JPH07113966B2 - 二次元画像処理方法および装置 - Google Patents

二次元画像処理方法および装置

Info

Publication number
JPH07113966B2
JPH07113966B2 JP4072195A JP7219592A JPH07113966B2 JP H07113966 B2 JPH07113966 B2 JP H07113966B2 JP 4072195 A JP4072195 A JP 4072195A JP 7219592 A JP7219592 A JP 7219592A JP H07113966 B2 JPH07113966 B2 JP H07113966B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
feature
light beam
rays
surrounding background
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP4072195A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06168321A (ja
Inventor
アミ−ル イスラエル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AT&T Corp
Original Assignee
AT&T Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by AT&T Corp filed Critical AT&T Corp
Publication of JPH06168321A publication Critical patent/JPH06168321A/ja
Publication of JPH07113966B2 publication Critical patent/JPH07113966B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
    • G06V10/00—Arrangements for image or video recognition or understanding
    • G06V10/10—Image acquisition
    • G06V10/12—Details of acquisition arrangements; Constructional details thereof
    • G06V10/14—Optical characteristics of the device performing the acquisition or on the illumination arrangements
    • G06V10/145—Illumination specially adapted for pattern recognition, e.g. using gratings
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
    • G06V10/00—Arrangements for image or video recognition or understanding
    • G06V10/10—Image acquisition
    • G06V10/12—Details of acquisition arrangements; Constructional details thereof
    • G06V10/14—Optical characteristics of the device performing the acquisition or on the illumination arrangements
    • G06V10/147—Details of sensors, e.g. sensor lenses
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N2021/95638—Inspecting patterns on the surface of objects for PCB's
    • G01N2021/95646—Soldering

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Artificial Intelligence (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Vascular Medicine (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Image Input (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、対象物が周囲の背景か
ら対比して目立たせられるような、対象物の強調された
二次元画像を提供するための方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】機械的視覚技術は現在、非常に高い精度
で迅速に物事の視察を行うために、多くの産業において
使用されている。電子産業において、機械的視覚システ
ムは現在、設置された回路板のはんだ付け前に、部品の
脱落や置き違えを検出するためと同様に、設置されてい
ない回路板の部品の配置の前に、はんだペーストの付着
の脱落や置き違えを検出するために使用される。
【０００３】Ｉ．アミル（I.Amir）らの名による、１９
８９年３月７日権利化の米国特許第４，８１１，４１０
号（ここで参考に用いる）において、回路板の表面を横
切るストリップ領域を、実質的に強度が一定である光に
よって照射するための光源を含む、回路板視察システム
が発表されている。照射されたストリップからの反射光
の強度を検出するために、線走査カメラが設置される。
【０００４】カメラの出力信号は、最初にデータを選別
する機能を行う視覚システムによって処理され、ストリ
ップ内の所定の目的領域（より欠陥が有りそうな領域）
の画像に相当するデータのみが保留される。保留された
データは、もしあれば、ストリップ内の欠陥の存在を検
出するために処理される。回路板を、光源およびカメラ
によって同時にスパニングすることによって、回路板の
全表面の欠陥の視察が可能である。
【０００５】アミルらの視覚システムが、部品やはんだ
ペーストの付着の脱落や置き違えの様な欠陥を検出可能
であることが示される一方、回路板上の特徴物（すなわ
ち部品やはんだペーストの付着物）のコントラストの欠
落が、逆に視察の精度に影響し、これは他の従来の視察
システムにおいても同様である。
【０００６】しばしば回路板上の目的とする特徴物は、
背景に対して非常に低いコントラストを有し、結果とし
てこのような特徴物からの反射光の強度は、回路板その
ものからの反射光に対して認め得るほどには大きくな
い。回路板と目的とする特徴物との間のコントラスト
が、通常あまり高くないため、欠陥の検出が困難であ
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、物体の存在お
よび位置の検出を容易にするために、物体とその周囲の
背景の間の境界領域を好都合に強調する、改良された二
次元画像技術が必要である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】簡単に、本発明の実施例
