KR20180099681A - 화합물, 수지, 조성물, 레지스트 패턴 형성방법, 및, 회로 패턴 형성방법 - Google Patents

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타카시 사토
마사토시 에치고
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미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드
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Abstract

하기 식(0)으로 표시되는 화합물을 이용한다.
Figure pct00239

(식(0) 중, RY는, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기 또는 탄소수 6~30의 아릴기이며, RZ는, 탄소수 1~60의 N가의 기 또는 단결합이며, RT는, 각각 독립적으로, 치환기를 가질 수도 있는 탄소원자수 1~30의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소원자수 6~40의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소원자수 2~30의 알케닐기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 니트로기, 아미노기, 시아노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 여기서, 상기 알킬기, 상기 알케닐기 및 상기 아릴기는, 에테르결합, 케톤결합 또는 에스테르결합을 포함할 수도 있고, 여기서, RT의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, X는, 산소원자, 황원자 또는 무가교인 것을 나타내고, m은, 각각 독립적으로 0~9의 정수이며, 여기서, m의 적어도 1개는 1~9의 정수이며, N은, 1~4의 정수이며, 여기서, N이 2 이상의 정수인 경우, N개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고, r은, 각각 독립적으로 0~2의 정수이다.)

Description

화합물, 수지, 조성물, 레지스트 패턴 형성방법, 및, 회로 패턴 형성방법
본 발명은, 특정 구조를 갖는 화합물, 수지 및 이들을 함유하는 조성물에 관한 것이다. 또한, 이 조성물을 이용하는 패턴 형성방법(레지스트 패턴 형성방법, 및, 회로 패턴 형성방법)에 관한 것이다.
반도체 디바이스의 제조에 있어서, 포토레지스트 재료를 이용한 리소그래피에 의한 미세가공이 행해지고 있는데, 최근, LSI의 고집적화와 고속도화에 수반하여, 패턴룰에 의한 추가적인 미세화가 요구되고 있다. 또한, 레지스트 패턴 형성시에 사용하는 리소그래피용 광원은, KrF엑시머레이저(248nm)로부터 ArF엑시머레이저(193nm)로 단파장화되고 있고, 극단자외광(EUV, 13.5nm)의 도입도 전망되고 있다.
그러나, 종래의 고분자계 레지스트 재료를 이용하는 리소그래피에서는, 그 분자량이 1만~10만 정도로 크고, 분자량분포도 넓으므로, 패턴표면에 러프니스가 생겨 패턴치수의 제어가 곤란해지고, 미세화에 한계가 있다.
이에, 지금까지, 보다 해상성이 높은 레지스트 패턴을 부여하기 위하여, 다양한 저분자량 레지스트 재료가 제안되어 있다. 저분자량 레지스트 재료는 분자사이즈가 작은 점에서, 해상성이 높고, 러프니스가 작은 레지스트 패턴을 부여하는 것이 기대된다.
현재, 이러한 저분자계 레지스트 재료로서, 다양한 것이 알려져 있다. 예를 들어, 저분자량 다핵 폴리페놀 화합물을 주성분으로서 이용하는 알칼리현상형의 네거티브형 감방사선성 조성물(예를 들어, 특허문헌 1 및 특허문헌 2 참조)이 제안되어 있으며, 고내열성을 갖는 저분자량 레지스트 재료의 후보로서, 저분자량 환상 폴리페놀 화합물을 주성분으로서 이용하는 알칼리현상형의 네거티브형 감방사선성 조성물(예를 들어, 특허문헌 3 및 비특허문헌 1 참조)도 제안되어 있다. 또한, 레지스트 재료의 베이스 화합물로서, 폴리페놀 화합물이, 저분자량이면서 고내열성을 부여할 수 있고, 레지스트 패턴의 해상성이나 러프니스의 개선에 유용한 것이 알려져 있다(예를 들어, 비특허문헌 2 참조).
본 발명자들은, 에칭내성이 우수함과 함께, 용매에 가용이고 습식 프로세스가 적용가능한 재료로서, 특정 구조의 화합물 및 유기용매를 함유하는 레지스트 조성물(특허문헌 4를 참조)을 제안하고 있다.
또한, 레지스트 패턴의 미세화가 진행되면, 해상도의 문제 혹은 현상후에 레지스트 패턴이 무너지는 것과 같은 문제가 발생하기 때문에, 레지스트의 박막화가 요구되게 된다. 그런데, 단순히 레지스트의 박막화를 행하면, 기판가공에 충분한 레지스트 패턴의 막두께를 얻는 것이 어려워진다. 이 때문에, 레지스트 패턴뿐만 아니라, 레지스트와 가공하는 반도체기판의 사이에 레지스트 하층막을 제작하고, 이 레지스트 하층막에도 기판가공시의 마스크로서의 기능을 갖게 하는 프로세스가 필요하게 되었다.
현재, 이러한 프로세스용 레지스트 하층막으로서, 다양한 것이 알려져 있다. 예를 들어, 종래의 에칭속도가 빠른 레지스트 하층막과는 달리, 레지스트에 가까운 드라이에칭속도의 선택비를 갖는 리소그래피용 레지스트 하층막을 실현하는 것으로서, 소정의 에너지가 인가됨으로써 말단기가 탈리하여 설폰산 잔기를 발생시키는 치환기를 적어도 갖는 수지성분과 용매를 함유하는 다층 레지스트 프로세스용 하층막 형성재료가 제안되어 있다(특허문헌 5 참조). 또한, 레지스트에 비해 작은 드라이에칭속도의 선택비를 갖는 리소그래피용 레지스트 하층막을 실현하는 것으로서, 특정 반복단위를 갖는 중합체를 포함하는 레지스트 하층막 재료가 제안되어 있다(특허문헌 6 참조). 나아가, 반도체기판에 비해 작은 드라이에칭속도의 선택비를 갖는 리소그래피용 레지스트 하층막을 실현하는 것으로서, 아세나프틸렌류의 반복단위와, 치환 또는 비치환된 하이드록시기를 갖는 반복단위를 공중합하여 이루어진 중합체를 포함하는 레지스트 하층막 재료가 제안되어 있다(특허문헌 7 참조).
한편, 이러한 레지스트 하층막에 있어서 높은 에칭내성을 갖는 재료로는, 메탄가스, 에탄가스, 아세틸렌가스 등을 원료로 이용한 CVD에 의해 형성된 아몰퍼스카본 하층막이 잘 알려져 있다. 그러나, 프로세스상의 관점에서, 스핀코트법이나 스크린인쇄 등의 습식 프로세스로 레지스트 하층막을 형성할 수 있는 레지스트 하층막 재료가 요구되고 있다.
또한, 본 발명자들은, 에칭내성이 우수함과 함께, 내열성이 높고, 용매에 가용이며 습식 프로세스가 적용가능한 재료로서, 특정 구조의 화합물 및 유기용매를 함유하는 리소그래피용 하층막 형성 조성물(특허문헌 8을 참조)을 제안하고 있다.
한편, 3층 프로세스에 있어서의 레지스트 하층막의 형성에 있어서 이용되는 중간층의 형성방법에 관해서는, 예를 들어, 실리콘질화막의 형성방법(특허문헌 9 참조)이나, 실리콘질화막의 CVD형성방법(특허문헌 10 참조)이 알려져 있다. 또한, 3층 프로세스용 중간층 재료로는, 실세스퀴옥산 베이스의 규소 화합물을 포함하는 재료가 알려져 있다(특허문헌 11 및 12 참조).
나아가 광학부품형성 조성물로서, 다양한 것이 제안되어 있다. 예를 들어, 아크릴계 수지를 들 수 있다(특허문헌 13~14 참조).
일본특허공개 2005-326838호 공보 일본특허공개 2008-145539호 공보 일본특허공개 2009-173623호 공보 국제공개 제2013/024778호 일본특허공개 2004-177668호 공보 일본특허공개 2004-271838호 공보 일본특허공개 2005-250434호 공보 국제공개 제2013/024779호 일본특허공개 2002-334869호 공보 국제공개 제2004/066377호 일본특허공개 2007-226170호 공보 일본특허공개 2007-226204호 공보 일본특허공개 2010-138393호 공보 일본특허공개 2015-174877호 공보
T.Nakayama, M.Nomura, K.Haga, M.Ueda: Bull.Chem.Soc.Jpn.,71,2979(1998) 오카자키 신지, 외 22명 「포토레지스트 재료 개발의 신전개」 주식회사씨엠씨출판, 2009년 9월, p.211-259
상기 서술한 바와 같이, 종래 수많은 레지스트 용도용으로 리소그래피용 막형성 조성물 및 하층막 용도용 리소그래피용 막형성 조성물이 제안되어 있으나, 스핀코트법이나 스크린인쇄 등의 습식 프로세스가 적용가능한 높은 용매용해성을 가질뿐만 아니라, 내열성 및 에칭내성을 높은 차원에서 양립시킨 것은 없어, 새로운 재료의 개발이 요구되고 있다.
또한, 종래 수많은 광학부재용 조성물이 제안되어 있으나, 내열성, 투명성 및 굴절률을 높은 차원에서 양립시킨 것은 없어, 새로운 재료의 개발이 요구되고 있다.
본 발명은, 상기 서술한 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 그 목적은, 습식 프로세스가 적용가능하며, 내열성, 용해성 및 에칭내성이 우수한 포토레지스트 및 포토레지스트용 하층막을 형성하기 위하여 유용한, 화합물, 수지, 조성물(예를 들어, 리소그래피용 막형성 또는 광학부품형성에 이용되는 조성물) 및 이 조성물을 이용한 패턴 형성방법(레지스트 패턴 형성방법, 및, 회로 패턴 형성방법)을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 거듭한 결과, 특정 구조를 갖는 화합물 또는 수지를 이용함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, 다음과 같다.
[1] 하기 식(0)으로 표시되는, 화합물.
[화학식 1]
Figure pct00001
(식(0) 중, RY는, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기 또는 탄소수 6~30의 아릴기이며,
RZ는, 탄소수 1~60의 N가의 기 또는 단결합이며,
RT는, 각각 독립적으로, 치환기를 가질 수도 있는 탄소원자수 1~30의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소원자수 6~40의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소원자수 2~30의 알케닐기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 니트로기, 아미노기, 시아노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 여기서, 상기 알킬기, 상기 알케닐기 및 상기 아릴기는, 에테르결합, 케톤결합 또는 에스테르결합을 포함할 수도 있고, 여기서, RT의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
X는, 산소원자, 황원자 또는 무가교인 것을 나타내고,
m은, 각각 독립적으로 0~9의 정수이며, 여기서, m의 적어도 1개는 1~9의 정수이며,
N은, 1~4의 정수이며, 여기서, N이 2 이상의 정수인 경우, N개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고,
r은, 각각 독립적으로 0~2의 정수이다.)
[2] 상기 식(0)으로 표시되는 화합물이 하기 식(1)로 표시되는 화합물인, 상기 [1]에 기재된 화합물.
[화학식 2]
Figure pct00002
(식(1) 중, R0은, 상기 RY와 동의이며,
R1은, 탄소수 1~60의 n가의 기 또는 단결합이며,
R2~R5는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 시아노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 여기서, R2~R5의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
m2 및 m3은, 각각 독립적으로, 0~8의 정수이며,
m4 및 m5는, 각각 독립적으로, 0~9의 정수이며,
단, m2, m3, m4 및 m5는 동시에 0이 되는 일은 없고,
n은 상기 N과 동의이며, 여기서, n이 2 이상의 정수인 경우, n개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고,
p2~p5는, 상기 r과 동의이다.)
[3] 상기 식(0)으로 표시되는 화합물이 하기 식(2)로 표시되는 화합물인, 상기 [1]에 기재된 화합물.
[화학식 3]
Figure pct00003
(식(2) 중, R0A는, 상기 RY와 동의이며,
R1A는, 탄소수 1~60의 nA가의 기 또는 단결합이며,
R2A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 할로겐원자, 시아노기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 여기서, R2A의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
nA는, 상기 N과 동의이며, 여기서, nA가 2 이상의 정수인 경우, nA개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고,
XA는, 산소원자, 황원자 또는 무가교인 것을 나타내고,
m2A는, 각각 독립적으로, 0~7의 정수이며, 단, 적어도 1개의 m2A는 1~7의 정수이며,
qA는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이다.)
[4] 상기 식(1)로 표시되는 화합물이 하기 식(1-1)로 표시되는 화합물인, 상기 [2]에 기재된 화합물.
[화학식 4]
Figure pct00004
(식(1-1) 중, R0, R1, R4, R5, n, p2~p5, m4 및 m5는, 상기와 동의이며,
R6~R7은, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 티올기이며,
R10~R11은, 각각 독립적으로, 수소원자 또는 산해리성기이며,
m6 및 m7은, 각각 독립적으로, 0~7의 정수이며,
단, m4, m5, m6 및 m7은 동시에 0이 되는 일은 없다.)
[5] 상기 식(1-1)로 표시되는 화합물이 하기 식(1-2)로 표시되는 화합물인, 상기 [4]에 기재된 화합물.
[화학식 5]
Figure pct00005
(식(1-2) 중, R0, R1, R6, R7, R10, R11, n, p2~p5, m6 및 m7은, 상기와 동의이며,
R8~R9는, 상기 R6~R7과 동의이며,
R12~R13은, 상기 R10~R11과 동의이며,
m8 및 m9는, 각각 독립적으로, 0~8의 정수이며,
단, m6, m7, m8 및 m9는 동시에 0이 되는 일은 없다.)
[6] 상기 식(2)로 표시되는 화합물이 하기 식(2-1)로 표시되는 화합물인, 상기 [3]에 기재된 화합물.
[화학식 6]
Figure pct00006
(식(2-1) 중, R0A, R1A, nA, qA 및 XA는, 상기 식(2)에서 설명한 것과 동의이다.
R3A는, 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 또는 탄소수 2~30의 알케닐기이며,
R4A는, 각각 독립적으로, 수소원자 또는 산해리성기이며,
m6A는, 각각 독립적으로, 0~5의 정수이다.)
[7] 상기 [1]에 기재된 화합물을 모노머로 하여 얻어지는, 수지.
[8] 하기 식(3)으로 표시되는 구조를 갖는, 상기 [7]에 기재된 수지.
[화학식 7]
Figure pct00007
(식(3) 중, L은, 탄소수 1~30의 직쇄상 혹은 분지상의 알킬렌기 또는 단결합이며,
R0은, 상기 RY와 동의이며,
R1은, 탄소수 1~60의 n가의 기 또는 단결합이며,
R2~R5는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 시아노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 여기서, R2~R5의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
m2 및 m3은, 각각 독립적으로, 0~8의 정수이며,
m4 및 m5는, 각각 독립적으로, 0~9의 정수이며,
단, m2, m3, m4 및 m5는 동시에 0이 되는 일은 없고,
n은 상기 N과 동의이며, 여기서, n이 2 이상의 정수인 경우, n개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고,
p2~p5는, 상기 r과 동의이다.)
[9] 하기 식(4)로 표시되는 구조를 갖는, 상기 [7]에 기재된 수지.
[화학식 8]
Figure pct00008
(식(4) 중, L은, 탄소수 1~30의 직쇄상 혹은 분지상의 알킬렌기 또는 단결합이며,
R0A는, 상기 RY와 동의이며,
R1A는, 탄소수 1~60의 nA가의 기 또는 단결합이며,
R2A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 할로겐원자, 시아노기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 여기서, R2A의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
nA는, 상기 N과 동의이며, 여기서, nA가 2 이상의 정수인 경우, nA개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고,
XA는, 산소원자, 황원자 또는 무가교인 것을 나타내고,
m2A는, 각각 독립적으로, 0~7의 정수이며, 단, 적어도 1개의 m2A는 1~6의 정수이며,
qA는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이다.)
[10] 상기 [1]~상기 [6] 중 어느 하나에 기재된 화합물 및 상기 [7]~상기 [9] 중 어느 하나에 기재된 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 함유하는, 조성물.
[11] 용매를 추가로 함유하는, 상기 [10]에 기재된 조성물.
[12] 산발생제를 추가로 함유하는, 상기 [10] 또는 상기 [11]에 기재된 조성물.
[13] 산가교제를 추가로 함유하는, 상기 [10]~상기 [12] 중 어느 하나에 기재된 조성물.
[14] 리소그래피용 막형성에 이용되는, 상기 [10]~상기 [13] 중 어느 하나에 기재된 조성물.
[15] 광학부품형성에 이용되는, 상기 [10]~상기 [13] 중 어느 하나에 기재된 조성물.
[16] 기판 상에, 상기 [14]에 기재된 조성물을 이용하여 포토레지스트층을 형성한 후, 상기 포토레지스트층의 소정의 영역에 방사선을 조사하고, 현상을 행하는 공정을 포함하는, 레지스트 패턴 형성방법.
[17] 기판 상에, 상기 [14]에 기재된 조성물을 이용하여 하층막을 형성하고, 상기 하층막 상에, 적어도 1층의 포토레지스트층을 형성한 후, 상기 포토레지스트층의 소정의 영역에 방사선을 조사하고, 현상을 행하는 공정을 포함하는, 레지스트 패턴 형성방법.
[18] 기판 상에, 상기 [14]에 기재된 조성물을 이용하여 하층막을 형성하고, 상기 하층막 상에, 레지스트 중간층막 재료를 이용하여 중간층막을 형성하고, 상기 중간층막 상에, 적어도 1층의 포토레지스트층을 형성한 후, 상기 포토레지스트층의 소정의 영역에 방사선을 조사하고, 현상하여 레지스트 패턴을 형성하고, 그 후, 상기 레지스트 패턴을 마스크로 하여 상기 중간층막을 에칭하고, 얻어진 중간층막 패턴을 에칭마스크로 하여 상기 하층막을 에칭하고, 얻어진 하층막 패턴을 에칭마스크로 하여 기판을 에칭함으로써 기판에 패턴을 형성하는 공정을 포함하는, 회로 패턴 형성방법.
본 발명에 따르면, 습식 프로세스가 적용가능하며, 내열성, 용해성 및 에칭내성이 우수한 포토레지스트 및 포토레지스트용 하층막을 형성하기 위하여 유용한, 화합물, 수지, 조성물(예를 들어, 리소그래피용 막형성 또는 광학부품형성에 이용되는 조성물) 및 이 조성물을 이용한 패턴 형성방법(레지스트 패턴 형성방법, 및, 회로 패턴 형성방법)을 제공할 수 있다.
후술한 바와 같이, 본 실시형태의 화합물 및 수지는, 안전용매에 대한 용해성이 높고, 내열성 및 에칭내성이 양호하며, 본 실시형태의 레지스트 조성물은 양호한 레지스트 패턴형상을 부여한다.
또한, 본 실시형태의 화합물 및 수지는 습식 프로세스가 적용가능하며, 내열성 및 에칭내성이 우수한 포토레지스트 하층막을 형성하기 위하여 유용한 화합물, 수지 및 리소그래피용 막형성 조성물을 실현할 수 있다. 그리고, 이 리소그래피용 막형성 조성물은, 내열성이 높고, 용매용해성도 높은, 특정 구조를 갖는 화합물 또는 수지를 이용하고 있으므로, 고온베이크시의 막의 열화가 억제되고, 산소플라즈마에칭 등에 대한 에칭내성도 우수한 레지스트 및 하층막을 형성할 수 있다. 게다가, 하층막을 형성한 경우, 레지스트층과의 밀착성도 우수하므로, 우수한 레지스트 패턴을 형성할 수 있다. 더 나아가, 굴절률이 높고, 또한 저온에서 고온까지의 광범위한 열처리에 의해 착색이 억제되는 점에서, 각종 광학형성 조성물로서도 유용하다.
[0019]
이하, 본 발명의 실시의 형태에 대하여 설명한다. 한편, 이하의 실시의 형태는, 본 발명을 설명하기 위한 예시이며, 본 발명은 그 실시의 형태만으로 한정되지 않는다.
본 실시형태의 화합물은, 하기 식(0)으로 표시된다.
[화학식 9]
Figure pct00009
(식(0) 중, RY는, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기 또는 탄소수 6~30의 아릴기이며,
RZ는, 탄소수 1~60의 N가의 기 또는 단결합이며,
RT는, 각각 독립적으로, 치환기를 가질 수도 있는 탄소원자수 1~30의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소원자수 6~40의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소원자수 2~30의 알케닐기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 니트로기, 아미노기, 시아노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 여기서, 상기 알킬기, 상기 알케닐기 및 상기 아릴기는, 에테르결합, 케톤결합 또는 에스테르결합을 포함할 수도 있고, 여기서, RT의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
X는, 산소원자, 황원자 또는 무가교인 것을 나타내고,
m은, 각각 독립적으로 0~9의 정수이며, 여기서, m의 적어도 1개는 1~9의 정수이며,
N은, 1~4의 정수이며, 여기서, N이 2 이상의 정수인 경우, N개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고,
r은, 각각 독립적으로 0~2의 정수이다.)
상기 「치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~30의 알킬기」는, 특별히 한정되는 것은 아니나, 무치환의 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, i-부틸기, t-부틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기 등일 수도 있고, 할로겐원자, 니트로기, 아미노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기 등의 치환기를 갖는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, i-부틸기, t-부틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기 등일 수도 있다.
상기 「치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~40의 아릴기」는, 특별히 한정되는 것은 아니나, 무치환의 페닐기, 나프탈렌기, 비페닐기 등일 수도 있고, 할로겐원자, 니트로기, 아미노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기 등의 치환기를 갖는 페닐기, 나프탈렌기, 비페닐기 등일 수도 있다.
상기 「치환기를 가질 수도 있는 탄소수 2~30의 알케닐기」는, 특별히 한정되는 것은 아니나, 무치환의 프로페닐기, 부테닐기 등일 수도 있고, 할로겐원자, 니트로기, 아미노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기 등의 치환기를 갖는 프로페닐기, 부테닐기 등일 수도 있다.
상기 「치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~30의 알콕시기」는, 특별히 한정되는 것은 아니나, 무치환의 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 시클로헥실옥시기, 페녹시기, 나프탈렌옥시기비페닐기 등일 수도 있고, 할로겐원자, 니트로기, 아미노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기 등의 치환기를 갖는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 시클로헥실옥시기, 페녹시기, 나프탈렌옥시기 등일 수도 있다.
한편, 후술하는 바와 같이 「산해리성기」란, 산의 존재하에서 개열하여, 알칼리가용성기 등의 용해성을 변화시키는 관능기를 발생시키는 특성기를 말한다. 알칼리가용성기로는, 페놀성 수산기, 카르복실기, 설폰산기, 헥사플루오로이소프로판올기 등을 들 수 있고, 페놀성 수산기 및 카르복실기가 바람직하고, 페놀성 수산기가 특히 바람직하다.
