KR950004369A - 투영 노광 장치 및 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 마스크의 패턴을 감광기판상에 투영하는 투영 광학계, 상기 감광 기판을 보호유지하여 상기 투영 광학계의 광축방향 및 그 광축에 수직한 방향으로 이동가능한 스테이지, 상기 감광 기판상에 소정형상의 광빔을 투사함과 동시에, 상기 감광기판에서의 반사광을 광전검출하는 것에 의해서, 상기 투영 광학계의 결상면과 상기 감광기판의 표면의 상기 투영 광학계의 광축방향의 펀차에 대응한 검출신호를 출력하는 위치검출계, 상기 스테이지에 설치되어, 소정형상의 기준패턴을 갖는 기판부재, 상기 기판 패턴과 상기 광빔을 상기 투영 광학계의 광축과 수직한소정방향으로 상대이동했을 때에 상기 위치 검출계에서 출력하는 검출신호의 강도 변화에 의거해서 상기 투영 광학계의 광축과 수직한 면내에서의 상기 광빔의 조사위치를 검출하는 장치를 포함하는 투영노광장치에 관한 것이다.

Description

투영 노광 장치 및 방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 본 발명의 실시예에 의한 투영노광장치의 개략적인 구성을 도시하는 도면, 제2도는 레티클(R)상의 마크 배치를 도시하는 도면, 제3도는 기준판(FM)상에 형성된 마크의 배치를 도시하는 도면.

Claims (15)