によると、起立し、光反射性であり、その周囲の高さの
低い背景より大きい反射能を有する位相幾何学的な特徴
物（すなわち部品またははんだ付着物）の二次元画像を
得るための技術が、特徴物と背景の間のコントラストを
高めるために記述されている。
【０００９】この方法は第一に、特徴物とその背景を、
ある角度においてそこに導かれる傾斜強度分布光線によ
って照射することによって実行される。光線の両端間
で、光線の強度は横方向に減少し、このため、光線は傾
斜強度分布を有すると言われる。特徴物を角度をつけて
導かれる傾斜強度分布光線によって照射することによ
り、特徴物およびその周辺領域によって上方に反射され
る光の強度は、このような光が反射される特徴物や周辺
領域の高さに比例する。
【００１０】傾斜強度分布光線によって照射された特徴
物およびその周辺領域の画像は、その上方に直接位置し
ている画像取得素子（たとえば線走査カメラ）によって
とらえられる。とらえられた画像は、特徴物やその周辺
背景に関連する反射光強度を決定する働きを有する視覚
システムによって処理される。
【００１１】もし表面の反射率が物体のそれとあまり多
くは異ならないと仮定すると（そうでなければいずれの
場合も良好な対比が得られる）、反射光強度は特徴物と
周辺領域の高さに比例し、特徴物の方が高いことが推定
されるため、より高い反射光強度は周辺の背景ではなく
特徴物に関連する。このようにして、特徴物とその周辺
領域の間のコントラストが高められる。同様に、もし特
徴物の方が低いならば、特徴物は周辺より暗く見える。
【００１２】
【実施例】図１において基板１０（例えば回路板）は、
はんだペースト付着物や能動または受動的表面取付部品
のような、少なくとも一つの起立した光反射性位相幾何
学的特徴物１２を表面上に有する。基板１０の加工の過
程において、特徴物１２の脱落または置き違えが全く無
いことを確認するために、通常視察が行われる。
【００１３】特徴物１２がはんだペースト付着物である
場合、いずれ脱落または置き違えが発見されるなら、回
路板上に部品を設置した後まで待つより付着物を再印刷
する方がはるかに経費が安い。同様に、回路板へのはん
だ付けの前に部品の脱落または置き違えを検出する方
が、はんだ付け後よりはるかに経費が安い。
【００１４】ひとつは前述の第４，８１１，４１０号特
許に記載されているような、従来の機械的視覚システム
を使用する、基板１０の自動的視察は、特徴物１２の表
面が光を散乱するという困難を伴い、このことはしばし
ば、はんだペースト付着物と大多数の能動および受動部
品の場合に当てはまる。
【００１５】特徴物１２から上方に垂直に反射される光
は、しばしば特徴物を囲む基板１０の表面からの反射光
に比べてあまり明るくない。特徴物１２とその周辺の基
板１０上の領域の間のコントラストの欠落が、欠陥の検
出を困難にしている。
【００１６】この困難を解決するために、起立した光反
射性の位相幾何学的特徴物１２と基板１０の間のコント
ラストを高めるために好都合に働く新規の技術が開発さ
れた。本発明によると、コントラストの高揚は、傾斜強
度分布を有する光線１４を特徴物１２において基板１０
の表面に対して角度θをなすように導くことによって達
成される。
【００１７】軸線が紙面内に伸びる光線１４が、傾斜強
度分布、すなわちｚ軸に沿って直線的に減少する強度を
有することが重要である。図１および図２において、光
線１４は、通常良好に制御される水銀またはハロゲンラ
ンプである光源１６から光ビーム１８が発射され、光ビ
ーム１８が通常光ファイバ束である円から線への変換器
２０内に導かれ、変換器２０が光ビーム１８を軸線が図
の紙面内に伸びるような光線１４に変成することによっ
て生成される。
【００１８】くさび状の不透明体（以下ウェッジとい
う）２２が円から線への変換器２０の前に設置され、光
線１４の（強度）分布を一定ではなく直線的な勾配を有
するように有利に変更するために、光線１４を部分的に
遮断する。
【００１９】図２において、不透明のウェッジ２２は円
から線への変換器２０の前に設置されると、光線１４を
一部遮断し、ウェッジの真下である点Ａには光が届かな
い。逆に、点Ａと同一平面上にあるが点Ａから横方向に
離れている点Ｂには、光線１４からの光が全て届く。点
ＡとＢの間の領域では、ウェッジ２２は光線１４の一部
を遮断し、明暗の変化が明瞭でなくむしろ徐々に変化し
ている影を形成する。
【００２０】もしウェッジ２２がない場合は、ＡとＢの
間の領域を照射する光は均一の強度を有し（ＡとＢの間
の距離が小さい場合は常にこの通りである）、ウェッジ
２２が円から線への変換器の前に設置される場合は、Ａ
とＢの間の領域を照射する光の強度分布は、直線的な勾
配を有する。
【００２１】点ＡとＢの間の領域に入射する光が均一に
照射すると仮定すると、この領域内の全ての点ｚにおけ
る強度Ｉは次の関係式で与えられる。
【数１】 ここでＩmax は最大照射強度であり、ＡおよびＢは点
Ａ、Ｂでのｘ軸方向の距離を表すものとする。ｚの原点
を取り直すことにより、数１は次のように書き換えられ
る。
【数２】
【００２２】Ａを０と仮定し、Ｂが次の関係式３で定義
されるならば、数３を数２に代入することによって数４
が導かれる。
【数３】
【数４】
【００２３】光線１４の強度Ｉは数４の通り、光線の最
大照射強度Ｉmaxとｈ1ｚ／ｈ2ｗ比により算出される。
ここでｗは、ウェッジ２２が円から線への変換器２０と
特徴物１２の間の領域で、光線に対してほぼ垂直に光線
を遮断する長さである。またｈ1は変換器２０とウェッ
ジ２２の間の距離であり、ｈ2はウェッジと表面の間の
距離である（図２参照）。上記から、ウェッジが光線を
遮断する長さｗが大きいほど、またはウェッジと表面の
距離ｈ2が大きいほど、光線の強度Ｉは小さくなり、逆
に変換器とウェッジの間の距離ｈ1が大きいほど、強度
Ｉも大きくなることがわかる。従って、円から線への変
換器２０の前にウェッジ２２を設置することによって生
成される光線１４の強度の傾きはｈ1 とｈ2 の比を変化
させることによって制御可能である。ウェッジ２２と円
から線への変換器２０は、できる限り特徴物１２の近く
に設置することが可能である。
【００２４】傾斜強度分布光線１４が基板１０において
鋭角に導かれる場合、垂直に上方に反射する光の強度Ｉ
rは、基板の反射能が全ての位置において一定であると
すれば、反射面の高さＺ（ｚ軸の位置）によって変化す
る。光線１４の傾斜強度分布が直線的であると仮定する
と、反射光強度は次式によって与えられる。
【数５】 ここでａ、ｂ、およびｋは定数である。
【００２５】特徴物１２の存在のため、反射面の高さ
（Ｚ）は基板１０のｘ軸に沿って変化する。特徴物１２
が座標０とｘ0 の間に位置すると仮定される図１に示さ
れる条件下において、反射面の高さは次式で与えられ
る。
【数６】 数５および数６より次の数が導かれる。
【数７】
【００２６】数６からわかるように、基板１０に傾斜強
度分布光線１４を導くことによって得られる結果的な反
射光強度は、特徴物１２の領域において、通常特徴物よ
り低い位置にある周辺の領域より、その高さのために大
きい。傾斜強度分布光線を使用した結果、特徴物に起因
する反射光強度の増加は、特徴物と基板の間のコントラ
ストを高める。
【００２７】図１の実施例において、線状の光線１４の
長手方向に平行なｙ軸に沿って移動しながら基板上の領
域の薄いストリップの画像を作る働きをする、当業者間
で周知の型の線走査カメラ２４を補助に使用して、基板