또한, 식(0)으로 표시되는 화합물은 특별히 한정되는 것은 아니나, 착색성이나 화합물의 분해성의 억제의 관점에서, 하기 (a)~(e)의 각각, 또는 이들 조합이 바람직하다.
(a): 식(0) 중, [ ]내의 구조식에 있어서의 r이 동일한 것, 즉, [ ]내의 구조식에 있어서의 2개의 아릴구조로 표시되는 부위가 동일한 구조인 것이 바람직하다.
(b): 식(0) 중, [ ]내의 구조식에 있어서 각 아릴구조로 표시되는 부위에 결합되는 RT는, 동일한 것인 것이 바람직하고, 각 아릴구조로 표시되는 부위에 있어서의 결합부위가 동일한 것이 더욱 바람직하다.
(c): 식(0)에 있어서, N이 1~2인 것이 바람직하고, 1인 것이 더욱 바람직하다.
(d): 식(0)에 있어서, RY는, 탄소수 1~30의 직쇄상의 알킬기, 또는 페닐기가 바람직하고, 메틸기 또는 페닐기인 것이 더욱 바람직하다.
(e): 식(0)에 있어서, RZ는, 탄소수 1~60의 N가의 기인 것이 바람직하다.
상기 식(0)으로 표시되는 화합물은, 가교의 용이함과 유기용매에 대한 용해성의 관점에서, 하기 식(0-1)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
[화학식 10]
Figure pct00010
(식(0-1) 중, RY'는, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기 또는 탄소수 6~30의 아릴기이며,
RZ는, 탄소수 1~60의 N가의 기 또는 단결합이며,
RT'는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 시아노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
여기서, RT'의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
X는, 산소원자, 황원자 또는 무가교인 것을 나타내고,
m은, 각각 독립적으로 0~9의 정수이며, 여기서, m의 적어도 1개는 1~9의 정수이며,
N은, 1~4의 정수이며, 여기서, N이 2 이상의 정수인 경우, N개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고,
r은, 각각 독립적으로 0~2의 정수이다.)
이하, 식(1)로 표시되는 화합물 및 식(2)로 표시되는 화합물을 중심으로 하여 식(0)으로 표시되는 화합물 및 식(0-1)로 표시되는 화합물애 대하여 설명한다. 단, 식(0)으로 표시되는 화합물 및 식(0-1)로 표시되는 화합물은 하기 설명으로 한정되는 것은 아니다.
[식(1)로 표시되는 화합물]
본 실시형태의 화합물은, 하기 식(1)로 표시되는 것이 바람직하다. 본 실시형태의 화합물은, 하기 구조를 갖기 때문에, 더욱 내열성이 높고, 용매용해성도 높다.
[화학식 11]
Figure pct00011
상기 (1)식 중, R0은, 상기 RY와 동의이며, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기 또는 탄소수 6~30의 아릴기이다. R0이, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기인 점에서, 본 화합물의 산화분해를 억제하고 착색를 억제하여, 내열성이 높고, 용매용해성을 향상시킬 수 있다.
R1은 탄소수 1~60의 n가의 기 또는 단결합이며, 이 R1을 개재하여 각각의 방향환이 결합되어 있다.
R2~R5는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 시아노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이다. 단, 식(1) 중, R2~R5의 적어도 1개는, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이다.
m2 및 m3은, 각각 독립적으로, 0~8의 정수이며, m4 및 m5는, 각각 독립적으로, 0~9의 정수이다. 단, m2, m3, m4 및 m5는 동시에 0이 되는 일은 없다.
n은 1~4의 정수이다.
p2~p5는 각각 독립적으로 0~2의 정수이다. 한편, p2~p5가 0인 경우에는 식(1)에서 나프탈렌구조로 나타내는 부위는, 벤젠구조를 나타내고, p2~p5가 1인 경우에는 나프탈렌구조를 나타내고, p2~p5가 2인 경우에는 안트라센 또는 페난트렌 등의 삼환구조를 나타낸다.
n은 상기 N과 동의이며, n이 2 이상의 정수인 경우, n개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있다.
한편, 상기 n가의 기란, n=1일 때는, 탄소수 1~60의 알킬기, n=2일 때는, 탄소수 1~60의 알킬렌기, n=3일 때는, 탄소수 2~60의 알칸프로파일기, n=4일 때는, 탄소수 3~60의 알칸테트라일기인 것을 나타낸다. 상기 n가의 기로는, 예를 들어, 직쇄상 탄화수소기, 분지상 탄화수소기 또는 지환식 탄화수소기를 갖는 것 등을 들 수 있다. 여기서, 상기 지환식 탄화수소기에 대해서는, 유교지환식 탄화수소기도 포함된다. 또한, 상기 n가의 기는, 탄소수 6~60의 방향족기를 가질 수도 있다.
또한, 상기 n가의 탄화수소기는, 지환식 탄화수소기, 이중결합, 헤테로원자 혹은 탄소수 6~60의 방향족기를 가질 수도 있다. 여기서, 상기 지환식 탄화수소기에 대해서는, 유교지환식 탄화수소기도 포함된다.
상기 식(1)로 표시되는 화합물은, 비교적 저분자량이면서도, 그 구조의 강직함에 의해 높은 내열성을 가지므로, 고온베이크 조건에서도 사용가능하다. 또한, 분자 중에 4급 탄소를 갖고 있어, 결정성이 억제되고, 리소그래피용 막제조에 사용할 수 있는 리소그래피용 막형성 조성물로서 호적하게 사용된다.
또한, 안전용매에 대한 용해성이 높고, 내열성 및 에칭내성이 양호하며, 본 실시형태의 리소그래피용 레지스트형성 조성물은 양호한 레지스트 패턴형상을 부여한다.
나아가, 식(1)로 표시되는 화합물은, 비교적 저분자량이고 저점도인 점에서, 단차를 갖는 기판(특히, 미세한 스페이스나 홀패턴 등)이어도, 그 단차의 구석까지 균일하게 충전시키면서, 막의 평탄성을 높이는 것이 용이하며, 그 결과, 이것을 이용한 리소그래피용 하층막 형성 조성물은 매립 및 평탄화 특성이 비교적 유리하게 높아질 수 있다. 또한, 비교적 높은 탄소농도를 갖는 화합물인 점에서, 높은 에칭내성도 부여된다.
식(1)로 표시되는 화합물은, 굴절률이 높고, 또한 저온에서 고온까지의 광범위한 열처리에 의해 착색이 억제되는 점에서, 각종 광학부품형성 조성물로서도 유용하다. 광학부품은, 필름상, 시트상으로 사용되는 것 외에, 플라스틱렌즈(프리즘렌즈, 렌티큘러렌즈, 마이크로렌즈, 프레넬렌즈, 시야각제어렌즈, 콘트라스트향상렌즈 등), 위상차 필름, 전자파쉴드용 필름, 프리즘, 광화이버, 플렉서블프린트배선용 솔더레지스트, 도금레지스트, 다층 프린트배선판용 층간절연막, 감광성 광도파로로서 유용하다.
상기 식(1)로 표시되는 화합물은, 가교의 용이함과 유기용매에 대한 용해성의 관점에서, 하기 식(1-1)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
[화학식 12]
Figure pct00012
식(1-1) 중,
R0, R1, R4, R5, n, p2~p5, m4 및 m5는, 상기와 동의이며,
R6~R7은, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 티올기이며,
R10~R11은, 각각 독립적으로, 수소원자 또는 산해리성기이며,
m6 및 m7은, 각각 독립적으로 0~7의 정수이며,
단, m4, m5, m6 및 m7은 동시에 0이 되는 일은 없다.
식(1-1)의 화합물을 알칼리현상 포지티브형 레지스트용 또는 유기현상 네거티브형 레지스트용 리소그래피용 막형성 조성물로서 사용할 때는, R10~R11의 적어도 1개는 산해리성기이다. 한편, 식(1-1)의 화합물을 알칼리현상 네거티브형 레지스트용 리소그래피용 막형성 조성물, 하층막용 리소그래피용 막형성 조성물 또는 광학부품형성 조성물로서 사용할 때는, R10~R11의 적어도 1개는 수소원자이다.
또한, 상기 식(1-1)로 표시되는 화합물은, 추가적인 가교의 용이함과 유기용매에 대한 용해성의 관점에서, 하기 식(1-2)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
[화학식 13]
Figure pct00013
식(1-2) 중,
R0, R1, R6, R7, R10, R11, n, p2~p5, m6 및 m7은, 상기와 동의이며,
R8~R9는, 상기 R6~R7과 동의이며,
R12~R13은, 상기 R10~R11과 동의이며,
m8 및 m9는, 각각 독립적으로, 0~8의 정수이다. 단, m6, m7, m8 및 m9는 동시에 0이 되는 일은 없다.
또한, 원료의 공급성의 관점에서, 하기 식(1a)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
[화학식 14]
Figure pct00014
상기 식(1a) 중, R0~R5, m2~m5 및 n은, 상기 식(1)에서 설명한 것과 동의이다.
상기 식(1a)로 표시되는 화합물은, 유기용매에 대한 용해성의 관점에서, 하기 식(1b)로 표시되는 화합물인 것이 보다 바람직하다.
[화학식 15]
Figure pct00015
상기 식(1b) 중, R0, R1, R4, R5, R10, R11, m4, m5, n은 상기 식(1)에서 설명한 것과 동의이며, R6, R7, R10, R11, m6, m7은 상기 식(1-1)에서 설명한 것과 동의이다.
상기 식(a)로 표시되는 화합물은, 반응성의 관점에서, 하기 식(1b')로 표시되는 화합물인 것이 더욱 바람직하다.
[화학식 16]
Figure pct00016
상기 식(1b) 중, R0, R1, R4, R5, m4, m5, n은 상기 식(1)에서 설명한 것과 동의이며, R6, R7, R10, R11, m6, m7은 상기 식(1-1)에서 설명한 것과 동의이다.
상기 식(1b)로 표시되는 화합물은, 유기용매에 대한 용해성의 관점에서, 하기 식(1c)로 표시되는 화합물인 것이 더욱 바람직하다.
[화학식 17]
Figure pct00017
상기 식(1c) 중, R0, R1, R6~R13, m6~m9, n은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이다.
상기 식(1b')로 표시되는 화합물은, 반응성의 관점에서, 하기 식(1c')로 표시되는 화합물인 것이 더욱 바람직하다.
[화학식 18]
Figure pct00018
상기 식(1c') 중, R0, R1, R6~R13, m6~m9, n은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이다.
상기 식(1)로 표시되는 화합물은, 추가적인 유기용매에 대한 용해성의 관점에서, 하기 식(1d-1)~(1d-2)로 표시되는 화합물인 것이 특히 바람직하다.
[화학식 19]
Figure pct00019
상기 식(1d-1) 중, R0, R1, n은 상기와 동의이며, R4' 및 R5'는 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 티올기이며, R10' 및 R11'은 수소원자 또는 산해리성기이다. m4' 및 m5'는, 0~8의 정수이며, m10' 및 m11'는 1~9의 정수이며, m4'+m10' 및 m4'+m11'는 각각 독립적으로 1~9의 정수이다.
R0은, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리아콘틸기, 페닐기, 나프틸기, 안트라센기, 피레닐기, 비페닐기, 헵타센기를 들 수 있다.
R4' 및 R5'는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리아콘틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 시클로운데실기, 시클로도데실기, 시클로트리아콘틸기, 노보닐기, 아다만틸기, 페닐기, 나프틸기, 안트라센기, 피레닐기, 비페닐기, 헵타센기, 비닐기, 알릴기, 트리아콘테닐기, 메톡시기, 에톡시기, 트리아콘틱시(トリアコンチキシ)기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자, 티올기를 들 수 있다.
상기 R0, R4', R5'의 각 예시는, 이성체를 포함하고 있다. 예를 들어, 부틸기에는, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 포함하고 있다.
[화학식 20]
Figure pct00020
상기 식(1d-2) 중, R0, n, R4', R5', m4', m5', m10', m11'은 상기와 동의이며, R1'은, 탄소수 1~60의 기이다.
식(1)로 표시되는 화합물로는, 이하의 식으로 표시되는 화합물을 이용할 수 있다.
[화학식 21]
Figure pct00021
상기 화합물 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이며, R14는 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 또는 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 티올기이며, m14는 0~5의 정수이며, m14'는 0~4의 정수이며, m14”는 0~3의 정수이다.
R14는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리아콘틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 시클로운데실기, 시클로도데실기, 시클로트리아콘틸기, 노보닐기, 아다만틸기, 페닐기, 나프틸기, 안트라센기, 피레닐기, 비페닐기, 헵타센기, 비닐기, 알릴기, 트리아콘테닐기, 메톡시기, 에톡시기, 트리아콘틱시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자, 티올기를 들 수 있다.
상기 R14의 각 예시는, 이성체를 포함하고 있다. 예를 들어, 부틸기에는, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 포함하고 있다.
식(1)로 표시되는 화합물로는, 추가로 이하의 식으로 표시되는 화합물을 이용할 수 있다.
[화학식 22]
Figure pct00022
[화학식 23]
Figure pct00023
상기 화학식 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이며, R15는, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 또는 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 티올기이다.
R15는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리아콘틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 시클로운데실기, 시클로도데실기, 시클로트리아콘틸기, 노보닐기, 아다만틸기, 페닐기, 나프틸기, 안트라센기, 피레닐기, 비페닐기, 헵타센기, 비닐기, 알릴기, 트리아콘테닐기, 메톡시기, 에톡시기, 트리아콘틱시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자, 티올기를 들 수 있다.
상기 R15의 각 예시는, 이성체를 포함하고 있다. 예를 들어, 부틸기에는, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 포함하고 있다.
식(1)로 표시되는 화합물로는, 추가로 이하의 식으로 표시되는 화합물을 이용할 수 있다.
[화학식 24]
Figure pct00024
[화학식 25]
Figure pct00025
상기 화합물 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이며, R16은, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬렌기, 탄소수 6~30의 2가의 아릴기, 또는 탄소수 2~30의 2가의 알케닐기이다.
R16은, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로펜기, 부텐기, 펜텐기, 헥센기, 헵텐기, 옥텐기, 노넨기, 데센기, 운데센기, 도데센기, 트리아콘텐기, 시클로프로펜기, 시클로부텐기, 시클로펜텐기, 시클로헥센기, 시클로헵텐기, 시클로옥텐기, 시클로노넨기, 시클로데센기, 시클로운데센기, 시클로도데센기, 시클로트리아콘텐기, 2가의 노보닐기, 2가의 아다만틸기, 2가의 페닐기, 2가의 나프틸기, 2가의 안트라센기, 2가의 피렌기, 2가의 비페닐기, 2가의 헵타센기, 2가의 비닐기, 2가의 알릴기, 2가의 트리아콘테닐기를 들 수 있다.
상기 R16의 각 예시는, 이성체를 포함하고 있다. 예를 들어, 부틸기에는, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 포함하고 있다.
식(1)로 표시되는 화합물로는, 추가로 이하의 식으로 표시되는 화합물을 이용할 수 있다.
[화학식 26]
Figure pct00026
[화학식 27]
Figure pct00027
[화학식 28]
Figure pct00028
[화학식 29]
Figure pct00029
[화학식 30]
Figure pct00030
[화학식 31]
Figure pct00031
상기 식 화합물 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이며, R14는 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 또는 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 티올기이며, m14는 0~5의 정수이다.
R14는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리아콘틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 시클로운데실기, 시클로도데실기, 시클로트리아콘틸기, 노보닐기, 아다만틸기, 페닐기, 나프틸기, 안트라센기, 피레닐기, 비페닐기, 헵타센기, 비닐기, 알릴기, 트리아콘테닐기, 메톡시기, 에톡시기, 트리아콘틱시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자, 티올기를 들 수 있다.
상기 R14의 각 예시는, 이성체를 포함하고 있다. 예를 들어, 부틸기에는, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 포함하고 있다.
[화학식 32]
Figure pct00032
[화학식 33]
Figure pct00033
[화학식 34]
Figure pct00034
[화학식 35]
Figure pct00035
[화학식 36]
Figure pct00036
[화학식 37]
Figure pct00037
[화학식 38]
Figure pct00038
[화학식 39]
Figure pct00039
[화학식 40]
Figure pct00040
상기 식 화합물 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이다.
식(1)로 표시되는 화합물로는, 추가로 이하의 식으로 표시되는 화합물을 이용할 수 있다.
[화학식 41]
Figure pct00041
원료의 입수성의 관점에서, 더욱 바람직하게는 이하에 표시되는 화합물이다.
[화학식 42]
Figure pct00042
[화학식 43]
Figure pct00043
[화학식 44]
Figure pct00044
[화학식 45]
Figure pct00045
[화학식 46]
Figure pct00046
[화학식 47]
Figure pct00047
[화학식 48]
Figure pct00048
[화학식 49]
Figure pct00049
[화학식 50]
Figure pct00050
[화학식 51]
Figure pct00051
[화학식 52]
Figure pct00052
[화학식 53]
Figure pct00053
[화학식 54]
Figure pct00054
[화학식 55]
Figure pct00055
[화학식 56]
Figure pct00056
[화학식 57]
Figure pct00057
[화학식 58]
Figure pct00058
[화학식 59]
Figure pct00059
[화학식 60]
Figure pct00060
[화학식 61]
Figure pct00061
[화학식 62]
Figure pct00062
상기 화합물 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이다.
[식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법]
본 실시형태에서 사용되는 식(1)로 표시되는 화합물은, 공지의 수법을 응용하여 적당히 합성할 수 있고, 그 합성수법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, (i)비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센올과, 대응하는 케톤류를 산촉매하에서 중축합반응시키는 방법, (ii)비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센올과, 대응하는 알데히드류를 산촉매하에서 중축합하고, 얻어진 트리아릴메탄, 또는 크산텐류의 메틴부위를 치환하는 방법이 있다.
또한 (i)비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센올과, 대응하는 케톤류를 산촉매하에서 중축합반응시키는 방법으로는 (a)유기용매 중에서 행하는 방법, (b)수용매 중에서 행하는 방법, (c)무용매로 행하는 방법 등이 있다.
(i) (a)유기용매 중에서, 비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센올과, 대응하는 케톤류를 산촉매하에서 중축합반응시키는 방법으로는, 상압하, 비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센올과, 대응하는 케톤류를 산촉매하에서 중축합반응시킴으로써, 상기 식(1)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 또한, 그 화합물의 적어도 1개의 페놀성 수산기에 공지의 방법에 의해 산해리성기를 도입할 수 있다. 또한, 필요에 따라, 가압하에서 행할 수도 있다.
(i) (b)수용매중, 또는 (c)무용매로, 비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센올과, 대응하는 케톤류를 산촉매하에서 중축합반응시키는 방법으로는, 비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센올과, 대응하는 케톤류를 산 및 메르캅토 촉매하에서 중축합반응시킴으로써, 상기 식(1)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 또한, 그 화합물의 적어도 1개의 페놀성 수산기에 공지의 방법에 의해 산해리성기를 도입할 수 있다. 또한, 본 반응은, 감압하, 상압, 가압하에서 행할 수 있다.
상기 비페놀류로는, 예를 들어, 비페놀, 메틸비페놀, 메톡시비페놀 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 비페놀을 이용하는 것이 원료의 안정공급성의 점에서 보다 바람직하다.
상기 비나프톨류로는, 예를 들어, 비나프톨, 메틸비나프톨, 메톡시비나프톨 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 비나프톨을 이용하는 것이, 탄소원자농도를 높이고, 내열성을 향상시키는 점에서 보다 바람직하다.
상기 비안트라센올류로는, 예를 들어, 비안트라센올, 메틸비안트라센올, 메톡시비안트라센올 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 비안트라센올을 이용하는 것이, 탄소원자농도를 높이고, 내열성을 향상시키는 점에서 보다 바람직하다.
상기 케톤류로는, 예를 들어, 아세톤, 메틸에틸케톤, 아세토페논, 디아세틸벤젠, 트리아세틸벤젠, 아세토나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐, 벤조페논, 디페닐카르보닐벤젠, 트리페닐카르보닐벤젠, 벤조나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 아세토페논, 디아세틸벤젠, 트리아세틸벤젠, 아세토나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐, 벤조페논, 디페닐카르보닐벤젠, 트리페닐카르보닐벤젠, 벤조나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐을 이용하는 것이, 높은 내열성을 부여하는 점에서 바람직하고, 아세토페논, 디아세틸벤젠, 트리아세틸벤젠, 아세토나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐, 벤조페논, 디페닐카르보닐벤젠, 트리페닐카르보닐벤젠, 벤조나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐을 이용하는 것이, 에칭내성이 높아, 보다 바람직하다.
케톤류로서, 방향환을 갖는 케톤을 이용하는 것이, 높은 내열성 및 높은 에칭내성을 겸비하여 바람직하다.
상기 반응에 이용하는 산촉매에 대해서는, 공지의 것으로부터 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 이러한 산촉매로는, 무기산이나 유기산이 널리 알려져 있고, 예를 들어, 염산, 황산, 인산, 브롬화수소산, 불산 등의 무기산이나, 옥살산, 말론산, 석신산, 아디프산, 세바스산, 구연산, 푸말산, 말레산, 포름산, p-톨루엔설폰산, 메탄설폰산, 트리플루오로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, 트리플루오로메탄설폰산, 벤젠설폰산, 나프탈렌설폰산, 나프탈렌디설폰산 등의 유기산이나, 염화아연, 염화알루미늄, 염화철, 삼불화붕소 등의 루이스산, 혹은 규텅스텐산, 인텅스텐산, 규몰리브덴산 또는 인몰리브덴산 등의 고체산 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들 중에서도, 제조상의 관점에서, 유기산 및 고체산이 바람직하고, 입수의 용이함이나 취급의 용이함 등의 제조상의 관점에서, 염산 또는 황산을 이용하는 것이 바람직하다. 한편, 산촉매에 대해서는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 또한, 산촉매의 사용량은, 사용하는 원료 및 사용하는 촉매의 종류, 더 나아가 반응조건 등에 따라 적당히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 반응원료 100질량부에 대하여, 0.01~100질량부인 것이 바람직하다.
상기 반응에 이용하는 메르캅토 촉매에 대해서는, 공지의 것으로부터 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 이러한 산촉매로는, 알킬티올류나 메르캅토카르본산류가 널리 알려져 있고, 예를 들어 알킬티올로는 탄소수 1~12의 알킬메르캅탄, 바람직하게는 n-옥틸메르캅탄, n-데실메르캅탄, n-도데실메르캅탄을 들 수 있고, 메르캅토카르본산으로는 2-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토프로피온산을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들 중에서도, 제조상의 관점에서, n-옥틸메르캅탄, n-데실메르캅탄, n-도데실메르캅탄이 바람직하다. 한편, 메르캅토 촉매에 대해서는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 또한, 메르캅토 촉매의 사용량은, 사용하는 원료 및 사용하는 촉매의 종류, 더 나아가 반응조건 등에 따라 적당히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 반응원료 100질량부에 대하여, 0.01~100질량부인 것이 바람직하다.
