JP2006292412A - 表面検査装置、表面検査方法、及び基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板の欠陥を、簡便かつ高い精度で検知する。
【解決手段】 基板1の表面を検査する表面検査装置100であって、暗部と明部とを交互に平行に配列させたストライプパターンを、被検査面1aに照射するパターン照射部3と、検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度で、ストライプパターンが形成された被検査面1aの画像を撮像する撮像部4と、撮像部4により撮像された画像における暗部の像の消失を検知することにより、被検査面上の欠陥を検知する欠陥検知部6とを備える。
【選択図】 図1
【解決手段】 基板1の表面を検査する表面検査装置100であって、暗部と明部とを交互に平行に配列させたストライプパターンを、被検査面1aに照射するパターン照射部3と、検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度で、ストライプパターンが形成された被検査面1aの画像を撮像する撮像部4と、撮像部4により撮像された画像における暗部の像の消失を検知することにより、被検査面上の欠陥を検知する欠陥検知部6とを備える。
【選択図】 図1
Description
本発明は、表面検査装置、表面検査方法、及び基板の製造方法に関する。
従来、材料のキズや歪みを検出するために光を用いた方法として、平坦な材料の表面に光を照射して、その反射光をモニタリングすることにより、表面の状態を観測することができるものがある(例えば、特許文献1参照。)。この方法は、平行に配列された直線を含むパターンからなる光を液晶基板の主表面に照射し、反射光から得られる像の歪みから主表面のうねりを検出する。
特開2001−304834号公報
この像の歪みは、例えば、ディスプレーを介して目視により検知される。しかし、像の歪みを目視により客観的に検出するのは容易ではない。特に、主表面のうねりの周期が大きい場合、像の歪みの周期も大きくなり、検出が困難になる。
そこで、本発明は、上記の問題点を解決できる表面検査装置、表面検査方法、及び基板の製造方法を提供することを目的とする。
上記の問題点を解決するために、本発明は、以下の構成を有する。
(構成1)基板の表面を検査する表面検査装置であって、暗部と明部とを交互に平行に配列させたストライプパターンを、被検査面としての基板の表面に照射するパターン照射部と、検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度で、ストライプパターンが形成された被検査面の画像を撮像する撮像部と、撮像部により撮像された画像における暗部の像の消失を検知することにより、被検査面上の欠陥を検知する欠陥検知部とを備える。
(構成1)基板の表面を検査する表面検査装置であって、暗部と明部とを交互に平行に配列させたストライプパターンを、被検査面としての基板の表面に照射するパターン照射部と、検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度で、ストライプパターンが形成された被検査面の画像を撮像する撮像部と、撮像部により撮像された画像における暗部の像の消失を検知することにより、被検査面上の欠陥を検知する欠陥検知部とを備える。
このように構成すれば、基板の歪み、キズ等の欠陥を、簡便かつ高い精度で検知できる。また、目視により像の歪みを検出する場合等と異なり、暗部の像の消失は、客観的な検知が容易である。そのため、基板の欠陥を客観的に検知できる。また、再現性の高い検査を行なうことができる。
尚、欠陥検知部は、暗部の像の一部の消失を検知することにより、基板の欠陥を検知してもよい。検査対象の基板は、例えば、スキャナー、レーザプリンタ、又は、コピー機用の折り返しミラー等の、高度な平坦性が要求される用途に用いられる平面鏡である。検査対象の基板は、平面鏡以外の板状体、例えば液晶基板、半導体ウェハ等であってもよい。欠陥の高さとは、例えば、基板の厚み方向における凸欠陥の突出量又は凹欠陥の深さである。検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度とは、例えば、欠陥が存在する場合に、画像中のストライプパターンにおいて、その欠陥位置と重なる暗部の像が消失するような被写体深度である。暗部の像は、例えば、撮像部のピントが合わなくなって明部と暗部との境界がぼやけることによって消失する。
(構成2)欠陥検知部は、画像における暗部の像の間隔を予め設定された基準間隔と比較することにより、暗部の像の消失を検知する。このように構成すれば、暗部の像の消失を、容易かつ客観的に検知できる。尚、基準間隔は、例えば、暗部の像が消失していない場合の暗部の像の間隔に設定される。
(構成3)欠陥検知部は、被検査面に形成されたストライプパターンのうち、所定の領域に現れる暗部の像の本数を予め設定された基準本数と比較することにより、暗部の像の消失を検知する。このように構成すれば、暗部の像の消失を、容易かつ客観的に検知できる。尚、基準本数は、例えば、暗部の像が消失していない場合の暗部の像の本数に設定される。
(構成4)パターン照射部は、暗部の幅が明部の幅の1.1〜2倍のストライプパターンを照射する。このように構成した場合、例えばより幅広の暗部を用いる場合と比べ、より小さな欠陥が存在する場合にも暗部の像が消失することとなる。そのため、基板の欠陥をより高い精度で検知できる。
尚、暗部の幅は明部の幅の1.3〜1.7倍程度であるのがより好ましい。また、検査対象の基板がスキャナー、レーザプリンタ、又は、コピー機用の折り返しミラー等に用いられる場合、明部の幅は、例えば100〜200μm程度、暗部の幅は、例えば80〜120μm程度である。より好ましくは、明部の幅は、120〜150μm程度、暗部の幅は、80〜120μm程度である。
(構成5)基板の表面を検査する表面検査方法であって、暗部と明部とを交互に平行に配列させたストライプパターンを、被検査面としての基板の表面に照射するパターン照射段階と、検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度で、ストライプパターンが形成された被検査面の画像を撮像する撮像段階と、撮像段階で撮像された画像における暗部の像の消失を検知することにより、被検査面上の欠陥を検知する欠陥検知段階とを備える。このようにすれば、構成1と同様の効果を得ることができる。
(構成6)基板の製造方法であって、構成5に記載の表面検査方法により基板の表面を検査する基板検査工程を備える。このようにすれば、表面品質の管理を高い精度で行うことができる。また、これにより、高度な平坦性を有する基板を製造することができる。
本発明によれば、基板の欠陥を、簡便かつ高い精度で検知できる。
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る表面検査装置100の構成の一例を示す。表面検査装置100は、基板1の表面(被検査面1a)の欠陥を検出するための検査装置であり、パターン照射部3、撮像部4、ディスプレー5、欠陥検知部6、及びX―Yステージ7を備える。尚、本例において、基板1は、例えばスキャナー、レーザプリンタ、又は、コピー機用の折り返しミラーとして用いられる平面鏡である。また、被検査面1aは、基板1の鏡面である。
図1は、本発明の一実施形態に係る表面検査装置100の構成の一例を示す。表面検査装置100は、基板1の表面(被検査面1a)の欠陥を検出するための検査装置であり、パターン照射部3、撮像部4、ディスプレー5、欠陥検知部6、及びX―Yステージ7を備える。尚、本例において、基板1は、例えばスキャナー、レーザプリンタ、又は、コピー機用の折り返しミラーとして用いられる平面鏡である。また、被検査面1aは、基板1の鏡面である。
パターン照射部3は、暗部と明部とを交互に平行に配列させたストライプパターンを基板1の被検査面1aに照射する投影装置であり、光源の一例であるLED3a、拡散板3b、及びスリット板2を有する。LED3aを用いることにより、光源の立ち上がり時間を短くできる。また、光度を可変調整し得るように構成できる。更には、光源を長寿命に安定動作させることができる。尚、光源としては、LED3a以外の各種光源、例えば蛍光ランプ等を用いることもできる。
拡散板3bは、LED3aからの光を拡散させて面光源と同様の光源を作り出すために設けられている。拡散板3bを用いることにより、基板1の被検査面1aにムラなくストライプパターンを照射できる。拡散板3bとしては、例えば、すりガラスが用いられる。スリット板2は、光を透過する明部、及び光を遮る暗部がそれぞれ線状かつ交互に形成された板状体であり、拡散板3bを挟んでLED3aと対向して設けられる。スリット板2は、例えば、透明板又は拡散板の透光性の基板に黒色のストライプを所定の間隔で施したものである。
この構成により、スリット板2の明部を透過した光は、被検査面1a上に、適宜設定される照射角θ1で照射される。また、被検査面1a上においてスリット板2の暗部に対応する位置には、暗部の像が形成される。そのため、被検査面1aには、スリット板2のストライプパターンと同様のストライプパターンが形成される。尚、基板1の被検査面1aは、パターン照射部3からの照射光を、撮像部4に向かって、反射角θ1で反射する。
撮像部4は、被検査面1aの画像を撮像する撮像装置であり、カメラ4a及びレンズ部4bを有する。カメラ4aは、例えば各種モニタリング用のカメラであり、検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度で被検査面1aを撮像するように設定されている。カメラ4aの被写体深度は、例えば、ゲインを適宜調整しながら、絞りを明け気味にすることにより浅く設定される。レンズ部4bは、カメラ4aのピントを被検査面1a上に合わせる。本例において、撮像部4により撮像される範囲の面積は10mm2である。
ここで、鏡面である被検査面1aに照射光を照射して得られる反射光は、キズの有無、歪みの程度等の被検査面1aの状態を反映したものとなる。つまり、被検査面1aの状態に応じて、反射光の状態は変化する。例えば、局所的なキズや歪み等の欠陥が存在する場合、反射光の散乱(ハレーション)が生じる。
そのため、ストライプパターンが形された被検査面1aを被写体深度が浅く設定されたカメラ4aにより撮像すると、反射光の散乱等の影響により、撮像された画像において、ストライプパターンの暗部の像が消失することとなる。また、暗部の像は、例えば、目視では検出不可能な大きさの局所的な欠陥が存在する場合でも消失する。そのため、本例によれば、ストライプパターンの暗部の像の消失を検知することにより、反射光の状態の変化を増幅して検知できる。また、これにより、基板1の欠陥を、高い精度で検知できる。
ディスプレー5は、撮像部4により撮像された画像をモニタリングするための表示装置である。ディスプレー5としては、従来公知の各種ディスプレーを用いることができる。ディスプレー5は、ストライプパターンの暗部の像の消失を目視で検知できる解像度を有するのが好ましい。このように構成すれば、ディスプレー5を介した目視によって、基板1の欠陥を検知できる。
尚、暗部の像の消失をディスプレー5を介した目視によって確認するためには、検知しようとする欠陥の高さ、及び撮像部4により撮像される範囲の面積に応じた解像度のディスプレー5を用いる必要がある。例えば、撮像部4により撮像される範囲の面積が10mm2程度であり、深さ0.2μm程度の局部歪み欠陥を検知しようとする場合、少なくとも35万画素のカメラ4aで撮像された画像を表示可能な解像度が必要である。
欠陥検知部6は、基板1の欠陥を自動検知する画像処理装置であり、撮像部4により撮像された画像における暗部の像の消失を検知することにより、欠陥を検知する。この自動検知は、ディスプレー5を介した目視による欠陥の検知と並行して行われてもよく、目視による欠陥の検知に代えて行われてもよい。
X―Yステージ7は、基板1を載置して移動させる。これにより、X―Yステージ7は、パターン照射部3により照射されるストライプパターンを被検査面1a上に亘って走査させる。このようにすれば、被検査面1aの全体について、順次欠陥を検知することができる。
ここで、表面検査装置100が検知可能な欠陥の大きさの設定について説明する。表面検査装置100が検知可能な欠陥の大きさは、例えばパターン照射部3のスリット板2と基板1との位置関係により設定できる。例えば、スリット板2と基板1との距離を近くした場合、より小さな欠陥を検出するのに適した構成となる。また、スリット板2と基板1との距離を遠くした場合、より大きな欠陥を検出するのに適した構成となる。そのため、スリット板2と基板1との距離を適宜調節することによって、検出しようとする欠陥の大きさに対応できる。尚、欠陥の大きさとは、例えば、被検査面1aに垂直な方向から見た欠陥の大きさである。
表面検査装置100は、2対以上のパターン照射部3及び撮像部4を備えてもよい。この場合、例えば、一方のパターン照射部3のスリット板2と基板1との距離を近く、他方のパターン照射部3のスリット板2と基板1との距離を遠くするのが好ましい。このように構成すれば、小さな欠陥、及び大きな欠陥を、それぞれに適した構成により検知できる。尚、基板1に近いスリット板2に対応して設けられる撮像部4においては、レンズ部4bとして、例えば焦点距離50mmのレンズを用いることができる。また、基板1から遠いスリット板2に対応して設けられる撮像部4においては、レンズ部4bとして、例えば焦点距離100mmのレンズを用いることができる。2対以上のパターン照射部3及び撮像部4は、例えば、検出しようとする欠陥の大きさに応じて、1対ずつ切り換えて使用される。
また、2対以上のパターン照射部3及び撮像部4は、同時に使用されてもよい。この場合、欠陥検知部6は、例えば、それぞれのパターン照射部3により照射されるストライプパターンを、画像処理により分離する。尚、それぞれのパターン照射部3は、例えば、明部の幅、又は暗部の幅の少なくとも一方がそれぞれ異なるストライプパターンを照射する。このように構成すれば、画像処理によりストライプパターンを容易に分離できる。
それぞれのパターン照射部3は、例えばそれぞれ異なる色の光を発生する光源(LED等)を有してもよい。この場合、それぞれのパターン照射部3は、明部の色がそれぞれ異なるストライプパターンを照射することとなる。そのため、このように構成した場合も、画像処理によりストライプパターンを容易に分離できる。
図2は、表面検査装置100の動作の一例を示すフローチャートである。表面検査装置100による表面検査においては、最初に、X―Yステージ7に載置されている基板1の被検査面1aに、パターン照射部3が、ストライプパターンを照射する(照射段階S102)。そして、予め設定された浅い被写体深度で、撮像部4が、被検査面1aの画像を撮像する(撮像段階S104)。
続いて、撮像段階S106で撮像された画像におけるストライプパターンの暗部の像の消失を検知することにより、欠陥検知部6が、基板1の欠陥を検知する(欠陥検知段階S106)。そして、欠陥が検知された場合(判別段階S108:Yes)、欠陥が存在する旨、及び欠陥の位置を記憶する(記憶段階S110)。そして、被検査面1aの全体に対する欠陥検知の走査が完了している場合(終了判定段階S112)、表面検査装置100は、基板1に対する表面検査を終了する。
ここで、欠陥検知段階S106において欠陥が検知されなかった場合(判別段階S108:No)、記憶段階S110を飛ばして終了判定段階S112に進む。また、終了判定段階S112において欠陥検知の走査が完了していないと判定された場合、撮像段階S104に戻り、以降の動作を繰り返す。
尚、上記の動作が行われる間、X―Yステージ7は、基板1を、例えば60mm/秒程度の一定の速度で移動させる。そのため、2回目以降の撮像段階S104において、撮像部4は、被検査面1aにおける異なる位置の画像をそれぞれ撮像する。このようにすれば、被検査面1aの全体について、欠陥検知の走査を適切に行うことができる。尚、上記の基板検査を行う工程を基板1の製造工程中で行えば、基板1の表面品質の管理を高い精度で行うことができる。また、これにより、高度な平坦性を有する基板1を製造することができる。
図3は、被検査面1aに照射されるストライプパターンの説明図である。図3(a)は、照射されるストライプパターンの元になるスリット板2の構成を示す。本例において、スリット板2は、交互に平行に配列することによりストライプパターンを形成している直線状の暗部2aと明部2bとを有する。暗部2aは、スリット板2における非スリット部である。明部2bは、スリット板2におけるスリット部である。
本例において、暗部2aの幅aは0.2mm、明部2bの幅bは0.3mmである。暗部2aの幅aと明部2bの幅bとの比率は、1:1.5に設定されている。尚、この比率は特に限定されず、所望により適宜設定することができるが、例えば、1:1.1〜1:2の範囲に設定することにより、高い精度で欠陥の検知を行うことができる。
図3(b)、(c)は、欠陥検知部6により設定された領域Sに照射されたストライプパターンを示す。図3(b)は、領域Sに欠陥が存在しない場合のストライプパターンを示す。パターン照射部3は、スリット板2の暗部2a及び明部2bに応じて、像1aa及び像1abが並ぶストライプパターンを照射する。像1aaは、スリット板2の暗部2aの像である。像1abは、スリット板2の明部2bの像である。領域S内に欠陥が存在しない場合、カメラ4aのピントがずれる領域が存在しないため、暗部2aの像1aaが消失することはない。そのため、領域S内には、一定の基準間隔で並ぶ基準本数の像1aaが並ぶ。
尚、領域Sは、撮像部4により撮像される画像中に、欠陥検知部6により適宜設定される。本例において、欠陥検知部6は、画像中に領域Sを設定し、その領域S内の欠陥を検知する。そして、一つの領域S内の欠陥検知が終了すると、画像中の異なる位置に次の領域Sを設定し、その領域S内の欠陥を検知する。このように、欠陥検知部6は、画像内に順次領域Sを設定することにより、画像全体中の欠陥を検知する。欠陥検知部6は、領域Sを、複数箇所に同時に設定してもよい。
図3(c)は、領域Sに欠陥が存在する場合のストライプパターンを示す。カメラ4aの被写体深度が浅く設定されているため、領域S内に欠陥が存在している場合、その欠陥の位置でピントのずれが生じる。そして、ピントのずれにより、欠陥の位置と重なる暗部2aの像1aaの一部又は全体が消失する。例えば、図中に点線で示した部分1acに欠陥が存在する場合、この位置にあるべき暗部2aの像1aaの一部又は全体が消失する。その結果、欠陥の位置において、暗部2aの像1aaの間隔が広がることとなる。
ここで、欠陥検知部6は、例えば、画像における暗部2aの像1aaの間隔を予め設定された基準間隔と比較することにより、像1aaの消失を検知する。また、暗部2aの像1aaが消失すると、像1aaの本数が減少することとなる。そのため、欠陥検知部6は、例えば、被検査面1aに形成されたストライプパターンのうち、領域Sに現れる暗部2aの像1aaの本数を予め設定された基準本数と比較することによって、像1aaの消失を検知してもよい。
これらのように構成すれば、照射されるストライプパターンの変化に基づき、暗部2aの像1aaの消失を、容易かつ客観的に検知できる。また、これにより、基板1の欠陥を適切に検知できる。更には、ディスプレー5を介した目視のみにより欠陥の検知を行う場合等と比べ、処理速度を速くすると共に、測定精度をより高めることが可能となる。
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
本発明は、例えば表面検査装置に好適に利用できる。
1・・・基板、1a・・・被検査面、1aa・・・像、1ab・・・像、1ac・・・部分、2・・・スリット板、2a・・・暗部、2b・・・明部、3・・・パターン照射部、3b・・・拡散板、4・・・撮像部、4a・・・カメラ、4b・・・レンズ部、5・・・ディスプレー、6・・・欠陥検知部、7・・・ステージ、100・・・表面検査装置
Claims (6)
- 基板の表面を検査する表面検査装置であって、
暗部と明部とを交互に平行に配列させたストライプパターンを、被検査面としての前記基板の表面に照射するパターン照射部と、
検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度で、前記ストライプパターンが形成された前記被検査面の画像を撮像する撮像部と、
前記撮像部により撮像された前記画像における前記暗部の像の消失を検知することにより、前記被検査面上の欠陥を検知する欠陥検知部と
を備えることを特徴とする表面検査装置。 - 前記欠陥検知部は、前記画像における前記暗部の像の間隔を予め設定された基準間隔と比較することにより、前記暗部の像の消失を検知することを特徴とする請求項1に記載の表面検査装置。
- 前記欠陥検知部は、前記被検査面に形成された前記ストライプパターンのうち、所定の領域に現れる前記暗部の像の本数を予め設定された基準本数と比較することにより、前記暗部の像の消失を検知することを特徴とする請求項1に記載の表面検査装置。
- 前記パターン照射部は、明部の幅が暗部の幅の1.1〜2倍の前記ストライプパターンを照射することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の表面検査装置。
- 基板の表面を検査する表面検査方法であって、
暗部と明部とを交互に平行に配列させたストライプパターンを、被検査面としての前記基板の表面に照射するパターン照射段階と、
検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度で、前記ストライプパターンが形成された前記被検査面の画像を撮像する撮像段階と、
前記撮像段階で撮像された前記画像における前記暗部の像の消失を検知することにより、前記被検査面上の欠陥を検知する欠陥検知段階と
を備えることを特徴とする表面検査方法。 - 請求項5に記載の表面検査方法により基板の表面を検査する基板検査工程を備えることを特徴とする基板の製造方法。
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