラ123のそれぞれのピクセル位置座標を前記隣接カメラ123ごとの基準ピクセルを基準に求めるのではなく、基準カメラの基準ピクセル一つのみを基準に求めることができるによって、基板と基準ピクセルとの間の位置をティーチングすれば、前記それぞれのピクセルに対応する位置座標を迅速に求めるようになる。
前記座標測定用モジュレーターブロック130は、前記カメラの焦点距離に合わせて配された位置表示部材140を備える。
図2は、前記位置表示部材140を下側から示した背面図である。図2に示されるように、前記位置表示部材140には、前記基準カメラのFOV(F121)内に撮像される基準位置マーク141及び前記隣接カメラのそれぞれのFOV(F123)内に撮像される対応位置マーク143が一定の間隔G1、G2を有して形成される。
また、前記位置表示部材140には、それぞれ前記基準カメラ及びそれぞれの隣接カメラのFOV(F121)内に撮像されるものであって、前記それぞれの位置マーク141、143と一定の間隔kを有して離隔配された複数の長さマーク145が形成される。前記基準位置マーク141、対応位置マーク143、及び長さマーク145の機能については後述する。
再び図1に戻って、前記カメラアセンブリー120を成すカメラ121、123のそれぞれのピクセルの位置座標を前記基準カメラ121の基準ピクセルを基準に求めた後には、前記座標測定用モジュレーターブロック130を固定ブロック110から分離し、未図示されたテスト用モジュレーターブロックを前記固定ブロックに結合させてアレイテスト作業を行う。
前記テスト用モジュレーターブロックは、前記固定ブロックに昇降自在に結合されたものであって、前記基板電極との間に電場を形成し、前記電場の強さによってカメラに撮像される明度及び/または彩度などの特性が異なって、基板に形成された電気的欠陷位置が分かる。
すなわち、まず、座標測定用モジュレーターブロック130を通じてカメラのそれぞれのピクセルの位置を基準カメラ121の基準ピクセルを基準に分かっているので、テスト用モジュレーターブロックで前記基板2の基準点から基準カメラの基準ピクセル間の位置座標のみティーチングすれば、不良が発生した基板電極を撮像したピクセルの実際位置座標を基板の基準点を基準に求めることができる。
アンローディング部40は、前記テスト部30の一側に配され、前記テスト完了した基板が、前記テスト部30からここに移送されて外部に移動する。この場合、アンローディング部40は、前記テスト完了したパネルが、ここに載置または所定の間隔をおいて浮揚して移動させるアンローディングプレート42を備えることができる。
この場合、前記ローディング部20のローディングプレート22と、アンローディング部40のアンローディングプレート42とには、圧力を基板方向に供給して、前記基板を浮揚する空気ホール24、44があり得る。
しかし、本発明に適用可能なアレイテスト装置10は、図1に限定されるものではない。すなわち、基板2は固定支持板に固定され、テストモジュール50がX、Y軸に移動しながら基板電極のエラー有無をテストすることもでき、テストモジュール50が水平方向に固定され、基板2がX、Y軸に移動しながら基板電極のエラー有無をテストされることもある。
前記のような構造を有したアレイテスト装置で使われる基板一地点の位置を測定する方法の各段階は、次の通りである。まず、前記隣接カメラ123上のピクセルのそれぞれの位置座標を前記基準カメラ121の基準ピクセルP1を基準に求めた後、前記基板の既定の基準点を基準にした前記基準カメラの基準ピクセルP1の位置座標値と、前記基準ピクセルを基準にした前記基板の一地点を撮像したピクセルの位置座標値とを加算することによって、特定位置の位置座標を基板の基準点から求める。
本発明によれば、一つのカメラアセンブリーで、複数のカメラ上に位置したすべてのピクセルのそれぞれが一つのカメラ(基準カメラ)の基準ピクセルを基準にその位置座標が定められる。これにより、カメラアセンブリーを成すカメラが全体的に一つのFOVを有するようになって、前記大きさを有したFOVを有した一つのカメラと同一な効果をもたらす。
また、モジュレーターヘッドに含んだ基準カメラの基準ピクセルが基板の基準点から離隔した位置座標値のみ把握すれば、カメラアセンブリーを成すそれぞれのカメラのピクセルの位置が基板の基準点から分かるので、それぞれのカメラごとに別途に基板基準点との離隔位置を設定する必要がなくなる。