상기 반응시에는, 반응용매를 이용할 수도 있다. 반응용매로는, 이용하는 케톤류와, 비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센디올과의 반응이 진행되는 것이면, 특별히 한정되지 않고, 공지의 것 중에서 적당히 선택하여 이용할 수 있다. 예를 들어, 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 테트라하이드로푸란, 디옥산, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르 또는 이들 혼합용매 등이 예시된다. 한편, 용매는, 1종을 단독으로 혹은 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
또한, 이들 용매의 사용량은, 사용하는 원료 및 사용하는 촉매의 종류, 더 나아가 반응조건 등에 따라 적당히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 반응원료 100질량부에 대하여 0~2000질량부의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 상기 반응에 있어서의 반응온도는, 반응원료의 반응성에 따라 적당히 선택할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 통상 10~200℃의 범위이다.
본 실시형태의 식(1)로 표시되는 화합물을 얻기 위해서는, 반응온도는 높은 것이 바람직하고, 구체적으로는 60~200℃의 범위가 바람직하다. 한편, 반응방법은, 공지의 수법을 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센디올, 케톤류, 촉매를 일괄로 투입하는 방법이나, 비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센디올이나 케톤류를 촉매존재하에서 적하해가는 방법이 있다. 중축합반응 종료 후, 얻어진 화합물의 단리는, 상법에 의해 행할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 계내에 존재하는 미반응원료나 촉매 등을 제거하기 위하여, 반응솥의 온도를 130~230℃까지 상승시켜, 1~50mmHg 정도로 휘발분을 제거하는 등의 일반적 수법을 채용함으로써, 목적물인 화합물을 얻을 수 있다.
바람직한 반응조건으로는, 케톤류 1몰에 대하여, 비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센디올을 1.0몰~과잉량, 및 산촉매를 0.001~1몰 사용하고, 상압에서, 50~150℃에서 20분~100시간 정도 반응시킴으로써 진행한다.
반응 종료 후, 공지의 방법에 의해 목적물을 단리할 수 있다. 예를 들어, 반응액을 농축하고, 순수를 첨가하여 반응생성물을 석출시키고, 실온까지 냉각한 후, 여과를 행하여 분리시키고, 얻어진 고형물을 여과하고, 건조시킨 후, 칼럼크로마토에 의해, 부생성물과 분리정제하고, 용매유거, 여과, 건조를 행하여 목적물인 상기 식(1)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.
(ii) 비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센올과, 대응하는 알데히드류를 산촉매하에서 중축합하고, 얻어진 트리아릴메탄, 또는 크산텐류의 메틴부위를 치환하는 방법으로는, 비페놀류, 비나프톨류 또는 비안트라센올과, 대응하는 알데히드류를 산촉매하에서 중축합반응시킴으로써, 상기 식(1)로 표시되는 화합물의 RY를 수소원자로 치환한 화합물(A)을 얻는다. 보호기 도입제에 의해 화합물(A)의 수산기를 보호기로 치환한 화합물(B)로 한 후, 상기 식(1)로 표시되는 화합물의 RY부분에 상당하는 수소원자를, 염기촉매하에서 알킬화제와 반응시킴으로써, 상기 식(1)로 표시되는 화합물의 RY부분에 상당하는 알킬기를 도입한다. 또한 그 후에, 상기 화합물(B)로 수산기를 치환한 보호기를 탈보호함으로써 상기 식(1)이 얻어진다. 또한, 그 화합물의 적어도 1개의 페놀성 수산기에 공지의 방법에 의해 산해리성기를 도입할 수 있다. 또한, 필요에 따라, 가압하에서 행할 수도 있다. 상기 알킬화제로는, 공지의 것으로부터 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 염화알킬, 브롬화알킬, 요오드화알킬 등을 들 수 있다.
상기 제조방법에 있어서, 화합물(B)의 상기 식(1)로 표시되는 화합물의 RY부분에 상당하는 수소원자를, 상기 식(1)로 표시되는 화합물의 RY부분에 상당하는 알킬기를 도입하는 방법으로는, 상기 제조방법의 염기촉매하에서 알킬화제와 반응시키는 방법 대신에, 화합물(B)에 할로겐화제를 반응시켜, 상기 식(1)로 표시되는 화합물의 RY부분에 상당하는 수소원자를 할로겐원자로 치환한 후에, 알킬화제와 반응시킴으로써, 상기 식(1)을 얻을 수도 있다. 알킬화제로는, 공지의 것으로부터 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 그리냐르시약, 알킬리튬 등을 들 수 있다.
상기 비페놀류로는, 예를 들어, 비페놀, 메틸비페놀, 메톡시비페놀 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 비페놀을 이용하는 것이 원료의 안정공급성의 점에서 보다 바람직하다.
상기 비나프톨류로는, 예를 들어, 비나프톨, 메틸비나프톨, 메톡시비나프톨 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 비나프톨을 이용하는 것이, 탄소원자농도를 높이고, 내열성을 향상시키는 점에서 보다 바람직하다.
상기 비안트라센올류로는, 예를 들어, 비안트라센올, 메틸비안트라센올, 메톡시비안트라센올 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 비안트라센올을 이용하는 것이, 탄소원자농도를 높이고, 내열성을 향상시키는 점에서 보다 바람직하다.
상기 알데히드류로는, 예를 들어, 파라포름알데히드, 벤즈알데히드, 아세트알데히드, 프로필알데히드, 페닐아세트알데히드, 페닐프로필알데히드, 하이드록시벤즈알데히드, 클로로벤즈알데히드, 니트로벤즈알데히드, 메틸벤즈알데히드, 에틸벤즈알데히드, 부틸벤즈알데히드, 비페닐알데히드, 나프토알데히드, 안트라센카르보알데히드, 페난트렌카르보알데히드, 피렌카르보알데히드, 푸르푸랄 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다.
폴리페놀 화합물의 적어도 1개의 페놀성 수산기에 산해리성기를 도입하는 방법은 공지이다. 예를 들어, 이하와 같이 하여, 상기 화합물의 적어도 1개의 페놀성 수산기에 산해리성기를 도입할 수 있다. 산해리성기를 도입하기 위한 화합물은, 공지의 방법으로 합성 혹은 용이하게 입수할 수 있고, 예를 들어, 산클로라이드, 산무수물, 디카보네이트 등의 활성 카르본산 유도체 화합물, 알킬할라이드, 비닐알킬에테르, 디하이드로피란, 할로카르본산알킬에스테르 등을 들 수 있으나 특별히 한정은 되지 않는다.
예를 들어, 아세톤, 테트라하이드로푸란(THF), 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 비프로톤성 용매에 상기 화합물을 용해 또는 현탁시킨다. 계속해서, 에틸비닐에테르 등의 비닐알킬에테르 또는 디하이드로피란을 첨가하고, 피리디늄 p-톨루엔설포네이트 등의 산촉매의 존재하, 상압에서, 20~60℃, 6~72시간 반응시킨다. 반응액을 알칼리 화합물로 중화하고, 증류수에 첨가하여 백색고체를 석출시킨 후, 분리한 백색고체를 증류수로 세정하고, 건조함으로써, 수산기의 수소원자가 산해리성기에 치환된 화합물을 얻을 수 있다.
또한, 예를 들어, 아세톤, THF, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 비프로톤성 용매에, 수산기를 갖는 상기 화합물을 용해 또는 현탁시킨다. 계속해서, 에틸클로로메틸에테르 등의 알킬할라이드 또는 브로모아세트산메틸아다만틸 등의 할로카르본산알킬에스테르를 첨가하고, 탄산칼륨 등의 알칼리촉매의 존재하, 상압에서, 20~110℃, 6~72시간 반응시킨다. 반응액을 염산 등의 산으로 중화하고, 증류수에 첨가하여 백색고체를 석출시킨 후, 분리한 백색고체를 증류수로 세정하고, 건조함으로써, 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 화합물을 얻을 수 있다.
한편, 산해리성기를 도입하는 타이밍에 대해서는, 비나프톨류와 케톤류의 축합반응후뿐만 아니라, 축합반응의 전단계여도 된다. 또한, 후술하는 수지의 제조를 행한 후에 행할 수도 있다.
본 실시형태에 있어서, 산해리성기란, 산의 존재하에서 개열하여, 알칼리가용성기 등의 용해성을 변화시키는 관능기를 발생시키는 특성기를 말한다. 알칼리가용성기로는, 페놀성 수산기, 카르복실기, 설폰산기, 헥사플루오로이소프로판올기 등을 들 수 있고, 페놀성 수산기 및 카르복실기가 바람직하고, 페놀성 수산기가 특히 바람직하다. 상기 산해리성기는, 더욱 고감도·고해상도인 패턴 형성을 가능하기 하기 위하여, 산의 존재하에서 연쇄적으로 개열반응을 일으키는 성질을 갖는 것이 바람직하다.
[식(1)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지]
상기 식(1)로 표시되는 화합물은, 리소그래피용 막형성 조성물로서, 그대로 사용할 수 있다. 또한, 상기 식(1)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지로서도 사용할 수 있다. 예를 들어, 상기 식(1)로 표시되는 화합물과 가교반응성이 있는 화합물을 반응시켜 얻어지는 수지로서도 사용할 수 있다.
상기 식(1)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지로는, 예를 들어, 이하의 식(3)으로 표시되는 구조를 갖는 것을 들 수 있다. 즉, 본 실시형태의 리소그래피용 막형성 조성물은, 하기 식(3)으로 표시되는 구조를 갖는 수지를 함유하는 것일 수도 있다.
[화학식 63]
Figure pct00063
식(3) 중, L은, 탄소수 1~30의 직쇄상 혹은 분지상의 알킬렌기 또는 단결합이다. R0, R1, R2~R5, m2 및 m3, m4 및 m5, p2~p5, n은 상기 식(1)에 있어서의 것과 동의이며, 단, m2, m3, m4 및 m5는 동시에 0이 되는 일은 없고, R2~R5의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이다.
[식(1)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지의 제조방법]
본 실시형태의 수지는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물을 가교반응성이 있는 화합물과 반응시킴으로써 얻어진다. 가교반응성이 있는 화합물로는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물을 올리고머화 또는 폴리머화할 수 있는 것인 한, 공지의 것을 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 그 구체예로는, 예를 들어, 알데히드, 케톤, 카르본산, 카르본산할라이드, 할로겐함유 화합물, 아미노 화합물, 이미노 화합물, 이소시아네이트, 불포화탄화수소기함유 화합물 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다.
상기 식(1)로 표시되는 구조를 갖는 수지의 구체예로는, 예를 들어, 상기 식(1)로 표시되는 화합물을 가교반응성이 있는 화합물인 알데히드 및/또는 케톤과의 축합반응 등에 의해 노볼록화한 수지를 들 수 있다.
여기서, 상기 식(1)로 표시되는 화합물을 노볼록화할 때에 이용하는 알데히드로는, 예를 들어, 포름알데히드, 트리옥산, 파라포름알데히드, 벤즈알데히드, 아세트알데히드, 프로필알데히드, 페닐아세트알데히드, 페닐프로필알데히드, 하이드록시벤즈알데히드, 클로로벤즈알데히드, 니트로벤즈알데히드, 메틸벤즈알데히드, 에틸벤즈알데히드, 부틸벤즈알데히드, 비페닐알데히드, 나프토알데히드, 안트라센카르보알데히드, 페난트렌카르보알데히드, 피렌카르보알데히드, 푸르푸랄 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 케톤으로는, 예를 들어 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로부타논, 시클로펜탄온, 시클로헥사논, 노보나논, 트리시클로헥사논, 트리시클로데카논, 아다만타논, 플루오레논, 벤조플루오레논, 아세나프텐퀴논, 아세나프테논, 안트라퀴논, 아세토페논, 디아세틸벤젠, 트리아세틸벤젠, 아세토나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐, 벤조페논, 디페닐카르보닐벤젠, 트리페닐카르보닐벤젠, 벤조나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 포름알데히드가 보다 바람직하다. 한편, 이들 알데히드 및/또는 케톤류는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 또한, 상기 알데히드 및/또는 케톤류의 사용량은, 특별히 한정되지 않으나, 상기 식(1)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여, 0.2~5몰이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5~2몰이다.
상기 식(1)로 표시되는 화합물과 알데히드 및/또는 케톤과의 축합반응에 있어서, 촉매를 이용할 수도 있다. 여기서 사용하는 산촉매에 대해서는, 공지의 것으로부터 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 이러한 산촉매로는, 무기산이나 유기산이 널리 알려져 있고, 예를 들어, 염산, 황산, 인산, 브롬화수소산, 불산 등의 무기산이나, 옥살산, 말론산, 석신산, 아디프산, 세바스산, 구연산, 푸말산, 말레산, 포름산, p-톨루엔설폰산, 메탄설폰산, 트리플루오로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, 트리플루오로메탄설폰산, 벤젠설폰산, 나프탈렌설폰산, 나프탈렌디설폰산 등의 유기산이나, 염화아연, 염화알루미늄, 염화철, 삼불화붕소 등의 루이스산, 혹은 규텅스텐산, 인텅스텐산, 규몰리브덴산 또는 인몰리브덴산 등의 고체산 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들 중에서도, 제조상의 관점에서, 유기산 및 고체산이 바람직하고, 입수의 용이함이나 취급의 용이함 등의 제조상의 관점에서, 염산 또는 황산이 바람직하다. 한편, 산촉매에 대해서는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
또한, 산촉매의 사용량은, 사용하는 원료 및 사용하는 촉매의 종류, 더 나아가 반응조건 등에 따라 적당히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 반응원료 100질량부에 대하여, 0.01~100질량부인 것이 바람직하다. 단, 인덴, 하이드록시인덴, 벤조푸란, 하이드록시안트라센, 아세나프틸렌, 비페닐, 비스페놀, 트리스페놀, 디시클로펜타디엔, 테트라하이드로인덴, 4-비닐시클로헥센, 노보나디엔, 5-비닐노보나-2-엔, α-피넨, β-피넨, 리모넨 등의 비공역이중결합을 갖는 화합물과의 공중합 반응인 경우는, 반드시 알데히드류가 필요한 것은 아니다.
상기 식(1)로 표시되는 화합물과 알데히드 및/또는 케톤과의 축합반응에 있어서, 반응용매를 이용할 수도 있다. 이 중축합에 있어서의 반응용매로는, 공지의 것 중에서 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 테트라하이드로푸란, 디옥산 또는 이들의 혼합용매 등이 예시된다. 한편, 용매는, 1종을 단독으로 혹은 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
또한, 이들 용매의 사용량은, 사용하는 원료 및 사용하는 촉매의 종류, 더 나아가 반응조건 등에 따라 적당히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 반응원료 100질량부에 대하여 0~2000질량부의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 반응온도는, 반응원료의 반응성에 따라 적당히 선택할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 통상 10~200℃의 범위이다. 한편, 반응방법은, 공지의 수법을 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 상기 식(1)로 표시되는 화합물, 알데히드 및/또는 케톤류, 촉매를 일괄로 투입하는 방법이나, 상기 식(1)로 표시되는 화합물이나 알데히드 및/또는 케톤류를 촉매존재하에서 적하해가는 방법이 있다.
중축합반응 종료 후, 얻어진 화합물의 단리는, 상법에 의해 행할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 계내에 존재하는 미반응원료나 촉매 등을 제거하기 위하여, 반응솥의 온도를 130~230℃까지 상승시켜, 1~50mmHg 정도로 휘발분을 제거하는 등의 일반적 수법을 채용함으로써, 목적물인 노볼록화한 수지를 얻을 수 있다.
여기서, 상기 식(3)으로 표시되는 구조를 갖는 수지는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물의 단독중합체일 수도 있는데, 다른 페놀류와의 공중합체일 수도 있다. 여기서 공중합 가능한 페놀류로는, 예를 들어, 페놀, 크레졸, 디메틸페놀, 트리메틸페놀, 부틸페놀, 페닐페놀, 디페닐페놀, 나프틸페놀, 레조르시놀, 메틸레조르시놀, 카테콜, 부틸카테콜, 메톡시페놀, 메톡시페놀, 프로필페놀, 피로갈롤, 티몰 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다.
또한, 상기 식(3)으로 표시되는 구조를 갖는 수지는, 상기 서술한 다른 페놀류 이외에, 중합가능한 모노머와 공중합시킨 것일 수도 있다. 이러한 공중합 모노머로는, 예를 들어, 나프톨, 메틸나프톨, 메톡시나프톨, 디하이드록시나프탈렌, 인덴, 하이드록시인덴, 벤조푸란, 하이드록시안트라센, 아세나프틸렌, 비페닐, 비스페놀, 트리스페놀, 디시클로펜타디엔, 테트라하이드로인덴, 4-비닐시클로헥센, 노보나디엔, 비닐노보나엔(ビニルノルボルナエン), 피넨, 리모넨 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 한편, 상기 식(2)로 표시되는 구조를 갖는 수지는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물과 상기 서술한 페놀류와의 2원 이상의(예를 들어, 2~4원계) 공중합체이어도, 상기 식(1)로 표시되는 화합물과 상기 서술한 공중합 모노머와의 2원 이상(예를 들어, 2~4원계) 공중합체일 수도, 상기 식(1)로 표시되는 화합물과 상기 서술한 페놀류와 상기 서술한 공중합 모노머와의 3원 이상의(예를 들어, 3~4원계) 공중합체이어도 상관없다.
한편, 상기 식(3)으로 표시되는 구조를 갖는 수지의 분자량은, 특별히 한정되지 않으나, 폴리스티렌환산의 중량평균분자량(Mw)이 500~30,000인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 750~20,000이다. 또한, 가교효율을 높임과 함께 베이크중의 휘발성분을 억제하는 관점에서, 상기 식(3)으로 표시되는 구조를 갖는 수지는, 분산도(중량평균분자량Mw/수평균분자량Mn)가 1.2~7의 범위내인 것이 바람직하다. 한편, 상기 Mn은, 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 구할 수 있다.
상기 식(3)으로 표시되는 구조를 갖는 수지는, 습식 프로세스의 적용이 보다 용이하게 이루어지는 등의 관점에서, 용매에 대한 용해성이 높은 것이 바람직하다. 보다 구체적으로는, 이들 화합물 및/또는 수지는, 1-메톡시-2-프로판올(PGME) 및/또는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)를 용매로 하는 경우, 해당 용매에 대한 용해도가 10질량% 이상인 것이 바람직하다. 여기서, PGME 및/또는 PGMEA에 대한 용해도는, 「수지의 질량÷(수지의 질량+용매의 질량)×100(질량%)」으로 정의된다. 예를 들어, 상기 수지 10g이 PGMEA 90g에 대하여 용해되는 경우는, 상기 수지의 PGMEA에 대한 용해도는, 「10질량% 이상」이 되고, 용해되지 않는 경우는, 「10질량% 미만」이 된다.
[식(2)로 표시되는 화합물]
본 실시형태의 화합물은, 하기 식(2)로 표시되는 것이 바람직하다. 본 실시형태의 화합물은, 하기 구조를 가지므로, 더욱 내열성이 높고, 용매용해성도 높다.
[화학식 64]
Figure pct00064
식(2) 중, R0A는, 상기 RY와 동의이며, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기 또는 탄소수 6~30의 아릴기이다.
R1A는, 탄소수 1~60의 nA가의 기 또는 단결합이며,
R2A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 할로겐원자, 시아노기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 동일한 나프탈렌환 또는 벤젠환에 있어서 동일할 수도 상이할 수도 있다. 단, 식(2) 중, R2A의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이다.
nA는 1~4의 정수이며, 여기서, 식(2) 중, nA가 2 이상의 정수인 경우, nA개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있다.
XA는, 각각 독립적으로, 산소원자, 황원자 또는 무가교인 것을 나타낸다. 여기서, XA가 산소원자 또는 황원자인 경우, 높은 내열성을 발현하는 경향이 있으므로 바람직하고, 산소원자인 것이 보다 바람직하다. XA는, 용해성의 관점에서는, 무가교인 것이 바람직하다.
m2A는, 각각 독립적으로, 0~6의 정수이다. 단, 적어도 1개의 m2A는 1~6의 정수이다.
qA는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이다. 한편, qA가 0인 경우에는 식(2)에서 나프탈렌구조로 나타나는 부위는, 벤젠구조를 나타내고, qA가 1인 경우에는 나프탈렌구조를 나타낸다.
한편, 상기 nA가의 기란, nA=1일 때는, 탄소수 1~60의 알킬기, nA=2일 때는, 탄소수 1~30의 알킬렌기, nA=3일 때는, 탄소수 2~60의 알칸프로파일기, nA=4일 때는, 탄소수 3~60의 알칸테트라일기인 것을 나타낸다. 상기 nA가의 기로는, 예를 들어, 직쇄상 탄화수소기, 분지상 탄화수소기 또는 지환식 탄화수소기를 갖는 것 등을 들 수 있다. 여기서, 상기 지환식 탄화수소기에 대해서는, 유교지환식 탄화수소기도 포함된다. 또한, 상기 nA가의 기는, 탄소수 6~60의 방향족기를 가질 수도 있다.
또한, 상기 nA가의 탄화수소기는, 지환식 탄화수소기, 이중결합, 헤테로원자 혹은 탄소수 6~60의 방향족기를 가질 수도 있다. 여기서, 상기 지환식 탄화수소기에 대해서는, 유교지환식 탄화수소기도 포함된다.
또한, 상기 nA가의 탄화수소기는, 지환식 탄화수소기, 이중결합, 헤테로원자 혹은 탄소수 6~30의 방향족기를 가질 수도 있다. 여기서, 상기 지환식 탄화수소기에 대해서는, 유교지환식 탄화수소기도 포함된다.
상기 식(2)로 표시되는 화합물은, 비교적 저분자량이면서도, 그 구조의 강직함에 의해 높은 내열성을 가지므로, 고온베이크 조건에서도 사용가능하다. 또한, 분자 중에 4급탄소를 갖고 있으며, 결정성이 억제되고, 리소그래피용 막제조에 사용할 수 있는 리소그래피용 막형성 조성물로서 호적하게 사용된다.
또한, 안전용매에 대한 용해성이 높고, 내열성 및 에칭내성이 양호하며, 본 실시형태의 리소그래피용 레지스트형성 조성물은 양호한 레지스트 패턴형상을 부여한다.
