JP2007205828A - 光学画像取得装置、パターン検査装置、光学画像取得方法、及び、パターン検査方法 - Google Patents
光学画像取得装置、パターン検査装置、光学画像取得方法、及び、パターン検査方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】検査対象試料を載置する載置部と、載置部に載置された検査対象試料に光を照射する光照射部と、検査対象試料に照射する照射光の光量を増減する光量調整部と、検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、を備え、検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減する、光学画像取得装置。
【選択図】 図1
Description
(2)又は、本発明は、検査対象試料の高コントラストの光学画像を取得してパターンを検査するパターン検査装置、また、パターン検査方法を得ることにある。
(2)また、本発明は、検査対象試料のパターンの光学画像を取得し、パターンを検査するパターン検査装置において、検査対象試料を載置する載置部と、載置部に載置された検査対象試料に光を照射する光照射部と、検査対象試料に照射する照射光の光量を増減する光量調整部と、検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、受光した光学画像を記憶する光学画像記憶部と、光学画像を基準画像と比較する比較処理部と、を備え、検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減して光学画像を取得し、取得した光学画像を基準画像と比較する、パターン検査装置にある。
(3)また、本発明は、検査対象試料のパターンに対して照射光を走査して、パターンの光学画像を取得する光学画像取得方法において、検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減する光量増減ステップと、検査対象試料に照射された照射光を受光して光学画像を取得する光学画像取得ステップと、を備える、光学画像取得方法にある。
(4)また、本発明は、検査対象試料のパターンの光学画像を取得し、パターンを検査するパターン検査方法において、検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減する光量増減ステップと、検査対象試料に照射された照射光を受光して光学画像を取得する光学画像取得ステップと、光学画像と基準画像を比較処理する比較処理ステップと、を備える、パターン検査方法にある。
パターン検査装置は、レチクルなどの検査対象試料に形成されたパターンの欠陥を検査するものである。パターン検査装置は、光学画像取得装置を備えている。光学画像取得装置は、検査対象試料に形成されたパターンに光を照射し、パターンを光学画像として取得するものである。パターン検査装置は、例えば図1に示すように、光照射部42、光量調整部44、光学画像受光部46、光学画像を比較するための基準となる基準画像を作成する基準画像作成部48、光学画像と基準画像を比較処理する比較処理部50を備えている。パターン検査装置は、検査対象試料のパターンに照射光を照射する際、特定パターンに対して照射光の光量を調整する。特定パターンは、要求されるパターン精度を有しており、特定パターンごとに照射光の光量が変化させる。光学画像受光部46は、照射光を受光して、パターンの光学画像を取得する。比較処理部50は、この光学画像と基準画像とを比較処理、画像処理などの処理をして光学画像の欠陥を検査する。これにより、高精度が要求される特定パターンは、高コントラストで受光されるので、高精度の特定パターンに生じた傷、欠陥、ゴミ等の異物等は、より確実に発見することができる。
パターン検査装置30は、具体的には、例えば図2に示すように、光学画像取得装置40とデータ処理装置80を備えている。光学画像取得装置40とデータ処理装置80とは、明確に区別する必要はなく、各構成要素を共有する。光学画像取得装置40は、必要に応じて、オートローダ52、光源54、照明光学系56、レーザ測長システム58、レチクル32を載置するXYθテーブル60、θモータ62、Xモータ64、Yモータ66、拡大光学系68、CCD、TDIやフォトダイオードアレイなど光電検出素子の受光装置70、バッファメモリなどを有するセンサ回路72などを備えている。
