KR950010013A - 플래인 위치결정 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 주사 노출장치에서 최 자동촛점 및 오토레벨링을 실행하고자 한다.
직각 또는 아이크형인 슬리트 방사영역에 대한 기판 및 레티클을 동시에 주사함에 의하여 감광성 기판상에서 각각의 주사 영역으로 레티클상의 패턴을 연속하여 노출하는 소위 스텝-주사형 노출장치에서, 자동촛점 메카니즘 및 오토레벨링 메카니즘에 이용하기 적합한 플래인 위치결정 장치에 관한 것이다. 촛점위치(ㅿZ)를 접촉하는 곡선진 표면(50)이 연속한 곡선진 표면에 의하여 나타난다 할지라도 촛점위치는 X,Y방향에서 예정된 거리만큼의 간격에서 샘플화된 이산 데이타이며 따라서, 곡선진 표면(50)은 이산점의 집합체이다. 로우 패스 필터의 특정 주파수 영역으로서 컷 오프 특정 주파수가 특정 주파수(fX)에서±Wx이며 특정 주파수 (fy)에서±Wy인 증폭도 전송 특성ㅣH(jwㅣ을 가지는 필터를 이용한다.
※선택도 제1도

Description

플래인 위치결정 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 이용된 본 발명에 따른 플래인 위치결정 장치의 한 실시예에서 전체 투영 노출장치를 도시한 개략도.
제2도는 제1도에 도시한 웨이퍼상에 측정점이 배열되는 것을 설명하기 위하여 도시한 실시도.

Claims (8)