또한, 비교적 저분자량이고 저점도인 점에서, 단차를 갖는 기판(특히, 미세한 스페이스나 홀패턴 등)이어도, 그 단차의 구석까지 균일하게 충전시키면서, 막의 평탄성을 높이는 것이 용이하며, 그 결과, 이것을 이용한 리소그래피용 하층막 형성 조성물은 매립 및 평탄화특성이 비교적 유리하게 높아질 수 있다. 또한, 비교적 높은 탄소농도를 갖는 화합물인 점에서, 높은 에칭내성도 부여된다.
굴절률이 높고, 또한 저온에서 고온까지의 광범위한 열처리에 의해 착색이 억제되는 점에서, 각종 광학형성 조성물로서도 유용하다. 광학부품은, 필름상, 시트상으로 사용되는 것 외에, 플라스틱렌즈(프리즘렌즈, 렌티큘러렌즈, 마이크로렌즈, 프레넬렌즈, 시야각제어렌즈, 콘트라스트향상렌즈 등), 위상차 필름, 전자파쉴드용 필름, 프리즘, 광화이버, 플렉서블프린트배선용 솔더레지스트, 도금레지스트, 다층 프린트배선판용 층간절연막, 감광성 광도파로로서 유용하다.
상기 식(2)로 표시되는 화합물은, 가교의 용이함과 유기용매에 대한 용해성의 관점에서, 하기 식(2-1)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
[화학식 65]
Figure pct00065
식(2-1) 중, R0A, R1A, nA 및 qA 및 XA는, 상기 식(2)에서 설명한 것과 동의이다.
R3A는, 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 또는 탄소수 2~30의 알케닐기이며, 동일한 나프탈렌환 또는 벤젠환에 있어서 동일할 수도 상이할 수도 있다.
R4A는, 각각 독립적으로, 수소원자 또는 산해리성기이다.
m6A는, 각각 독립적으로, 0~5의 정수이다.
상기 식(2-1)로 표시되는 화합물을 알칼리현상 포지티브형 레지스트용 또는 유기현상 네거티브형 레지스트용 리소그래피용 막형성 조성물로서 사용할 때는, R4A의 적어도 1개는 산해리성기이다. 한편, 식(2-1)로 표시되는 화합물을 알칼리현상 네거티브형 레지스트용 리소그래피용 막형성 조성물, 하층막용 리소그래피용 막형성 조성물 또는 광학부품형성 조성물로서 사용할 때는, R4A의 적어도 1개는 수소원자이다.
또한, 원료의 공급성의 관점에서, 하기 식(2a)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
[화학식 66]
Figure pct00066
상기 식(2a) 중, XA, R0A~R2A, m2A 및 nA는, 상기 식(2)에서 설명한 것과 동의이다.
또한, 유기용매에 대한 용해성의 관점에서, 하기 식(2b)로 표시되는 화합물인 것이 보다 바람직하다.
[화학식 67]
Figure pct00067
상기 식(2b) 중, XA, R0A, R1A, R3A, R4A, m6A 및 nA는, 상기 식(2-1)에서 설명한 것과 동의이다.
또한, 유기용매에 대한 용해성의 관점에서, 하기 식(2c)로 표시되는 화합물인 것이 더욱 바람직하다.
[화학식 68]
Figure pct00068
상기 식(2c) 중, XA, R0A, R1A, R3A, R4A, m6A 및 nA는, 상기 식(2-1)에서 설명한 것과 동의이다.
상기 식(2)로 표시되는 화합물은, 추가적인 유기용매에 대한 용해성의 관점에서, 하기 식(2d-1)~(2d-2)로 표시되는 화합물인 것이 특히 바람직하다.
[화학식 69]
Figure pct00069
상기 식(2d-1) 중, R0A, R1A, nA, qA, XA는 상기와 동의이며, R3A '는 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자이며, R4A'는 수소원자 또는 산해리성기이다. m3A'는, 0~6의 정수이며, m4A'는 1~7의 정수이며, m3A'+m4A'는 각각 독립적으로 1~7의 정수이다.
R0A는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리아콘틸기, 페닐기, 나프틸기, 안트라센기, 피레닐기, 비페닐기, 헵타센기를 들 수 있다.
R3A'는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리아콘틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 시클로운데실기, 시클로도데실기, 시클로트리아콘틸기, 노보닐기, 아다만틸기, 페닐기, 나프틸기, 안트라센기, 피레닐기, 비페닐기, 헵타센기, 비닐기, 알릴기, 트리아콘테닐기, 메톡시기, 에톡시기, 트리아콘틱시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자를 들 수 있다.
상기 R0A, R3A'의 각 예시는, 이성체를 포함하고 있다. 예를 들어, 부틸기에는, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 포함하고 있다.
[화학식 70]
Figure pct00070
상기 식(2d-2) 중, R0A, R3A ', R4A ', m3A ', m4A ', qA, XA는 상기와 동의이며, R1A '는, 탄소수 1~60의 기이다.
상기 식(2)로 표시되는 화합물은, 원료입수성의 관점에서 이하의 구조가 바람직하다.
[화학식 71]
Figure pct00071
[화학식 72]
Figure pct00072
[화학식 73]
Figure pct00073
상기 화합물 중, R0A, R1A ', R10~R13은 상기와 동의이다.
상기 화합물은, 크산텐골격을 갖는 것이 내열성의 관점에서 바람직하다.
식(2)로 표시되는 화합물로는, 에칭내성의 관점에서 이하의 구조가 바람직하다.
[화학식 74]
Figure pct00074
[화학식 75]
Figure pct00075
[화학식 76]
Figure pct00076
[화학식 77]
Figure pct00077
상기 화합물 중, R0A, R1A ', R10~R13은 상기와 동의이다.
상기 화합물은, 디벤조크산텐골격을 갖는 것이 내열성의 관점에서 바람직하다.
식(2)로 표시되는 화합물로는, 예를 들어 이하의 구조를 들 수 있다.
[화학식 78]
Figure pct00078
[화학식 79]
Figure pct00079
[화학식 80]
Figure pct00080
[화학식 81]
Figure pct00081
[화학식 82]
Figure pct00082
[화학식 83]
Figure pct00083
[화학식 84]
Figure pct00084
[화학식 85]
Figure pct00085
[화학식 86]
Figure pct00086
[화학식 87]
Figure pct00087
[화학식 88]
Figure pct00088
[화학식 89]
Figure pct00089
[화학식 90]
Figure pct00090
[화학식 91]
Figure pct00091
[화학식 92]
Figure pct00092
[화학식 93]
Figure pct00093
[화학식 94]
Figure pct00094
[화학식 95]
Figure pct00095
[화학식 96]
Figure pct00096
[화학식 97]
Figure pct00097
[화학식 98]
Figure pct00098
[화학식 99]
Figure pct00099
[화학식 100]
Figure pct00100
[화학식 101]
Figure pct00101
[화학식 102]
Figure pct00102
[화학식 103]
Figure pct00103
[화학식 104]
Figure pct00104
[화학식 105]
Figure pct00105
[화학식 106]
Figure pct00106
[화학식 107]
Figure pct00107
[화학식 108]
Figure pct00108
[화학식 109]
Figure pct00109
[화학식 110]
Figure pct00110
[화학식 111]
Figure pct00111
[화학식 112]
Figure pct00112
[화학식 113]
Figure pct00113
[화학식 114]
Figure pct00114
[화학식 115]
Figure pct00115
[화학식 116]
Figure pct00116
[화학식 117]
Figure pct00117
[화학식 118]
Figure pct00118
[화학식 119]
Figure pct00119
[화학식 120]
Figure pct00120
[화학식 121]
Figure pct00121
[화학식 122]
Figure pct00122
[화학식 123]
Figure pct00123
[화학식 124]
Figure pct00124
[화학식 125]
Figure pct00125
[화학식 126]
Figure pct00126
[화학식 127]
Figure pct00127
[화학식 128]
Figure pct00128
[화학식 129]
Figure pct00129
[화학식 130]
Figure pct00130
[화학식 131]
Figure pct00131
[화학식 132]
Figure pct00132
[화학식 133]
Figure pct00133
[화학식 134]
Figure pct00134
상기 화합물은, 크산텐골격을 갖는 것이 내열성의 관점에서 바람직하다.
나아가 식(2)로 표시되는 화합물은, 에칭내성의 관점에서 이하의 구조가 바람직하다.
[화학식 135]
Figure pct00135
[화학식 136]
Figure pct00136
[화학식 137]
Figure pct00137
상기 화합물 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이며, R14는 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 또는 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 티올기이며, m14'는 0~4의 정수이다.
R14는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리아콘틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 시클로운데실기, 시클로도데실기, 시클로트리아콘틸기, 노보닐기, 아다만틸기, 페닐기, 나프틸기, 안트라센기, 헵타센기, 비닐기, 알릴기, 트리아콘테닐기, 메톡시기, 에톡시기, 트리아콘틱시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자, 티올기를 들 수 있다.
상기 R14의 각 예시는, 이성체를 포함하고 있다. 예를 들어, 부틸기에는, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 포함하고 있다.
식(2)로 표시되는 화합물로는, 추가로 이하의 구조를 들 수 있다.
[화학식 138]
Figure pct00138
[화학식 139]
Figure pct00139
[화학식 140]
Figure pct00140
[화학식 141]
Figure pct00141
[화학식 142]
Figure pct00142
[화학식 143]
Figure pct00143
[화학식 144]
Figure pct00144
[화학식 145]
Figure pct00145
상기 화합물 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이며, R15는, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 또는 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 티올기이다.
R15는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리아콘틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 시클로운데실기, 시클로도데실기, 시클로트리아콘틸기, 노보닐기, 아다만틸기, 페닐기, 나프틸기, 안트라센기, 헵타센기, 비닐기, 알릴기, 트리아콘테닐기, 메톡시기, 에톡시기, 트리아콘틱시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자, 티올기를 들 수 있다.
상기 R15의 각 예시는, 이성체를 포함하고 있다. 예를 들어, 부틸기에는, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 포함하고 있다.
식(2)로 표시되는 화합물로는, 추가로 이하의 구조를 들 수 있다.
[화학식 146]
Figure pct00146
[화학식 147]
Figure pct00147
[화학식 148]
Figure pct00148
[화학식 149]
Figure pct00149
[화학식 150]
Figure pct00150
상기 화합물 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이며, R16은, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬렌기, 탄소수 6~30의 2가의 아릴기, 또는 탄소수 2~30의 2가의 알케닐기이다.
R16은, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로펜기, 부텐기, 펜텐기, 헥센기, 헵텐기, 옥텐기, 노넨기, 데센기, 운데센기, 도데센기, 트리아콘텐기, 시클로프로펜기, 시클로부텐기, 시클로펜텐기, 시클로헥센기, 시클로헵텐기, 시클로옥텐기, 시클로노넨기, 시클로데센기, 시클로운데센기, 시클로도데센기, 시클로트리아콘텐기, 2가의 노보닐기, 2가의 아다만틸기, 2가의 페닐기, 2가의 나프틸기, 2가의 안트라센기, 2가의 헵타센기, 2가의 비닐기, 2가의 알릴기, 2가의 트리아콘테닐기를 들 수 있다.
상기 R16의 각 예시는, 이성체를 포함하고 있다. 예를 들어, 부틸기에는, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 포함하고 있다.
식(2)로 표시되는 화합물로는, 추가로 이하의 구조를 들 수 있다.
[화학식 151]
Figure pct00151
[화학식 152]
Figure pct00152
[화학식 153]
Figure pct00153
[화학식 154]
Figure pct00154
[화학식 155]
Figure pct00155
[화학식 156]
Figure pct00156
[화학식 157]
Figure pct00157
[화학식 158]
Figure pct00158
[화학식 159]
Figure pct00159
[화학식 160]
Figure pct00160
[화학식 161]
Figure pct00161
[화학식 162]
Figure pct00162
상기 화합물 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이며, R14는 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 또는 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 티올기이며, m14'는 0~4의 정수이다.
R14는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리아콘틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 시클로운데실기, 시클로도데실기, 시클로트리아콘틸기, 노보닐기, 아다만틸기, 페닐기, 나프틸기, 안트라센기, 헵타센기, 비닐기, 알릴기, 트리아콘테닐기, 메톡시기, 에톡시기, 트리아콘틱시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자, 티올기를 들 수 있다.
상기 R14의 각 예시는, 이성체를 포함하고 있다. 예를 들어, 부틸기에는, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 포함하고 있다.
식(2)로 표시되는 화합물로는, 추가로 이하의 구조를 들 수 있다.
[화학식 163]
Figure pct00163
[화학식 164]
Figure pct00164
[화학식 165]
Figure pct00165
[화학식 166]
Figure pct00166
상기 화합물 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이며, R14는 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 또는 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 티올기이며, m14는 0~5의 정수이다.
R14는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리아콘틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 시클로운데실기, 시클로도데실기, 시클로트리아콘틸기, 노보닐기, 아다만틸기, 페닐기, 나프틸기, 안트라센기, 헵타센기, 비닐기, 알릴기, 트리아콘테닐기, 메톡시기, 에톡시기, 트리아콘틱시기, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자, 티올기를 들 수 있다.
상기 R14의 각 예시는, 이성체를 포함하고 있다. 예를 들어, 부틸기에는, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 포함하고 있다.
식(2)로 표시되는 화합물로는, 추가로 이하의 구조를 들 수 있다.
[화학식 167]
Figure pct00167
[화학식 168]
Figure pct00168
[화학식 169]
Figure pct00169
[화학식 170]
Figure pct00170
[화학식 171]
Figure pct00171
[화학식 172]
Figure pct00172
[화학식 173]
Figure pct00173
[화학식 174]
Figure pct00174
[화학식 175]
Figure pct00175
[화학식 176]
Figure pct00176
[화학식 177]
Figure pct00177
[화학식 178]
Figure pct00178
[화학식 179]
Figure pct00179
[화학식 180]
Figure pct00180
[화학식 181]
Figure pct00181
[화학식 182]
Figure pct00182
상기 화합물 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이다.
식(2)로 표시되는 화합물로는, 예를 들어 이하의 구조도 들 수 있다.
[화학식 183]
Figure pct00183
상기 화합물은, 디벤조크산텐골격을 갖는 것이 내열성의 관점에서 바람직하다.
식(2)로 표시되는 화합물로는, 원료의 입수성의 관점에서, 더욱 바람직하게는 이하로 표시되는 화합물이다.
[화학식 184]
Figure pct00184
[화학식 185]
Figure pct00185
[화학식 186]
Figure pct00186
[화학식 187]
Figure pct00187
[화학식 188]
Figure pct00188
[화학식 189]
Figure pct00189
[화학식 190]
Figure pct00190
[화학식 191]
Figure pct00191
[화학식 192]
Figure pct00192
[화학식 193]
Figure pct00193
[화학식 194]
Figure pct00194
[화학식 195]
Figure pct00195
[화학식 196]
Figure pct00196
[화학식 197]
Figure pct00197
[화학식 198]
Figure pct00198
[화학식 199]
Figure pct00199
[화학식 200]
Figure pct00200
[화학식 201]
Figure pct00201
[화학식 202]
Figure pct00202
[화학식 203]
Figure pct00203
[화학식 204]
Figure pct00204
[화학식 205]
Figure pct00205
[화학식 206]
Figure pct00206
[화학식 207]
Figure pct00207
[화학식 208]
Figure pct00208
[화학식 209]
Figure pct00209
상기 화합물 중, R10~R13은 상기 식(1-2)에서 설명한 것과 동의이다.
상기 화합물은, 디벤조크산텐골격을 갖는 것이 내열성의 관점에서 바람직하다.
상기 식(2)로 표시되지 않는, 예를 들어 이하로 표시되는 화합물은, 감방사선성이 없고, 예를 들어 조성물의 용해성 제어제로서 이용된다.
[화학식 210]
Figure pct00210
[식(2)로 표시되는 화합물의 제조방법]
본 실시형태에서 사용되는 식(2)로 표시되는 화합물은, 공지의 수법을 응용하여 적당히 합성할 수 있고, 그 합성수법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, (i)페놀류, 나프톨류 또는 안트라센올과, 대응하는 케톤류를 산촉매하에서 중축합반응시키는 방법, (ii)페놀류, 나프톨류 또는 안트라센올과, 대응하는 알데히드류를 산촉매하에서 중축합하고, 얻어진 트리아릴메탄, 또는 크산텐류의 메틴부위를 치환하는 방법이 있다.
또한 (i)페놀류, 나프톨류 또는 안트라센올과, 대응하는 케톤류를 산촉매하에서 중축합반응시키는 방법으로는 (a)유기용매 중에서 행하는 방법, (b)수용매 중에서 행하는 방법, (c)무용매로 행하는 방법 등이 있다.
(i) (a)유기용매 중에서, 페놀류, 나프톨류 또는 안트라센올과, 대응하는 케톤류를 산촉매하에서 중축합반응시키는 방법으로는, 상압하, 페놀류, 나프톨류 또는 안트라센올과, 대응하는 케톤류를 산촉매하에서 중축합반응시킴으로써, 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 또한, 필요에 따라, 가압하에서 행할 수도 있다. 또한 그 화합물의 적어도 1개의 페놀성 수산기에 공지의 방법에 의해 산해리성기를 도입할 수 있다.
(i) (b)수용매중, 또는 (c)무용매로, 페놀류, 나프톨류 또는 안트라센올과, 대응하는 케톤류를 산촉매하에서 중축합반응시키는 방법으로는, 페놀류, 나프톨류 또는 안트라센올과, 대응하는 케톤류를 산 및 메르캅토 촉매하에서 중축합반응시킴으로써, 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 또한, 그 화합물의 적어도 1개의 페놀성 수산기에 공지의 방법에 의해 산해리성기를 도입할 수 있다. 또한, 본 반응은, 감압하, 상압, 가압하에서 행할 수 있다.
상기 나프톨류로는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 나프톨, 메틸나프톨, 메톡시나프톨, 나프탈렌디올 등을 들 수 있고, 나프탈렌디올을 이용하는 것이 크산텐구조를 용이하게 만들 수 있는 점에서 보다 바람직하다.
상기 페놀류로는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 페놀, 메틸페놀, 메톡시벤젠, 카테콜, 레조르시놀, 하이드로퀴논, 트리메틸하이드로퀴논 등을 들 수 있다.
상기 안트라센올류로는, 예를 들어, 안트라센올, 메틸안트라센올, 메톡시안트라센올 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 안트라센올을 이용하는 것이, 탄소원자농도를 높이고, 내열성을 향상시키는 점에서 보다 바람직하다.
상기 케톤류로는, 예를 들어, 아세톤, 메틸에틸케톤아세토페논, 디아세틸벤젠, 트리아세틸벤젠, 아세토나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐, 벤조페논, 디페닐카르보닐벤젠, 트리페닐카르보닐벤젠, 벤조나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 아세토페논, 디아세틸벤젠, 트리아세틸벤젠, 아세토나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐, 벤조페논, 디페닐카르보닐벤젠, 트리페닐카르보닐벤젠, 벤조나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐을 이용하는 것이, 높은 내열성을 부여하는 점에서 바람직하고, 아세토페논, 디아세틸벤젠, 트리아세틸벤젠, 아세토나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐, 벤조페논, 디페닐카르보닐벤젠, 트리페닐카르보닐벤젠, 벤조나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐을 이용하는 것이, 에칭내성이 높아, 보다 바람직하다.
케톤류로서, 방향환을 갖는 케톤을 이용하는 것이, 높은 내열성 및 높은 에칭내성을 겸비하여 바람직하다.
상기 산촉매는, 특별히 한정되지 않고, 주지의 무기산, 유기산으로부터 적당히 선택할 수 있다. 예를 들어, 염산, 황산, 인산, 브롬화수소산, 불산 등의 무기산; 옥살산, 포름산, p-톨루엔설폰산, 메탄설폰산, 트리플루오로아세트산, 트리플루오로메탄설폰산, 벤젠설폰산, 나프탈렌설폰산, 나프탈렌디설폰산 등의 유기산; 염화아연, 염화알루미늄, 염화철, 삼불화붕소 등의 루이스산; 혹은 규텅스텐산, 인텅스텐산, 규몰리브덴산 또는 인몰리브덴산 등의 고체산을 들 수 있다. 입수의 용이함이나 취급의 용이함 등의 제조상의 관점에서, 염산 또는 황산을 이용하는 것이 바람직하다. 또한 산촉매에 대해서는, 1종류 또는 2종류 이상을 이용할 수 있다. 또한, 산촉매의 사용량은, 사용하는 원료 및 사용하는 촉매의 종류, 더 나아가 반응조건 등에 따라 적당히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 반응원료 100질량부에 대하여, 0.01~100질량부인 것이 바람직하다.
상기 반응에 이용하는 메르캅토 촉매에 대해서는, 공지의 것으로부터 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 이러한 산촉매로는, 알킬티올류나 메르캅토카르본산류가 널리 알려져 있고, 예를 들어 알킬티올로는 탄소수 1~12의 알킬메르캅탄, 바람직하게는 n-옥틸메르캅탄, n-데실메르캅탄, n-도데실메르캅탄을 들 수 있고, 메르캅토카르본산으로는 2-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토프로피온산을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들 중에서도, 제조상의 관점에서, n-옥틸메르캅탄, n-데실메르캅탄, n-도데실메르캅탄이 바람직하다. 한편, 메르캅토 촉매에 대해서는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 또한, 메르캅토 촉매의 사용량은, 사용하는 원료 및 사용하는 촉매의 종류, 더 나아가 반응조건 등에 따라 적당히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 반응원료 100질량부에 대하여, 0.01~100질량부인 것이 바람직하다.
상기 식(2)로 표시되는 화합물을 제조할 때, 반응용매를 이용할 수도 있다. 반응용매로는, 이용하는 케톤류와 나프톨류 등과의 반응이 진행되면 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 테트라하이드로푸란, 디옥산 또는 이들의 혼합용매를 이용할 수 있다. 상기 용매의 양은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 반응원료 100질량부에 대하여 0~2000질량부의 범위이다.
상기 폴리페놀 화합물을 제조할 때, 반응온도는, 특별히 한정되지 않고, 반응원료의 반응성에 따라 적당히 선택할 수 있으나, 10~200℃의 범위인 것이 바람직하다. 본 실시형태의 식(2)로 표시되는 화합물을 선택성 좋게 합성하기에는, 온도가 낮은 편이, 효과가 높고 10~60℃의 범위가 보다 바람직하다.