１０および特徴物１２の画像がとらえられる。カメラ２
４の出力端子は、前述の第４，８１１，４１０号特許に
記載されているものと同一の視覚処理装置２６に結合さ
れる。
【００２８】視覚処理装置２６は、カメラ２４の出力信
号を、第一にデータを選別するように処理し、従って、
カメラによって画像がとらえられたストリップ内の所定
の目的とする領域を示す画像データのみが保留される。
線走査カメラ２４によって画像がとらえられたストリッ
プ内の目的領域から反射された光の強度を決定するため
に、保留された画像データが視覚処理装置によって処理
される。
【００２９】処理装置からの反射光強度情報を表示する
ために、モニター２８が視覚処理装置２６に結合され
る。基板１０の全表面の画像を得るためには、基板を光
線１４およびカメラ２４によってスパニングまたは掃引
する必要がある。一般にこれは、ｘ軸スライド３０の補
助により、基板１０をｘ軸に沿って移動させることによ
って達成される。
【００３０】線走査カメラは、ｙ軸に沿って移動する領
域の薄いストリップの画像をとらえるために好都合に働
くため、線走査カメラ２４によって基板の画像を得るこ
とには、明確な利点がある。線走査カメラ２４を適当な
位置に置くことにより、それによって画像化されるスト
リップを、傾斜強度分布光線１４によって照射されるス
トリップと一致させることができる。
【００３１】このように、画像化されたストリップの照
射の傾斜強度分布は、良好に決定される。これに対し
て、線走査カメラ２４の代わりに二次元アレイ型カメラ
を使用すると、画像の一端におけるカメラの飽和ともう
一端における非常に暗い画像とを回避するためには、許
容勾配（およびそれに伴って画像を強調する能力）を強
く制限する必要がある。
【００３２】図３において、特徴物１２と特徴物の周囲
の基板上の領域の間のコントラストは、図４のそれに比
べて、非常に大きい。実際に図４においては、特徴物１
２と特徴物の周囲の基板上の領域の間のコントラストは
あまり高くなく、特徴物と周囲の領域との識別を困難に
している。
【００３３】以上、とらえられた画像内の光反射性の位
相幾何学的特徴物とその周辺の背景との間のコントラス
トを高めるための、特徴物とその周囲の画像を、傾斜強
度分布を有する光で照射することによる技術を記述し
た。
【００３４】上述の実施例は本発明の原理の一実施例に
すぎない。当業者によって、本発明の原理を実施し、本
発明の主旨と範囲内における種々の応用や変更が可能で
ある。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように、目的とする特徴物
とその周囲の領域の薄いストリップに、傾斜強度分布を
有する光線を鋭角をなすように照射することによって、
照射されたストリップからの反射光の強度がストリップ
の高さによって変化し、従って、特徴物とそれと異なる
高さの周囲の領域との間のコントラストを高めることが
可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の技術によって、基板上の位相幾何学的
特徴物の画像が強調される方法を示す概略図である。
【図２】図１の方法によって画像を強調するための、傾
斜強度分布光線を生成するための機構を示す概略図であ
る。
【図３】基板と特徴物が線走査カメラと傾斜強度分布光
線によってスパニングされる場合に、カメラと画像処理
装置によって得られる、基板と特徴物を示す画像であ
る。
【図４】基板と特徴物が線走査カメラと実質的に均一の
強度分布の光線によってスパニングされる場合に、カメ
ラと画像処理装置によって得られる、基板と特徴物を示
す画像である。
【符号の説明】
１０ 基板 １２ 位相幾何学的特徴物 １４ 傾斜強度分布光線 １６ 光源 １８ 光源からの光ビーム ２０ 変換器 ２２ ウェッジ ２４ 線走査カメラ ２６ 視覚処理装置 ２８ モニター ３０ ｘ軸スライド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０６Ｆ 15/64 Ｄ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 周囲の背景（１０）と異なる高さを有す
    る光反射性位相幾何学的特徴物（１２）について、特徴
    物と周囲の背景の間のコントラストが高められるように
    二次元画像を得る方法において、（Ａ） その長手方向に傾斜強度分布を有する線状の光線
    （１４）を生成するステップと、（Ｂ）前記 光反射性特徴物（１２）と周囲の背景（１
    ０）に、それらを横切る薄いストリップ領域が照射さ
    れ、前記特徴物とその周囲の背景に入射する光の強度が
    それぞれの高さに比例して変化するように、傾斜強度分
    布を有する線状の光線（１４）を導くステップと、（Ｃ） 線走査カメラ（２４）によって、照射されたスト
    リップの画像をとらえるステップと、（Ｄ） ストリップから反射される光の強度を検出するた
    めに、とらえられた画像を処理するステップと、（Ｅ） 特徴物と周囲の背景の間のコントラストが高めら
    れた二次元画像が得られるように、特徴物とその周囲の
    背景を、光線と線走査カメラによって掃引するステップ
    と、 を含むことを特徴とする二次元画像処理方法。
  2. 【請求項２】 線状の光線（１４）が、 光ビーム（１８）を、線状の光線（１４）を生成するた
    めに円から線への変換器（２０）に導くステップと、線状の 光線の強度分布を一般に均一の状態から勾配を有
    するように変化させるために、線状の光線を部分的に遮
    断するための不透明な物体（２２）を、円から線への変
    換器から間隔をあけて設置するステップによって生成さ
    れることを特徴とする、請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 さらに、不透明な物体（２２）と円から
    線への変換器（２０）の間の距離（ｈ 1 ）と、前記不透
    明な物体と照射される特徴物の間の距離（ｈ 2 ）との比
    を変化させることによって、光線の傾斜強度分布を調節
    するステップを含むことを特徴とする、請求項１記載の
    方法。
  4. 【請求項４】 それぞれ異なる高さを有する光反射性位
    相幾何学的特徴物（１２）と周囲の背景（１０）につい
    て、特徴物と周囲の背景の間のコントラストが高められ
    るように二次元画像を得るための装置において、 その長手方向に傾斜強度分布を有する線状の光線（１
    ４）を生成する手段（１６、２０）と、 それぞれ異なる高さを有する特徴物と周囲の背景上に鋭
    角をなすように、それらの上のストリップ領域が照射さ
    れ、ストリップから反射される光の強度がその高さに比
    例するように、傾斜強度分布を有する線状の光線（１
    ４）を導く手段（２２）と、 光線によって照射されたストリップの画像をとらえる手
    段（２４）と、 光線によって照射されたストリップから反射される光の
    強度を検出するために、とらえられた画像を処理する手
    段（２６）と、 特徴物と周囲の背景の間のコントラストが高められた二
    次元画像を入手可能とするために、特徴物とその周囲の
    背景を、光線と画像をとらえる手段によって掃引する手
    段を含むことを特徴とする二次元画像処理装置。
  5. 【請求項５】 光線を導く手段が、 光ビームを生成するための光源（１６）と、 光ビームを光線に変換するための、円から線への変換器