  1. 예정된 가변형의 방사형 영역에 대하여 예정된 방향에서 이동패턴으로 형성된 스크를 주사하기 위한 마스크단과 마스크단에 일치하는 예정된 방향에서 감광성 기판을 주사하기 위한 기판단을 포함하고, 기판으로 마스크의 패턴을 연속하여 노출하고, 예정된 기준 플래인에 대하여 기판의 노출 플래인을 배열하는 주사노출장치에 장착된 플래인 위치결정장치에 있어서, 예정된 기준 플래인에 대하여 기판의 노출 플레인의 예정된 적당한 플래인을 배열하기 위한 기판단에 장착된 플래인 위치결정 수단과,기판의 주사방향에 대한 마스크 패턴의 노출영역전에 측정영역에서 다수의 측정점에서 기판의 노출 플래인의 높이를 결정하기 위한 높이 결정수단과: 정보가 가변 방사영역에 따라 변형되는 마스크 패턴의 가변노출영역에서 측정되는, 높이결정수단에 의해 검출된 다수의 측정점의 높이로 부터 기판의 노출 플래인 상의 다수의 높이 정보를 이용함에 의하여 기판의 노출 플래인의 적당한 플래인을 검출하기 위한 적정 플래인 산술수단을 포함하고; 상기 적정 플래인 산술수단에 의해 검출된 적정 플래인 위치결정 수단에 의하여 예정된 기준 플래인에 배열되는 것을 특징으로 하는 플래인 위치 결정장치.
  2. 제1항에 있어서, 적정 플래인 산술수단은 높이 결정수단에 의하여 검출된 다수의 측정점의 높이를 배열함에 의해 형성되며 특정 주파수범위에서 플래인의 형상을 필터링하는 로우 패스특성을 가지는 필터수단을 포함하고, 기판의 노출 플래인의 적정 플래인은 필터수단으로 마스크 패턴의 가변 노출영역에서 측정된 기판의 노출 플래인상의 다수의 높이정보를 필터링한후의 정보로 부터 검출되고;기판의 주사방향과 기판의 주사방향에 대하여 일반적인 비주사 방향에서 필터수단의 증폭 전송특성의 컷오프 특정 주파수는 주사방향에서 마스크 패턴의 노출영역의 폭의 역수와 비주사 방향의 폭에 비례하도록 설정되고;적정 플래인 산술수단에 의하여 검출된 적정 플래인은 플래인 위치결정 수단에 의하여 예정된 기준 플래인으로 할당되는 것을 특징으로 하는 프래인 위치 결정장치.
  3. 제1항에 있어서, 마스크와 기판간의 투영 크기인 β에 대하여 광학 투영 시스템을 제공 할수 있는바, 상기 마스크단은 광학 투영시스템의 축에서 정상인 플래인의 예정된 방향으로 VR의 속도로 주사되며, 상기 기판단은 축에서 정상인 플래인의 예정된 방향의 반대 방향으로 β.VR의 속도로 주사되는 것을 특징으로 하는 플래인 위치 결정장치.
  4. 예정된 가변형의 방사영역에 대한 예정된 방향으로 변환패턴을 형성하는 마스크를 주사하기 위한 마스크단과, 마스크단과 일치하는 예정된 방향으로 감광성 기판을 주사하기 위한 기판단을 포함하고, 기판으로 마시크패턴을 연속 노출하고, 플래인 위치결정 장치는 예정된 기준 플레인에 대하여 기판의 노출 플래인을 배열하기 위한것인, 주사 노출장치상에 장착된 플래인 위치결정장치에 있어서, 기준 플래인에 평행하며 동일 레벨에서 예정된 기준 플레인에 대한 기판의 노출 플래인의 예정된 적정 플래인을 배열할 수 있으며 기판단상에 설치된 기판단용 구동장치와;기판의 주사방향에 대한 마스크의 노출영역전에 측정영역에서의 다수의 측정점에 기판의 노출플래인의 높이를 검출하기 위한 센서와;정보가 가변 방사영역에 따라 변형되는 마스크 패턴의 가변노출영역에서 측정되는, 측정영역에서 다수의 측정점의 높이로부터 기판의 노출 플래인상의 다수의 높이 정보를 이용함에 의하여 기판의 노출 플래인의 적당한 플래인을 검출하기 위한 컴퓨터를 포함하는 것을 특징으로 하는 플래인 위치 결정장치.
  5. 예정된 가변형의 방사형 영역에 대하여 예정된 방향에서 이동패턴으로 형성된 마스크를 주사하기 위한 마스크단과 마스크단에 일치하는 예정된 방향에서 감광성 기판을 주사하기 위한 기판단을 포함하고, 기판으로 마스크의 패턴을 연속하여 노출하고 예정된 기준 플래인에 대하여 기판의 노출 플래인을 배열하는 주사노출장치에 장착된 플래인 위치결정장치에 있어서, 예정된 기준 플래인에 대하여 기판의 노출 플레인의 예정된 적당한 플래인을 배열하기 위한 기판단에 장착된 플래인 위치결정 수단과;상기 마스크 패턴의 노출영역 주변의 측정영역에서 다수의 측정점에서 기판의 노출 플레인의 높이를 결정하기 위한 높이 결정수단과; 적정 플래인 산술수단은 높이 결정수단에 의하여 검출된 다수의 측정점의 높이를 배열함에 의해 형성되며 특정 주파수범위에서 플래인의 형상을 필터링하는 로우 패스 특성을 가지는 필터수단과;필터수단에 의하여 필터링한 후 플래인 형태로부터 상기 마스크 패턴의 노출영역에서 기판의 노출 플래인중 적정 플래인을 검출하기 위한 적정 플래인 산술수단을 포함하고; 기판의 주사방향과 기판의 주사방향에 대하여 일반적인 비주사 방향에서 필터수단의 증폭 전송특성의 컷오프 특정 주파수는 주사방향에서 마스크 패턴의 노출영역의 폭의 역수와 비주사 방향의 폭에 비례하도록 설정되고;적정 플래인 산술수단에 의하여 검출된 적정 플래인은 플래인 위치결정 수단에 의하여 예정된 기준 플래인으로 할당되는 것을 특징으로 하는 플래인 위치 결정장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 필터 수단의 증폭전송 특성의 특정 주파수 성분이 통과하는 영역의 현상이 상기 마스크 패턴의 노출 영역의 형상과 유사한 것을 특징으로 하는 플래인 위치 결정장치.
  7. 마스크의 패턴 플래인과 실제로 접합 플래인 상에 위치한 가변 필드의 개구부를 통해 마스크상에 조사광을 방사하기 위한 조사시스템과;감광성 기판상에 마스크에 형성된 패턴을 투영하기 위한 광학 투영 시스템과;광학 투영시스템의 축에 대하여 실제로 정상적인 방향으로 주사 노출동안 마스크와 기판을 움직이기 위한 가동부재와;마스크의 움직임에 대하여 연동시에 가동 필드 격벽의 개구 폭을 변화하기 위한 구봉부재와;기판의 움직임 방향에 대하여 마스크 패턴의 노출영역전에 영역에서 다수의 측정점을 가지며 다수의 측정점의 각각에서 광학 투영 시스템의 광학축의 방향으로 기판의 표면위치를 검출하는 센서와;주사 노출동안 센서에 의하여 검출된다 점의 가변 필드 격벽의 개구부에 따라 변화하는 마스크 패턴의 노출영역에서 다수 점상에 놓인 기판 표면의 적정 플래인을 산술하기 위한 계산기와; 상 형성 플래인에서 계산된 적정 플래인과 실제로 일치하도록 서로 관련된 광학투영 시스템의 상 형상 플래인과 기판을 움직이기 위한 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사 노출장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 계산기는 적정 플래인 산술수단은 높이 결정수단에 의하여 검출된 다수의 측정점의 높이를 배열함에 의해 형성되며 특정 주파수범위에서 플래인의 형상을 필터링하는 로우 패스특성을 가지는 필터 수단을 포함하고, 기판의 노출 플래인의 적정 풀래인은 필터수단으로 마스크 패턴의 가변 노출영역에서 측정된 기판의 노출 플래인상의 다수의 높이정보를 필터링한후의 정보로부터 검출하는 것을 특징으로 하는 플래인 위치 결정장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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