光学画像取得装置40は、レチクル32のパターンの光学画像を取得する。検査対象試料となるレチクル32は、XYθテーブル60の上に載置される。XYθテーブル60は、テーブル制御部86からの指令で、XYθ各軸のモータ62、64、66によって水平方向及び回転方向に移動するように制御される。光源54からの光は、照明光学系56を介して、レチクル32に形成されたパターンに照射される。光線54は、例えば、スポット状あるいは矩形状の連続した平行光線とする。レチクル32を透過した光は、拡大光学系68を介して、受光装置70に光学画像として結像する。受光装置70に取り込まれた画像は、センサ回路72で処理されて、基準画像と比較するための光学画像のデータとなる。取得された光学画像は、センサ回路72内のバッファメモリ、主記憶装置100、大容量記憶装置102などの所定の記憶装置の光学画像記憶部に記憶される。
レチクル32は、パターン毎に特徴データを持つとよい。特徴データは、レチクル32の画像の特定パターンを指定し、レチクル32のパターンの特徴部分を示すものである。特徴データは、例えば、レチクル32のパターンを設計する段階で作成され、レチクル32のパターンの位置に対応しており、パターンを指定するパターンの識別データである。特定パターンは、例えば、パターンの線幅、パターンの透過光量、パターンのエッジの粗さ、ダミーパターン、又は、補助パターンなどを示している。特定パターンの特徴データは、パターン精度を示し、例えば0から255の範囲の値とする。数が大きいほど高精度を示している。特徴データは、特定パターンと共に大容量記憶装置102や主記憶装置100などの記憶装置の所定の特徴データ記憶部に記憶される。なお、本実施の形態で使用するパターンとは、相互に比較ができるものであればどのような形状でもよく、例えば、独立したパターンでも、独立したパターンの結合したパターンでも、独立したパターンの部位(一部)のパターンでも、又は、結合したパターンの部位(一部)のパターンでもよい。
基準画像作成部48は、参照画像、又は光学画像取得部40で取得した光学画像を基準画像として作成するものである。基準画像の参照画像を作成する基準画像作成部48は、検査対象レチクルの設計データから光学画像に似せた画像である参照画像を作成する。参照画像の基準画像作成部48は、設計データに対して種々の変換を行って参照画像を作成する。参照画像の基準画像作成部48は、図2に示すような展開部92と参照部94で構成することができる。展開部92は、レチクルの画像の設計データを大容量記憶装置102から中央演算処理部110を通して読み出し、イメージデータに変換する。参照部94は、展開部92からイメージデータを受け取り、図形の角を丸めたり、多少ボカしたりして、光学画像に似せる処理を行い、参照画像を作成する。また、基準画像の光学画像を作成する基準画像作成部48は、光学画像取得部40で取得した、例えば高精度の光学画像を比較処理が容易になるように記憶装置の所定領域に格納して、基準画像とする。
図5は、パターン検査方法の流れ図を示している。パターン検査方法は、光学画像取得方法で得た光学画像と基準画像作成部で得た基準画像とを比較処理部で比較して、レチクル32のパターン検査をより適切に、正確に行うことができる。光学画像取得方法は、XYθテーブル60の移動により、レチクル32のパターンに照射された光線を走査し、その光線を受光装置70で受光し、レチクル32のパターンの光学画像を取得する。レチクルのパターンを走査する走査相対速度は、レチクルのパターンの特徴データに基づいて決めることができる。特徴データが高精度パターンを指定している場合、走査相対速度を遅くして、受光装置70に多くの光量を受光させる。また、低精度パターンを指定している場合、走査相対速度を速くして、受光装置70に少ない光量を受光させる。この操作により、高精度のパターンに対して高精度の光学画像を取得でき、しかも、レチクル32のトータルの走査時間を短縮することができる。このようにして得られた光学画像と、基準画像を比較して、適切なパターン検査を行う。
本発明の実施の形態1に係る特定パターンの部位は、図6(A)に示されている。それらに対応した特徴データは、図6(B)に画像データとして示されている。図6(A)の右側の白い四角の点状のホール、例えばコンタクトホールのパターンは、描画精度の高いパターンである。図6(B)の特徴データは、コンタクトホールのパターンの画像位置に対応しており、255の値を示している。特徴データは、画像で表現されており、画素値で表されている。この例では、特徴データの値は、例えば0から255の範囲としてある。数が大きいほど高精度パターンを示している。