図3ないし図8は、本発明の実施形態によるアレイテスト装置10の基板一地点位置測定方法の各段階を示した図である。この場合、説明の便宜上、前記基準カメラの第1軸(図面では、X軸)に離隔した単一離隔カメラを基準に説明するが、本発明は、第1軸方向に複数の離隔カメラを有する場合または第2軸方向に複数の離隔カメラを有する場合または第1軸及び第2軸方向に複数の離隔カメラを有する場合にも適用可能である。
図3に示されるように、基準カメラ121(図1参照)のFOV(F121)内に撮像される基準位置マーク141を基準カメラ121(図1参照)で、前記隣接カメラのFOV(F123)内に撮像される対応位置マーク143を前記隣接カメラ123(図1参照)で撮影する。これにより、前記基準位置マーク141は、前記基準カメラの基準位置マーク撮像ピクセルP121に撮像され、前記対応位置マーク143は、前記隣接カメラの対応位置マーク撮像ピクセルP123に撮像される。この場合、前記基準位置マーク141及び対応位置マーク143の間には、実際離隔距離G1が既に定められている。
次いで、図4ないし図6に示されるように、隣接カメラ上のピクセルのそれぞれの位置座標を前記基準カメラの基準ピクセルを基準に求める段階に至る。図4ないし図6と、図1とを参照して、それぞれの段階を詳しく説明する。
まず、図4に示されるように、前記カメラのFOVが正確にかみ合う場合の前記基準位置マーク撮像ピクセルP121と前記対応位置マーク撮像ピクセルP123との間の第1軸方向の距離である基準隔離距離Lを求めた後、図5に示されるように、前記基準隔離距離Lと実際隔離距離G1との差を求める。
すなわち、図4に示されるように、前記第1カメラの基準位置マーク撮像ピクセルP121から前記第1軸の正方向側の最後のピクセルPr1までの第1距離L1を求め、前記第2カメラの対応位置マーク撮像ピクセルP123から前記第1軸の逆方向側の最後のピクセルPr2までの第2距離L2を求める。次いで、前記第1距離L1及び第2距離L2を加算することによって、基準隔離距離Lを求める。
次いで、図5に示されるように、前記基準隔離距離G1及び前記実際隔離距離Lの差を求めることによって、第1軸方向の第1オフセット値Os1を求める。これにより、前記隣接カメラのFOVと基準カメラのFOVとがかみ合うかどうか、離隔されるかまたは重畳されるか、そして、その離隔距離及び重畳量を把握することができる。
一方、前記離隔カメラは、基準カメラから第2軸(図面では、Y軸)にずれが発生することがある。これにより、図6に示されるように、前記基準カメラから離隔カメラの第2軸のずれ量である第2オフセット値Os2を求める。
そのために、前記基準位置マーク撮像ピクセルP121から、前記基準カメラの第2軸方向の一端ピクセルPr3までの距離である第3距離L3を求める段階と、前記対応位置マーク撮像ピクセルP123から前記隣接カメラの第2軸方向の一端ピクセルPr4までの距離である第4距離L4を求める段階と、前記第3距離及び第4距離の差L3−L4を求めることによって、第2オフセット値Os2を求める。
前記段階を経ることによって、基準カメラの基準ピクセルを基準に、前記隣接カメラのピクセルのそれぞれでの位置座標値を求める。
すなわち、図7に示されるように、前記基準ピクセルP1から第1軸上の先端ピクセルPr5までの距離がL5であり、前記隣接カメラでの特定ピクセルPx位置値が(a1、b1)であれば、前記隣接カメラの特定ピクセル位置値は、基準カメラの基準ピクセルを基準に(Pr5+a1−Os1、b1−Os2)になる。
例えば、基準カメラのFOV(F121)及び隣接カメラFOV(F123)の間に一部重畳されて第1オフセット値Os1が10であり、第2オフセット値Os2が−2と仮定する。また、前記基準ピクセルP1から第1軸の先端ピクセルまでの距離Pr5が200と仮定する。
それでは、前記隣接カメラの特定ピクセル位置値が(50、50)であれば、前記隣接カメラの特定ピクセル位置値は、基準カメラの基準ピクセルを基準に(200+50−10、50+2)である(240、52)になる。
前記位置座標値は、前記ピクセル値を実際距離値に換算した座標値であり得る。この場合、前記ピクセルの位置座標値に単位ピクセル距離を乗算すれば、容易にピクセルの実際距離が分かる。
