JP4025859B2 - 検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法 - Google Patents
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Description
とに基づいて算出される。この傾斜量と位置ずれ量とは正常な1箇所における像に基づいて算出される。これらがフォトマスク上の欠陥判定を行うために用いられる。すなわち、正常な一箇所により算出された傾斜量と位置ずれ量とが、任意のパターンエッジ近傍の位置における欠陥判定に利用される。正常な箇所は処理装置50の表示装置に表示された透過画像及び反射画像により確認することができる。正常な1箇所を確認できたら、その位置での輝度データにより、傾斜量及び位置ずれ量を算出する。また、誤って異常個所で傾斜量及び位置ずれ量を算出してしまった場合、ほとんどの位置で欠陥が検出される。このため、即座に演算をやり直すことができる。
16 レンズ、21 落射照明光源、22 開口絞り、23 レンズ、24 視野絞り、
25 レンズ、31 ビームスプリッタ、32 レンズ、33 フォトマスク、
41 レンズ、42 反射部材、43 透過側センサ、44 反射側センサ
50 処理装置、51 A/D変換器、52 メモリ、53 演算処理部、
61 フレア除去部、62 シェーディング補正部、63 傾斜量算出部、
64 位置ずれ量算出部、65 輪郭抽出部、66 傾斜方向算出部、
67 法線ベクトル算出部、68 欠陥判定部、71 遮光パターン、
72 透明パターン、73 異物、75 反射像の輪郭、76 透過像の輪郭、
91 直線、92 輝度の最大レベル、93 輝度の最小レベル、94 中間値
95 位置ずれ量、96 輪郭画素、97 境界線、98 法線ベクトル
Claims (10)
- 光を透過する透過パターンと光を遮光する遮光パターンとが設けられている試料の欠陥を検出して検査を行う検査装置であって、
透過照明光源と、
前記透過照明光源からの光を集光して前記試料に出射する透過照明光学系と、
透過像を撮像するため、前記透過照明光学系から前記試料に出射された光のうち前記試料を透過した透過光を検出する透過側検出器と、
落射照明光源と、
前記落射照明光源からの光を集光して前記試料に出射する落射照明光学系と、
反射像を撮像するため、前記落射照明光学系から前記試料に出射された光のうち前記試料で反射した反射光を検出する反射側検出器と、
欠陥のない箇所において、前記透過像と反射像との間の位置ずれ量を算出する位置ずれ量算出部と、
前記透過像又は前記反射像の一方の像において、前記試料に設けられたパターンの輪郭を抽出する輪郭抽出部と、
前記輪郭を抽出した像の前記輪郭における輝度の傾斜方向を算出する傾斜方向算出部と、
前記位置ずれ量と前記輝度の傾斜方向とに基づいて前記輪郭をずらした位置を求め、前記輪郭をずらした位置における前記輪郭を抽出した像の他方の像の輝度が所定の範囲に含まれるか否かに基づいて欠陥判定を行う欠陥判定部とを備える検査装置。 - 欠陥のない箇所において、前記透過像又は前記反射像の一方の像におけるパターンエッジ近傍での輝度の傾斜量を算出する傾斜量算出部をさらに備え、
前記輪郭抽出部が前記傾斜量を算出した像の輪郭を抽出し、
前記欠陥判定部が前記輪郭をずらした位置を前記輝度の傾斜量に基づいて求める請求項1記載の検査装置。 - 前記欠陥判定部が、前記輪郭をずらした位置における画素の周辺画素の輝度で前記輪郭をずらした位置における輝度を補完して欠陥判定を行う請求項1又は2に記載の検査装置。
- 前記落射照明光学系が、前記落射照明光源からの光を集光して試料に出射する第1のレンズを備え、
前記第1のレンズを介して、前記落射照明光源からの光が前記反射側検出器に検出され、
前記透過照明光学系が前記透過照明光源からの光を集光して試料に出射する第2のレンズを備え、
前記第1のレンズを介して前記透過照明光源からの光が前記透過側検出器に検出され、
前記落射照明光源からの光が前記第1のレンズの視野の一部である第1の領域に入射して前記反射側検出器で検出され、前記透過照明光源からの光が前記第1のレンズの視野の一部であり前記第1の領域からずれた第2の領域に入射して前記透過側検出器で検出される請求項1、2又は3に記載の検査装置。 - 前記透過照明光源と前記落射照明光源とが同じ波長の光を出射する光源である請求項4に記載の検査装置。
- 前記落射照明光源と前記第1のレンズとの間に配置され、前記落射照明光源からの光が前記第1の領域に入射するよう前記落射照明光源からの光を遮る第1の絞りと、
前記透過照明光源と前記第2のレンズとの間に配置され、前記透過照明光源からの光が前記第2の領域に入射するよう前記透過照明光源からの光を遮る第2の絞りとをさらに備える請求項4又は5に記載の検査装置。 - 光を透過する透過パターンと光を遮光する遮光パターンとが設けられている試料の欠陥を検出して検査を行う欠陥検査方法であって、
前記試料を透過した透過光を検出して透過像を撮像する透過像撮像ステップと、
前記試料で反射した反射光を検出して反射像を撮像する反射像撮像ステップと、
欠陥のない箇所において、前記透過像と前記反射像との間の位置ずれ量を算出する位置ずれ量算出ステップと、
前記透過像又は前記反射像の一方の像において、前記試料に設けられたパターンの輪郭を抽出する輪郭抽出ステップと、
前記輪郭を抽出した像の前記輪郭における輝度の傾斜方向を算出する傾斜方向算出ステップと、
前記位置ずれ量と前記輝度の傾斜方向とに基づいて前記輪郭をずらした位置を算出するステップと、
前記輪郭をずらした位置における前記輪郭を抽出した像の他方の像の輝度が所定の範囲に含まれるか否かに基づいて欠陥判定を行う欠陥判定ステップとを有する検査方法。 - 欠陥のない箇所において、前記透過像又は前記反射像の一方の像においてパターンエッジ近傍での輝度の傾斜量を算出するステップをさらに備え、
前記輪郭抽出ステップでは、前記傾斜量を求めた像の輪郭を抽出し、
前記欠陥判定ステップでは、前記輪郭をずらした位置を前記輝度の傾斜量に基づいて求める請求項7に記載の検査方法。 - 前記欠陥判定ステップでは、前記輪郭をずらした位置における画素の周辺画素の輝度で前記輪郭をずらした位置における輝度を補完して欠陥判定を行う請求項7又は8に記載の検査方法。
- 請求項7乃至請求項9のいずれか一項に記載の検査方法により、フォトマスクを検査する検査ステップと、
前記検査ステップによって検査されたフォトマスクの欠陥を修正する欠陥修正ステップと、
前記欠陥修正ステップで修正されたフォトマスクを介して基板を露光する露光ステップと、