1. 투영노광장치에 있어서, (a) 마스크의 패턴을 감광기판상에 투영하는 투영 광학계와; (b) 상기 감광기판을 보호유지하여 상기 광학계의 광축방향, 및 그 광축에 수직한 방향으로 이동가능한 스테이지와; (c) 상기 감광기판상에 소정형상의 광 빔을 투사하는 것과 동시에, 상기 감광기판에서의 반사광을 광전검출하는 것에 의해서, 상기 투영 광학계의 결상면과 상기 감광기판의 표면의 상기 투영 광학계의 광축방향의 편차에 대응한 검출신호를 출력하는 위치 검출계와; (d) 상기 스테이지에 설치되어, 소정 형상의 기준 패턴을 갖는 기준 부재 및; (e) 상기 기준 패턴과 상기 광 빔을 상기 투영 광학계의 광축과 수직한 소정 방향으로 상대이동했을 때에 상기 위치 검출계에서 출력되는 검출 신호의 강도 변화에 의해서, 상기 투영 광학계의 광축과 수직한 면내에서의 상기 광 빔의 조사 위치를 검출하는 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 위치 검출계는 상기 투영 광학계의 광축과 수직한 면내에서 상기 광 빔의 조사 위치를 시프트(shift)하는 광학부재를 가지며, 또한, 상기 투영 광학계의 광축과 수직한 면내의 소정위치에 상기 광빔이 투사되는 것과 같이, 상기 검출된 조사 위치에 대응하여 상기 광학부재를 구동하는 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
3. 제1항에 있어서, 상기 기준 패턴은 상기 소정방향으로 거의 부합되어 배치되고, 서로 반사률이 다른 적어도 2개의 영역을 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
4. 제1항에 있어서, 상기 광 빔을 투사해야할 소정위치와 상기 검출된 조사위치와의 상대위치 관계와, 상기 소정위치와 상기 조사위치의 상대적인 위치 어긋난양이 소정의 허용범위 내인지 아닌지의 적어도 한 방향으로 표시하는 장치를 또한 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
5. 제1항에 있어서, 상기 광빔을 투사해야할 소정위치는 상기 마스크상의 패턴 영역내의 소정 기준점의 상기 투영 광학계에 의한 투영위치이며, 상기 마스크상의 상기 기준점 또는 상기 기준점과 일정한 위치 관계에 있는 소정점에 형성된 제1마크와, 상기 스테이지에 설치된 제2마크를 상기 투영 광학계를 개재하여 광전적으로 검출하는 마크 검출계와; 상기 마크 검출계에서 출력되는 광전신호에 의거해서, 상기 투영 광학계의 광축과 수직한 면내에서의 상기 기준점의 투영위치를 구하는 계측장치를 또한 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
6. 제5항에 있어서, 상기 제2마크는 상기 기준부재상의 기준패턴인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
7. 제5항에 있어서, 상기 제2마크는 상기 기준 패턴과는 별도로 그것과 소정의 위치관계에서 배치되는 마크인 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
8. 투영노광장치에 있어서, (a) 마스크의 패턴을 감광기판상에 투영하는 투영 광학계와; (b) 상기 감광기판을 보호유지하여 상기 투영 광학계의 광축방향, 및 그 광축에 수직한 방향으로 이동가능한 스케이지와; (c) 상기 감광기판상에 소정 형상의 광빔을 투사함과 동시에, 상기 감광기판에서의 반사광을 광전 검출하는 것에 의해서, 상기 투영 광학계의 결상면과 상기 감광기판의 표면과의 상기 투영 광학계의 광축 방향의 편차에 대응한 검출신호를 출력하는 위치 검출계와; (d) 상기 위치 검출계에서의 검출신호에 의거하여 상기 스테이지를 상기 투영 광학계의 광축방향으로 구동하는 장치와; (e) 상기 스테이지에 설치되어, 소정 형상의 기준패턴을 갖는 기준부재 및; (f) 상기 기준 패턴과 상기 광빔을 상기 투영 광학계의 광축과 수직한 소정 방향으로 상대 이동할때의 상기 위치 검출계에서의 검출신호에 따라서, 상기 구동장치에 의한 상기 스테이지의 이동을 제어하는 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
9. 투영노광장치에 있어서, (a) 마스크의 패턴을 감광기판상에 투영하는 투영 광학계와; (b) 상기 감광기판을 보호유지하여 상기 투영 광학계의 광축방향 및 그 광축에 수직한 방향으로 이동가능한 스테이지와; (c) 상기 감광기판상에 소정 형상의 광 빔을 투사함과 동시에 상기 감광기판에서의 반사광을 광전 검출하는 것에 의해서, 상기 투영 광학계의 결상면과 상기 감광기판의 표면과의 상기 투영 광학계의 광축방향의 편차에 대응한 검출신호를 출력하는 위치 검출계와; (d) 상기 스테이지에 설치되어, 소정형상의 기준패턴을 갖는 기준부재와; (e) 상기 광빔과 상기 기준패턴을 상기 투영 광학계의 광축과 수직한 소정방향으로 상대 이동했을 때의 상기 위치 검출계에서의 검출신호의 강도변화에 의거해서, 상기 투영 광학계의 광축과 수직한 면내에서의 상기 빔의 조사위치를 검출하는 장치와; (f) 상기 검출된 조사위치와 상기 위치검출계에서의 검출신호에 의거해서 상기 스테이지를 상기 투영 광학계의 광축방향으로 구동시키는 구동장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
10. 제9항에 있어서, 상기 기준 패턴은 상기 소정방향으로 거의 부합되어 배치되고, 서로 반사률이 다른 적어도 2개의 영역을 갖는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
11. 제9항에 있어서, 상기 광 빔을 투사해야하는 소정위치와 상기 검출된 조사위치와의 상대위치관계와, 상기 소정 위치와 상기 조사위치의 상대적인 위치 어긋난양이 소정의 허용범위내인지 아닌지의 적어도 한방향을 표시하는 장치를 또한 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
12. 제9항에 있어서, 상기 광 빔을 투사해야 할 소정위치는 상기 마스크상의 패턴 영역내의 소정의 기준점의 상기 투영 광학계에 의한 투영위치이며, 상기 마스크상의 상기 기준점 또는 상기 기준점과 일정의 위치관계에 있는 소정점에 형성된 제1마크와, 상기 스테이지에 설치된 제2마크를 상기 투영 광학계를 개재하여 광전적으로 검출하는 마크 검출계와; 상기 마크 검출계에서 출력되는 광전신호에 의거해서, 상기 투영 광학계의 광축과 수직한 면내에서의 상기 기준점의 투영위치를 구하는 계측장치를 또한 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광장치.
13. 위치 검출장치에 있어서, (a) 기판을 장착하여 그 기판의 표면과 거의 수직한 제1방향 및 그 기판표면과 거의 평행한 제2방향으로 이동가능한 스테이지와; (b) 상기 기판상에 소정 형상의 광빔을 투사함과 동시에, 상기 기판에서의 반사광을 광전 검출하는 것에 의해, 소정의 기준면과 상기 기판의 표면과의 상기 제1방향의 편치에 대응한 검출신호를 출력하는 위치 검출계; (c) 상기 스테이지에 설치되어, 소정 형상의 기준 패턴을 갖는 기준부재와; (d) 상기 광빔과 상기 기준 패턴을 상기 제2방향으로 상대 이동했을때의 상기 위치 검출계에서의 검출 신호의 강도 변화에 의거해서, 상기 스테이지의 이동위치를 규정하는 정좌표계상에 있어서, 상기 광빔의 조사 위치를 검출하는 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
14. 제13항에 있어서, 상기 검출된 조사 위치에 대응하여, 상기 정지좌표계 내에서 상기 광빔을 시프트하는 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
15. 마스크의 패턴 형상을 투영 광학계를 개재하여 감광기판상에 전사하는 것에 앞서, 상기 감광 기판상에 소정 형상의 광빔을 투사함과 동시에 상기 감광기판에서의 반사광을 광전 검출하는 것에 의해, 상기 투영 광학계의 결상면과 상기 감광기판의 표면과의 상기 투영 광학계의 광축 방향의 편차에 대응한 광전 신호를 얻고, 그 광전 신호에 의거해서 상기 감광기판의 표면을 상기 결상면에 배치하는 투영노광방법에 있어서, (a) 소정 형상의 기준 패턴에 상기 광빔을 조사했을때에 얻어지는 상기 광전 신호에 의거해서, 상기 감광기판의 이동 위치를 규정하는 정지 좌표계상에 있어 상기 광빔의 조사 위치를 검출하는 단계와; (b) 상기 감광기판상의 소정의 측정점에 상기 광빔의 투사되어지도록, 상기 검출된 조사 위치에 대응하여 상기 광빔과 상기 감광기판을 상대이동하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영노광방법.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.