前記基準カメラの一ピクセル及び隣接カメラの一ピクセルの実際距離を求める方法は、多様である。その一つの例として、単位時間に一つの測定マークをカメラが一定の速度で移動しながら撮影すれば、その移動距離が分かり、前記移動距離を撮像されたピクセル数で割れば、簡単に単位ピクセルの実際距離が分かる。
これとは違って、図2に示されるように、前記位置表示部材には、前記位置マーク141、143のそれぞれに一定の間隔を有して平行に形成された長さマーク225が、前記それぞれのカメラに対応して少なくとも一つずつ配され、前記それぞれのカメラに対応する位置マーク141、143及び長さマーク145の間の距離を、前記位置マークが撮像されたピクセルと前記長さマークが撮像されたピクセルとの間のピクセル個数で割ることで隣接カメラ及び基準カメラでのピクセルのそれぞれの実際距離を求める。
次いで、図面には図示されていないが、座標測定用モジュレーターブロックをテスト用モジュレーターブロックに置き換えた後、実際アレイテスト作業を実施し、これにより、前記不良が発生した基板電極の位置が撮影される。
次いで、図8に示されるように、前記基板2の既定の基準点P0を基準にした前記基準カメラの基準ピクセルP1の位置座標値(a,b)、及び前記基準ピクセルを基準にした前記基板の一地点を撮像したピクセルPxの位置座標値(c,d)を加算する段階を経る。これにより、基板の如何なる位置に不良が発生したのかを簡単で正確に分かる。
隣接カメラ123のピクセルのそれぞれの位置座標は、既に基準カメラ121の基準ピクセルP1を基準に設定されているので、前記段階で、前記テスト用モジュレーターブロックが基板の基準点から離隔した位置座標(a,b)をティーチングすればよい。
本発明によれば、隣接カメラ123が複数個に多く配列されていても、実際に基準カメラ121の基準ピクセルP1のみの位置座標のみティーチングすれば、すべての隣接カメラのピクセルのそれぞれの位置座標を求めるようになる。これにより、実際アレイテスト作業時にそれぞれの隣接カメラを別途にティーチングする工程を経ていないので、ティーチング工程による誤差発生を防止することができ、テスト時間が短縮されるという長所がある。
一方、前記基準カメラ121には隣接しないが、前記基準カメラ121に直接隣接した第1隣接カメラに隣接した第2隣接カメラの場合にも、前記のような方法によって位置座標を測定することができる。
すなわち、図9に示されるように、まず、前記第1隣接カメラのFOV(F123_a)内の位置マーク撮像ピクセルP123_aの位置座標値を求める。次いで、前記第2隣接カメラのFOV(F123_b)上のピクセルのそれぞれの位置座標値を基準カメラの基準ピクセルP1を基準に求める。
そのために、前記第1隣接カメラの対応位置マーク143aを基準にした前記第2隣接カメラの対応位置マーク143bのオフセット値Os3、Os4を求める。前記オフセット値Os3、Os4を求める方法は、前記第1隣接カメラの対応位置マークのオフセット値Os1、Os2を前記基準カメラの基準位置マーク撮像ピクセルP121を基準に求める方法と同一である。例えば、第1隣接カメラの対応位置マーク143aの撮像ピクセルP123_aと前記第2隣接カメラの対応位置マーク143bの撮像ピクセルP123_bとの間の実際隔離距離G2及び基準隔離距離(L6+L7)の間の差を求めることで第2軸方向のオフセット値が分かる。
これにより、求めた前記第2隣接カメラの前記第1隣接カメラに対するオフセット値Os3、Os4と、前記基準カメラに対して前記第1隣接カメラのオフセット値Os1、Os2とを加算すれば、基準カメラに対する第2隣接カメラのオフセット値が求められる。
本発明は、前記アレイテスト装置に限定されるものではない。基準カメラ及び少なくとも一つの隣接カメラを含み、少なくとも水平移動可能なカメラアセンブリーを備えた装備に適用可能である。前記隣接カメラの特定ピクセルに撮像された位置を測定する方法として適用可能である。前記特定ピクセルに撮像された位置を測定する方法は、前記した方法と同一であるので、これについての詳細な説明は省略する。
以上、本発明の望ましい実施形態を中心に説明した。当業者は、本発明が、本発明の本質的な特性から外れない範囲で変形された形態として具現可能であるということを理解できるであろう。したがって、開示された実施形態は限定的な観点ではなく、説明的な観点で考慮されなければならない。本発明の範囲は、特許請求の範囲に表われており、それと同等な範囲内にあるあらゆる差点は、本発明に含まれたものと解析されなければならない。