상기 식(2)로 표시되는 화합물의 제조방법은, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 나프톨류 등, 케톤류, 촉매를 일괄로 투입하는 방법이나, 촉매존재하 나프톨류나 케톤류를 적하해가는 방법이 있다. 중축합반응 종료 후, 계내에 존재하는 미반응원료, 촉매 등을 제거하기 위하여, 반응솥의 온도를 130~230℃까지 상승시켜, 1~50mmHg 정도로 휘발분을 제거할 수도 있다.
상기 식(2)로 표시되는 화합물을 제조할 때의 원료의 양은, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 케톤류 1몰에 대하여, 나프톨류 등을 2몰~과잉량, 및 산촉매를 0.001~1몰 사용하고, 상압에서, 20~60℃에서 20분~100시간 정도 반응시킴으로써 진행한다.
상기 식(2)로 표시되는 화합물을 제조할 때, 상기 반응 종료 후, 공지의 방법에 의해 목적물을 단리한다. 목적물의 단리방법은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 반응액을 농축하고, 순수를 첨가하여 반응생성물을 석출시키고, 실온까지 냉각한 후, 여과를 행하여 분리, 얻어진 고형물을 여과하고, 건조시킨 후, 칼럼크로마토에 의해, 부생성물과 분리정제하고, 용매유거, 여과, 건조를 행하여 목적화합물을 얻는 방법을 들 수 있다.
(ii) 페놀류, 나프톨류 또는 안트라센올과, 대응하는 알데히드류를 산촉매하에서 중축합하고, 얻어진 트리아릴메탄, 또는 크산텐류의 메틴부위를 치환하는 방법으로는, 페놀류, 나프톨류 또는 안트라센올과, 대응하는 알데히드류를 산촉매하에서 중축합반응시킴으로써, 상기 식(2)로 표시되는 화합물의 RY를 수소원자로 치환한 화합물(A')을 얻는다. 보호기도입제에 의해 화합물(A')의 수산기를 보호기로 치환한 화합물(B')로 한 후, 상기 식(2)로 표시되는 화합물의 RY부분에 상당하는 수소원자를, 염기촉매하에서 알킬화제와 반응시킴으로써, 상기 식(2)로 표시되는 화합물의 RY부분에 상당하는 알킬기를 도입한다. 또한 그 후에, 상기 화합물(B')로 수산기를 치환한 보호기를 탈보호함으로써 상기 식(2)가 얻어진다. 또한, 그 화합물의 적어도 1개의 페놀성 수산기에 공지의 방법에 의해 산해리성기를 도입할 수 있다. 또한, 필요에 따라, 가압하에서 행할 수도 있다. 상기 알킬화제로는, 공지의 것으로부터 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 염화알킬, 브롬화알킬, 요오드화알킬 등을 들 수 있다.
상기 제조방법에 있어서, 화합물(B')의 상기 식(2)로 표시되는 화합물의 RY부분에 상당하는 수소원자를, 상기 식(2)로 표시되는 화합물의 RY부분에 상당하는 알킬기를 도입하는 방법으로는, 상기 제조방법의 염기촉매하에서 알킬화제와 반응시키는 방법 대신에, 화합물(B')에 할로겐화제를 반응시켜, 상기 식(2)로 표시되는 화합물의 RY부분에 상당하는 수소원자를 할로겐원자로 치환한 후에, 알킬화제와 반응시킴으로써, 상기 식(1)을 얻을 수도 있다. 알킬화제로는, 공지의 것으로부터 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 그리냐르시약, 알킬리튬 등을 들 수 있다.
상기 페놀류로는, 예를 들어, 페놀, 메틸페놀, 메톡시페놀 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 페놀을 이용하는 것이 원료의 안정공급성의 점에서 보다 바람직하다.
상기 나프톨류로는, 예를 들어, 나프톨, 메틸나프톨, 메톡시나프톨 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 나프톨을 이용하는 것이, 탄소원자농도를 높이고, 내열성을 향상시키는 점에서 보다 바람직하다.
상기 비안트라센올류로는, 예를 들어, 안트라센올, 메틸안트라센올, 메톡시안트라센올 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 안트라센올을 이용하는 것이, 탄소원자농도를 높이고, 내열성을 향상시키는 점에서 보다 바람직하다.
상기 알데히드류로는, 예를 들어, 파라포름알데히드, 벤즈알데히드, 아세트알데히드, 프로필알데히드, 페닐아세트알데히드, 페닐프로필알데히드, 하이드록시벤즈알데히드, 클로로벤즈알데히드, 니트로벤즈알데히드, 메틸벤즈알데히드, 에틸벤즈알데히드, 부틸벤즈알데히드, 비페닐알데히드, 나프토알데히드, 안트라센카르보알데히드, 페난트렌카르보알데히드, 피렌카르보알데히드, 푸르푸랄 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다.
폴리페놀 화합물의 적어도 1개의 페놀성 수산기에 산해리성기를 도입하는 방법은 공지이다. 예를 들어, 이하와 같이 하여, 상기 화합물의 적어도 1개의 페놀성 수산기에 산해리성기를 도입할 수 있다. 산해리성기를 도입하기 위한 화합물은, 공지의 방법으로 합성 혹은 용이하게 입수할 수 있고, 예를 들어, 산클로라이드, 산무수물, 디카보네이트 등의 활성 카르본산 유도체 화합물, 알킬할라이드, 비닐알킬에테르, 디하이드로피란, 할로카르본산알킬에스테르 등을 들 수 있으나 특별히 한정은 되지 않는다.
예를 들어, 아세톤, 테트라하이드로푸란(THF), 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 비프로톤성 용매에 상기 화합물을 용해 또는 현탁시킨다. 계속해서, 에틸비닐에테르 등의 비닐알킬에테르 또는 디하이드로피란을 첨가하고, 피리디늄 p-톨루엔설포네이트 등의 산촉매의 존재하, 상압에서, 20~60℃, 6~72시간 반응시킨다. 반응액을 알칼리 화합물로 중화하고, 증류수에 첨가하여 백색고체를 석출시킨 후, 분리한 백색고체를 증류수로 세정하고, 건조함으로써, 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 화합물을 얻을 수 있다.
또한, 예를 들어, 아세톤, THF, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 비프로톤성 용매에, 수산기를 갖는 상기 화합물을 용해 또는 현탁시킨다. 계속해서, 에틸클로로메틸에테르 등의 알킬할라이드 또는 브로모아세트산메틸아다만틸 등의 할로카르본산알킬에스테르를 첨가하고, 탄산칼륨 등의 알칼리촉매의 존재하, 상압에서, 20~110℃, 6~72시간 반응시킨다. 반응액을 염산 등의 산으로 중화하고, 증류수에 첨가하여 백색고체를 석출시킨 후, 분리한 백색고체를 증류수로 세정하고, 건조함으로써, 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 화합물을 얻을 수 있다.
한편, 산해리성기를 도입하는 타이밍에 대해서는, 비나프톨류와 케톤류의 축합반응후뿐만 아니라, 축합반응의 전단계여도 된다. 또한, 후술하는 수지의 제조를 행한 후에 행할 수도 있다.
본 실시형태에 있어서, 산해리성기란, 산의 존재하에서 개열하여, 알칼리가용성기 등의 용해성을 변화시키는 관능기를 발생시키는 특성기를 말한다. 알칼리가용성기로는, 페놀성 수산기, 카르복실기, 설폰산기, 헥사플루오로이소프로판올기 등을 들 수 있고, 페놀성 수산기 및 카르복실기가 바람직하고, 페놀성 수산기가 특히 바람직하다. 상기 산해리성기는, 더욱 고감도·고해상도인 패턴 형성을 가능하기 하기 위하여, 산의 존재하에서 연쇄적으로 개열반응을 일으키는 성질을 갖는 것이 바람직하다.
[식(2)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지의 제조방법]
상기 식(2)로 표시되는 화합물은, 리소그래피용 막형성 조성물로서, 그대로 사용할 수 있다. 또한, 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지로서도 사용할 수 있다. 예를 들어, 상기 식(2)로 표시되는 화합물과 가교반응성이 있는 화합물을 반응시켜 얻어지는 수지로서도 사용할 수 있다.
상기 식(2)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지로는, 예를 들어, 이하의 식(4)로 표시되는 구조를 갖는 것을 들 수 있다. 즉, 본 실시형태의 리소그래피용 막형성 조성물은, 하기 식(4)로 표시되는 구조를 갖는 수지를 함유하는 것일 수도 있다.
[화학식 211]
Figure pct00211
식(4) 중, L은, 탄소수 1~30의 직쇄상 혹은 분지상의 알킬렌기 또는 단결합이다.
R0A, R1A, R2A, m2A, nA, qA 및 XA는 상기 식(2)에 있어서의 것과 동의이며,
nA가 2 이상의 정수인 경우, nA개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있다.
단, R2A의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이다.
본 실시형태의 수지는, 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 가교반응성이 있는 화합물과 반응시킴으로써 얻어진다.
가교반응성이 있는 화합물로는, 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 올리고머화 또는 폴리머화할 수 있는 것인 한, 공지의 것을 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 그 구체예로는, 예를 들어, 알데히드, 케톤, 카르본산, 카르본산할라이드, 할로겐함유 화합물, 아미노 화합물, 이미노 화합물, 이소시아네이트, 불포화탄화수소기함유 화합물 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다.
상기 식(2)로 표시되는 구조를 갖는 수지의 구체예로는, 예를 들어, 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 가교반응성이 있는 화합물인 알데히드 및/또는 케톤과의 축합반응 등에 의해 노볼록화한 수지를 들 수 있다.
여기서, 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 노볼록화할 때에 이용하는 알데히드로는, 예를 들어, 포름알데히드, 트리옥산, 파라포름알데히드, 벤즈알데히드, 아세트알데히드, 프로필알데히드, 페닐아세트알데히드, 페닐프로필알데히드, 하이드록시벤즈알데히드, 클로로벤즈알데히드, 니트로벤즈알데히드, 메틸벤즈알데히드, 에틸벤즈알데히드, 부틸벤즈알데히드, 비페닐알데히드, 나프토알데히드, 안트라센카르보알데히드, 페난트렌카르보알데히드, 피렌카르보알데히드, 푸르푸랄 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 케톤으로는, 예를 들어 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로부타논, 시클로펜탄온, 시클로헥사논, 노보나논, 트리시클로헥사논, 트리시클로데카논, 아다만타논, 플루오레논, 벤조플루오레논, 아세나프텐퀴논, 아세나프테논, 안트라퀴논, 아세토페논, 디아세틸벤젠, 트리아세틸벤젠, 아세토나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐, 벤조페논, 디페닐카르보닐벤젠, 트리페닐카르보닐벤젠, 벤조나프톤, 디페닐카르보닐나프탈렌, 페닐카르보닐비페닐, 디페닐카르보닐비페닐 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 포름알데히드가 보다 바람직하다. 한편, 이들 알데히드 및/또는 케톤류는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 또한, 상기 알데히드 및/또는 케톤류의 사용량은, 특별히 한정되지 않으나, 상기 식(2)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여, 0.2~5몰이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5~2몰이다.
상기 식(2)로 표시되는 화합물과 알데히드 및/또는 케톤과의 축합반응에 있어서, 촉매를 이용할 수도 있다. 여기서 사용하는 산촉매에 대해서는, 공지의 것으로부터 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 이러한 산촉매로는, 무기산이나 유기산이 널리 알려져 있고, 예를 들어, 염산, 황산, 인산, 브롬화수소산, 불산 등의 무기산이나, 옥살산, 말론산, 석신산, 아디프산, 세바스산, 구연산, 푸말산, 말레산, 포름산, p-톨루엔설폰산, 메탄설폰산, 트리플루오로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, 트리플루오로메탄설폰산, 벤젠설폰산, 나프탈렌설폰산, 나프탈렌디설폰산 등의 유기산이나, 염화아연, 염화알루미늄, 염화철, 삼불화붕소 등의 루이스산, 혹은 규텅스텐산, 인텅스텐산, 규몰리브덴산 또는 인몰리브덴산 등의 고체산 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 이들 중에서도, 제조상의 관점에서, 유기산 또는 고체산이 바람직하고, 입수의 용이함이나 취급의 용이함 등의 제조상의 관점에서, 염산 또는 황산이 바람직하다. 한편, 산촉매에 대해서는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 또한, 산촉매의 사용량은, 사용하는 원료 및 사용하는 촉매의 종류, 더 나아가 반응조건 등에 따라 적당히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 반응원료 100질량부에 대하여, 0.01~100질량부인 것이 바람직하다. 단, 인덴, 하이드록시인덴, 벤조푸란, 하이드록시안트라센, 아세나프틸렌, 비페닐, 비스페놀, 트리스페놀, 디시클로펜타디엔, 테트라하이드로인덴, 4-비닐시클로헥센, 노보나디엔, 5-비닐노보나-2-엔, α-피넨, β-피넨, 리모넨 등의 비공역이중결합을 갖는 화합물과의 공중합 반응의 경우는, 반드시 알데히드류가 필요한 것은 아니다.
상기 식(2)로 표시되는 화합물과 알데히드 및/또는 케톤과의 축합반응에 있어서, 반응용매를 이용할 수도 있다. 이 중축합에서의 반응용매로는, 공지의 것 중에서 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 테트라하이드로푸란, 디옥산 또는 이들의 혼합용매 등이 예시된다. 한편, 용매는, 1종을 단독으로 혹은 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
또한, 이들 용매의 사용량은, 사용하는 원료 및 사용하는 촉매의 종류, 더 나아가 반응조건 등에 따라 적당히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 반응원료 100질량부에 대하여 0~2000질량부의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 반응온도는, 반응원료의 반응성에 따라 적당히 선택할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 통상 10~200℃의 범위이다. 한편, 반응방법은, 공지의 수법을 적당히 선택하여 이용할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 상기 식(2)로 표시되는 화합물, 알데히드 및/또는 케톤류, 촉매를 일괄로 투입하는 방법이나, 상기 식(2)로 표시되는 화합물이나 알데히드 및/또는 케톤류를 촉매존재하에서 적하해가는 방법이 있다.
중축합반응 종료 후, 얻어진 화합물의 단리는, 상법에 의해 행할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 계내에 존재하는 미반응원료나 촉매 등을 제거하기 위하여, 반응솥의 온도를 130~230℃까지 상승시켜, 1~50mmHg 정도로 휘발분을 제거하는 등의 일반적 수법을 채용함으로써, 목적물인 노볼록화한 수지를 얻을 수 있다.
여기서, 상기 식(4)로 표시되는 구조를 갖는 수지는, 상기 식(2)로 표시되는 화합물의 단독중합체일 수도 있으나, 다른 페놀류와의 공중합체일 수도 있다. 여기서 공중합 가능한 페놀류로는, 예를 들어, 페놀, 크레졸, 디메틸페놀, 트리메틸페놀, 부틸페놀, 페닐페놀, 디페닐페놀, 나프틸페놀, 레조르시놀, 메틸레조르시놀, 카테콜, 부틸카테콜, 메톡시페놀, 메톡시페놀, 프로필페놀, 피로갈롤, 티몰 등을 드나, 이것들로 특별히 한정되지 않는다.
또한, 상기 식(4)로 표시되는 구조를 갖는 수지는, 상기 서술한 다른 페놀류 이외에, 중합가능한 모노머와 공중합시킨 것일 수도 있다. 이러한 공중합 모노머로는, 예를 들어, 나프톨, 메틸나프톨, 메톡시나프톨, 디하이드록시나프탈렌, 인덴, 하이드록시인덴, 벤조푸란, 하이드록시안트라센, 아세나프틸렌, 비페닐, 비스페놀, 트리스페놀, 디시클로펜타디엔, 테트라하이드로인덴, 4-비닐시클로헥센, 노보나디엔, 비닐노보나엔, 피넨, 리모넨 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 한편, 상기 식(2)로 표시되는 구조를 갖는 수지는, 상기 식(2)로 표시되는 화합물과 상기 서술한 페놀류와의 2원 이상의(예를 들어, 2~4원계) 공중합체이어도, 상기 식(2)로 표시되는 화합물과 상기 서술한 공중합 모노머와의 2원 이상(예를 들어, 2~4원계) 공중합체이어도, 상기 식(2)로 표시되는 화합물과 상기 서술한 페놀류와 상기 서술한 공중합 모노머와의 3원 이상의(예를 들어, 3~4원계) 공중합체이어도 상관없다.
한편, 상기 식(4)로 표시되는 구조를 갖는 수지의 분자량은, 특별히 한정되지 않으나, 폴리스티렌환산의 중량평균분자량(Mw)이 500~30,000인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 750~20,000이다. 또한, 가교효율을 높임과 함께 베이크중의 휘발성분을 억제하는 관점에서, 상기 식(4)로 표시되는 구조를 갖는 수지는, 분산도(중량평균분자량Mw/수평균분자량Mn)가 1.2~7의 범위내인 것이 바람직하다. 한편, 상기 Mn은, 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 구할 수 있다.
상기 식(4)로 표시되는 구조를 갖는 수지는, 습식 프로세스의 적용이 보다 용이하게 이루어지는 등의 관점에서, 용매에 대한 용해성이 높은 것인 것이 바람직하다. 보다 구체적으로는, 이들 화합물 및/또는 수지는, 1-메톡시-2-프로판올(PGME) 및/또는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)를 용매로 하는 경우, 해당 용매에 대한 용해도가 10질량% 이상인 것이 바람직하다. 여기서, PGME 및/또는 PGMEA에 대한 용해도는, 「수지의 질량÷(수지의 질량+용매의 질량)×100(질량%)」으로 정의된다. 예를 들어, 상기 수지 10g이 PGMEA 90g에 대하여 용해되는 경우는, 상기 수지의 PGMEA에 대한 용해도는, 「10질량% 이상」이 되고, 용해되지 않는 경우는, 「10질량% 미만」이 된다.
[화합물 및/또는 수지의 정제방법]
본 실시형태의 화합물 및/또는 수지의 정제방법은, 상기 식(1)로 표시되는 화합물, 상기 식(1)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지, 상기 식(2)로 표시되는 화합물 및 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지로부터 선택되는 1종 이상을, 용매에 용해시켜 용액(S)을 얻는 공정과, 얻어진 용액(S)과 산성의 수용액을 접촉시켜, 상기 화합물 및/또는 상기 수지중의 불순물을 추출하는 공정(제1 추출공정)을 포함하고, 상기 용액(S)을 얻는 공정에서 이용하는 용매가, 물과 임의로 혼화하지 않는 유기용매를 포함한다.
해당 제1 추출공정에 있어서, 상기 수지는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물 및/또는 식(2)로 표시되는 화합물과 가교반응성이 있는 화합물의 반응에 의해 얻어지는 수지인 것이 바람직하다. 본 실시형태의 정제방법에 따르면, 상기 서술한 특정 구조를 갖는 화합물 또는 수지에 불순물로서 포함될 수 있는 다양한 금속의 함유량을 저감할 수 있다.
보다 상세하게는, 본 실시형태의 정제방법에 있어서는, 상기 화합물 및/또는 상기 수지를, 물과 임의로 혼화하지 않는 유기용매에 용해시켜 용액(S)을 얻고, 다시 그 용액(S)을 산성 수용액과 접촉시켜 추출처리를 행할 수 있다. 이에 따라, 상기 용액(S)에 포함되는 금속분을 수상으로 이행시킨 후, 유기상과 수상을 분리하여 금속함유량이 저감된 화합물 및/또는 수지를 얻을 수 있다.
본 실시형태의 정제방법으로 사용하는, 화합물 및 수지는 단독 사용할 수도 있으나, 2종 이상 혼합하여 이용할 수도 있다. 또한, 상기 화합물이나 수지는, 각종 계면활성제, 각종 가교제, 각종 산발생제, 각종 안정제 등을 함유할 수도 있다.
본 실시형태에서 사용되는 물과 임의로 혼화하지 않는 용매로는, 특별히 한정되지 않으나, 반도체 제조 프로세스에 안전하게 적용할 수 있는 유기용매가 바람직하고, 구체적으로는, 실온하에서의 물에의 용해도가 30% 미만인 유기용매이며, 보다 바람직하게는 20% 미만이며, 특히 바람직하게는 10% 미만인 유기용매가 바람직하다. 해당 유기용매의 사용량은, 사용하는 화합물과 수지의 합계량에 대하여, 1~100질량배인 것이 바람직하다.
물과 임의로 혼화하지 않는 용매의 구체예로는, 이하로 한정되지 않으나, 예를 들어, 디에틸에테르, 디이소프로필에테르 등의 에테르류, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산아소아밀 등의 에스테르류, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 에틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 시클로펜탄온, 2-헵타논, 2-펜탄온 등의 케톤류; 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA), 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 글리콜에테르아세테이트류; n-헥산, n-헵탄 등의 지방족 탄화수소류; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류; 염화메틸렌, 클로로포름 등의 할로겐화 탄화수소류 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 톨루엔, 2-헵타논, 시클로헥사논, 시클로펜탄온, 메틸이소부틸케톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 아세트산에틸 등이 바람직하고, 메틸이소부틸케톤, 아세트산에틸, 시클로헥사논, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트가 보다 바람직하고, 메틸이소부틸케톤, 아세트산에틸이 보다 더욱 바람직하다. 메틸이소부틸케톤, 아세트산에틸 등은, 상기 화합물 및 이 화합물을 구성성분으로서 포함하는 수지의 포화용해도가 비교적 높고, 비점이 비교적 낮은 점에서, 공업적으로 용매를 유거하는 경우나 건조에 의해 제거하는 공정에서의 부하를 저감하는 것이 가능해진다. 이들 용매는 각각 단독으로 이용할 수도 있고, 또한 2종 이상을 혼합하여 이용할 수도 있다.
본 실시형태의 정제방법에서 사용되는 산성의 수용액으로는, 일반적으로 알려진 유기계 화합물 혹은 무기계 화합물을 물에 용해시킨 수용액 중에서 적당히 선택된다. 이하로 한정되지 않으나, 예를 들어, 염산, 황산, 질산, 인산 등의 무기산을 물에 용해시킨 무기산수용액, 또는, 아세트산, 프로피온산, 옥살산, 말론산, 석신산, 푸말산, 말레산, 주석산, 구연산, 메탄설폰산, 페놀설폰산, p-톨루엔설폰산, 트리플루오로아세트산 등의 유기산을 물에 용해시킨 유기산수용액을 들 수 있다. 이들 산성의 수용액은, 각각 단독으로 이용할 수도 있고, 또한 2종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다. 이들 산성의 수용액 중에서도, 염산, 황산, 질산 및 인산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 무기산수용액, 또는, 아세트산, 프로피온산, 옥살산, 말론산, 석신산, 푸말산, 말레산, 주석산, 구연산, 메탄설폰산, 페놀설폰산, p-톨루엔설폰산 및 트리플루오로아세트산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 유기산수용액인 것이 바람직하고, 황산, 질산, 및 아세트산, 옥살산, 주석산, 구연산 등의 카르본산의 수용액이 보다 바람직하고, 황산, 옥살산, 주석산, 구연산의 수용액이 더욱 바람직하고, 옥살산의 수용액이 보다 더욱 바람직하다. 옥살산, 주석산, 구연산 등의 다가카르본산은 금속이온에 배위하고, 킬레이트효과가 발생하기 때문에, 보다 효과적으로 금속을 제거할 수 있는 경향이 있는 것으로 생각된다. 또한, 여기서 이용하는 물은, 본 실시의 형태의 정제방법의 목적에 따라, 금속함유량이 적은 물, 예를 들어 이온교환수 등을 이용하는 것이 바람직하다.