    （２０）と、 光線を部分的に遮断し、それによって光線の強度が勾配
    を有するようにするための、円から線への変換器の前に
    設置されたくさび状の不透明体（２２）を含むことを特
    徴とする、請求項４記載の装置。
  6. 【請求項６】 光ビームを生成するための光源と、 光ビームを光線に変換するための円から線への変換器
    と、 光線を部分的に遮断し、それによって光線の強度が勾配
    を有するようにするための、円から線への変換器の前に
    設置されたくさび状の不透明体を含むことを特徴とす
    る、特徴物を照射するための傾斜強度分布を有する光線
    を生成する装置。
JP4072195A 1991-02-28 1992-02-24 二次元画像処理方法および装置 Expired - Fee Related JPH07113966B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US662583 1984-10-19
US07/662,583 US5097516A (en) 1991-02-28 1991-02-28 Technique for illuminating a surface with a gradient intensity line of light to achieve enhanced two-dimensional imaging

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06168321A JPH06168321A (ja) 1994-06-14
JPH07113966B2 true JPH07113966B2 (ja) 1995-12-06

Family

ID=24658312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4072195A Expired - Fee Related JPH07113966B2 (ja) 1991-02-28 1992-02-24 二次元画像処理方法および装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5097516A (ja)
EP (1) EP0501683B1 (ja)
JP (1) JPH07113966B2 (ja)
DE (1) DE69232279T2 (ja)

Families Citing this family (80)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6115491A (en) 1996-02-27 2000-09-05 Cyberoptics Corporation Apparatus and method for estimating background tilt and offset
US6049384A (en) * 1996-02-27 2000-04-11 Cyberoptics Corporation Method and apparatus for three dimensional imaging using multi-phased structured light
US5920735A (en) * 1997-01-16 1999-07-06 Gelphman; Janet L. Method and apparatus to observe the geometry of relative motion
US5943125A (en) * 1997-02-26 1999-08-24 Acuity Imaging, Llc Ring illumination apparatus for illuminating reflective elements on a generally planar surface
US5828449A (en) * 1997-02-26 1998-10-27 Acuity Imaging, Llc Ring illumination reflective elements on a generally planar surface
US6118524A (en) * 1997-02-26 2000-09-12 Acuity Imaging, Llc Arc illumination apparatus and method
US6236747B1 (en) 1997-02-26 2001-05-22 Acuity Imaging, Llc System and method for image subtraction for ball and bumped grid array inspection
US5926557A (en) * 1997-02-26 1999-07-20 Acuity Imaging, Llc Inspection method
US6201892B1 (en) 1997-02-26 2001-03-13 Acuity Imaging, Llc System and method for arithmetic operations for electronic package inspection
JPH11220298A (ja) * 1998-02-02 1999-08-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品実装方法
US6148113A (en) * 1998-02-03 2000-11-14 Micrografx, Inc. System for stimulating the depth of field of an image in two dimensional space and method of operation
US6262803B1 (en) * 1998-09-10 2001-07-17 Acuity Imaging, Llc System and method for three-dimensional inspection using patterned light projection
US6768812B1 (en) * 1999-05-27 2004-07-27 Cognex Corporation Method for locating features on an object using varied illumination
US6738504B1 (en) 1999-08-27 2004-05-18 Shinko Electric Industries Co., Ltd Inspection apparatus for semiconductor device and parts mounter using same
JP4052498B2 (ja) 1999-10-29 2008-02-27 株式会社リコー 座標入力装置および方法
JP2001184161A (ja) 1999-12-27 2001-07-06 Ricoh Co Ltd 情報入力方法、情報入力装置、筆記入力装置、筆記データ管理方法、表示制御方法、携帯型電子筆記装置および記録媒体
ATE453147T1 (de) * 2000-07-05 2010-01-15 Smart Technologies Ulc Verfahren für ein kamerabasiertes berührungssystem