本発明は、アレイテスト装置と、該アレイテスト装置の基板一地点位置測定方法と、カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法に関連する技術分野に適用可能である。
2 基板
10 アレイテスト装置
20 ローディング部
22 ローディングプレート
24 空気ホール
30 テスト部
32 テスト用ステージ
38 電圧印加部
40 アンローディング部
42 アンローディングプレート
44 空気ホール
50 テストモジュール
60 ガントリー
70 基板チャック
100 モジュレーターヘッド
110 固定ブロック
120 カメラアセンブリー
121 基準カメラ
123 隣接カメラ
130 モジュレーターブロック
200 位置表示部材
221 基準位置マーク
223 対応位置マーク
225 長さマーク

Claims (19)

  1. テストされる基板を支持するテスト部と、
    前記テスト部の上に隣接して配されて、少なくとも前記テスト部に位置した基板の不良位置を検出する少なくとも一つのモジュレーターヘッドと、を含むものであって、
    前記モジュレーターヘッドは、
    固定ブロックと、
    基準カメラ及び少なくとも一つの隣接カメラが一定に配されるように、前記固定ブロックに結合されたカメラアセンブリーと、
    前記固定ブロックに分離可能に結合されたものであって、前記カメラアセンブリーと前記基板との間に位置し、前記カメラアセンブリーを成すカメラの焦点距離に合わせて配された位置表示部材を備える座標測定用モジュレーターブロックと、を備え、
    前記位置表示部材は、前記基準カメラによって撮像される基準位置マーク及び前記隣接カメラのそれぞれに撮像される少なくとも一つの対応位置マークが形成されたことを特徴とするアレイテスト装置。
  2. 前記位置表示部材には、
    前記位置マークのそれぞれに一定の間隔を有して平行に形成された長さマークが、前記それぞれのカメラに対応して少なくとも一つずつ配されたことを特徴とする請求項1に記載のアレイテスト装置。
  3. 前記基準位置マーク及び前記対応位置マークの間の実際隔離距離と、前記カメラのFOVが正確にかみ合う場合の基準位置マーク撮像ピクセル及び対応位置マーク撮像ピクセルの間の基準隔離距離との間の差を求め、前記離隔ピクセルのそれぞれのピクセルの位置座標値を前記基準ピクセルの基準ピクセルを基準に求める制御部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のアレイテスト装置。
  4. 前記座標測定用モジュレーターブロックと置き換えて、前記固定ブロックの下面に昇降自在に結合されて、基板上の形成された不良電極の位置をティーチングするテスト用モジュレーターブロックをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のアレイテスト装置。
  5. 請求項1の構造を有したアレイテスト装置で、前記基板の一地点の位置を測定する方法であって、
    前記隣接カメラ上のピクセルのそれぞれの位置座標を前記基準カメラの基準ピクセルを基準に求める段階と、
    前記基板の既定の基準点を基準にした前記基準カメラの前記基準ピクセルの位置座標値を求める段階と、
    前記基準点を基準にした基準ピクセルの位置座標値及び前記基準ピクセルを基準にした前記基板の一地点を撮像したピクセルの位置座標値を加算する段階と、
    を含むことを特徴とするアレイテスト装置の基板一地点位置測定方法。
  6. 前記隣接カメラのうち少なくとも一つは、前記基準カメラと第1軸の正方向に離隔配され、前記基準カメラと第1軸の正方向に離隔した隣接カメラ上のピクセルのそれぞれの位置座標を求める段階は、
    基準位置マーク及び対応位置マークの間の第1軸方向の実際隔離距離と、前記カメラのFOVが正確にかみ合う場合の基準位置マーク撮像ピクセルと対応位置マーク撮像ピクセルとの間の第1軸方向の距離である基準隔離距離との間の差である第1オフセット値を含めて、基準位置マーク及び対応位置マークの間のオフセット値を求める段階と、
    前記オフセット値を用いて、前記隣接カメラのピクセルのそれぞれの位置座標値を前記基準カメラの基準ピクセルを基準に求める段階と、
