JP4487042B2 - 光学装置、検査装置及び検査方法 - Google Patents
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Description
本実施の形態にかかる光学装置について図1を用いて説明する。11は落射光源、12はコンデンサーレンズ、13はハーフミラー、14は結像レンズ、15はCCDカメラ、16は偏光板、17は偏光ビームスプリッタ、23は再帰性反射シート、26はガラステーブルであり、これらが光学装置を構成している。27は対象物体である基板であり、ここで基板27は液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板(CF基板)として説明する。
本実施の形態にかかる光学装置について図5を用いて説明する。なお、本実施の形態において実施の形態1と同様の構成については説明を省略する。
14 結像レンズ、15 CCDカメラ、16 偏光板、17 偏光ビームスプリッタ
19 偏光板、20 レンズ、21 1/4波長板、23 再帰性反射シート、
26 ガラステーブル、27 基板、28 シャッター、50 入射光、51 反射光、52 透過光、54 基板の垂線
Claims (9)
- 対象物体で反射した光と前記対象物体を透過した光とを用いて、前記対象物体に関するオペレーションを行う光学装置であって、
光源と、
前記光源からの入射光を集光して、前記対象物体の表面の垂線から傾いた角度で前記対象物体の任意の点に入射させるレンズと、
前記入射光を、前記レンズの中心より外側にのみ導く第1の光学手段と、
前記対象物体の裏面側に配置され、前記入射光の入射方向と同じ方向に光を再帰反射させる再帰反射部材と、
前記入射光のうち前記再帰反射部材で再帰反射され前記対象物体を透過した透過光と、前記対象物体の表面で前記入射方向と異なる方向に反射された反射光を受光する第2の光学手段を備える光学装置。 - 前記透過光と前記反射光とを重ね合わせる第3の光学手段をさらに備え、
前記第2の光学手段が、前記反射光と前記透過光とが重ね合わされた位置に配置され、前記透過光と前記反射光とを検出する検出器を有する請求項1記載の光学装置。 - 前記透過光の光路上又は前記反射光の光路上に移動可能に設けられ、前記透過光又は前記反射光が前記検出器に入射するのを遮るシャッターをさらに備える請求項2記載の光学装置。
- 前記透過光と前記反射光とを異なる偏光状態とする偏光手段をさらに備え、
前記第2の光学手段が前記透過光又は前記反射光の偏光状態に基づいて光量を変化させる偏光板を有し、前記検出器に検出される前記反射光又は前記透過光の光量を変化させる請求項1乃至3いずれかに記載の光学装置。 - 被検体で反射された光と前記被検体を透過した光とを用いて、前記被検体を撮像して検査する検査装置であって、
光源と、
前記光源からの入射光を集光して、前記被検体の表面の垂線から傾いた角度で前記被検体の任意の点に入射させるレンズと、
前記入射光を、前記レンズの中心より外側にのみ導く第1の光学手段と、
前記被検体の裏面側に配置され、入射方向と同じ方向に光を再帰反射させる再帰反射部材と、
前記入射光のうち前記再帰反射部材で再帰反射され前記被検体を透過した透過光と、前記被検体の表面で前記入射方向と異なる方向に反射された反射光とを用いて前記被検体を撮像する撮像手段とを備える検査装置。 - 前記透過光の光路上又は前記反射光の光路上に移動可能に設けられ、前記透過光又は前記反射光が前記検出器に入射するのを遮るシャッターと、
前記透過光と前記反射光とを前記撮像手段の位置に重ね合わせる第2の光学手段をさらに備え、
前記シャッターによって前記反射光又は前記透過光を遮光することにより、前記透過光又は前記反射光のいずれか一方を用いて前記被検体を撮像する請求項5記載の検査装置。 - 前記透過光と前記反射光を異なる偏光状態とする偏光手段と、
前記透過光又は前記反射光の偏光状態に基づいて光量を変化させる偏光板とをさらに備え、
前記検出器に検出される前記反射光又は前記透過光の光量を変化させる請求項6記載の検査装置。 - 被検体で反射された光と前記被検体を透過した光を用いて前記被検体を撮像して検査する検査方法であって、
前記光源からの入射光をレンズの中心より外側にのみ導き、前記レンズにより前記被検体の表面の垂線から傾いた角度で前記被検体の任意の点に集光するステップと、
前記被検体の表面で前記入射光の入射方向と異なる方向に反射された反射光を撮像するステップと、
前記被検体を透過し、前記披検体の裏面で前記入射光の入射方向と同じ方向に再帰反射され、前記被検体を再度透過した透過光を撮像するステップを有する検査方法。 - 前記透過光と前記反射光とを異なる偏光状態に変化させるステップと、
前記前記透過光と前記反射光との偏光状態に違いに基づいて前記透過光又は前記反射光の光量を変化させるステップとをさらに有する請求項8記載の検査方法。
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US5233186A (en) * | 1992-06-19 | 1993-08-03 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Inspection of transparent containers with opposing reflection means |
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