US6803906B1 (en) * 2000-07-05 2004-10-12 Smart Technologies, Inc. Passive touch system and method of detecting user input
SE518640C2 (sv) * 2000-07-11 2002-11-05 Mydata Automation Ab Förfarande, anordning för applicering av ett visköst medium på ett substrat, anordning för applicering av ytterligare visköst medium samt användningen av screentryckning
US20020015103A1 (en) * 2000-07-25 2002-02-07 Zhimin Shi System and method of capturing and processing digital images with depth channel
JP3858571B2 (ja) * 2000-07-27 2006-12-13 株式会社日立製作所 パターン欠陥検査方法及びその装置
US7058204B2 (en) * 2000-10-03 2006-06-06 Gesturetek, Inc. Multiple camera control system
US6650422B2 (en) * 2001-03-26 2003-11-18 Advanced Micro Devices, Inc. Scatterometry techniques to ascertain asymmetry profile of features and generate a feedback or feedforward process control data associated therewith
US20040001144A1 (en) 2002-06-27 2004-01-01 Mccharles Randy Synchronization of camera images in camera-based touch system to enhance position determination of fast moving objects
US6954197B2 (en) * 2002-11-15 2005-10-11 Smart Technologies Inc. Size/scale and orientation determination of a pointer in a camera-based touch system
US8456447B2 (en) 2003-02-14 2013-06-04 Next Holdings Limited Touch screen signal processing
US8508508B2 (en) * 2003-02-14 2013-08-13 Next Holdings Limited Touch screen signal processing with single-point calibration
US7629967B2 (en) * 2003-02-14 2009-12-08 Next Holdings Limited Touch screen signal processing
US6710890B1 (en) * 2003-02-26 2004-03-23 Kla-Tencor Technologies Corporation Substrate thickness determination
US7532206B2 (en) 2003-03-11 2009-05-12 Smart Technologies Ulc System and method for differentiating between pointers used to contact touch surface
US20040184653A1 (en) * 2003-03-20 2004-09-23 Baer Richard L. Optical inspection system, illumination apparatus and method for use in imaging specular objects based on illumination gradients
US7352892B2 (en) * 2003-03-20 2008-04-01 Micron Technology, Inc. System and method for shape reconstruction from optical images
US7256772B2 (en) 2003-04-08 2007-08-14 Smart Technologies, Inc. Auto-aligning touch system and method
US7411575B2 (en) * 2003-09-16 2008-08-12 Smart Technologies Ulc Gesture recognition method and touch system incorporating the same
US7274356B2 (en) 2003-10-09 2007-09-25 Smart Technologies Inc. Apparatus for determining the location of a pointer within a region of interest
US7355593B2 (en) * 2004-01-02 2008-04-08 Smart Technologies, Inc. Pointer tracking across multiple overlapping coordinate input sub-regions defining a generally contiguous input region
US7232986B2 (en) * 2004-02-17 2007-06-19 Smart Technologies Inc. Apparatus for detecting a pointer within a region of interest
US7460110B2 (en) * 2004-04-29 2008-12-02 Smart Technologies Ulc Dual mode touch system
US7492357B2 (en) 2004-05-05 2009-02-17 Smart Technologies Ulc Apparatus and method for detecting a pointer relative to a touch surface
US7538759B2 (en) 2004-05-07 2009-05-26 Next Holdings Limited Touch panel display system with illumination and detection provided from a single edge
US8120596B2 (en) 2004-05-21 2012-02-21 Smart Technologies Ulc Tiled touch system
US7428899B2 (en) * 2004-10-14 2008-09-30 Kee Action Sports I Llc Device for storing projectile balls and feeding them into the projectile chamber of a gun