    を含むことを特徴とする請求項5に記載のアレイテスト装置の基板一地点位置測定方法。
  7. 前記基準隔離距離を求める段階は、
    前記基準カメラの、前記基準位置マーク撮像ピクセルから前記第1軸の正方向側の最後のピクセルまでの第1距離を求める段階と、
    前記隣接カメラの、前記対応位置マーク撮像ピクセルから前記第1軸の逆方向側の最後のピクセルまでの第2距離を計算する段階と、
    前記第1距離及び第2距離を加算する段階と、
    を含んでなることを特徴とする請求項6に記載のアレイテスト装置の基板一地点位置測定方法。
  8. 前記第1距離を求める段階は、
    前記基準カメラの単位ピクセル当たり距離に、前記基準位置マーク撮像ピクセルから前記第1軸の正方向側の最後のピクセルまでのピクセル数を乗算することでなり、
    前記第2距離を求める段階は、
    前記隣接カメラの単位ピクセル当たり距離に、前記対応位置マーク撮像ピクセルから前記第1軸の逆方向側の最後のピクセルまでのピクセル数を乗算することでなることを特徴とする請求項7に記載の特定ピクセル位置測定方法。
  9. 前記オフセット値を求める段階は、前記隣接カメラの前記第1軸と直交する第2軸方向のオフセット値である第2オフセット値を求める段階をさらに含み、
    前記第2オフセット値を求める段階は、
    前記対応マーク撮像ピクセルから、前記隣接カメラの前記第2軸方向の一端ピクセルまでの距離である第3距離を求める段階と、
    前記基準マーク撮像ピクセルから、前記基準カメラの前記第2軸方向の一端ピクセルまでの距離である第4距離を求める段階と、
    前記第3距離と前記第4距離との差を求める段階と、
    を含むことを特徴とする請求項6に記載のアレイテスト装置の基板一地点位置測定方法。
  10. 前記基準カメラ及び前記隣接カメラのそれぞれの単位ピクセル距離を測定する段階をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載のアレイテスト装置の基板一地点位置測定方法。
  11. 前記位置表示部材には、前記位置マークのそれぞれに一定の間隔を有して平行に形成された長さマークが、前記それぞれのカメラに対応して少なくとも一つずつ配され、
    前記基準カメラ及び前記隣接カメラのそれぞれの単位ピクセル距離を測定する段階は、前記それぞれのカメラに対応する位置マーク及び長さマークの間の距離を、前記位置マークが撮像されたピクセルと前記長さマークが撮像されたピクセルとの間のピクセル個数で除算することでなることを特徴とする請求項10に記載のアレイテスト装置の基板一地点位置測定方法。
  12. 前記アレイテスト装置は、
    前記座標測定用モジュレーターブロックと置き換えて、前記固定ブロックの下面に昇降自在に結合されて、基板上の形成された不良電極の位置をティーチングするテスト用モジュレーターブロックをさらに備え、
    前記隣接カメラ上のピクセルのそれぞれの位置座標を前記基準カメラの基準ピクセルを基準に求める段階は、前記座標測定用モジュレーターブロックが装着された状態からなり、
    前記基板の既定の基準点を基準にした前記基準カメラの基準ピクセルの位置座標値を求める段階は、前記テスト用モジュレーターブロックが装着された状態からなることを特徴とする請求項5に記載のアレイテスト装置の基板一地点位置測定方法。
  13. 基準カメラ及び少なくとも一つの隣接カメラを含み、少なくとも水平移動可能なカメラアセンブリーを備えた装備で、前記隣接カメラの特定ピクセルに撮像された位置を測定する方法であって、
    前記基準カメラに撮像される基準位置マーク及び前記隣接カメラに撮像され、前記基準位置マークと第1軸の正方向に実際隔離距離ほど離隔した対応位置マークとを配置させる段階と、
    前記基準、対応位置マークを前記基準、対応カメラでそれぞれ撮像する段階と、
    前記基準カメラのFOV及び隣接カメラのFOVが正確にかみ合う場合の前記基準、対応位置マーク撮像ピクセル間の距離である基準隔離距離を求める段階と、
    前記基準、対応位置マーク間の実際隔離距離及び基準隔離距離を用いて、前記離隔カメラの特定ピクセル位置座標を前記基準カメラの基準ピクセルを基準に求める段階と、