前記露光された基板を現像する現像ステップを有するパターン基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004257674A JP4025859B2 (ja) | 2004-09-03 | 2004-09-03 | 検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004257674A JP4025859B2 (ja) | 2004-09-03 | 2004-09-03 | 検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007170090A Division JP4285613B2 (ja) | 2007-06-28 | 2007-06-28 | 検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006072147A JP2006072147A (ja) | 2006-03-16 |
JP2006072147A5 JP2006072147A5 (ja) | 2007-03-29 |
JP4025859B2 true JP4025859B2 (ja) | 2007-12-26 |
Family
ID=36152823
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004257674A Expired - Fee Related JP4025859B2 (ja) | 2004-09-03 | 2004-09-03 | 検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4025859B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008026212A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Ushio Inc | パターン検査装置 |
JP5221858B2 (ja) * | 2006-08-30 | 2013-06-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査装置、及び欠陥検査方法 |
JP4224863B2 (ja) | 2007-02-02 | 2009-02-18 | レーザーテック株式会社 | 検査装置及び検査方法、並びにパターン基板の製造方法 |
JP4590521B1 (ja) * | 2009-10-30 | 2010-12-01 | レーザーテック株式会社 | 検査装置、及び検査方法 |
US8280172B1 (en) * | 2011-03-22 | 2012-10-02 | Mitutoyo Corporation | Edge location measurement correction for coaxial light images |
JP5024842B1 (ja) * | 2011-07-22 | 2012-09-12 | レーザーテック株式会社 | 検査装置、及び検査方法 |
JP6233784B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2017-11-22 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 共焦点顕微鏡 |
JP6373074B2 (ja) * | 2014-06-06 | 2018-08-15 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マスク検査装置及びマスク検査方法 |
JP6591348B2 (ja) * | 2016-06-03 | 2019-10-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査方法 |
CN116978806A (zh) | 2019-03-28 | 2023-10-31 | 浜松光子学株式会社 | 检查装置及检查方法 |
JP7373105B2 (ja) * | 2020-03-10 | 2023-11-02 | 株式会社東京精密 | 亀裂検出装置及び方法 |
CN113686897B (zh) * | 2021-08-05 | 2023-11-03 | 江苏维普光电科技有限公司 | 一种掩模表面颗粒缺陷检测方法 |
-
2004
- 2004-09-03 JP JP2004257674A patent/JP4025859B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006072147A (ja) | 2006-03-16 |
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A521 | Written amendment |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070112 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
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|
A975 | Report on accelerated examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070911 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101019 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111019 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121019 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121019 Year of fee payment: 5 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121019 Year of fee payment: 5 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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