US7234456B2 (en) 2004-10-14 2007-06-26 Kee Action Sports Device for feeding balls into the ball chamber of a handgun
US20070017495A1 (en) * 2004-10-14 2007-01-25 Heddies Andresen Procedure and device for feeding balls into the projectile chamber of a handgun
JP4353100B2 (ja) * 2005-01-21 2009-10-28 パナソニック株式会社 電子部品実装システムおよび電子部品実装方法
WO2007033309A2 (en) * 2005-09-13 2007-03-22 National Paintball Supply, Inc. Clutch and detection means for paintball marker loader
CA2625223A1 (en) * 2005-10-06 2007-04-19 Kee Action Sports I Llc Self-regulation paintball agitator system
CN101317070A (zh) * 2005-10-11 2008-12-03 即动运动有限公司 彩弹装载器的磁性驱动旁通系统
US20070165007A1 (en) * 2006-01-13 2007-07-19 Gerald Morrison Interactive input system
US20070205994A1 (en) * 2006-03-02 2007-09-06 Taco Van Ieperen Touch system and method for interacting with the same
US9442607B2 (en) 2006-12-04 2016-09-13 Smart Technologies Inc. Interactive input system and method
WO2008128096A2 (en) * 2007-04-11 2008-10-23 Next Holdings, Inc. Touch screen system with hover and click input methods
US8094137B2 (en) 2007-07-23 2012-01-10 Smart Technologies Ulc System and method of detecting contact on a display
KR20100055516A (ko) * 2007-08-30 2010-05-26 넥스트 홀딩스 인코포레이티드 개선된 조광을 가진 광학 터치 스크린
KR20100075460A (ko) * 2007-08-30 2010-07-02 넥스트 홀딩스 인코포레이티드 저 프로파일 터치 패널 시스템
US20090213093A1 (en) * 2008-01-07 2009-08-27 Next Holdings Limited Optical position sensor using retroreflection
US20090207144A1 (en) * 2008-01-07 2009-08-20 Next Holdings Limited Position Sensing System With Edge Positioning Enhancement
US8405636B2 (en) * 2008-01-07 2013-03-26 Next Holdings Limited Optical position sensing system and optical position sensor assembly
US20090278816A1 (en) * 2008-05-06 2009-11-12 Next Holdings Limited Systems and Methods For Resolving Multitouch Scenarios Using Software Filters
US20090277697A1 (en) * 2008-05-09 2009-11-12 Smart Technologies Ulc Interactive Input System And Pen Tool Therefor
US20090278794A1 (en) * 2008-05-09 2009-11-12 Smart Technologies Ulc Interactive Input System With Controlled Lighting
US8902193B2 (en) * 2008-05-09 2014-12-02 Smart Technologies Ulc Interactive input system and bezel therefor
US20100079385A1 (en) * 2008-09-29 2010-04-01 Smart Technologies Ulc Method for calibrating an interactive input system and interactive input system executing the calibration method
US20110205189A1 (en) * 2008-10-02 2011-08-25 John David Newton Stereo Optical Sensors for Resolving Multi-Touch in a Touch Detection System
US8339378B2 (en) * 2008-11-05 2012-12-25 Smart Technologies Ulc Interactive input system with multi-angle reflector
US20100225588A1 (en) * 2009-01-21 2010-09-09 Next Holdings Limited Methods And Systems For Optical Detection Of Gestures
US20100229090A1 (en) * 2009-03-05 2010-09-09 Next Holdings Limited Systems and Methods for Interacting With Touch Displays Using Single-Touch and Multi-Touch Gestures
US8692768B2 (en) 2009-07-10 2014-04-08 Smart Technologies Ulc Interactive input system
US20110095977A1 (en) * 2009-10-23 2011-04-28 Smart Technologies Ulc Interactive input system incorporating multi-angle reflecting structure
JP5525798B2 (ja) * 2009-11-20 2014-06-18 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置およびその帯電効果補正方法