本発明の実施の形態2に係る特定のパターンの部位は、図7(A)に示されている。それらに対応した特徴データは、図7(B)に画像データとして示されている。図7(A)の白い太い帯状のパターンは、描画精度の高いパターンであり、その両側の細い帯状のパターンは、描画精度があまり要求されないパターン、例えば補助パターンである。図7(A)の描画精度の高いパターンの特徴データは、255の値で示している。図7(A)の補助パターンの特徴データは、63の値で示している。補助パターンの特徴データは、図6のダミーパターンに比して、大きい値を有している。
32・・レチクル
322・パターン
34・・ストライプ
40・・光学画像取得装置
42・・光照射部
44・・光量調整部
46・・光学画像受光部
48・・基準画像作成部
50・・比較処理部
52・・オートローダ
54・・光源
56・・照明光学系
58・・レーザ測長システム
60・・XYθテーブル
62・・θモータ
64・・Xモータ
66・・Yモータ
68・・拡大光学系
70・・受光装置
72・・センサ回路
80・・データ処理装置
82・・中央演算処理部
84・・オートローダ制御部
86・・テーブル制御部
88・・データベース
90・・データベース作成部
92・・展開部
94・・参照部
96・・バス
98・・位置測定部
100・主記憶装置
102・大容量記憶装置
104・表示装置
106・印刷装置
110・ハーフミラー
112・偏光素子
114・ミラー
116・第1レンズ系
118・第2レンズ系
120・第1スプリッタ
122・第2スプリッタ
Claims (8)
- 検査対象試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得装置において、
検査対象試料を載置する載置部と、
載置部に載置された検査対象試料に光を照射する光照射部と、
検査対象試料に照射する照射光の光量を増減する光量調整部と、
検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、を備え、
検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減する、光学画像取得装置。 - 請求項1に記載の光学画像取得装置において、
光量調整部は、照射光を検査対象試料に対して相対的に走査し、その走査の相対速度を調整できる走査速度調整部であり、
検査対象試料の特定パターンに対して照射光の走査相対速度を調整する、光学画像取得装置。 - 請求項1に記載の光学画像取得装置において、
検査対象試料の特定パターンの精度を示す特徴データを記憶する特徴データ記憶部を備え、
光量調整部は、特定パターンの特徴データを読み出して、特定パターンに対して照射光の光量を増減する、光学画像取得装置。 - 検査対象試料のパターンの光学画像を取得し、パターンを検査するパターン検査装置において、
検査対象試料を載置する載置部と、
載置部に載置された検査対象試料に光を照射する光照射部と、
検査対象試料に照射する照射光の光量を増減する光量調整部と、
検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、
受光した光学画像を記憶する光学画像記憶部と、
光学画像を基準画像と比較する比較処理部と、を備え、
検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減して光学画像を取得し、取得した光学画像を基準画像と比較する、パターン検査装置。 - 検査対象試料のパターンに対して照射光を走査して、パターンの光学画像を取得する光学画像取得方法において、
検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減する光量増減ステップと、
検査対象試料に照射された照射光を受光して光学画像を取得する光学画像取得ステップと、を備える、光学画像取得方法。 - 請求項5に記載の光学画像取得方法において、
光量増減ステップは、照射光を検査対象試料に対して相対的に走査し、その走査の相対速度を調整できる走査速度調整ステップであり、
検査対象試料の特定パターンに対して照射光の走査相対速度を調整する、光学画像取得方法。 - 請求項5に記載の光学画像取得方法において、
光量増減ステップは、特定パターンの精度を示す特徴データに基づいて、照射光量を調整する、光学画像取得方法。 - 検査対象試料のパターンの光学画像を取得し、パターンを検査するパターン検査方法において、
検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減する光量増減ステップと、
検査対象試料に照射された照射光を受光して光学画像を取得する光学画像取得ステップと、
光学画像と基準画像を比較処理する比較処理ステップと、を備える、パターン検査方法。
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