본 실시형태의 정제방법에서 사용하는 산성의 수용액의 pH는 특별히 한정되지 않으나, 상기 화합물이나 수지에의 영향을 고려하여, 수용액의 산성도를 조정하는 것이 바람직하다. 통상, pH범위는 0~5 정도이며, 바람직하게는 pH0~3 정도이다.
본 실시형태의 정제방법에서 사용하는 산성의 수용액의 사용량은 특별히 한정되지 않으나, 금속제거를 위한 추출횟수를 저감하는 관점 및 전체의 액량을 고려하여 조작성을 확보하는 관점에서, 해당 사용량을 조정하는 것이 바람직하다. 상기 관점에서, 산성의 수용액의 사용량은, 상기 용액(S) 100질량%에 대하여, 바람직하게는 10~200질량%이며, 보다 바람직하게는 20~100질량%이다.
본 실시형태의 정제방법에 있어서는, 상기 산성의 수용액과, 상기 용액(S)을 접촉시킴으로써, 용액(S)중의 상기 화합물 또는 상기 수지로부터 금속분을 추출할 수 있다.
본 실시형태의 정제방법에 있어서는, 상기 용액(S)이, 추가로 물과 임의로 혼화하는 유기용매를 포함하는 것이 바람직하다. 물과 임의로 혼화하는 유기용매를 포함하는 경우, 상기 화합물 및/또는 수지의 투입량을 증가시킬 수 있고, 또한, 분액성이 향상되고, 높은 솥효율로 정제를 행할 수 있는 경향이 있다. 물과 임의로 혼화하는 유기용매를 첨가하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 미리 유기용매를 포함하는 용액에 첨가하는 방법, 미리 물 또는 산성의 수용액에 첨가하는 방법, 유기용매를 포함하는 용액과 물 또는 산성의 수용액을 접촉시킨 후에 첨가하는 방법 중 어느 것이어도 된다. 이들 중에서도, 미리 유기용매를 포함하는 용액에 첨가하는 방법이 조작의 작업성이나 투입량의 관리의 용이함의 점에서 바람직하다.
본 실시형태의 정제방법에서 사용되는 물과 임의로 혼화하는 유기용매로는, 특별히 한정되지 않으나, 반도체 제조 프로세스에 안전하게 적용할 수 있는 유기용매가 바람직하다. 물과 임의로 혼화하는 유기용매의 사용량은, 용액상과 수상이 분리되는 범위이면 특별히 한정되지 않으나, 사용하는 화합물과 수지의 합계량에 대하여, 0.1~100질량배인 것이 바람직하고, 0.1~50질량배인 것이 보다 바람직하고, 0.1~20질량배인 것이 더욱 바람직하다.
본 실시형태의 정제방법에 있어서 사용되는 물과 임의로 혼화하는 유기용매의 구체예로는, 이하로 한정되지 않으나, 테트라하이드로푸란, 1,3-디옥솔란 등의 에테르류; 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등의 알코올류; 아세톤, N-메틸피롤리돈등의 케톤류; 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME), 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류 등의 지방족 탄화수소류를 들 수 있다. 이들 중에서도, N-메틸피롤리돈, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등이 바람직하고, N-메틸피롤리돈, 프로필렌글리콜모노메틸에테르가 보다 바람직하다. 이들 용매는 각각 단독으로 이용할 수도 있고, 또한 2종 이상을 혼합하여 이용할 수도 있다.
추출처리를 행할 때의 온도는 통상, 20~90℃이며, 바람직하게는 30~80℃의 범위이다. 추출조작은, 예를 들어, 교반 등에 의해, 잘 혼합시킨 후, 정치함으로써 행해진다. 이에 따라, 용액(S)중에 포함되어 있던 금속분이 수상으로 이행된다. 또한, 본 조작에 의해, 용액의 산성도가 저하되고, 화합물 및/또는 수지의 변질을 억제할 수 있다.
상기 혼합용액은 정치에 의해, 화합물 및/또는 수지와 용매를 포함하는 용액상과, 수상으로 분리되므로, 디캔테이션 등에 의해, 용액상을 회수한다. 정치하는 시간은 특별히 한정되지 않으나, 용매를 포함하는 용액상과 수상의 분리를 보다 양호하게 하는 관점에서, 해당 정치하는 시간을 조정하는 것이 바람직하다. 통상, 정치하는 시간은 1분 이상이며, 바람직하게는 10분 이상이며, 보다 바람직하게는 30분 이상이다. 또한, 추출처리는 1회만 해도 상관없으나, 혼합, 정치, 분리라는 조작을 복수회 반복하여 행하는 것도 유효하다.
본 실시형태의 정제방법에 있어서, 상기 제1 추출공정후, 상기 화합물 또는 상기 수지를 포함하는 용액상을, 다시 물에 접촉시켜, 상기 화합물 또는 상기 수지중의 불순물을 추출하는 공정(제2 추출공정)을 포함하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들어, 산성의 수용액을 이용하여 상기 추출처리를 행한 후에, 이 수용액으로부터 추출되고, 회수된 화합물 및/또는 수지와 용매를 포함하는 용액상을, 다시 물에 의한 추출처리에 제공하는 것이 바람직하다. 상기 서술한 물에 의한 추출처리는, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 상기 용액상과 물을, 교반 등에 의해, 잘 혼합시킨 후, 얻어진 혼합용액을, 정치함으로써 행할 수 있다. 해당 정치후의 혼합용액은, 화합물 및/또는 수지와 용매를 포함하는 용액상과, 수상으로 분리되므로 디캔테이션 등에 의해, 용액상을 회수할 수 있다.
또한, 여기서 이용하는 물은, 본 실시의 형태의 목적에 따라, 금속함유량이 적은 물, 예를 들어, 이온교환수 등인 것이 바람직하다. 추출처리는 1회만 해도 상관없으나, 혼합, 정치, 분리라는 조작을 복수회 반복하여 행하는 것도 유효하다. 또한, 추출처리에서의 양자의 사용비율이나, 온도, 시간 등의 조건은 특별히 한정되지 않으나, 앞선 산성의 수용액과의 접촉처리의 경우와 마찬가지여도 상관없다.
이리 하여 얻어진 화합물 및/또는 수지와 용매를 포함하는 용액에 혼입할 수 있는 수분에 대해서는, 감압증류 등의 조작을 실시함으로써 용이하게 제거할 수 있다. 또한, 필요에 따라 상기 용액에 용매를 첨가하고, 화합물 및/또는 수지의 농도를 임의의 농도로 조정할 수 있다.
얻어진 화합물 및/또는 수지와 용매를 포함하는 용액으로부터, 화합물 및/또는 수지를 단리하는 방법은, 특별히 한정되지 않고, 감압제거, 재침전에 의한 분리, 및 이들 조합 등, 공지의 방법으로 행할 수 있다. 필요에 따라, 농축조작, 여과조작, 원심분리조작, 건조조작 등의 공지의 처리를 행할 수 있다.
[리소그래피용 막형성 조성물]
본 실시형태의 리소그래피용 막형성 조성물은, 상기 식(1)로 표시되는 화합물, 상기 식(1)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지, 상기 식(2)로 표시되는 화합물 및 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 함유한다.
[화학증폭형 레지스트 용도용 리소그래피용 막형성 조성물]
본 실시형태에서의 화학증폭형 레지스트 용도용 리소그래피용 막형성 조성물(이하, 레지스트 조성물이라고도 칭함)은, 상기 식(1)로 표시되는 화합물, 상기 식(1)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지, 상기 식(2)로 표시되는 화합물 및 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 함유한다.
또한, 본 실시형태의 레지스트 조성물은, 용매를 함유하는 것이 바람직하다. 용매로는, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA), 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME), 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 프로필렌글리콜모노알킬에테르류; 유산메틸, 유산에틸, 유산n-프로필, 유산n-부틸, 유산n-아밀 등의 유산에스테르류; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산n-아밀, 아세트산n-헥실, 프로피온산메틸, 프로피온산에틸 등의 지방족 카르본산에스테르류; 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시-3-메틸프로피온산부틸, 3-메톡시-3-메틸부티르산부틸, 아세토아세트산메틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸 등의 다른 에스테르류; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류; 2-헵타논, 3-헵타논, 4-헵타논, 시클로펜탄온(CPN), 시클로헥사논(CHN) 등의 케톤류; N,N-디메틸포름아미드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류; γ-락톤 등의 락톤류 등을 들 수 있으나, 특별히 한정은 되지 않는다. 이들 용매는, 단독으로 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
본 실시형태에서 사용되는 용매는, 안전용매인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는, PGMEA, PGME, CHN, CPN, 2-헵타논, 아니솔, 아세트산부틸, 프로피온산에틸 및 유산에틸로부터 선택되는 적어도 1종이며, 더욱 바람직하게는 PGMEA, PGME 및 CHN으로부터 선택되는 적어도 1종이다.
본 실시형태에 있어서, 고형성분의 양과 용매의 양은, 특별히 한정되지 않으나, 고형성분의 양과 용매의 합계질량 100질량%에 대하여, 고형성분 1~80질량% 및 용매 20~99질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 고형성분 1~50질량% 및 용매 50~99질량%, 더욱 바람직하게는 고형성분 2~40질량% 및 용매 60~98질량%이며, 특히 바람직하게는 고형성분 2~10질량% 및 용매 90~98질량%이다.
본 실시형태의 레지스트 조성물은, 다른 고형성분으로서, 산발생제(C), 산가교제(G), 산확산제어제(E) 및 기타 성분(F)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 함유할 수도 있다. 한편, 본 명세서에 있어서 고형성분이란 용매 이외의 성분을 말한다.
여기서, 산발생제(C), 산가교제(G), 산확산제어제(E) 및 기타 성분(F)에 대해서는 공지인 것을 사용할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 국제공개 제2013/024778호에 기재되어 있는 것이 바람직하다.
[각 성분의 배합비율]
본 실시형태의 레지스트 조성물에 있어서, 레지스트기재로서 이용하는 화합물 및/또는 수지의 함유량은, 특별히 한정되지 않으나, 고형성분의 전체질량(레지스트기재, 산발생제(C), 산가교제(G), 산확산제어제(E) 및 기타 성분(F)(「임의성분(F)」이라고도 칭함) 등의 임의로 사용되는 성분을 포함하는 고형성분의 총합, 이하 동일)의 50~99.4질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 55~90질량%, 더욱 바람직하게는 60~80질량%, 특히 바람직하게는 60~70질량%이다. 상기 함유량의 경우, 해상도가 한층 향상되고, 라인엣지러프니스(LER)가 한층 작아진다.
한편, 레지스트기재로서 화합물과 수지의 양방을 함유하는 경우, 상기 함유량은, 양 성분의 합계량이다.
본 실시형태의 레지스트 조성물에 있어서, 레지스트기재(이하, 성분(A)이라고도 칭함), 산발생제(C), 산가교제(G), 산확산제어제(E), 임의성분(F)의 함유량(성분(A)/산발생제(C)/산가교제(G)/산확산제어제(E)/임의성분(F))은, 고형물 기준의 질량%로,
바람직하게는 50~99.4/0.001~49/0.5~49/0.001~49/0~49,
보다 바람직하게는 55~90/1~40/0.5~40/0.01~10/0~5,
더욱 바람직하게는 60~80/3~30/1~30/0.01~5/0~1,
특히 바람직하게는 60~70/10~25/2~20/0.01~3/0이다.
각 성분의 배합비율은, 그 총합이 100질량%가 되도록 각 범위로부터 선택된다. 상기 배합으로 하면, 감도, 해상도, 현상성 등의 성능이 우수하다.
본 실시형태의 레지스트 조성물은, 통상은, 사용시에 각 성분을 용매에 용해하여 균일용액으로 하고, 그 후, 필요에 따라, 예를 들어, 구멍직경 0.2μm 정도의 필터 등으로 여과함으로써 조제된다.
본 실시형태의 레지스트 조성물은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 본 실시형태의 수지 이외의 다른 수지를 포함할 수 있다. 해당 수지는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 노볼락 수지, 폴리비닐페놀류, 폴리아크릴산, 폴리비닐알코올, 스티렌-무수말레산 수지, 및 아크릴산, 비닐알코올, 또는 비닐페놀을 단량체 단위로서 포함하는 중합체 혹은 이들 유도체 등을 들 수 있다. 상기 수지의 함유량은, 특별히 한정되지 않고, 사용하는 성분(A)의 종류에 따라 적당히 조절되나, 성분(A) 100질량부에 대하여, 30질량부 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 10질량부 이하, 더욱 바람직하게는 5질량부 이하, 특히 바람직하게는 0질량부이다.
[레지스트 조성물의 물성 등]
본 실시형태의 레지스트 조성물은, 스핀코트에 의해 아몰퍼스막을 형성할 수 있다. 또한, 일반적인 반도체 제조 프로세스에 적용할 수 있다. 상기 식(1) 및/또는 식(2)로 표시되는 화합물, 이들을 모노머로 하여 얻어지는 수지의 종류 및/또는 이용하는 현상액의 종류에 따라, 포지티브형 레지스트 패턴 및 네거티브형 레지스트 패턴의 어느 하나를 구분하여 만들 수 있다.
포지티브형 레지스트 패턴의 경우, 본 실시형태의 레지스트 조성물을 스핀코트하여 형성한 아몰퍼스막의 23℃에서의 현상액에 대한 용해속도는, 5Å/sec 이하가 바람직하고, 0.05~5Å/sec가 보다 바람직하고, 0.0005~5Å/sec가 더욱 바람직하다. 해당 용해속도가 5Å/sec 이하이면 현상액에 불용이고, 레지스트로 할 수 있다. 또한, 0.0005Å/sec 이상의 용해속도를 가지면, 해상성이 향상되는 경우도 있다. 이는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물 및/또는 이 화합물을 구성성분으로서 포함하는 수지의 노광전후의 용해성의 변화에 따라, 현상액에 용해되는 노광부와, 현상액에 용해되지 않는 미노광부의 계면의 콘트라스트가 커지기 때문으로 추측된다. 또한 LER의 저감, 디펙트의 저감효과가 있다.
네거티브형 레지스트 패턴의 경우, 본 실시형태의 레지스트 조성물을 스핀코트하여 형성한 아몰퍼스막의 23℃에서의 현상액에 대한 용해속도는, 10Å/sec 이상인 것이 바람직하다. 해당 용해속도가 10Å/sec 이상이면 현상액에 이용이고, 레지스트에 한층 적합하다. 또한, 10Å/sec 이상의 용해속도를 가지면, 해상성이 향상되는 경우도 있다. 이는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물 및/또는 이 화합물을 구성성분으로서 포함하는 수지의 마이크로의 표면부위가 용해되고, LER이 저감되기 때문으로 추측된다. 또한 디펙트의 저감효과가 있다.
상기 용해속도는, 23℃에서, 아몰퍼스막을 소정시간 현상액에 침지시키고, 그 침지전후의 막두께를, 육안, 엘립소미터 또는 QCM법 등의 공지의 방법에 따라서 측정하고 결정할 수 있다.
포지티브형 레지스트 패턴의 경우, 본 실시형태의 레지스트 조성물을 스핀코트하여 형성한 아몰퍼스막의 KrF엑시머레이저, 극단자외선, 전자선 또는 X선 등의 방사선에 의해 노광한 부분의 23℃에서의 현상액에 대한 용해속도는, 10Å/sec 이상인 것이 바람직하다. 해당 용해속도가 10Å/sec 이상이면 현상액에 이용이고, 레지스트에 한층 적합하다. 또한, 10Å/sec 이상의 용해속도를 가지면, 해상성이 향상되는 경우도 있다. 이는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물 및/또는 이 화합물을 구성성분으로서 포함하는 수지의 마이크로의 표면부위가 용해되고, LER이 저감되기 때문으로 추측된다. 또한 디펙트의 저감효과가 있다.
네거티브형 레지스트 패턴의 경우, 본 실시형태의 레지스트 조성물을 스핀코트하여 형성한 아몰퍼스막의 KrF엑시머레이저, 극단자외선, 전자선 또는 X선 등의 방사선에 의해 노광한 부분의 23℃에서의 현상액에 대한 용해속도는, 5Å/sec 이하가 바람직하고, 0.05~5Å/sec가 보다 바람직하고, 0.0005~5Å가 더욱 바람직하다. 해당 용해속도가 5Å/sec 이하이면 현상액에 불용이고, 레지스트로 할 수 있다. 또한, 0.0005Å/sec 이상의 용해속도를 가지면, 해상성이 향상되는 경우도 있다. 이는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물 및/또는 이 화합물을 구성성분으로서 포함하는 수지의 노광전후의 용해성의 변화에 의해, 현상액에 용해되는 미노광부와, 현상액에 용해되지 않는 노광부의 계면의 콘트라스트가 커지기 때문으로 추측된다. 또한 LER의 저감, 디펙트의 저감효과가 있다.
[비화학증폭형 레지스트 용도용 리소그래피용 막형성 조성물]
본 실시형태의 비화학증폭형 레지스트 용도용 리소그래피용 막형성 조성물(이하, 감방사선성 조성물이라고도 칭함)에 함유시키는 성분(A)은, 후술하는 디아조나프토퀴논광활성 화합물(B)과 병용하고, g선, h선, i선, KrF엑시머레이저, ArF엑시머레이저, 극단자외선, 전자선 또는 X선을 조사함으로써, 현상액에 이용(易溶)인 화합물이 되는 포지티브형 레지스트용 기재로서 유용하다. g선, h선, i선, KrF엑시머레이저, ArF엑시머레이저, 극단자외선, 전자선 또는 X선에 의해, 성분(A)의 성질은 크게는 변화되지 않으나, 현상액에 난용인 디아조나프토퀴논광활성 화합물(B)이 이용인 화합물로 변화함으로써, 현상공정에 따라서 레지스트 패턴을 만들 수 있다.
본 실시형태의 감방사선성 조성물에 함유시키는 성분(A)은, 비교적 저분자량의 화합물인 점에서, 얻어진 레지스트 패턴의 러프니스는 매우 작다. 또한, 상기 식(1) 중, R0~R5로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1개가 요오드원자를 포함하는 기인 것이 바람직하고, 상기 식(2) 중, R0A, R1A 및 R2A로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1개가 요오드원자를 포함하는 기인 것이 바람직하다. 본 실시형태의 감방사선성 조성물은, 이러한 바람직한 태양인 요오드원자를 포함하는 기를 갖는 성분(A)을 적용한 경우는, 전자선, 극단자외선(EUV), X선 등의 방사선에 대한 흡수능을 증가시키고, 그 결과, 감도를 높이는 것이 가능해지고 바람직하다.
본 실시형태의 감방사선성 조성물에 함유시키는 성분(A)의 유리전이온도는, 바람직하게는 100℃ 이상, 보다 바람직하게는 120℃ 이상, 더욱 바람직하게는 140℃ 이상, 특히 바람직하게는 150℃ 이상이다. 성분(A)의 유리전이온도의 상한값은, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 400℃이다. 성분(A)의 유리전이온도가 상기 범위내임으로써, 반도체 리소그래피 프로세스에 있어서, 패턴형상을 유지할 수 있는 내열성을 갖고, 고해상도 등의 성능이 향상된다.
본 실시형태의 감방사선성 조성물에 함유시키는 성분(A)의 유리전이온도의 시차주사열량분석에 의해 구한 결정화 발열량은 20J/g 미만인 것이 바람직하다. 또한, (결정화온도)-(유리전이온도)는 바람직하게는 70℃ 이상, 보다 바람직하게는 80℃ 이상, 더욱 바람직하게는 100℃ 이상, 특히 바람직하게는 130℃ 이상이다. 결정화 발열량이 20J/g 미만, 또는 (결정화온도)-(유리전이온도)가 상기 범위내이면, 감방사선성 조성물을 스핀코트함으로써, 아몰퍼스막을 형성하기 쉽고, 또한 레지스트에 필요한 성막성이 장기에 걸쳐 유지 가능하고, 해상성을 향상할 수 있다.
본 실시형태에 있어서, 상기 결정화 발열량, 결정화온도 및 유리전이온도는, 시마즈제작소제 DSC/TA-50WS를 이용한 시차주사열량분석에 의해 구할 수 있다. 시료 약 10mg을 알루미늄제 비밀봉용기에 넣고, 질소가스기류중(50mL/분) 승온속도 20℃/분으로 융점이상까지 승온한다. 급랭후, 재차 질소가스기류중(30mL/분) 승온속도 20℃/분으로 융점이상까지 승온한다. 다시 급랭후, 재차 질소가스기류중(30mL/분) 승온속도 20℃/분으로 400℃까지 승온한다. 스텝형상으로 변화한 베이스라인의 단차의 중점(비열이 반으로 변화된 지점)의 온도를 유리전이온도(Tg), 그 후에 나타나는 발열피크의 온도를 결정화온도로 한다. 발열피크와 베이스라인으로 둘러싸인 영역의 면적으로부터 발열량을 구하고, 결정화 발열량으로 한다.
본 실시형태의 감방사선성 조성물에 함유시키는 성분(A)은, 상압하, 100 이하, 바람직하게는 120℃ 이하, 보다 바람직하게는 130℃ 이하, 더욱 바람직하게는 140℃ 이하, 특히 바람직하게는 150℃ 이하에 있어서, 승화성이 낮은 것이 바람직하다. 승화성이 낮다는 것은, 열중량분석에 있어서, 소정온도로 10분간 유지할 때의 중량감소가 10% 이하, 바람직하게는 5% 이하, 보다 바람직하게는 3% 이하, 더욱 바람직하게는 1% 이하, 특히 바람직하게는 0.1% 이하인 것을 나타낸다. 승화성이 낮음으로써, 노광시의 아웃가스에 의한 노광장치의 오염을 방지할 수 있다. 또한 저러프니스에서 양호한 패턴형상을 얻을 수 있다.