    を含むことを特徴とするカメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法。
  14. 前記基準隔離距離を求める段階は、
    前記基準位置マーク撮像ピクセルから前記基準カメラの第1方向側の最後のピクセルまでの第1距離を求める段階と、
    前記対応位置マーク撮像ピクセルから前記隣接カメラの第1方向の逆方向側の最後のピクセルまでの第2距離を計算する段階と、
    前記第1距離及び第2距離を加算する段階と、
    を含んでなることを特徴とする請求項13に記載のカメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法。
  15. 前記第1距離を求める段階は、
    前記基準カメラの単位ピクセルに対応する距離に、前記基準位置マーク撮像ピクセルから前記基準カメラの第1軸の正方向側の最後のピクセルまでのピクセル数を乗算することでなり、
    前記第2距離を求める段階は、
    前記隣接カメラの単位ピクセルに対応する距離に、前記対応位置マーク撮像ピクセルから前記隣接カメラの第1軸の逆方向側の最後のピクセルまでのピクセル数を乗算することでなることを特徴とする請求項14に記載のカメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法。
  16. 前記隣接カメラの特定ピクセル位置座標を求める段階は、
    前記基準、対応位置マーク間の基準隔離距離及び実際隔離距離の差であるオフセット値を求める段階と、
    前記オフセット値を用いて、前記隣接カメラの特定ピクセル位置座標を前記基準カメラの基準ピクセルを基準に求める段階と、
    を含むことを特徴とする請求項13ないし請求項15のうち何れか一項に記載のカメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法。
  17. 前記基準、記対応カメラのそれぞれの単位ピクセルに対応する実際距離を測定する段階をさらに含むことを特徴とする請求項13に記載のカメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法。
  18. 前記基準、対応位置マークを位置させる段階は、
    前記基準位置マークと一定の間隔を有して平行に形成されたものであって、前記基準カメラに撮像される第1長さマークと、前記対応位置マークと一定の間隔を有して平行に形成されたものであって、前記隣接カメラに撮像される第2長さマークとを位置させる段階をさらに含み、
    前記基準カメラの単位ピクセルに対応する距離を求める段階は、
    前記基準位置マークと第1長さマークとの間の実際距離を、前記基準位置マークが撮像されたピクセルと前記第1長さマークが撮像されたピクセルとの間のピクセル個数で割ることでなることを特徴とする請求項17に記載のカメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法。
  19. 前記隣接カメラ上の特定ピクセルの位置座標を前記基準カメラの基準ピクセルを基準に測定する段階以後には、
    特定基準点を基準に、前記基準カメラの基準ピクセル位置座標値を求める段階と、
    前記基準カメラの基準ピクセルからの特定ピクセルの位置座標値と、前記基準点からの前記第1カメラの基準ピクセル位置座標値とを加算する段階と、
    をさらに含むことを特徴とする請求項13に記載のカメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法。
JP2009277911A 2008-12-30 2009-12-07 アレイテスト装置と、該アレイテスト装置の基板一地点位置測定方法と、カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法 Pending JP2010156684A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080137136A KR100911330B1 (ko) 2008-12-30 2008-12-30 어레이 테스트 장치와, 상기 어레이 테스트 장치의 기판 일지점 위치 측정 방법과, 카메라 어셈블리에 촬상된 특정 위치좌표 측정 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010156684A true JP2010156684A (ja) 2010-07-15

Family

ID=41209605

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009277911A Pending JP2010156684A (ja) 2008-12-30 2009-12-07 アレイテスト装置と、該アレイテスト装置の基板一地点位置測定方法と、カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2010156684A (ja)
KR (1) KR100911330B1 (ja)
CN (1) CN101769878B (ja)
TW (1) TW201024724A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102169148A (zh) * 2010-12-30 2011-08-31 康舒电子(东莞)有限公司 治具测试机构
KR101207029B1 (ko) 2010-12-30 2012-11-30 주식회사 탑 엔지니어링 어레이 테스트 장치
CN103616776A (zh) * 2013-11-26 2014-03-05 亚世光电股份有限公司 一种机器自动检验液晶模组及装配一体的装置和方法
CN104894510A (zh) * 2015-05-25 2015-09-09 京东方科技集团股份有限公司 用于制作掩模集成框架的对位方法及系统
CN111948838A (zh) * 2019-05-14 2020-11-17 塔工程有限公司 调制器校准单元、包括其的校准系统及调制器的校准方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102023163B (zh) * 2010-12-28 2012-05-23 中国计量学院 基于dsp的接插件检测系统和检测方法
CN103698630B (zh) * 2013-12-12 2016-04-06 合肥京东方光电科技有限公司 一种电学阵列检测设备
CN109254491B (zh) * 2017-07-13 2021-06-04 宁波舜宇光电信息有限公司 摄像模组批量测试设备及方法
CN108107614A (zh) * 2017-12-28 2018-06-01 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示检查方法及显示检查装置
CN109164551A (zh) * 2018-10-25 2019-01-08 苏州源泽光电科技集团有限公司 一种用于显示屏幕检测的光学镜头
CN113075232A (zh) * 2021-03-31 2021-07-06 深圳中科飞测科技股份有限公司 一种检测设备及检测方法
KR20230126012A (ko) * 2022-02-22 2023-08-29 엘에스일렉트릭(주) 아핀 변환의 파라미터 캘리브레이션 방법 및 이를 이용하는 모션 제어 시스템

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006337631A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Mitsubishi Electric Corp 検査方法及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法
JP4884828B2 (ja) * 2006-05-01 2012-02-29 株式会社日本マイクロニクス 表示用パネルの処理装置
KR101237959B1 (ko) * 2006-05-19 2013-02-28 황주철 경조사 관리 시스템 및 그 방법
KR100756229B1 (ko) * 2006-10-26 2007-09-07 주식회사 탑 엔지니어링 어레이 테스트 장비

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102169148A (zh) * 2010-12-30 2011-08-31 康舒电子(东莞)有限公司 治具测试机构