WO2011066343A2 (en) * 2009-11-24 2011-06-03 Next Holdings Limited Methods and apparatus for gesture recognition mode control
US20110199387A1 (en) * 2009-11-24 2011-08-18 John David Newton Activating Features on an Imaging Device Based on Manipulations
EP2507682A2 (en) * 2009-12-04 2012-10-10 Next Holdings Limited Sensor methods and systems for position detection
US20110193969A1 (en) * 2010-02-09 2011-08-11 Qisda Corporation Object-detecting system and method by use of non-coincident fields of light
US20110234542A1 (en) * 2010-03-26 2011-09-29 Paul Marson Methods and Systems Utilizing Multiple Wavelengths for Position Detection
EP2573508B1 (en) * 2011-03-14 2014-01-29 Panasonic Corporation Solder height detection method and solder height detection device
DE102011056611A1 (de) * 2011-12-19 2013-06-20 Taurus Instruments Gmbh Verfahren zum Ermitteln einer Partikeleigenschaft und zum Klassifizieren einer Partikelcharge sowie Vorrichtung zum Durchführen der Verfahren
US20190116863A1 (en) 2017-10-24 2019-04-25 Rai Strategic Holdings, Inc. Method for formulating aerosol precursor for aerosol delivery device
US10527557B2 (en) * 2017-12-29 2020-01-07 Radiant Vision Systems, LLC Adaptive diffuse illumination systems and methods
TWI689869B (zh) * 2018-12-28 2020-04-01 致茂電子股份有限公司 影像檢測方法

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2446628A (en) * 1947-03-06 1948-08-10 Eastman Kodak Co Flatness testing apparatus
US3069654A (en) * 1960-03-25 1962-12-18 Paul V C Hough Method and means for recognizing complex patterns
US3695771A (en) * 1970-08-06 1972-10-03 Andras M Bardos Method and apparatus for inspecting surfaces
US3692414A (en) * 1971-02-24 1972-09-19 Harry L Hosterman Non-contacting measuring probe
JPS5418145B1 (ja) * 1971-06-08 1979-07-05
JPS4839750A (ja) * 1971-09-15 1973-06-11
US4009965A (en) * 1972-05-15 1977-03-01 Timothy Reed Pryor Method and apparatus for determining object dimension and other characteristics using diffraction waves
US3962681A (en) * 1972-06-19 1976-06-08 Recognition Equipment Incorporated Page width optical character processing method and system
US3877814A (en) * 1973-02-07 1975-04-15 Ppg Industries Inc Method of and apparatus for detecting concave and convex portions in a specular surface
US4113389A (en) * 1976-04-19 1978-09-12 Morton Kaye Optical measurement system
DE2630209C3 (de) * 1976-07-05 1981-02-12 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Elektro-optische Tastvorrichtung
US4139302A (en) * 1977-02-17 1979-02-13 Dr. Ralph M. Grant Engineering Consultants, Inc. Method and apparatus for interferometric deformation analysis
US4240750A (en) * 1978-10-02 1980-12-23 Hurd William A Automatic circuit board tester
US4295198A (en) * 1979-04-02 1981-10-13 Cogit Systems, Inc. Automatic printed circuit dimensioning, routing and inspecting apparatus
US4379308A (en) * 1980-02-25 1983-04-05 Cooper Industries, Inc. Apparatus for determining the parameters of figures on a surface
US4319843A (en) * 1980-02-25 1982-03-16 Burleigh Instruments, Inc. Interferometer apparatus for the direct measurement of wavelength and frequency
US4473842A (en) * 1981-07-06 1984-09-25 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Apparatus and method for examining printed circuit board provided with electronic parts
JPS58142487A (ja) * 1982-02-18 1983-08-24 Fuji Electric Co Ltd 特徴抽出装置