본 실시형태의 감방사선성 조성물에 함유시키는 성분(A)은, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA), 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME), 시클로헥사논(CHN), 시클로펜탄온(CPN), 2-헵타논, 아니솔, 아세트산부틸, 프로피온산에틸 및 유산에틸로부터 선택되고, 또한, 성분(A)에 대하여 가장 높은 용해능을 나타내는 용매에, 23℃에서, 바람직하게는 1질량% 이상, 보다 바람직하게는 5질량% 이상, 더욱 바람직하게는 10질량% 이상, 특히 바람직하게는, PGMEA, PGME, CHN으로부터 선택되고, 또한, (A)레지스트기재에 대하여 가장 높은 용해능을 나타내는 용매에, 23℃에서, 20질량% 이상, 특히 바람직하게는 PGMEA에 대하여, 23℃에서, 20질량% 이상 용해된다. 상기 조건을 만족시킴으로써, 실생산에서의 반도체 제조 공정에서의 사용이 가능해진다.
[디아조나프토퀴논광활성 화합물(B)]
본 실시형태의 감방사선성 조성물에 함유시키는 디아조나프토퀴논광활성 화합물(B)은, 폴리머성 및 비폴리머성 디아조나프토퀴논광활성 화합물을 포함하는, 디아조나프토퀴논물질이며, 일반적으로 포지티브형 레지스트 조성물에 있어서, 감광성 성분(감광제)으로서 이용되고 있는 것이면 특별히 제한없이, 1종 또는 2종 이상 임의로 선택하여 이용할 수 있다.
이러한 감광제로는, 나프토퀴논디아지드설폰산클로라이드나 벤조퀴논디아지드설폰산클로라이드 등과, 이들 산클로라이드와 축합반응가능한 관능기를 갖는 저분자 화합물 또는 고분자 화합물을 반응시킴으로써 얻어진 화합물이 바람직한 것이다. 여기서, 산클로라이드와 축합가능한 관능기로는, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 수산기, 아미노기 등을 들 수 있으나, 특히 수산기가 호적하다. 수산기를 포함하는 산클로라이드와 축합가능한 화합물로는, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어 하이드로퀴논, 레조르신, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2,3,4-트리하이드록시벤조페논, 2,4,6-트리하이드록시벤조페논, 2,4,4'-트리하이드록시벤조페논, 2,3,4,4'-테트라하이드록시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라하이드록시벤조페논, 2,2',3,4,6'-펜타하이드록시벤조페논 등의 하이드록시벤조페논류, 비스(2,4-디하이드록시페닐)메탄, 비스(2,3,4-트리하이드록시페닐)메탄, 비스(2,4-디하이드록시페닐)프로판 등의 하이드록시페닐알칸류, 4,4',3",4"-테트라하이드록시-3,5,3',5'-테트라메틸트리페닐메탄, 4,4',2",3",4"-펜타하이드록시-3,5,3',5'-테트라메틸트리페닐메탄 등의 하이드록시트리페닐메탄류 등을 들 수 있다.
또한, 나프토퀴논디아지드설폰산클로라이드나 벤조퀴논디아지드설폰산클로라이드 등의 산클로라이드로는, 예를 들어, 1,2-나프토퀴논디아지드-5-설포닐클로라이드, 1,2-나프토퀴논디아지드-4-설포닐클로라이드 등을 바람직한 것으로서 들 수 있다.
본 실시형태의 감방사선성 조성물은, 예를 들어, 사용시에 각 성분을 용매에 용해하여 균일용액으로 하고, 그 후, 필요에 따라, 예를 들어, 구멍직경 0.2μm 정도의 필터 등으로 여과함으로써 조제되는 것이 바람직하다.
[감방사선성 조성물의 특성]
본 실시형태의 감방사선성 조성물은, 스핀코트에 의해 아몰퍼스막을 형성할 수 있다. 또한, 일반적인 반도체 제조 프로세스에 적용할 수 있다. 이용하는 현상액의 종류에 따라서, 포지티브형 레지스트 패턴 및 네거티브형 레지스트 패턴의 어느 하나를 나누어 만들 수 있다.
포지티브형 레지스트 패턴의 경우, 본 실시형태의 감방사선성 조성물을 스핀코트하여 형성한 아몰퍼스막의 23℃에서의 현상액에 대한 용해속도는, 5Å/sec 이하가 바람직하고, 0.05~5Å/sec가 보다 바람직하고, 0.0005~5Å/sec가 더욱 바람직하다. 해당 용해속도가 5Å/sec 이하이면 현상액에 불용이고, 레지스트로 할 수 있다. 또한, 0.0005Å/sec 이상의 용해속도를 가지면, 해상성이 향상되는 경우도 있다. 이는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물 및/또는 이 화합물을 구성성분으로서 포함하는 수지의 노광전후의 용해성의 변화에 의해, 현상액에 용해되는 노광부와, 현상액에 용해되지 않는 미노광부의 계면의 콘트라스트가 커지기 때문으로 추측된다. 또한 LER의 저감, 디펙트의 저감효과가 있다.
네거티브형 레지스트 패턴의 경우, 본 실시형태의 감방사선성 조성물을 스핀코트하여 형성한 아몰퍼스막의 23℃에서의 현상액에 대한 용해속도는, 10Å/sec 이상인 것이 바람직하다. 해당 용해속도가 10Å/sec 이상이면 현상액에 이용이고, 레지스트에 한층 적합하다. 또한, 10Å/sec 이상의 용해속도를 가지면, 해상성이 향상되는 경우도 있다. 이는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물 및/또는 이 화합물을 구성성분으로서 포함하는 수지의 마이크로의 표면부위가 용해되고, LER이 저감되기 때문으로 추측된다. 또한 디펙트의 저감효과가 있다.
상기 용해속도는, 23℃에서, 아몰퍼스막을 소정시간 현상액에 침지시키고, 그 침지전후의 막두께를, 육안, 엘립소미터 또는 QCM법 등의 공지의 방법에 따라서 측정하고 결정할 수 있다.
포지티브형 레지스트 패턴의 경우, 본 실시형태의 감방사선성 조성물을 스핀코트하여 형성한 아몰퍼스막의 KrF엑시머레이저, 극단자외선, 전자선 또는 X선 등의 방사선에 의해 조사한 후, 또는, 20~500℃에서 가열한 후의 노광한 부분의, 23℃에서의 현상액에 대한 용해속도는, 10Å/sec 이상이 바람직하고, 10~10000Å/sec 가 보다 바람직하고, 100~1000Å/sec가 더욱 바람직하다. 해당 용해속도가 10Å/sec 이상이면 현상액에 이용이고, 레지스트에 한층 적합하다. 또한, 10000Å/sec 이하의 용해속도를 가지면, 해상성이 향상되는 경우도 있다. 이는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물 및/또는 이 화합물을 구성성분으로서 포함하는 수지의 마이크로의 표면부위가 용해되고, LER이 저감되기 때문으로 추측된다. 또한 디펙트의 저감효과가 있다.
네거티브형 레지스트 패턴의 경우, 본 실시형태의 감방사선성 조성물을 스핀코트하여 형성한 아몰퍼스막의 KrF엑시머레이저, 극단자외선, 전자선 또는 X선 등의 방사선에 의해 조사한 후, 또는, 20~500℃에서 가열한 후의 노광된 부분의, 23℃에서의 현상액에 대한 용해속도는, 5Å이하가 바람직하고, 0.05~5Å가 보다 바람직하고, 0.0005~5Å가 더욱 바람직하다. 해당 용해속도가 5Å 이하이면 현상액에 불용이고, 레지스트로 할 수 있다. 또한, 0.0005Å이상의 용해속도를 가지면, 해상성이 향상되는 경우도 있다. 이는, 상기 식(1)로 표시되는 화합물 및/또는 이 화합물을 구성성분으로서 포함하는 수지의 노광전후의 용해성의 변화에 의해, 현상액에 용해되는 미노광부와, 현상액에 용해되지 않는 노광부의 계면의 콘트라스트가 커지기 때문으로 추측된다. 또한 LER의 저감, 디펙트의 저감효과가 있다.
[각 성분의 배합비율]
본 실시형태의 감방사선성 조성물에 있어서, 성분(A)의 함유량은, 고형성분 전체중량(성분(A), 디아조나프토퀴논광활성 화합물(B) 및 기타 성분(D) 등의 임의로 사용되는 고형성분의 총합, 이하 동일)에 대하여, 바람직하게는 1~99질량%이며, 보다 바람직하게는 5~95질량%, 더욱 바람직하게는 10~90질량%, 특히 바람직하게는 25~75질량%이다. 본 실시형태의 감방사선성 조성물은, 성분(A)의 함유량이 상기 범위내이면, 고감도이고 러프니스가 작은 패턴을 얻을 수 있다.
본 실시형태의 감방사선성 조성물에 있어서, 디아조나프토퀴논광활성 화합물(B)의 함유량은, 고형성분 전체중량(성분(A), 디아조나프토퀴논광활성 화합물(B) 및 기타 성분(D) 등의 임의로 사용되는 고형성분의 총합, 이하 동일)에 대하여, 바람직하게는 1~99질량%이며, 보다 바람직하게는 5~95질량%, 더욱 바람직하게는 10~90질량%, 특히 바람직하게는 25~75질량%이다. 본 실시의 형태의 감방사선성 조성물은, 디아조나프토퀴논광활성 화합물(B)의 함유량이 상기 범위내이면, 고감도이고 러프니스가 작은 패턴을 얻을 수 있다.
[기타 성분(D)]
본 실시형태의 감방사선성 조성물에는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 필요에 따라, 성분(A) 및 디아조나프토퀴논광활성 화합물(B) 이외의 성분으로서, 산발생제, 산가교제, 산확산제어제, 용해촉진제, 용해제어제, 증감제, 계면활성제, 유기카르본산 또는 인의 옥소산 혹은 그 유도체 등의 각종 첨가제를 1종 또는 2종 이상 첨가할 수 있다. 한편, 본 명세서에 있어서, 기타 성분(D)을 임의성분(D)이라고 하기도 한다.
본 실시형태의 감방사선성 조성물에 있어서, 각 성분의 배합비율(성분(A)/디아조나프토퀴논광활성 화합물(B)/임의성분(D))은, 고형성분기준의 질량%로,
바람직하게는 1~99/99~1/0~98,
보다 바람직하게는 5~95/95~5/0~49,
더욱 바람직하게는 10~90/90~10/0~10,
특히 바람직하게는 20~80/80~20/0~5,
가장 바람직하게는 25~75/75~25/0이다.
각 성분의 배합비율은, 그 총합이 100질량%가 되도록 각 범위로부터 선택된다. 본 실시형태의 감방사선성 조성물은, 각 성분의 배합비율을 상기 범위로 하면, 러프니스에 더하여, 감도, 해상도 등의 성능이 우수하다.
본 실시형태의 감방사선성 조성물은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 본 실시형태 이외의 수지를 포함할 수도 있다. 이러한 수지로는, 노볼락 수지, 폴리비닐페놀류, 폴리아크릴산, 폴리비닐알코올, 스티렌-무수말레산 수지, 및 아크릴산, 비닐알코올, 또는 비닐페놀을 단량체단위로서 포함하는 중합체 혹은 이들 유도체 등을 들 수 있다. 이들 수지의 배합량은, 사용하는 성분(A)의 종류에 따라 적당히 조절되나, 성분(A) 100질량부에 대하여, 30질량부 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 10질량부 이하, 더욱 바람직하게는 5질량부 이하, 특히 바람직하게는 0질량부이다.
[레지스트 패턴의 형성방법]
본 실시형태에 의한 레지스트 패턴의 형성방법은, 상기 서술한 본 실시형태의 레지스트 조성물 또는 감방사선성 조성물을 이용하여 기판 상에 레지스트막을 형성하는 공정과, 형성된 레지스트막을 노광하는 공정과, 상기 레지스트막을 현상하여 레지스트 패턴을 형성하는 공정을 구비한다. 본 실시형태에서의 레지스트 패턴은 다층 프로세스에서의 상층 레지스트로서 형성할 수도 있다.
레지스트 패턴을 형성하는 방법으로는, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 이하의 방법을 들 수 있다. 우선, 종래 공지의 기판 상에 상기 본 실시형태의 레지스트 조성물 또는 감방사선성 조성물을, 회전도포, 유연도포, 롤도포 등의 도포수단에 의해 도포함으로써 레지스트막을 형성한다. 종래 공지의 기판이란, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 전자부품용의 기판이나, 이것에 소정의 배선패턴이 형성된 것 등을 예표할 수 있다. 보다 구체적으로는, 실리콘웨이퍼, 구리, 크롬, 철, 알루미늄 등의 금속제의 기판이나, 유리기판 등을 들 수 있다. 배선패턴의 재료로는, 예를 들어 구리, 알루미늄, 니켈, 금 등을 들 수 있다. 또한, 필요에 따라, 상기 서술한 기판 상에 무기계 및/또는 유기계의 막이 마련된 것일 수도 있다. 무기계의 막으로는, 무기반사방지막(무기BARC)을 들 수 있다. 유기계의 막으로는, 유기반사방지막(유기BARC)을 들 수 있다. 헥사메틸렌디실라잔 등에 의한 표면처리를 행할 수도 있다.
이어서, 필요에 따라, 도포한 기판을 가열한다. 가열조건은, 레지스트 조성물의 배합조성 등에 따라 변하는데, 20~250℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 20~150℃이다. 가열함으로써, 레지스트의 기판에 대한 밀착성이 향상되는 경우가 있으므로 바람직하다. 이어서, 가시광선, 자외선, 엑시머레이저, 전자선, 극단자외선(EUV), X선, 및 이온빔으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방사선에 의해, 레지스트막을 원하는 패턴으로 노광한다. 노광조건 등은, 레지스트 조성물 또는 감방사선성 조성물의 배합조성 등에 따라 적당히 선정된다. 본 실시형태에 있어서는, 노광에 있어서의 고정밀도의 미세패턴을 안정적으로 형성하기 위해, 방사선조사 후에 가열하는 것이 바람직하다. 가열조건은, 레지스트 조성물 또는 감방사선성 조성물의 배합조성 등에 따라 변하는데, 20~250℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 20~150℃이다.
다음에, 노광된 레지스트막을 현상액으로 현상함으로써, 소정의 레지스트 패턴을 형성한다. 상기 현상액으로는, 사용하는 식(1) 혹은 식(2)로 표시되는 화합물 또는 식(1) 혹은 식(2)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지에 대하여 용해도 파라미터(SP값)가 가까운 용제를 선택하는 것이 바람직하고, 케톤계 용제, 에스테르계 용제, 알코올계 용제, 아미드계 용제, 에테르계 용제 등의 극성 용제, 탄화수소계 용제 또는 알칼리수용액을 이용할 수 있다.
케톤계 용제로는, 예를 들어, 1-옥타논, 2-옥타논, 1-노나논, 2-노나논, 아세톤, 4-헵타논, 1-헥사논, 2-헥사논, 디이소부틸케톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논, 페닐아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세틸아세톤, 아세토닐아세톤, 이오논, 디아세토닐알코올, 아세틸카비놀, 아세토페논, 메틸나프틸케톤, 이소포론, 프로필렌카보네이트 등을 들 수 있다.
에스테르계 용제로는, 예를 들어, 아세트산메틸, 아세트산부틸, 아세트산에틸, 아세트산이소프로필, 아세트산아밀, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸-3-에톡시프로피오네이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 포름산메틸, 포름산에틸, 포름산부틸, 포름산프로필, 유산에틸, 유산부틸, 유산프로필 등을 들 수 있다.
알코올계 용제로는, 예를 들어, 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올(2-프로판올), n-부틸알코올, sec-부틸알코올, tert-부틸알코올, 이소부틸알코올, n-헥실알코올, 4-메틸-2-펜탄올, n-헵틸알코올, n-옥틸알코올, n-데칸올 등의 알코올이나, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜 등의 글리콜계 용제나, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 메톡시메틸부탄올 등의 글리콜에테르계 용제 등을 들 수 있다.
에테르계 용제로는, 예를 들어, 상기 글리콜에테르계 용제 이외에, 디옥산, 테트라하이드로푸란 등을 들 수 있다.
아미드계 용제로는, 예를 들어, N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, 헥사메틸포스포릭트리아미드, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논 등을 사용할 수 있다.
탄화수소계 용제로는, 예를 들어, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소계 용제, 펜탄, 헥산, 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소계 용제를 들 수 있다.
상기 서술한 용제는, 복수 혼합할 수도 있고, 성능을 갖는 범위내에서, 상기 이외의 용제나 물과 혼합하여 사용할 수도 있다. 단, 본 발명의 효과를 십이분 나타내기 위해서는, 현상액 전체로서의 함수율이 70질량% 미만이고, 50질량% 미만인 것이 바람직하고, 30질량% 미만인 것이 보다 바람직하고, 10질량% 미만인 것이 더욱 바람직하고, 실질적으로 수분을 함유하지 않는 것이 특히 바람직하다. 즉, 현상액에 대한 유기용제의 함유량은, 현상액의 전량에 대하여, 30질량% 이상 100질량% 이하이며, 50질량% 이상 100질량% 이하인 것이 바람직하고, 70질량% 이상 100질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 90질량% 이상 100질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 95질량% 이상 100질량% 이하인 것이 특히 바람직하다.
알칼리수용액으로는, 예를 들어, 모노-, 디- 혹은 트리알킬아민류, 모노-, 디- 혹은 트리알칸올아민류, 복소환식 아민류, 테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH), 콜린 등의 알칼리성 화합물을 들 수 있다.
특히, 현상액은, 케톤계 용제, 에스테르계 용제, 알코올계 용제, 아미드계 용제 및 에테르계 용제로부터 선택되는 적어도 1종류의 용제를 함유하는 현상액이, 레지스트 패턴의 해상성이나 러프니스 등의 레지스트성능을 개선하므로 바람직하다.
현상액의 증기압은, 20℃에 있어서, 5kPa 이하가 바람직하고, 3kPa 이하가 더욱 바람직하고, 2kPa 이하가 특히 바람직하다. 현상액의 증기압을 5kPa 이하로 함으로써, 현상액의 기판상 혹은 현상컵 내에서의 증발이 억제되어, 웨이퍼면내의 온도균일성이 향상되고, 결과적으로 웨이퍼면내의 치수균일성이 양화된다.
5kPa 이하의 증기압을 갖는 구체적인 예로는, 1-옥타논, 2-옥타논, 1-노나논, 2-노나논, 4-헵타논, 2-헥사논, 디이소부틸케톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논, 페닐아세톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제, 아세트산부틸, 아세트산아밀, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸-3-에톡시프로피오네이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 포름산부틸, 포름산프로필, 유산에틸, 유산부틸, 유산프로필등의 에스테르계 용제, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, sec-부틸알코올, tert-부틸알코올, 이소부틸알코올, n-헥실알코올, 4-메틸-2-펜탄올, n-헵틸알코올, n-옥틸알코올, n-데칸올등의 알코올계 용제, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜 등의 글리콜계 용제나, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 메톡시메틸부탄올등의 글리콜에테르계 용제, 테트라하이드로푸란 등의 에테르계 용제, N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드의 아미드계 용제, 톨루엔, 자일렌등의 방향족 탄화수소계 용제, 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소계 용제를 들 수 있다.
특히 바람직한 범위인 2kPa 이하의 증기압을 갖는 구체적인 예로는, 1-옥타논, 2-옥타논, 1-노나논, 2-노나논, 4-헵타논, 2-헥사논, 디이소부틸케톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논, 페닐아세톤 등의 케톤계 용제, 아세트산부틸, 아세트산아밀, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸-3-에톡시프로피오네이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 유산에틸, 유산부틸, 유산프로필 등의 에스테르계 용제, n-부틸알코올, sec-부틸알코올, tert-부틸알코올, 이소부틸알코올, n-헥실알코올, 4-메틸-2-펜탄올, n-헵틸알코올, n-옥틸알코올, n-데칸올 등의 알코올계 용제, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜 등의 글리콜계 용제나, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 메톡시메틸부탄올등의 글리콜에테르계 용제, N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드의 아미드계 용제, 자일렌 등의 방향족 탄화수소계 용제, 옥탄, 데칸등의 지방족 탄화수소계 용제를 들 수 있다.
현상액에는, 필요에 따라 계면활성제를 적당량 첨가할 수 있다.
계면활성제로는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 이온성이나 비이온성의 불소계 및/또는 실리콘계 계면활성제 등을 이용할 수 있다. 이들 불소 및/또는 실리콘계 계면활성제로서, 예를 들어, 일본특허공개 S62-36663호 공보, 일본특허공개 S61-226746호 공보, 일본특허공개 S61-226745호 공보, 일본특허공개 S62-170950호 공보, 일본특허공개 S63-34540호 공보, 일본특허공개 H7-230165호 공보, 일본특허공개 H8-62834호 공보, 일본특허공개 H9-54432호 공보, 일본특허공개 H9-5988호 공보, 미국특허 제5405720호 명세서, 동(同) 제5360692호 명세서, 동 제5529881호 명세서, 동 제5296330호 명세서, 동 제5436098호 명세서, 동 제5576143호 명세서, 동 제5294511호 명세서, 동 제5824451호 명세서에 기재된 계면활성제를 들 수 있고, 바람직하게는, 비이온성의 계면활성제이다. 비이온성의 계면활성제로는 특별히 한정되지 않으나, 불소계 계면활성제 또는 실리콘계 계면활성제를 이용하는 것이 더욱 바람직하다.
계면활성제의 사용량은 현상액의 전량에 대하여, 통상 0.001~5질량%, 바람직하게는 0.005~2질량%, 더욱 바람직하게는 0.01~0.5질량%이다.
현상방법으로는, 예를 들어, 현상액이 채워진 조중에 기판을 일정시간 침지하는 방법(딥법), 기판표면에 현상액을 표면장력에 의해 고조시켜 일정시간 정지(靜止)함으로써 현상하는 방법(패들법), 기판표면에 현상액을 분무하는 방법(스프레이법), 일정속도로 회전하고 있는 기판 상에 일정속도로 현상액 도출 노즐을 스캔하면서 현상액을 계속 도출하는 방법(다이나믹디스펜스법) 등을 적용할 수 있다. 패턴의 현상을 행하는 시간에는 특별히 제한은 없으나, 바람직하게는 10초~90초이다.
또한, 현상을 행하는 공정 후에, 다른 용매로 치환하면서, 현상을 정지하는 공정을 실시할 수도 있다.
현상 후에는, 유기용제를 포함하는 린스액을 이용하여 세정하는 공정을 포함하는 것이 바람직하다.