KR101207029B1 (ko) 2010-12-30 2012-11-30 주식회사 탑 엔지니어링 어레이 테스트 장치
CN103616776A (zh) * 2013-11-26 2014-03-05 亚世光电股份有限公司 一种机器自动检验液晶模组及装配一体的装置和方法
CN103616776B (zh) * 2013-11-26 2016-01-13 亚世光电股份有限公司 一种机器自动检验液晶模组及装配一体的装置和方法
CN104894510A (zh) * 2015-05-25 2015-09-09 京东方科技集团股份有限公司 用于制作掩模集成框架的对位方法及系统
CN104894510B (zh) * 2015-05-25 2017-06-16 京东方科技集团股份有限公司 用于制作掩模集成框架的对位方法及系统
US10827137B2 (en) 2015-05-25 2020-11-03 Boe Technology Group Co., Ltd. Alignment method and system for manufacturing mask integration framework
CN111948838A (zh) * 2019-05-14 2020-11-17 塔工程有限公司 调制器校准单元、包括其的校准系统及调制器的校准方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101769878A (zh) 2010-07-07
KR100911330B1 (ko) 2009-08-07
CN101769878B (zh) 2012-07-04
TW201024724A (en) 2010-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010156684A (ja) アレイテスト装置と、該アレイテスト装置の基板一地点位置測定方法と、カメラアセンブリーに撮像された特定位置座標測定方法
JP7085042B2 (ja) プローブシステム
TWI335635B (en) Repair apparatus for substrate circuit of flat display panel
CN104132619A (zh) 一种在线高精度锡膏厚度测试仪及测试方法
JP2010156685A (ja) アレイテスト装置及び該アレイテスト装置の基板一地点位置測定方法
US20080313893A1 (en) Method and apparatus for manufacturing electronic circuit board
JP6193028B2 (ja) 検査装置
JP4987810B2 (ja) 三次元画像表示装置の検査装置及び三次元画像表示装置の製造方法
JP2015166680A (ja) 接触型回路パターン検査装置及びその検査方法
KR102103840B1 (ko) 프로브 자동접촉검사가 가능한 유기전계발광 표시소자의 검사장치시스템 및 방법
KR100799168B1 (ko) 액정 디스플레이 모듈 성능 측정장치.
JP2005274272A (ja) ラインセンサカメラのキャリブレーション方法および外観検査装置
KR200431032Y1 (ko) 액정 디스플레이 모듈 성능 측정장치.
KR101829846B1 (ko) 연성기판 검사장치
KR20050070781A (ko) 액정표시장치용 기판 검사장치 및 검사방법
KR102563868B1 (ko) 표시소자의 검사장치
JP4560578B1 (ja) 液晶パネル点灯検査装置
JP2006275527A (ja) 光学系一体型検査装置
US20220208579A1 (en) Synchronous substrate transport and electrical probing
JP2002250697A (ja) 平面表示パネルの欠陥検査装置および方法
KR20140014970A (ko) 액정패널 검사장비 및 검사방법
WO2014000354A1 (zh) 液晶显示面板检测装置
CN110428763A (zh) 阵列基板测试装置
KR20070003152A (ko) 컬러필터 패턴 검사 장치
KR20180006762A (ko) 모듈레이터 관리 장치 및 방법