JPS58156273A (ja) * 1982-03-11 1983-09-17 Hajime Sangyo Kk 画像情報のマスキング装置
US4545070A (en) * 1982-04-30 1985-10-01 Fuji Electric Company, Ltd. Pattern discriminator
US4533245A (en) * 1982-09-30 1985-08-06 Milliken Research Corporation Inspection lighting system
US4578810A (en) * 1983-08-08 1986-03-25 Itek Corporation System for printed circuit board defect detection
JPS60200103A (ja) * 1984-03-26 1985-10-09 Hitachi Ltd 光切断線抽出回路
EP0178090B1 (en) * 1984-09-19 1990-11-22 Ishida Scales Mfg. Co. Ltd. Volume determination process
US4653104A (en) * 1984-09-24 1987-03-24 Westinghouse Electric Corp. Optical three-dimensional digital data acquisition system
US4696047A (en) * 1985-02-28 1987-09-22 Texas Instruments Incorporated Apparatus for automatically inspecting electrical connecting pins
DE3578241D1 (de) * 1985-06-19 1990-07-19 Ibm Verfahren zum identifizieren dreidimensionaler objekte mittels zweidimensionaler bilder.
JPS61293657A (ja) * 1985-06-21 1986-12-24 Matsushita Electric Works Ltd 半田付け外観検査方法
US4647208A (en) * 1985-07-22 1987-03-03 Perceptron, Inc. Method for spatial measurement of holes
NL8601818A (nl) * 1986-07-11 1988-02-01 Picanol Nv Werkwijze om de positie van de inslagdraden van een weefsel te kontroleren.
US4811410A (en) * 1986-12-08 1989-03-07 American Telephone And Telegraph Company Linescan inspection system for circuit boards
US4873651A (en) * 1987-04-21 1989-10-10 Case Western Reserve University Method and apparatus for reconstructing three-dimensional surfaces from two-dimensional images
US4849645A (en) * 1988-03-04 1989-07-18 American Telephone And Telegraph Company Substrate inspection system having two scattered light detecting bundles orthogonally positioned to each other
US4965665A (en) * 1989-10-25 1990-10-23 At&T Bell Laboratories 3D imaging of a substrate using perpendicular scanning directions

Also Published As

Publication number Publication date
EP0501683A3 (en) 1994-10-12
EP0501683B1 (en) 2001-12-12
EP0501683A2 (en) 1992-09-02
DE69232279D1 (de) 2002-01-24
US5097516A (en) 1992-03-17
DE69232279T2 (de) 2002-08-08
JPH06168321A (ja) 1994-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07113966B2 (ja) 二次元画像処理方法および装置
US9488472B2 (en) Apparatus and method for measuring a three dimensional shape
EP0563829B1 (en) Device for inspecting printed cream solder
JP4901903B2 (ja) 三次元検査システム
US20010030744A1 (en) Method of simultaneously applying multiple illumination schemes for simultaneous image acquisition in an imaging system
JP2001194323A (ja) パターン欠陥検査方法及びその装置
US5101442A (en) Three-dimensional imaging technique using sharp gradient of illumination
JPH0572961B2 (ja)
JPH04105341A (ja) 半導体装置のリード曲がり、浮き検出方法及び検出装置
JPH07260701A (ja) 検査範囲認識方法
JP4207302B2 (ja) バンプ検査方法およびその検査装置
JP4025859B2 (ja) 検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法
JPH06109647A (ja) 欠陥検査装置
JPH1062354A (ja) 透明板の欠陥検査装置及び欠陥検査方法
JP2007205828A (ja) 光学画像取得装置、パターン検査装置、光学画像取得方法、及び、パターン検査方法
JP3135063B2 (ja) 比較検査方法および装置
JP2577805B2 (ja) はんだ付部検査方法とその装置並びに電子部品実装状態検査方法
JP4285613B2 (ja) 検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法
JP3223483B2 (ja) 欠陥検査方法とその装置
JPH06258237A (ja) 欠陥検査装置
JP3366211B2 (ja) 鏡面対象物の撮像方式
JP3100448B2 (ja) 表面状態検査装置
JP2006003168A (ja) 表面形状の測定方法およびその装置
JP3984367B2 (ja) 表面欠陥の検査方法および検査装置
JP3095820B2 (ja) 表面状態検出装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees