KR880002243A - 역 암 필드를 이용한 레티클-웨어퍼 정렬장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

역 암 필드를 이용한 레티클-웨이퍼 정렬장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 본 발명에 따른 정렬 장치를 도시한 개략도

제2도는 제1레벨 레티클(reticle)하에서 노광후의 웨이퍼 단면의 평면도

제3도는 제2도 웨이퍼의 스크라이브(scribe) 통로 내에 있는 웨이퍼 표적의 평면도

Claims (22)

1. 정렬 조사 발생원, 웨이퍼상에 웨이퍼 표적을 지니는 웨이퍼, 레티클을 통하여 레티클 표적을 지니는 레티클, 상기 웨이퍼상에 상기 정렬조사 발생원으로부터 나오는 미리 결정된 기하학적 배치를 지니는 정렬이미지를 형성하는 이미징 수단, 상기 정렬 이미지에 관하여 상기 웨이퍼와 상기 레티클을 움직이는 주사수단.

   상기 정렬 이미지의 일부분이 상기 웨이퍼에 의해 반사되도록 상기 웨이퍼 표적보다 긴 선형 범위를 지니는 상기 정렬 이미지, 상기 웨이퍼로 부터 반사된 상기 정렬 이미지의 상기 부분을 상기 레티클 표적상으로 재이미지시키는 재이미징 수단, 상기 웨이퍼 표적이 상기 정렬 이미지를 지나서 주사될 때 상기 웨이퍼 표적으로부터 후방으로 산란된 상기 정렬 이미지로 부터 나온 광을 수집하는 수집수단, 상기 후방으로 산란된 광을 검출하는 제1검출수단, 및 상기 레티클 표적을 통과하는 상기 웨이퍼에 의해 반사된 상기 정렬 이미지의 상기 부분을 검출하는 제2검출 수단을 포함하는 레티클-웨이퍼 정렬 장치.
2. 제1항에 있어서, 컴퓨터 수단을 더욱 포함하여, 상기 제1검출 수단이 입사한 광에 비례하여 상기 컴퓨터 수단에 제1신호들을 제공하며, 상기 제2검출수단이 입사한 광에 비례하여 상기 컴퓨터 수단에 제2신호들을 제공하고, 상기 컴퓨터 수단이 상기 제1신호들과 상기 제2신호들에 입각하여 상기 레티클과 상기 웨이퍼 사이의 정렬 에러, 배율 에러와 회전에러에 비례하는 에러 신호들을 발생하는 정렬 장치.
3. 제2항에 있어서, 웨이퍼 지지대, 레티클 지지대, 상기 웨이퍼 지지대에 연결되어 동작하는 웨이퍼 작동기, 상기 레티클 지지대에 연결되어 동작하는 레티클 작동기를 더욱 포함하여, 상기 컴퓨터 수단이 정렬, 배율 또는 회전 에러들이 존재할때 상기 웨이퍼 작동기와 상기 레티클 작동기가 상기 웨이퍼와 상기 레티클을 서로에 관해서 움직이도록 하는 상기 정렬 에러 신호들을 제공하기 위하여 상기 웨이퍼 작동기와 상기 레티클 작동기에 연결되어 동작하는 정렬 장치.
4. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼 표적이 주사방향에 대하여 각각 +45℃와 -45℃로 배치된 제1사변형 면적과 제2사변형 면적을 포함하는 정렬장치.
5. 제4항에 있어서, 상기 레티클 표적이 상기 레티클을 통하는 윈도우들을 포함하는 정렬 장치.
6. 제5항에 있어서, 상기 제1사변형 면적과 상기 제2사변형 면적에 각각 해당하는 제1쌍의 상기 윈도우들과 제2쌍의 상기 윈도우들을 더욱 포함하여, 상기 제1쌍의 상기 윈도우들을 공간적으로 분리되고 공유직선이어서 상기 웨이퍼상에 투영되는 상기 제1쌍의 상기 윈도우들의 이미지가 상기 제1사변형면적에 평행하고 상기 제1사변형 면적보다 긴 선형 범위를 가지며, 상기 제2쌍의 상기 윈도우들은 공간적으로 분리되고 공유직선이어서 상기 웨이퍼상에 투영되는 상기 제2쌍의 상기 윈도우들의 이미지가 상기 제2사변형 면적에 평행하고 상기 제2사변형 면적보다 긴 선형 범위를 갖는 정렬장치.
7. 제4항에 있어서, 상기 제1사변형 면적에 평행인 제1줄기 광, 상기 제2사변형 면적에 평행인 제2줄기의 광을 더욱 포함하여, 상기 제1과 제2줄기의 광이 상기 제1과 제2사변형 면적 사이의 거리와 동일하지 않은 거리만큼 이격되어 있는 정렬장치.
8. 제1항에 있어서, 다수의 웨이퍼 표적들이 상기 주사방향을 따라서 제공되는 정렬장치.
9. 제4항에 있어서, 상기 웨이퍼 표적들이 다수의 제1사변형 면적들과 유사한 다수의 제2사변형 면적들을 포함하는 정렬장치.
10. 제4항에 있어서, 상기 웨이퍼 표적이 상기 웨이퍼 위로 돌출한 정렬장치.
11. 제4항에 있어서, 상기 웨이퍼 표적이 상기 웨이퍼 표면 아래로 확장한 정렬장치.
12. 제7항에 있어서, 상기 제1줄기의 광의 폭과 상기 제2줄기의 광의 폭이 각각 상기 제1과 제2사변형 면적들의 폭보다 적은 정렬장치.
13. 제7항에 있어서, 상기 제1줄기의 광과 상기 제2줄기의 광이 각각 상기 제1사변형 면적과 상기 제2사변형 면적보다 미리결정된 거리만큼 긴 정렬장치.
14. 제13항에 있어서, 상기 미리결정된 거리를 따라 상기 웨이퍼상에 입사하는 상기 제1줄기 광과 상기 제2줄기 광의 부분들이 상기 재 이미징 수단에 의해 상기 레티클 표적상으로 재이미지되는 정렬장치.
15. 제1항에 있어서, 상기 레티클과 상기 정렬조사를 통과시키는 상기 제2검출 수단 사이에 배치된 이색성 반사경, 및 상기 이색성 반사경과 상기 정렬조사만을 통과시키는 상기 제2검출수단 사이에 배치된 필터를 더욱 포함하는 정렬장치.
16. 제1항에 있어서, 상기 정렬 조사가 다수의 미리결정된 파장으로 이루어진 정렬장치.
17. 제16항에 있어서, 상기 비임 분할기 수단과 상기 제1검출 수단 사이에 배치되어, 상기 웨이퍼 표적으로부터 후방으로 산란된 상기 정렬 이미지를 전달하고 표류광을 거부하는 필드 조리개 및 상기 필드 조리개와 상기 제1검출수단 사이에 배치된 개구 조리개를 더욱 포함하는 정렬 장치.
18. 제1항에 있어서, 상기 수집 수단과 상기 제1검출 수단 사이에 배치된 비임 분할기를 더욱 포함하여, 상기 비임 분할기 수단이 반사고리에 의해 경계가 정해지는 실질적으로 투명한 중앙 부분을 가지며, 상기 웨이퍼 표적으로부터 후방으로 산란된 상기 정렬 이미지가 상기 수집수단과 상기 반사고리의 개구수(NA) 내부에 놓이지만 상기 실질적인 투명한 중앙 부준의 개구수(NA) 밖에 놓이는 정렬장치.
19. 제17항에 있어서, 상기 개구조리개가 상기 필드 조리개를 통하여 상기 웨이퍼 표적으로부터 후방으로 산란된 상기 정렬 이미지를 통과시키는 정렬장치.
20. 제17항에 있어서, 상기 개구 조리개가 상기 웨이퍼 표적으로부터 정반사된 상기 정렬 이미지를 통과시키는 정렬장치.
21. 제18항에 있어서, 상기 개구조리개와 상기 제1검출수단 사이에 배치된 제2 이색성 반사경을 더욱 포함하여, 상기 제2이색성 반사경이 한 파장의 제1비임과 다른 파장의 제2비임을 발생하여, 상기 제1비임은 상기 다수의 미리 결정된 파장들의 첫번째에 해당하는 제1필터를 통과하고, 상기 제2비임은 상기 다수의 미리결정된 파장들의 두번째에 해당하는 제2필터를 통과함으로써, 제1검출기가 상기 제1필터를 통과하는 상기 제1비임을 검출하기위해 배치되고 제2검출기는 상기 제2필터를 통과하는 상기 제2비임을 검출하기위해 배치되어 있는 정렬장치.
22. 웨이퍼상에 웨이퍼 표적을 지니는 웨이퍼를 제공하는 단계, 레티클을 통하여 레티클 표적을 지니는 레티클을 제공하는 단계, 미리결정된 기하학적 배치를 지니는 정렬 이미지로서 상기 웨이퍼 표적을 조사하는 단계, 상기 정렬 이미지에 관해서 상기 웨이퍼와 상기 레티클을 주사하는 단계, 상기 웨이퍼 표적을 지나서 확장한 상기 정렬 이미지의 일부분을 상기 레티클 표적상으로 재이미지시키는 단계, 상기 웨이퍼 표적이 상기 정렬 이미지를 지나서 주사될 때 상기 웨이퍼 표적으로부터 후방으로 산란된 광을 수집하는 단계, 후방으로 산란된 광을 검출하여 이 광에 비례하는 제1신호를 제공하는 단계, 상기 레티클 표적을 통과하는 상기 정렬 이미지의 부분을 검출하여 이 부분에 비례하는 제2신호를 제공하는 단계 및 시 제1신호와 상기 제2신호에 입각하여 상기 웨이퍼와 상기 레티클 사이의 정렬 에러, 배율 에러와 회전에러등을 계산하는 단계로 구성된 레티클-웨이퍼 정렬방법.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.