JPH05249047A

JPH05249047A - パターン検査装置

Info

Publication number: JPH05249047A
Application number: JP4047310A
Authority: JP
Inventors: Tetsuo Hizuka; 哲男肥塚; Shigeki Taniguchi; 茂樹谷口; Giichi Kakigi; 義一柿木; Moritoshi Ando; 護俊安藤
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1992-03-04
Filing date: 1992-03-04
Publication date: 1993-09-28

Abstract

(57)【要約】【目的】パターンの検査装置に関し、特にプリント配線
板のパターン検査などに用いるパターン検査装置の改善
を目的とする。【構成】被検査対象16に光Ｌを照射する光源10と、前記
被検査対象16上に前記光Ｌを走査させる光走査手段11
と、前記被検査対象16を移動させる移動手段12と、前記
被検査対象16からの反射光ＲＬの位置を検出する光検出
手段13と、前記光検出手段13によって検出された反射光
ＲＬの位置に基づいて前記被検査対象16の配線パターン
を認識し、かつ前記被検査パターンの検査に係る画像処
理をする画像処理手段14を具備するパターン検査装置に
おいて、前記移動手段12及び画像処理手段14に接続さ
れ、前記画像処理手段14の処理状態に基づいて前記被検
査対象16の移動速度を調整する移動速度調整手段15を設
けることを含み構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、パターン検査装置に関
し、更に詳しく言えばプリント配線板のパターン検査な
どに用いるパターン検査装置の改善に関する。

【０００２】近年、電子機器の高密度化に伴い、内部の
プリント基板も高密度配線を目的とした多層薄膜パター
ンの開発が盛んになっている。この製造工程において
は、配線パターンの欠け、断線や短絡などを検査するパ
ターン検査が必須である。この検査は、配線パターンの
微細化に伴い、もはや作業者の目視では困難となってい
る。

【０００３】そこで、被検査対象に対して非接触で、か
つ高速自動検査を行えるパターンの検査装置の開発が強
く求められており、さらに、検査装置として、被検査対
象のパターン形状や、密度に依存しない汎用性が要求さ
れる。

【０００４】

【従来の技術】以下で、従来例に係るパターン検査装置
について図を参照しながら説明する。図９，図10は、従
来例に係るパターン検査装置の構成図（その１，その
２）である。

【０００５】従来例に係る第１のパターン検査装置は、
図９に示すように、光走査手段１Ａ，光走査レンズ１
Ｂ，移動ステージ２Ａ，ステージコントローラ２Ｂ，結
像レンズ３Ａ，光センサ３Ｂ，画像メモリ４Ａ，認識Ｃ
ＰＵ４Ｂ，コントローラ７，光源８から成り、被検査対
象６の配線パターンの欠け、断線や短絡などを検査する
パターン検査をする装置である。

【０００６】当該装置の機能は、まず光源８によってレ
ーザ光線ｌａが、被検査対象６に向けて斜め上方から発
せられる。このレーザ光線ｌａは光走査手段１Ａ及び光
走査レンズ１Ｂによって被検査対象６上で一方向に結像
・走査される。

【０００７】こうして結像・走査されたレーザ光線ｌａ
は、被検査対象６によって反射され、反射レーザ光線ｒ
L として結像レンズ３Ａによって光センサ３Ｂに結像さ
れる。

【０００８】光センサ３Ｂによって配線パターンの二次
元画像情報の基になる反射レーザ光線ｒL が検出され、
配線パターンの二次元画像情報が画像メモリ４Ａに向け
て出力される。画像メモリ４Ａにこれらの二次元画像情
報が格納され、認識ＣＰＵ４Ｂによって被検査対象６の
配線パターンが検査される。

【０００９】光走査手段１Ａ及び光走査レンズ１Ｂによ
るレーザ光線ｌａの走査が１回終了すると、移動ステー
ジ２Ａ及びステージコントローラ２Ｂによって被検査対
象６がレーザ光線ｌａの走査方向と垂直な方向に移動す
る。こうしてその直前に検査した領域に隣接する領域の
検査をする。これを繰り返すことによって被検査対象６
全面の配線パターンのパターン検査をしていた。

【００１０】なお、光走査手段１Ａ及びステージコント
ローラ２Ｂにはコントローラ７が接続され、該コントロ
ーラ７によって光走査手段１Ａ及びステージコントロー
ラ２Ｂの制御がなされる。

【００１１】また、従来例に係る第２のパターン検査装
置は、図10に示すように、画像メモリ４Ａ′，４
Ａ′′，… 、認識ＣＰＵ４Ｂ′，４Ｂ′′，…，ホス
トＣＰＵ４Ｃ及び並列化回路４Ｄが従来例に係る第１の
パターン検査装置に加えて設けられている。

【００１２】従来例に係る第２のパターン検査装置が従
来例に係る第１のパターン検査装置と異なる点は、配線
パターンの二次元画像情報が格納される画像メモリと配
線パターンの検査をする認識ＣＰＵが複数設けられてお
り、それらによって二次元画像情報の格納処理や、配線
パターンの検査処理などの処理を並列化することによっ
て高速化を図っている点である。

【００１３】以上のようなパターン検査装置を用いて被
検査対象の配線パターンの検査をしていた。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】ところで従来例に係る
第１，第２のパターン検査装置によれば、被検査対象６
の配線パターン形状，密度と認識ＣＰＵ４Ｂの処理能力
などに基づいて、移動ステージ２Ａの移動速度が一定値
に設定されていた。

【００１５】このため、例えば、配線パターン（以下被
検査パターンという）が高密度と低密度な領域が混在し
ているような被検査対象６のパターン検査をする場合に
おいて、当該移動ステージ２Ａが、低密度な領域を検査
するのに適した移動速度（比較的高速な速度）に設定さ
れていると、高密度な領域において、まだ処理が終了し
ていないにも関わらず、移動ステージ２Ａが次の処理領
域に移動し、移動ステージ２Ａ（以下移動手段という）
が画像メモリ４Ａや認識ＣＰＵ４Ｂ（以下これらを総称
して画像処理手段という）の処理能力を越えて先行制御
されてしまい、当該検査処理に支障をきたすといった問
題が生じる。

【００１６】なお、高密度な領域に合わせて移動速度を
低速に設定すると、低密度な領域において、検査処理に
要する時間が必要以上にかかるといった問題が生じる。
このようにして、従来の装置においては、パターン検査
において、安定な測定ができないといった問題が生じ
る。

【００１７】本発明は、かかる従来例の問題点に鑑み創
作されたものであり、移動手段の移動速度を被検査パタ
ーンの状態などによらずに一定に設定することなく、移
動手段の制御が画像処理手段の処理能力を越えて先行制
御されることを極力抑止し、パターン検査の信頼性の向
上を図ることが可能になるパターン検査装置の提供を目
的とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】図１，図２は、本発明に
係るパターン検査装置の原理図（その１，その２）であ
る。本発明に係る第１のパターン検査装置は、図１
（ａ）に示すように、被検査対象16に光Ｌを照射する光
源10と、前記被検査対象16上に前記光Ｌを走査させる光
走査手段11と、前記被検査対象16を移動させる移動手段
12と、前記被検査対象16からの反射光ＲＬの位置を検出
する光検出手段13と、前記光検出手段13によって検出さ
れた反射光ＲＬの位置に基づいて前記被検査対象16の配
線パターンを認識し、かつ前記被検査パターンの検査に
係る画像処理をする画像処理手段14を具備するパターン
検査装置において、前記移動手段12及び画像処理手段14
に接続され、前記画像処理手段14の処理状態に基づいて
前記被検査対象16の移動速度を調整する移動速度調整手
段15を設けたことを特徴とする。

【００１９】なお、本発明に係る第１のパターン検査装
置において、図１（ｂ）に示すように、前記移動速度調
整手段15が検査パターン密度検出手段15Ａから成り、前
記検査パターン密度検出手段15Ａが、被検査対象16の被
検査パターンの形成密度を示す疎密情報ＤＰを検出し、
前記被検査パターンの疎密情報ＤＰに基づいて前記被検
査対象16の移動速度を調整することを特徴とする。

【００２０】また、本発明に係る第１のパターン検査装
置において、図１（ｃ）に示すように、前記移動速度調
整手段15が、負荷分析手段15Ｂから成り、前記負荷分析
手段15Ｂが、前記画像処理手段14の画像処理制御に係る
負荷状態ＬＣを検出し、前記負荷状態ＬＣに基づいて前
記被検査対象16の移動速度を調整することを特徴とす
る。

【００２１】さらに、本発明に係る第２，第３のパター
ン検査装置は、図２（ｄ）に示すように、本発明に係る
第１のパターン検査装置において、前記画像処理手段14
が複数設けられ、前記移動速度調整手段15が前記検査パ
ターン密度検出手段15Ａや負荷分析手段15Ｂから成るこ
とを特徴とする。

【００２２】また、本発明に係る第４のパターン検査装
置は、図２（ｅ）に示すように、本発明に係る第１のパ
ターン検査装置において、前記光源10，光走査手段11，
移動手段12及び光検出手段13から成る光学系ＯＰが複数
設けられることを特徴とし、上記目的を達成する。

【００２３】

【作用】本発明に係る第１のパターン検査装置によれ
ば、図１（ａ）に示すように、移動速度調整手段15を設
けている。

【００２４】例えば、移動速度調整手段15によって画像
処理手段14の処理状態に基づいて被検査対象16の移動速
度が調整される。このため、被検査対象16の配線パター
ンの状態に対応して被検査対象16の移動速度を調整する
ことにより、被検査対象16の移動速度が画像処理手段14
の処理能力を超えて先行することを抑止することができ
る。これにより、当該パターン検査の信頼性の向上を図
ることが可能になる。

【００２５】なお、本発明に係る第１のパターン検査装
置において、図１（ｂ）に示すように、移動速度調整手
段15は、配線パターン密度検出手段15Ａから成るもので
ある。

【００２６】例えば、配線パターン密度検出手段15Ａに
よって、被検査対象16の配線パターンの疎密性ＤＰが検
出され、配線パターンの疎密性ＤＰに基づいて被検査対
象16の移動速度が調整される。

【００２７】このため、被検査対象16の配線パターンが
疎な場合は被検査対象16の移動速度を高速にし、被検査
対象16の配線パターンが密であって検査処理に時間のか
かるような場合は、被検査対象16の移動速度を低速に抑
えることができる。

【００２８】これにより、被検査対象16の移動速度が画
像処理手段14の画像処理速度を超えて先行することを抑
止することができる。よって、当該パターン検査の信頼
性の向上を図ることが可能になる。

【００２９】また、本発明に係る第１のパターン検査装
置において、図１（ｃ）に示すように、移動速度調整手
段15は、負荷分析手段15Ｂから成るものである。例え
ば、負荷分析手段15Ｂによって、画像処理手段14の画像
処理に係る負荷状態ＬＣが検出され、負荷状態ＬＣに基
づいて被検査対象16の移動速度が調整される。

【００３０】このため、画像処理手段14の画像処理に係
る負荷状態ＬＣがそれほど過大でなく、画像処理手段14
の処理能力を超えないときは被検査対象16の移動速度を
高速にし、また、負荷状態ＬＣが過大になって画像処理
手段14の処理能力を超えるようなときは、被検査対象16
の移動速度を低速に抑えることができる。

【００３１】これにより、被検査対象16の移動速度が画
像処理手段14の画像処理速度を超えて先行することを抑
止することができる。よって、当該パターン検査の信頼
性の向上を図ることが可能になる。

【００３２】さらに、本発明に係る第２，第３のパター
ン検査装置によれば、図２（ｄ）に示すように、本発明
に係る第１のパターン検査装置において、画像処理手段
14が複数設けられ、移動速度調整手段15が検査パターン
密度検出手段15Ａや負荷分析手段15Ｂから成る。

【００３３】例えば、移動速度調整手段15によって、被
検査対象16の移動速度が調整される。このため、複数の
画像処理手段14によって当該検査処理を並列化する装置
においても、被検査対象16の移動速度が画像処理手段14
の画像処理速度を超えて先行することを抑止することが
できる。よって、当該パターン検査の信頼性の向上を図
ることが可能になる。

【００３４】また、本発明に係る第４のパターン検査装
置によれば、図２（ｅ）に示すように、本発明に係る第
１のパターン検査装置において、光源10，光走査手段1
1，移動手段12及び光検出手段13から成る光学系ＯＰが
複数設けられている。

【００３５】このため、複数の光学系ＯＰを設けたこと
により２つの被検査対象16に対応する２種類の二次元画
像情報が検出され、検査処理のために必要なデータが膨
大になるような場合においても、画像処理手段14の処理
能力に応じて、被検査対象16の移動速度の調整ができ
る。

【００３６】これにより、被検査対象16の移動速度が画
像処理手段14の画像処理速度を超えて先行することを抑
止することができる。よって、当該パターン検査の信頼
性の向上を図ることが可能になる。

【００３７】

【実施例】次に図を参照しながら本発明の実施例につい
て説明をする。図３〜図８は、本発明の実施例に係るパ
ターン検査装置を説明する図である。以下で、本発明の
実施例に係るパターン検査装置について図３〜図８を参
照しながら説明する。

【００３８】（１）第１の実施例以下で、各実施例に係るパターンの検査装置について図
３を参照しながら説明する。図３は、本発明の第１の実
施例に係るパターンの検査装置の構成図である。

【００３９】本発明の第１の実施例に係るパターンの検
査装置は、被検査対象26の配線パターンを検査する装置
であって、光源20，光走査手段21Ａ，光走査レンズ21
Ｂ，移動ステージ22Ａ，ステージコントローラ22Ｂ，結
像レンズ23Ａ，光センサ23Ｂ，画像メモリ24Ａ，認識Ｃ
ＰＵ24Ｂ，パターン密度計測回路25及びコントローラ27
から成る。

【００４０】光源20は、光源10の一実施例であり、被検
査対象26の配線パターンの検出に係るレーザ光線Ｌａを
発生するものである。なお、ここでレーザ光線Ｌａは光
Ｌの一例であり、配線パターンは被検査パターンの一例
である。

【００４１】光走査手段21Ａ及び光走査レンズ21Ｂは、
光走査手段11の一実施例を構成するものであり、照射す
るレーザ光線Ｌａを被検査対象26上で走査させるもので
ある。

【００４２】移動ステージ22Ａ及びステージコントロー
ラ22Ｂは移動手段12の一実施例を構成するものである。
ここで、移動ステージ22Ａは、被検査対象26を支持し、
かつ二次元方向に移動することによって被検査対象26を
移動させるものである。

【００４３】ステージコントローラ22Ｂは、移動速度制
御信号ＣＶに基づいて移動ステージ22Ａの移動制御をす
るものである。なお、移動速度制御信号ＣＶとは移動ス
テージ22Ａの移動速度を調整する信号である。例えば、
配線パターンの本数が多い領域では、移動速度を減速
し、本数が少ない領域では、移動速度を加速するなどと
いうようにして移動速度を調整する。

【００４４】結像レンズ23Ａ及び光センサ23Ｂは、光検
出手段13の一実施例を構成するものである。結像レンズ
23Ａは、被検査対象26上に走査されたレーザ光線Ｌａの
被検査対象26による反射レーザ光線ＬＲを集光し、光セ
ンサ23Ｂに結像させるものである。

【００４５】光センサ23Ｂは、反射レーザ光線ＬＲの像
を自身に結像し、それに基づいて被検査対象26の配線パ
ターンの二次元画像情報ＴＩを検出し、画像メモリ24Ａ
に出力するものである。

【００４６】画像メモリ24Ａ及び認識ＣＰＵ24Ｂは、画
像処理手段14の一実施例を構成するものである。画像メ
モリ24Ａは、配線パターンの二次元画像情報ＴＩを格納
し、認識ＣＰＵ24Ｂ及びパターン密度計測回路25に出力
するものである。

【００４７】認識ＣＰＵ24Ｂは、配線パターンの二次元
情報に基づいて配線パターンの検査処理をし、外部にそ
の検査結果を認識結果データＣＤとして出力するもので
ある。

【００４８】パターン密度計測回路25は、検査パターン
密度検出手段15Ａの一実施例であり、被検査対象26の配
線パターンの二次元画像情報ＴＩに基づいて移動速度制
御信号ＣＶをステージコントローラ22Ｂに出力するもの
である。

【００４９】コントローラ27は、光走査手段21Ａの走査
制御をし、パターン密度計測回路25にライン終了信号Ｌ
Ｓを出力するものである。ライン終了信号ＬＳについて
は図４で後述する。

【００５０】以下で、本発明に係る第１の実施例のパタ
ーン検査装置の動作について説明する。まず、光源20に
よって被検査対象26の配線パターンの検出に係るレーザ
光線Ｌａが発生される。

【００５１】次に、レーザ光線Ｌａが移動ステージ22Ａ
によって支持された被検査対象26上で、コントローラ27
によって制御される光走査手段21Ａ及び光走査レンズ21
Ｂによって走査されながら照射される。

【００５２】次いで、被検査対象26によってレーザ光線
Ｌａが反射され、反射レーザ光線ＬＲとして結像レンズ
23Ａに向けて進行する。さらに、結像レンズ23Ａによっ
て反射レーザ光線ＬＲが集光され、光センサ23Ｂにその
像が結像される。

【００５３】次に、光センサ23Ｂによって結像された反
射レーザ光線ＬＲの像に基づいて被検査対象26の配線パ
ターンの二次元画像情報ＴＩが検出され、画像メモリ24
Ａに出力される。

【００５４】次いで、画像メモリ24Ａによって配線パタ
ーンの二次元画像情報ＴＩが保持され、認識ＣＰＵ24Ｂ
及びパターン密度計測回路25に出力される。さらに、認
識ＣＰＵ24Ｂによって被検査対象26の配線パターンの二
次元画像情報ＴＩに基づいて配線パターンの検査処理が
される。

【００５５】次いで、光走査手段21Ａ及び光走査レンズ
21Ｂによるレーザ光線Ｌａの走査が１ライン終了する
と、コントローラ27によって、パターン密度計測回路25
にライン終了信号ＬＳが出力される。ライン終了信号Ｌ
Ｓについては図４で後述する。

【００５６】１ライン終了後、次のラインの検査処理に
移行するため、ライン終了信号ＬＳに基づいて移動ステ
ージ22Ａがその移動速度をステージコントローラ22Ｂに
よる制御を受けながら移動する。

【００５７】このとき、ステージコントローラ22Ｂによ
って、移動速度制御信号ＣＶに基づいて移動ステージ22
Ａの移動制御がされる。例えば、配線パターンの本数が
多い領域では、移動速度が減速され、配線パターンの本
数が少ない領域では、移動速度が維持されるか、加速さ
れる。

【００５８】この移動制御は、パターン密度計測回路25
によってなされる。すなわち、被検査対象26の配線パタ
ーンの二次元画像情報ＴＩに基づいて移動速度制御信号
ＣＶがパターン密度計測回路25によってステージコント
ローラ22Ｂに出力される。この移動制御については図３
で詳述する。

【００５９】このようにして被検査対象26上の次のライ
ンのパターン検査に移行し、順次１ラインごとのパター
ン検査をすることにより、被検査対象26の全面の配線パ
ターンのパターン検査を行うことができる。

【００６０】以下でステージコントローラ22Ｂの移動制
御をするパターン密度計測回路25の動作について図３を
参照しながら詳述する。図４は、本発明の第１，第２の
実施例に係るパターン検査装置の補足説明図である。

【００６１】図４（ａ）は被検査対象26の配線パターン
の説明図であり、図４（ｂ）は本発明の第１，第２の実
施例に係るパターン密度計測回路25の構成図である。図
４（ａ）でｘ軸方向はレーザ光線Ｌａの光走査方向を示
し、ｙ軸方向は移動ステージ22Ａの移動方向を示す。

【００６２】当該被検査対象26の配線パターンは図４
（ａ）に示すように、複数本の配線パターンＷＰが基板
上に形成されているものである。図４（ａ）に示すよう
に、レーザ光線Ｌａはｘ軸方向に走査される。レーザ光
線Ｌａのｘ軸方向の走査が１回終了すると、レーザ光線
Ｌａの照射した領域の次に照射する領域を照射するため
に移動ステージ22Ａがレーザ光線Ｌａの照射する幅の分
だけｙ軸方向に移動する。この動作を繰り返すことによ
り、被検査対象26の配線パターン全面にレーザ光線を照
射することができる。

【００６３】同図（ｂ）は本発明の第１，第２の実施例
に係るパターン密度計測回路25の構成図である。当該パ
ターン密度計測回路25は、ノイズ除去フィルタ25Ａ，Ｄ
型フリップフロップ25Ｂ，カウンタ25Ｃ及びラッチ25Ｄ
から成るものである。

【００６４】ノイズ除去フィルタ25Ａは画像メモリ24Ａ
から出力される画像データＩＤのノイズを除去してＤ型
フリップフロップ25Ｂに出力するフィルタである。Ｄ型
フリップフロップ25Ｂはノイズ除去フィルタ25Ａから出
力される画像データＩＤを画像クロックＣＫに基づいて
カウンタ25Ｃに出力するものである。

【００６５】カウンタ25Ｃは画像データＩＤの中から配
線パターンの本数をカウントしたデータであるパターン
密度データPDD を、走査が１ライン終了した時点でラッ
チ25Ｄに出力するものである。なお、ここで「走査が１
ライン終了する」とは、レーザ光線Ｌａのｘ軸方向の走
査が一回終了することを示し、移動ステージ22Ａがｙ軸
方向に移動する直前の状態を示す。また、パターン密度
データPDD は、疎密情報ＤＰの一例である。

【００６６】ラッチ25Ｄは、パターン密度データPDD を
一時保持し、外部のステージコントローラ22Ｂにこのデ
ータを移動速度制御信号ＣＶとして出力するものであ
る。この際、当該回路外部のコントローラ27から出力さ
れるライン終了信号ＬＳが当該ラッチ25Ｄに入力される
と、移動速度制御信号ＣＶを出力する。

【００６７】当該回路の動作は、まず、画像メモリ24Ａ
から、画像データＩＤ及び画像クロックＣＫが供給され
る。画像データＩＤはノイズ除去フィルタ25Ａによって
ノイズを除去された後にＤ型フリップフロップ25Ｂのデ
ータ入力部に入力され、画像クロックＣＫはＤ型フリッ
プフロップ25Ｂのクロック入力部に入力される。

【００６８】次に、Ｄ型フリップフロップ25Ｂによって
画像データＩＤが画像クロックＣＫに基づいてカウンタ
25Ｃに出力される。カウンタ25Ｃによって、画像データ
ＩＤの中から配線パターンの本数がカウントされ、走査
が１ライン終了した時点でパターン密度データPDD とし
てラッチ25Ｄに出力される。

【００６９】ラッチ25Ｄによってパターン密度データPD
D が一時保持され、ライン終了信号ＬＳに基づいてこの
データが移動速度制御信号ＣＶとして外部のステージコ
ントローラ22Ｂに出力される。

【００７０】こうして出力された移動速度制御信号ＣＶ
に基づいて、ステージコントローラ22Ｂがその配線パタ
ーンの密度を検出して移動速度を制御する。以下で当該
移動速度の制御内容について詳述する。

【００７１】予め設定されている認識ＣＰＵ24Ｂの処理
能力をｍ（本／ｓ：単位時間あたり、当該ＣＰＵが処理
可能な配線パターンの本数），レーザ光線の走査速度
（以下光走査速度という）をｔ（ライン／ｓ：単位時間
あたりのレーザ光線の走査ライン数），そして移動速度
制御信号ＣＶにある配線パターン密度をｎ（本／ライ
ン：レーザ光線の走査ライン１本あたりの配線パターン
の本数）とすると、もし、ｎｔ＞ｍならば移動ステージ
22Ａの移動速度を減速し、ｎｔ＜ｍであれば、移動速度
を変化しないかあるいは加速する。このようにしてステ
ージコントローラ22Ｂは移動速度の制御をしている。

【００７２】以上のようにして、本発明の第１の実施例
に係るパターン検査装置によれば、図３に示すように、
パターン密度計測回路25を設けている。例えば、パター
ン密度計測回路25によって、被検査対象26のレーザ光線
が走査する領域における配線パターンの密度が検出さ
れ、配線パターンの密度に基づいて被検査対象26の移動
速度が調整される。

【００７３】このため、被検査対象26の配線パターンの
密度が低いときには被検査対象26の移動速度を高速に
し、被検査対象26の配線パターンの密度が高く、当該検
査処理に時間がかかるような場合は、被検査対象26の移
動速度を低速に抑えるなどして随時対処することができ
る。

【００７４】これにより、被検査対象26を画像処理手段
24の画像処理能力の範囲内で移動制御することができ
る。よって、当該パターン検査の信頼性の向上を図るこ
とが可能になる。

【００７５】（２）第２の実施例以下で、本発明の第２の実施例に係るパターン検査装置
について図５を参照しながら説明する。図５は、本発明
の第２の実施例に係るパターン検査装置の構成図であ
る。なお、本実施例においては、第１の実施例と共通す
る点については重複するので説明を省略する。

【００７６】本実施例に係るパターン検査装置は、図５
に示すように、被検査対象26の配線パターンを検査する
装置であって、光源20, 光走査手段21Ａ，光走査レンズ
21Ｂ，移動ステージ22Ａ，ステージコントローラ22Ｂ，
結像レンズ23Ａ，光センサ23Ｂ，画像メモリ241A,242A
，…，認識ＣＰＵ241B,242B ，…，ホストＣＰＵ24
Ｃ，並列化回路24Ｄ，パターン密度計測回路25及びコン
トローラ27から成る。

【００７７】本実施例に係るパターン検査装置が第１の
実施例と異なる点は、図４に示すように、複数の画像メ
モリ241A,242A ，…，複数の認識ＣＰＵ241B,242B ，
…，ホストＣＰＵ24Ｃ及び並列化回路24Ｄを設けてパタ
ーン検査の並列化処理を図っている点である。

【００７８】画像メモリ241A,242A ，…，認識ＣＰＵ24
1B,242B ，…，ホストＣＰＵ24Ｃ及び並列化回路24Ｄ
は、画像処理手段14の一実施例を構成するものである。
画像メモリ241B,242B ，…，は、被検査対象26の配線パ
ターンの二次元画像情報ＴＩを格納し、認識ＣＰＵ241
B,242B ，…，及びパターン密度計測回路25に出力する
ものである。

【００７９】認識ＣＰＵ241B,242B ，…，は、配線パタ
ーンの二次元画像情報ＴＩ（以下二次元画像情報ＴＩと
いう）に基づいて配線パターンの検査処理をし、外部に
その検査結果を認識結果データＣＤとして出力するもの
である。

【００８０】ホストＣＰＵ24Ｃは、並列化回路24Ｄと認
識ＣＰＵ241B,242B ，…，に出力される。その機能は、
並列化回路24Ｄの駆動制御をし、かつ複数の認識ＣＰＵ
241B,242B ，…，から出力される複数の認識結果データ
ＣＤを整理して外部に出力する。

【００８１】並列化回路24Ｄは、光センサ23Ｂからの配
線パターンの二次元画像情報ＴＩを複数の画像メモリ24
1A,242A ，…，に分割して供給するものである。当該装
置の動作は、光センサ23Ｂによって反射レーザ光線ＬＲ
の像が自身に結像され、それに基づいてレーザ光線Ｌａ
の照射領域１ライン分の被検査対象26の配線パターンの
二次元画像情報ＴＩが検出されるところまでは第１の実
施例と同じであるので説明を省略する。

【００８２】すなわち、二次元画像情報ＴＩは光センサ
23Ｂによって検出され、その後、並列化回路24Ｄに出力
される。該並列化回路24Ｄによって二次元画像情報ＴＩ
が複数の画像メモリ241A,242A ，…，に分割して供給さ
れる。

【００８３】次に、複数の画像メモリ241A,242A ，…，
に分割して供給された二次元画像情報ＴＩが複数の認識
ＣＰＵ241B,242B ，…，に出力され、該認識ＣＰＵ241
B,242B ，…，によってパターンの検査処理がなされ
る。

【００８４】これらのパターンの検査処理結果は認識結
果データＣＤとしてホストＣＰＵ24Ｃに出力され、該ホ
ストＣＰＵ24Ｃによって複数の認識結果データＣＤが整
理され、外部に出力される。

【００８５】以上の過程で１ラインの検査が終了したの
ち、次のラインの検査処理に移行するため、ライン終了
信号ＬＳに基づいて移動ステージ22Ａがステージコント
ローラ22Ｂによって移動制御されながら移動する。

【００８６】このとき、ステージコントローラ22Ｂによ
って、移動速度制御信号ＣＶに基づく移動ステージ22Ａ
の移動制御がされる。この移動制御は、パターン密度計
測回路25によってなされる。すなわち、被検査対象26の
配線パターンの二次元画像情報ＴＩに基づいて移動速度
制御信号ＣＶがパターン密度計測回路25によってステー
ジコントローラ22Ｂに出力される。この移動制御につい
ては図４で詳述したとおりである。

【００８７】このようにして被検査対象26上の次のライ
ンのパターン検査に移行し、順次１ラインごとのパター
ン検査をすることにより、被検査対象26の全面の配線パ
ターンのパターン検査を行うことができる。

【００８８】なお、このとき、図５に示すように、パタ
ーン密度計測回路25は、１つの画像メモリ241Aにのみ接
続されており、他の画像メモリ（例えば241B）には接続
されていない。

【００８９】このことは、画像メモリ241Aの配線パター
ンの密度のみに基づいて移動ステージ22Ａの移動速度が
調整されることを意味する。すなわち、該画像メモリ24
1Aを１つのサンプルとして移動速度制御の基準としてお
り、例えば他の画像メモリが過負荷になっていても移動
速度は低減されない。

【００９０】なお、本実施例においてはパターン密度計
測回路25を１つの画像メモリ241Aのみに接続して配線パ
ターンの密度を検出していたが、各画像メモリに対応す
る数のパターン密度計測回路を各画像メモリに接続させ
て、各画像メモリに入力される配線パターンの密度を検
出することも可能である。

【００９１】以上のようにして、本発明の第２の実施例
に係るパターン検査装置によれば、図５に示すように、
パターン密度計測回路25，複数の画像メモリ241A,242A
，…，複数の認識ＣＰＵ241B,242B ，…，ホストＣＰ
Ｕ24Ｃ及び並列化回路24Ｄを設けている。

【００９２】例えば、パターン密度計測回路25によっ
て、被検査対象26のレーザ光線が走査する領域における
配線パターンの密度が検出され、配線パターンの密度に
基づいて被検査対象26の移動速度が調整される。

【００９３】このため、被検査対象26の配線パターンの
密度が低いときには被検査対象26の移動速度を高速に
し、被検査対象26の配線パターンが密であって、当該検
査処理に時間がかかるような場合は、被検査対象26の移
動速度を低速に抑えるなどして随時対処することができ
る。

【００９４】これにより、複数の画像メモリや、認識Ｃ
ＰＵによって当該検査処理を並列化する装置において
も、被検査対象26を画像処理手段24の画像処理能力の範
囲内で移動制御することができる。よって、当該パター
ン検査の信頼性の向上を図ることが可能になる。

【００９５】（３）第３の実施例以下で、本発明の第３の実施例に係るパターン検査装置
について図６を参照しながら説明する。図６は、本発明
の第３の実施例に係るパターン検査装置の構成図であ
る。なお、本実施例においては、第１，第２の実施例と
共通する点については重複するので説明を省略する。

【００９６】本発明の第３の実施例に係るパターン検査
装置は、図６に示すように、被検査対象26の配線パター
ンを検査する装置であって、光源20, 光走査手段21Ａ，
光走査レンズ21Ｂ，移動ステージ22Ａ，ステージコント
ローラ22Ｂ，結像レンズ23Ａ，光センサ23Ｂ，画像メモ
リ241A,242A ，…，認識ＣＰＵ241B,242B ，…，ホスト
ＣＰＵ24Ｃ，並列化回路24Ｄ，コントローラ27及び負荷
分析回路28から成る。

【００９７】本実施例に係るパターン検査装置が構成上
第２の実施例と異なる点は、図５に示すように、ホスト
ＣＰＵ24Ｃ及び並列化回路24Ｄに接続される負荷分析回
路28を設けている点である。

【００９８】負荷分析回路28は、並列に接続されている
複数の認識ＣＰＵ241B,242B ，…，全部の負荷状態を監
視して、該認識ＣＰＵが過負荷になった場合に、移動ス
テージ22Ａの速度を低減させるものである。

【００９９】以下で、本発明の第３の実施例に係るパタ
ーン検査装置の動作について説明する。本実施例に係る
パターン検査装置がその動作において第１，第２の実施
例と異なる点は、被検査対象26のレーザ光線が走査する
領域における配線パターンの密度を検出して、その密度
に基づいて被検査対象26の移動速度を調整するのではな
く、認識ＣＰＵ241B,242B ，…，の負荷状態によって被
検査対象26の移動速度を調整している点である。

【０１００】当該装置の動作において、複数の画像メモ
リ241A,242A ，…，に分割して供給された被検査対象26
の配線パターンの二次元画像情報ＴＩが複数の認識ＣＰ
Ｕ241B,242B ，…，に出力され、該認識ＣＰＵ241B,242
B ，…，によってパターンの検査処理がなされるところ
までは、第２の実施例と同様なので説明を省略する。

【０１０１】すなわち、この過程で、１ライン分の当該
検査処理が終了したのち、認識ＣＰＵの過負荷状態を防
止するために、移動ステージ22Ａの移動速度が調整され
る。その際、第１，第２の実施例においては該調整は、
被検査対象26の配線パターン密度に基づいてなされてい
たが、本実施例においては、負荷分析回路28により、認
識ＣＰＵの負荷状態が検出されることによって、移動ス
テージ22Ａの移動速度が調整される。

【０１０２】このとき、認識ＣＰＵの負荷状態がその処
理能力を超えて、過負荷状態になった場合には、移動ス
テージ22Ａの移動速度を低減し、該認識ＣＰＵの処理能
力の範囲内であれば移動速度を維持するかあるいは加速
するというように、移動速度の調整がなされる。

【０１０３】この負荷分析回路28による移動ステージ22
Ａの移動速度の調整について以下で図７を参照しながら
詳述する。図７は、本発明の第３，第４の実施例に係る
負荷分析回路の説明図である。

【０１０４】負荷分析回路28は、図７に示すように、第
１〜第ｎの減算用レジスタＲ11〜Ｒ1n，第１〜第ｎの被
減算用レジスタＲ21〜Ｒ2n，第１〜第ｎの減算回路281a
〜281n，第１〜第ｎの比較器282a〜282n及び論理積（Ｏ
Ｒ）回路283 から成るものである。

【０１０５】第１〜第ｎの減算用レジスタＲ11〜Ｒ1n
は、ホストＣＰＵ24Ｃから出力される第１〜第ｎの処理
中アドレスADD1〜ADDnを保持するものである。また、第
１〜第ｎの被減算用レジスタＲ21〜Ｒ2nは、並列化回路
24Ｄから出力される第１〜第ｎの入力中アドレスadd1〜
addnを保持するものである。

【０１０６】なお、ここで第１〜第ｎの処理中アドレス
ADD1〜ADDnとは、認識ＣＰＵが、二次元画像情報ＴＩの
中でどのあたりの検査処理をしているかを示すアドレス
である。また、第１〜第ｎの入力中アドレスadd1〜addn
とは、画像メモリに二次元画像情報ＴＩのどのあたりが
入力されているかを示すアドレスである。

【０１０７】第１〜第ｎの減算回路281a〜281nは、第１
〜第ｎの減算用レジスタＲ11〜Ｒ1nから出力される第１
〜第ｎの処理中アドレスADD1〜ADDn及び第１〜第ｎの被
減算用レジスタＲ21〜Ｒ2nから出力される第１〜第ｎの
入力中アドレスadd1〜addnを減算処理して第１〜第ｎの
ＣＰＵ負荷データＢＤ１〜ＢＤｎを第１〜第ｎの比較器
282a〜282nに出力するものである。なお、第１〜第ｎの
ＣＰＵ負荷データＢＤ１〜ＢＤｎについては後述する。

【０１０８】第１〜第ｎの比較器282a〜282nは、第１〜
第ｎのＣＰＵ負荷データＢＤ１〜ＢＤｎと第１〜第ｎの
基準負荷データSBD1〜SBDnとを比較処理して、該第１〜
第ｎのＣＰＵ負荷データＢＤ１〜ＢＤｎがそれぞれ対応
する基準負荷データSBD1〜SBDnを超えている場合に過負
荷信号ＯＢをＯＲ回路283 に出力するものである。

【０１０９】なお、過負荷信号ＯＢ，第１〜第ｎの基準
負荷データSBD1〜SBDnについては、後述する。ＯＲ回路
283 は、第１〜第ｎの比較器282a〜282nに接続され、該
第１〜第ｎの比較器282a〜282nから出力される過負荷信
号ＯＢの論理積をとって移動速度制御信号ＣＶとしてス
テージコントローラ22Ｂに出力するものである。

【０１１０】当該負荷分析回路28の動作を以下で説明す
る。図７に示すように、ホストＣＰＵ24Ｃからは第１〜
第ｎの処理中アドレスADD1〜ADDnが、並列化回路24Ｄか
らは第１〜第ｎの入力中アドレスadd1〜addnがそれぞれ
入力される。

【０１１１】例えば、第１の処理中アドレスADD1，第１
の入力中アドレスadd1は第１の減算回路281aに入力さ
れ、第２の処理中アドレスADD2，第２の入力中アドレス
add2は第２の減算回路281bに入力される。また、第ｎの
入力中アドレスaddn，第ｎの処理中アドレスADDnは第ｎ
の減算回路281nに入力される。

【０１１２】ここでは第１の減算回路281aを例にとって
説明する。まず、第１の減算回路281aに、第１の処理中
アドレスADD1と第１の入力中アドレスadd1とが入力され
る。該第１の減算回路281aによって、第１の入力中アド
レスadd1から第１の処理中アドレスADD1を減ずる減算処
理が行われる。

【０１１３】次に、こうして得られた減算結果が、第１
のＣＰＵ負荷データＢＤ１として第１の比較器282aに出
力される。該第１のＣＰＵ負荷データＢＤ１は、第１の
認識ＣＰＵ241Bの負荷状態、すなわち未処理のアドレス
の量を示すデータである。これが一定限度を超えて大き
い場合には認識ＣＰＵが過負荷状態になっているので、
移動ステージ22Ａの移動速度を低減する必要がある。

【０１１４】次いで、第１の比較器282aによって、第１
のＣＰＵ負荷データＢＤ１と第１の基準負荷データSBD1
とが比較処理される。ここで、第１の基準負荷データSB
D1は、第１の認識ＣＰＵ241Bの負荷状態の基準となるデ
ータである。すなわち、該データが第１のＣＰＵ負荷デ
ータＢＤ１よりも大きければ第１の認識ＣＰＵ241Bの負
荷状態は該ＣＰＵの処理能力を超えていないが、該デー
タが第１のＣＰＵ負荷データＢＤ１よりも小さい場合
は、第１の認識ＣＰＵ241Bの負荷状態が該ＣＰＵの処理
能力を超え、過負荷状態になるということを示す。

【０１１５】第１の比較器282aによってなされた比較処
理の結果、第１の基準負荷データSBD1よりも第１のＣＰ
Ｕ負荷データＢＤ１の方が大きい場合は、過負荷信号Ｏ
ＢがＯＲ回路283 に出力される。

【０１１６】第２〜第ｎの比較器についても同様にし
て、各認識ＣＰＵの負荷状態がその処理能力を超えてい
る場合には、過負荷信号ＯＢがＯＲ回路283 に出力され
る。ＯＲ回路283 によってこれら過負荷信号ＯＢの論理
積がとられ、もし各比較器から１つでも過負荷信号ＯＢ
が出力された場合は、ステージコントローラ22Ｂに移動
速度制御信号ＣＶが出力される。

【０１１７】該移動速度制御信号ＣＶがステージコント
ローラ22Ｂに出力されることにより移動ステージ22Ａの
移動速度の低減がなされる。以上説明したように、本発
明の第３の実施例に係るパターン検査装置によれば、図
６に示すように、負荷分析回路28を設けている。

【０１１８】例えば、負荷分析回路28によって、認識Ｃ
ＰＵ241B,242B ，…の当該検査処理に係る負荷状態が求
められる。このため、認識ＣＰＵ241B,242B ，…の負荷
状態がそれほど過大でなく、該認識ＣＰＵの処理能力を
超えないときは被検査対象26の移動速度を維持するかあ
るいは高速にし、該認識ＣＰＵの処理能力を超えるよう
なときは、被検査対象26の移動速度を低速に抑えるとい
うように移動速度の調整ができる。

【０１１９】これにより、被検査対象26を画像処理手段
24の画像処理能力の範囲内で移動制御することができ
る。よって、当該パターン検査の信頼性の向上を図るこ
とが可能になる。

【０１２０】（４）第４の実施例以下で、本発明の第４の実施例に係るパターン検査装置
について図８を参照しながら説明する。図８は、本発明
の第４の実施例に係るパターン検査装置の構成図であ
る。なお、本実施例においては、第１〜第３の実施例と
共通する点については重複するので説明を省略する。

【０１２１】本発明の第４の実施例に係るパターン検査
装置は、図８に示すように、２つの光学検出系すなわち
第１，第２の光学検出系Ｋ１，Ｋ２を設けて、２つの被
検査対象26,36 を同時に検査処理する検査装置である。

【０１２２】すなわち、本実施例に係るパターン検査装
置は、第１の光学検出系Ｋ１、第２の光学検出系Ｋ２、
画像メモリ241A,242A,…、認識ＣＰＵ241B,242B,…、ホ
ストＣＰＵ24Ｃ、並列化回路24Ｄ、負荷分析回路28から
成る。

【０１２３】ここで、第１の光学検出系Ｋ１は、被検査
対象26から反射される反射レーザ光線ＬＲに基づいて該
被検査対象26の配線パターンの二次元画像情報ＴＩ１を
検出するものであって、光源20, 光走査手段21Ａ，光走
査レンズ21Ｂ，移動ステージ22Ａ，ステージコントロー
ラ22Ｂ，結像レンズ23Ａ，光センサ23Ｂから成るもので
ある。

【０１２４】また、第２の光学検出系Ｋ２は、被検査対
象36から反射される反射レーザ光線ＬＲに基づいて該被
検査対象36の配線パターンの二次元画像情報ＴＩ２を検
出するものであって、光源30, 光走査手段31Ａ，光走査
レンズ31Ｂ，移動ステージ32Ａ，ステージコントローラ
32Ｂ，結像レンズ33Ａ，光センサ33Ｂから成るものであ
る。なお、ここで第１，第２の光学検出系Ｋ１，Ｋ２は
光学系ＯＰの一実施例である。

【０１２５】これら第１，第２の光学検出系Ｋ１，Ｋ２
の個々の機能，動作などについては第１〜第３の実施例
と同様なので説明を省略する。図８に示すように、本実
施例における検査装置は、２つの光学検出系Ｋ１，Ｋ２
を設けている点が第１〜第３の実施例と異なる点であ
り、これにより同時に２つの被検査対象の検査を行うこ
とが出来る。

【０１２６】当該装置の動作は、まず被検査対象26，36
の配線パターンの二次元画像情報ＴＩ１，ＴＩ２が第１
〜第３の実施例と同様にして第１，第２の光学検出系Ｋ
１，Ｋ２によって検出され、並列化回路24Ｄに並列的に
入力される。

【０１２７】次に、これら２種類の二次元画像情報ＴＩ
１，ＴＩ２が、複数設けられた画像メモリ241A,242A
…, に並列化されて入力される。次いで、各々の画像メ
モリ241A,242A …, から複数の認識ＣＰＵ241B,242B,…
にこれら２種類の二次元画像情報ＴＩ１，ＴＩ２が入力
され、該認識ＣＰＵ241B,242B,…によって配線パターン
の検査処理がなされる。

【０１２８】この過程で、１ライン分の当該検査処理が
終了したのち、認識ＣＰＵの過負荷状態を防止するため
に、移動ステージ22Ａの移動速度が調整される。本実施
例においては、第３の実施例と同様に、負荷分析回路28
によって認識ＣＰＵの負荷状態が検出されることによ
り、移動ステージ22Ａの移動速度が調整される。

【０１２９】すなわち、認識ＣＰＵの負荷状態がその処
理能力を超えて、過負荷状態になった場合には、移動ス
テージ22Ａの移動速度を低減し、該認識ＣＰＵの処理能
力の範囲内であれば移動速度を維持するかあるいは加速
するというように、移動速度の調整がなされる。このと
きの負荷分析回路28による移動ステージ22Ａの移動速度
の調整については図７において詳述したとおりである。

【０１３０】なお、本実施例においては光学系を２つ設
けているが、３つ以上の光学系を用いてパターン検査を
することも可能である。以上説明したように、本発明の
第４の実施例に係るパターン検査装置によれば、図８に
示すように、２つの光学検出系Ｋ１，Ｋ２を設け、かつ
負荷分析回路28を設けている。

【０１３１】例えば、負荷分析回路28によって、認識Ｃ
ＰＵ241B,242B ，…の当該検査処理に係る負荷状態が求
められる。このため、２つの光学検出系Ｋ１，Ｋ２を設
けたことにより２種類の二次元画像情報ＴＩ１，ＴＩ２
が検出され、検査処理のために必要なデータが膨大にな
るような場合においても、認識ＣＰＵ241B,242B ，…の
処理能力に係る負荷状態に応じて、被検査対象26の移動
速度の調整ができる。

【０１３２】これにより、被検査対象26を画像処理手段
24の画像処理能力の範囲内で移動制御することができ
る。よって、当該パターン検査の信頼性の向上を図るこ
とが可能になる。

【０１３３】

【発明の効果】本発明に係る第１のパターン検査装置に
よれば、検査パターン密度検出手段や負荷分析手段から
成る移動速度調整手段を設けている。

【０１３４】このため、検査パターン密度検出手段によ
れば被検査対象の被検査パターンの状態に基づいて移動
速度の調整がなされ、また、負荷分析手段によれば画像
処理手段の負荷状態に基づいて移動速度の調整がなされ
る。

【０１３５】これにより、被検査対象の配線パターンの
状態に対応して被検査対象の移動速度を調整することに
より、被検査対象を画像処理手段の処理能力の範囲内で
移動制御することができる。よって、当該パターン検査
の信頼性向上が可能になる。

【０１３６】さらに、本発明に係る第２，第３のパター
ン検査装置によれば、本発明に係る第１のパターン検査
装置において、画像処理手段が複数設けられ、移動速度
調整手段が検査パターン密度検出手段や負荷分析手段か
ら成る。

【０１３７】このため、複数の画像処理手段によって当
該検査処理を並列化する装置においても、被検査対象を
画像処理手段の画像処理能力の範囲内で移動制御するこ
とができる。よって、当該パターン検査の信頼性の向上
を図ることが可能になる。

【０１３８】また、本発明に係る第４のパターン検査装
置は、本発明に係る第１のパターン検査装置において、
光源，光走査手段，移動手段及び光検出手段から成る光
学系が複数設けられている。

【０１３９】このため、複数の光学系を設けたことによ
り検査処理のために必要なデータが膨大になるような場
合においても、画像処理手段の処理能力に応じて、被検
査対象の移動速度の調整ができる。

【０１４０】これにより、被検査対象を画像処理手段の
画像処理能力の範囲内で移動制御することができる。よ
って、当該パターン検査の信頼性向上が可能になる。よ
って、パターン検査の安定性の向上に寄与するところ大
である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るパターン検査装置の原理図（その
１）である。

【図２】本発明に係るパターン検査装置の原理図（その
２）である。

【図３】本発明の第１の実施例に係るパターン検査装置
の構成図である。

【図４】本発明の第１，第２の実施例に係るパターン検
査装置の補足説明図である。

【図５】本発明の第２の実施例に係るパターン検査装置
の構成図である。

【図６】本発明の第３の実施例に係るパターン検査装置
の構成図である。

【図７】本発明の第３，第４の実施例に係る負荷分析回
路の説明図である。

【図８】本発明の第４の実施例に係るパターン検査装置
の構成図である。

【図９】従来例に係るパターン検査装置の構成図（その
１）である。

【図10】従来例に係るパターン検査装置の構成図（その
２）である。

【符号の説明】

10…光源、 11…光走査手段、 12…移動手段、 13…光検出手段、 14…画像処理手段、 15…移動速度調整手段、 15Ａ…検査パターン密度検出手段、 15Ｂ…負荷分析手段、 16…被検査対象、ＤＰ…疎密情報、ＬＣ…負荷状態、ＯＰ…光学系。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｑ 6921−4Ｅ (72)発明者安藤護俊神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地富士通株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被検査対象（16）に光（Ｌ）を照射する
光源（10）と、前記被検査対象（16）上に前記光（Ｌ）
を走査させる光走査手段（11）と、前記被検査対象（1
6）を移動させる移動手段（12）と、前記被検査対象（1
6）からの反射光（ＲＬ）の位置を検出する光検出手段
（13）と、前記光検出手段（13）によって検出された反
射光（ＲＬ）の位置に基づいて前記被検査対象（16）の
被検査パターンを認識し、かつ前記被検査パターンの検
査に係る画像処理をする画像処理手段（14）を具備する
パターン検査装置において、前記移動手段（12）及び画像処理手段（14）に接続さ
れ、前記画像処理手段（14）の処理状態に基づいて前記
被検査対象（16）の移動速度を調整する移動速度調整手
段（15）を設けたことを特徴とするパターン検査装置。
【請求項２】請求項１記載のパターン検査装置におい
て、前記移動速度調整手段（15）が検査パターン密度検
出手段（15Ａ）から成り、前記検査パターン密度検出手
段（15Ａ）が、被検査対象（16）の被検査パターンの形
成密度を示す疎密情報（ＤＰ）を検出し、前記被検査パ
ターンの疎密情報（ＤＰ）に基づいて前記被検査対象
（16）の移動速度を調整することを特徴とするパターン
検査装置。
【請求項３】請求項１記載のパターン検査装置におい
て、前記移動速度調整手段（15）が、負荷分析手段（15
Ｂ）から成り、前記負荷分析手段（15Ｂ）が、前記画像
処理手段（14）の画像処理制御に係る負荷状態（ＬＣ）
を検出し、前記負荷状態（ＬＣ）に基づいて前記被検査
対象（16）の移動速度を調整することを特徴とするパタ
ーン検査装置。
【請求項４】請求項１記載のパターン検査装置におい
て、前記画像処理手段（14）が複数設けられ、前記移動
速度調整手段（15）が前記検査パターン密度検出手段
（15Ａ）や負荷分析手段（15Ｂ）から成ることを特徴と
するパターン検査装置。
【請求項５】請求項１記載のパターン検査装置におい
て、前記光源（10），光走査手段（11），移動手段（1
2）及び光検出手段（13）から成る光学系（ＯＰ）が複
数設けられることを特徴とするパターン検査装置。