현상후의 린스공정에 이용하는 린스액으로는, 가교에 의해 경화된 레지스트 패턴을 용해하지 않는다면 특별히 제한은 없고, 일반적인 유기용제를 포함하는 용액 또는 물을 사용할 수 있다. 상기 린스액으로는, 탄화수소계 용제, 케톤계 용제, 에스테르계 용제, 알코올계 용제, 아미드계 용제 및 에테르계 용제로부터 선택되는 적어도 1종류의 유기용제를 함유하는 린스액을 이용하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 현상 후에, 케톤계 용제, 에스테르계 용제, 알코올계 용제, 아미드계 용제로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종류의 유기용제를 함유하는 린스액을 이용하여 세정하는 공정을 행한다. 더욱더 바람직하게는, 현상 후에, 알코올계 용제 또는 에스테르계 용제를 함유하는 린스액을 이용하여 세정하는 공정을 행한다. 더욱더 바람직하게는, 현상 후에, 1가 알코올을 함유하는 린스액을 이용하여 세정하는 공정을 행한다. 특히 바람직하게는, 현상 후에, 탄소수 5 이상의 1가 알코올을 함유하는 린스액을 이용하여 세정하는 공정을 행한다. 패턴의 린스를 행하는 시간에는 특별히 제한은 없으나, 바람직하게는 10초~90초이다.
여기서, 현상후의 린스공정에서 이용되는 1가 알코올로는, 직쇄상, 분지상, 환상의 1가알코올을 들 수 있고, 구체적으로는, 1-부탄올, 2-부탄올, 3-메틸-1-부탄올, tert-부틸알코올, 1-펜탄올, 2-펜탄올, 1-헥산올, 4-메틸-2-펜탄올, 1-헵탄올, 1-옥탄올, 2-헥산올, 시클로펜탄올, 2-헵탄올, 2-옥탄올, 3-헥산올, 3-헵탄올, 3-옥탄올, 4-옥탄올 등을 이용할 수 있고, 특히 바람직한 탄소수 5 이상의 1가 알코올로는, 1-헥산올, 2-헥산올, 4-메틸-2-펜탄올, 1-펜탄올, 3-메틸-1-부탄올 등을 이용할 수 있다.
상기 각 성분은, 복수 혼합할 수도 있고, 상기 이외의 유기용제와 혼합하여 사용할 수도 있다.
린스액 중의 함수율은, 10질량% 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 5질량% 이하, 특히 바람직하게는 3질량% 이하이다. 함수율을 10질량% 이하로 함으로써, 보다 양호한 현상특성을 얻을 수 있다.
현상 후에 이용하는 린스액의 증기압은, 20℃에 있어서 0.05kPa 이상, 5kPa 이하가 바람직하고, 0.1kPa 이상, 5kPa 이하가 더욱 바람직하고, 0.12kPa 이상, 3kPa 이하가 가장 바람직하다. 린스액의 증기압을 0.05kPa 이상, 5kPa 이하로 함으로써, 웨이퍼면내의 온도균일성이 보다 향상되고, 더 나아가 린스액의 침투에 기인한 팽윤이 보다 억제되어, 웨이퍼면내의 치수균일성이 보다 양화된다.
린스액에는, 계면활성제를 적당량 첨가하여 사용할 수도 있다.
린스공정에 있어서는, 현상을 행한 웨이퍼를 상기 서술한 유기용제를 포함하는 린스액을 이용하여 세정처리한다. 세정처리의 방법은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 일정속도로 회전하고 있는 기판 상에 린스액을 계속 도출하는 방법(회전도포법), 린스액이 채워진 조중에 기판을 일정시간 침지하는 방법(딥법), 기판표면에 린스액을 분무하는 방법(스프레이법), 등을 적용할 수 있고, 이 중에서도 회전도포방법으로 세정처리를 행하고, 세정후에 기판을 2000rpm~4000rpm의 회전수로 회전시켜, 린스액을 기판상으로부터 제거하는 것이 바람직하다.
레지스트 패턴을 형성한 후, 에칭함으로써 패턴배선기판이 얻어진다. 에칭의 방법은 플라즈마가스를 사용하는 드라이에칭 및 알칼리용액, 염화제이구리용액, 염화제이철용액 등에 의한 웨트에칭 등 공지의 방법으로 행할 수 있다.
레지스트 패턴을 형성한 후, 도금을 행할 수도 있다. 상기 도금법으로는, 예를 들어, 구리도금, 땜납도금, 니켈도금, 금도금 등이 있다.
에칭후의 잔존 레지스트 패턴은 유기용제로 박리할 수 있다. 상기 유기용제로서, PGMEA(프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트), PGME(프로필렌글리콜모노메틸에테르), EL(유산에틸) 등을 들 수 있다. 상기 박리방법으로는, 예를 들어, 침지방법, 스프레이방식 등을 들 수 있다. 또한, 레지스트 패턴이 형성된 배선기판은, 다층 배선기판일 수도 있고, 소경 스루홀을 가질 수도 있다.
본 실시형태에 있어서 얻어지는 배선기판은, 레지스트 패턴 형성후, 금속을 진공 중에서 증착하고, 그 후 레지스트 패턴을 용액으로 녹이는 방법, 즉 리프트오프법에 의해 형성할 수도 있다.
[하층막 용도용 리소그래피용 막형성 조성물]
본 실시형태의 하층막 용도용 리소그래피용 막형성 조성물(이하, 하층막 형성재료라고도 칭함)은, 상기 식(1)로 표시되는 화합물, 상기 식(1)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지, 식(2)로 표시되는 화합물 및 식(2)로 표시되는 화합물을 모노머로 하여 얻어지는 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 물질을 함유한다. 본 실시형태에 있어서 상기 물질은 도포성 및 품질안정성의 점에서, 하층막 형성재료 중, 1~100질량%인 것이 바람직하고, 10~100질량%인 것이 보다 바람직하고, 50~100질량%인 것이 더욱 바람직하고, 100질량%인 것이 특히 바람직하다.
본 실시형태의 하층막 형성재료는, 습식 프로세스로의 적용이 가능하며, 내열성 및 에칭내성이 우수하다. 또한, 본 실시형태의 하층막 형성재료는 상기 물질을 이용하고 있으므로, 고온베이크시의 막의 열화가 억제되어, 산소플라즈마 에칭 등에 대한 에칭내성도 우수한 하층막을 형성할 수 있다. 나아가, 본 실시형태의 하층막 형성재료는 레지스트층과의 밀착성도 우수하므로, 우수한 레지스트 패턴을 얻을 수 있다. 한편, 본 실시형태의 하층막 형성재료는, 본 발명의 효과가 손상되지 않는 범위에 있어서, 이미 알려져 있는 리소그래피용 하층막 형성재료 등을 포함하고 있을 수도 있다.
[용매]
본 실시형태의 하층막 형성재료는, 용매를 함유할 수도 있다. 본 실시형태의 하층막 형성재료에 이용되는 용매로는, 상기 서술한 물질이 적어도 용해되는 것이면, 공지의 것을 적당히 이용할 수 있다.
용매의 구체예로는, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤계 용매; 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 셀로솔브계 용매; 유산에틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산아소아밀, 유산에틸, 메톡시프로피온산메틸, 하이드록시이소부티르산메틸 등의 에스테르계 용매; 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 1-에톡시-2-프로판올 등의 알코올계 용매; 톨루엔, 자일렌, 아니솔 등의 방향족계 탄화수소 등을 들 수 있다. 이들 용매는, 1종을 단독으로, 혹은 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
상기 용매 중에서, 안전성의 점에서, 시클로헥사논, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 유산에틸, 하이드록시이소부티르산메틸, 아니솔이 특히 바람직하다.
용매의 함유량은, 특별히 한정되지 않으나, 용해성 및 제막상의 관점에서, 상기 하층막 형성재료 100질량부에 대하여, 100~10,000질량부인 것이 바람직하고, 200~5,000질량부인 것이 보다 바람직하고, 200~1,000질량부인 것이 더욱 바람직하다.
[가교제]
본 실시형태의 하층막 형성재료는, 인터믹싱을 억제하는 등의 관점에서, 필요에 따라 가교제를 함유하고 있을 수도 있다. 본 실시형태에서 사용가능한 가교제는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 국제공개 제2013/024779호에 기재된 것을 이용할 수 있다.
본 실시형태의 하층막 형성재료에 있어서, 가교제의 함유량은, 특별히 한정되지 않으나, 하층막 형성재료 100질량부에 대하여, 5~50질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10~40질량부이다. 상기 서술한 바람직한 범위로 함으로써, 레지스트층과의 믹싱현상의 발생이 억제되는 경향이 있으며, 또한, 반사방지효과가 높아지고, 가교후의 막형성성이 높아지는 경향이 있다.
[산발생제]
본 실시형태의 하층막 형성재료는, 열에 의한 가교반응을 더욱 촉진시키는 등의 관점에서, 필요에 따라 산발생제를 함유하고 있을 수도 있다. 산발생제로는, 열분해에 의해 산을 발생하는 것, 광조사에 의해 산을 발생하는 것 등이 알려져 있는데, 어떠한 것이나 사용할 수 있다. 예를 들어, 국제공개 제2013/024779호에 기재된 것을 이용할 수 있다.
본 실시형태의 하층막 형성재료에 있어서, 산발생제의 함유량은, 특별히 한정되지 않으나, 하층막 형성재료 100질량부에 대하여, 0.1~50질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5~40질량부이다. 상기 서술한 바람직한 범위로 함으로써, 산발생량이 많아져 가교반응이 높아지는 경향이 있고, 또한, 레지스트층과의 믹싱현상의 발생이 억제되는 경향이 있다.
[염기성 화합물]
나아가, 본 실시형태의 하층막 형성재료는, 보존안정성을 향상시키는 등의 관점에서, 염기성 화합물을 함유하고 있을 수도 있다.
염기성 화합물은, 산발생제로부터 미량으로 발생한 산이 가교반응을 진행시키는 것을 방지하기 위한, 산에 대한 ?차의 역할을 한다. 이러한 염기성 화합물로는, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 국제공개 제2013/024779호에 기재된 것을 들 수 있다.
본 실시형태에 있어서의 하층막 형성재료에 있어서, 염기성 화합물의 함유량은, 특별히 한정되지 않으나, 하층막 형성재료 100질량부에 대하여, 0.001~2질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.01~1질량부이다. 상기 서술한 바람직한 범위로 함으로써, 가교반응을 과도하게 손상시키는 일 없이 보존안정성이 높아지는 경향이 있다.
[기타 첨가제]
또한, 본 실시형태에 있어서의 하층막 형성재료는, 열경화성의 부여나 흡광도를 컨트롤하는 목적으로, 다른 수지 및/또는 화합물을 함유하고 있을 수도 있다. 이러한 다른 수지 및/또는 화합물로는, 나프톨 수지, 자일렌 수지 나프톨변성 수지, 나프탈렌 수지의 페놀변성 수지, 폴리하이드록시스티렌, 디시클로펜타디엔수지, (메트)아크릴레이트, 디메타크릴레이트, 트리메타크릴레이트, 테트라메타크릴레이트, 비닐나프탈렌, 폴리아세나프틸렌 등의 나프탈렌환, 페난트렌퀴논, 플루오렌 등의 비페닐환, 티오펜, 인덴 등의 헤테로원자를 갖는 복소환을 포함하는 수지나 방향족 환을 포함하지 않는 수지; 로진계 수지, 시클로덱스트린, 아다만탄(폴리)올, 트리시클로데칸(폴리)올 및 이들 유도체 등의 지환구조를 포함하는 수지 또는 화합물 등을 들 수 있는데, 이것들로 특별히 한정되지 않는다. 나아가, 본 실시형태에 있어서의 하층막 형성재료는, 공지의 첨가제를 함유하고 있을 수도 있다. 상기 공지의 첨가제로는, 이하로 한정되지 않으나, 예를 들어, 자외선흡수제, 계면활성제, 착색제, 비이온계 계면활성제 등을 들 수 있다.
[리소그래피용 하층막 및 다층 레지스트 패턴의 형성방법]
본 실시형태에 있어서의 리소그래피용 하층막은, 상기 하층막 형성재료로부터 형성된다.
또한, 본 실시형태의 패턴 형성방법은, 기판 상에, 본 실시형태의 하층막 형성재료를 이용하여 하층막을 형성하는 공정(A-1)과, 상기 하층막 상에, 적어도 1층의 포토레지스트층을 형성하는 공정(A-2)과, 상기 제2의 형성공정 후, 상기 포토레지스트층의 소정의 영역에 방사선을 조사하고, 현상을 행하는 공정(A-3)을 갖는다.
나아가, 본 실시형태의 다른 패턴 형성방법은, 기판 상에, 본 실시형태의 하층막 형성재료를 이용하여 하층막을 형성하는 공정(B-1)과, 상기 하층막 상에, 규소원자를 함유하는 레지스트 중간층막 재료를 이용하여 중간층막을 형성하는 공정(B-2)과, 상기 중간층막 상에, 적어도 1층의 포토레지스트층을 형성하는 공정(B-3)과, 상기 공정(B-3) 후, 상기 포토레지스트층의 소정의 영역에 방사선을 조사하고, 현상하여 레지스트 패턴을 형성하는 공정(B-4)과, 상기 공정(B-4) 후, 상기 레지스트 패턴을 마스크로 하여 상기 중간층막을 에칭하고, 얻어진 중간층막 패턴을 에칭마스크로 하여 상기 하층막을 에칭하고, 얻어진 하층막 패턴을 에칭마스크로 하여 기판을 에칭함으로써 기판에 패턴을 형성하는 공정(B-5)을 갖는다.
본 실시형태에 있어서의 리소그래피용 하층막은, 본 실시형태의 하층막 형성재료로부터 형성되는 것이면, 그 형성방법은 특별히 한정되지 않고, 공지의 수법을 적용할 수 있다. 예를 들어, 본 실시형태의 하층막 재료를 스핀코트나 스크린인쇄 등의 공지의 도포법 혹은 인쇄법 등으로 기판 상에 부여한 후, 유기용매를 휘발시키거나 하여 제거함으로써, 하층막을 형성할 수 있다.
하층막의 형성시에는, 상층 레지스트의 믹싱현상의 발생을 억제함과 함께 가교반응을 촉진시키기 위해, 베이크를 하는 것이 바람직하다. 이 경우, 베이크온도는, 특별히 한정되지 않으나, 80~450℃의 범위내인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 200~400℃이다. 또한, 베이크시간도, 특별히 한정되지 않으나, 10~300초의 범위내인 것이 바람직하다. 한편, 하층막의 두께는, 요구성능에 따라 적당히 선정할 수 있고, 특별히 한정되지 않으나, 통상, 30~20,000nm 정도인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50~15,000nm로 하는 것이 바람직하다.
하층막을 제작한 후, 2층 프로세스의 경우는 그 위에 규소함유 레지스트층, 혹은 통상의 탄화수소로 이루어지는 단층 레지스트, 3층 프로세스의 경우는 그 위에 규소함유 중간층, 다시 그 위에 규소를 포함하지 않는 단층 레지스트층을 제작하는 것이 바람직하다. 이 경우, 이 레지스트층을 형성하기 위한 포토레지스트 재료로는 공지의 것을 사용할 수 있다.
기판 상에 하층막을 제작한 후, 2층 프로세스의 경우는 그 하층막 상에 규소함유 레지스트층 혹은 통상의 탄화수소로 이루어지는 단층 레지스트를 제작할 수 있다. 3층 프로세스의 경우는 그 하층막 상에 규소함유 중간층, 다시 그 규소함유 중간층상에 규소를 포함하지 않는 단층 레지스트층을 제작할 수 있다. 이들 경우에 있어서, 레지스트층을 형성하기 위한 포토레지스트 재료는, 공지의 것으로부터 적당히 선택하여 사용할 수 있으며, 특별히 한정되지 않는다.
2층 프로세스용 규소함유 레지스트 재료로는, 산소가스 에칭내성의 관점에서, 베이스폴리머로서 폴리실세스퀴옥산 유도체 또는 비닐실란 유도체 등의 규소원자함유 폴리머를 사용하고, 나아가 유기용매, 산발생제, 필요에 따라 염기성 화합물 등을 포함하는 포지티브형의 포토레지스트 재료가 바람직하게 이용된다. 여기서 규소원자함유 폴리머로는, 이러한 종류의 레지스트 재료에 있어서 이용되고 있는 공지의 폴리머를 사용할 수 있다.
3층 프로세스용의 규소함유 중간층으로는 폴리실세스퀴옥산 베이스의 중간층이 바람직하게 이용된다. 중간층에 반사방지막으로서 효과를 갖게 함으로써, 효과적으로 반사를 억제할 수 있는 경향이 있다. 예를 들어, 193nm 노광용 프로세스에 있어서, 하층막으로서 방향족기를 많이 포함하고 기판에칭내성이 높은 재료를 이용하면, k값이 높아지고, 기판반사가 높아지는 경향이 있는데, 중간층에서 반사를 억제함으로써, 기판반사를 0.5% 이하로 할 수 있다. 이러한 반사방지효과가 있는 중간층으로는, 이하로 한정되지 않으나, 193nm 노광용으로는 페닐기 또는 규소-규소 결합을 갖는 흡광기가 도입된, 산 혹은 열로 가교하는 폴리실세스퀴옥산이 바람직하게 이용된다.
또한, Chemical Vapour Deposition(CVD)법으로 형성한 중간층을 이용할 수도 있다. CVD법으로 제작한 반사방지막으로서의 효과가 높은 중간층으로는, 이하로 한정되지 않으나, 예를 들어, SiON막이 알려져 있다. 일반적으로는, CVD법보다 스핀코트법이나 스크린인쇄 등의 습식 프로세스에 의한 중간층의 형성이, 간편하고 비용적인 메리트가 있다. 한편, 3층 프로세스에 있어서의 상층레지스트는, 포지티브형이나 네거티브형 중 어느 것이어도 되고, 또한, 통상 이용되고 있는 단층레지스트와 동일한 것을 이용할 수 있다.
나아가, 본 실시형태에 있어서의 하층막은, 통상의 단층레지스트용 반사방지막 혹은 패턴무너짐 억제를 위한 하지재로서 이용할 수도 있다. 본 실시형태의 하층막은, 하지가공을 위한 에칭내성이 우수하므로, 하지가공을 위한 하드마스크로서의 기능도 기대할 수 있다.
상기 포토레지스트 재료에 의해 레지스트층을 형성하는 경우에 있어서는, 상기 하층막을 형성하는 경우와 마찬가지로, 스핀코트법이나 스크린인쇄 등의 습식 프로세스가 바람직하게 이용된다. 또한, 레지스트 재료를 스핀코트법 등으로 도포한 후, 통상, 프리베이크가 행해지는데, 이 프리베이크는, 80~180℃에서 10~300초의 범위에서 행하는 것이 바람직하다. 그 후, 상법에 의해, 노광을 행하고, 포스트익스포저베이크(PEB), 현상을 행함으로써, 레지스트 패턴을 얻을 수 있다. 한편, 레지스트막의 두께는 특별히 제한되지 않으나, 일반적으로는, 30~500nm이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50~400nm이다.
또한, 노광광은, 사용하는 포토레지스트 재료에 따라 적당히 선택하여 이용하면 된다. 일반적으로는, 파장 300nm 이하의 고에너지선, 구체적으로는 248nm, 193nm, 157nm의 엑시머레이저, 3~20nm의 연X선, 전자빔, X선 등을 들 수 있다.
상기 서술한 방법에 의해 형성되는 레지스트 패턴은, 본 실시형태에 있어서의 하층막에 의해 패턴무너짐이 억제된 것이 된다. 그러므로, 본 실시형태에 있어서의 하층막을 이용함으로써, 보다 미세한 패턴을 얻을 수 있고, 또한, 그 레지스트 패턴을 얻기 위해 필요한 노광량을 저하시킬 수 있다.
이어서, 얻어진 레지스트 패턴을 마스크로 하여 에칭을 행한다. 2층프로세스에 있어서의 하층막의 에칭으로는, 가스에칭이 바람직하게 이용된다. 가스에칭으로는, 산소가스를 이용한 에칭이 호적하다. 산소가스에 더하여, He, Ar 등의 불활성 가스나, CO, CO2, NH3, SO2, N2, NO2, H2가스를 첨가하는 것도 가능하다. 또한, 산소가스를 이용하지 않고, CO, CO2, NH3, N2, NO2, H2가스만으로 가스에칭을 행할 수도 있다. 특히 후자의 가스는, 패턴측벽의 언더컷 방지를 위한 측벽보호를 위하여 바람직하게 이용된다.
한편, 3층프로세스에 있어서의 중간층의 에칭에 있어서도, 가스에칭이 바람직하게 이용된다. 가스에칭으로는, 상기 서술한 2층프로세스에 있어서 설명한 것과 동일한 것이 적용가능하다. 특히, 3층프로세스에 있어서의 중간층의 가공은, 프론계의 가스를 이용하여 레지스트 패턴을 마스크로 하여 행하는 것이 바람직하다. 그 후, 상기 서술한 바와 같이 중간층패턴을 마스크로 하여, 예를 들어 산소가스에칭을 행함으로써, 하층막의 가공을 행할 수 있다.
여기서, 중간층으로서 무기 하드마스크 중간층막을 형성하는 경우는, CVD법이나 ALD법 등으로, 규소산화막, 규소질화막, 규소산화질화막(SiON막)이 형성된다. 질화막의 형성방법으로는, 이하로 한정되지 않으나, 예를 들어, 일본특허공개 2002-334869호 공보(특허문헌 6), WO2004/066377(특허문헌 7)에 기재된 방법을 이용할 수 있다. 이러한 중간층막 상에 직접 포토레지스트막을 형성할 수 있는데, 중간층막 상에 유기반사방지막(BARC)을 스핀코트로 형성하여, 그 위에 포토레지스트막을 형성해도 된다.
중간층으로서, 폴리실세스퀴옥산 베이스의 중간층도 바람직하게 이용된다. 레지스트 중간층막에 반사방지막으로서 효과를 갖게 함으로써, 효과적으로 반사를 억제할 수 있는 경향이 있다. 폴리실세스퀴옥산 베이스의 중간층의 구체적인 재료에 대해서는, 이하로 한정되지 않으나, 예를 들어, 일본특허공개 2007-226170호(특허문헌 8), 일본특허공개 2007-226204호(특허문헌 9)에 기재된 것을 이용할 수 있다.
또한, 다음 기판의 에칭도, 상법에 의해 행할 수 있고, 예를 들어, 기판이 SiO2, SiN이면 프론계 가스를 주체로 한 에칭, p-Si나 Al, W에서는 염소계, 브롬계 가스를 주체로 한 에칭을 행할 수 있다. 기판을 프론계 가스로 에칭하는 경우, 2층레지스트 프로세스의 규소함유 레지스트와 3층프로세스의 규소함유 중간층은, 기판가공과 동시에 박리된다. 한편, 염소계 혹은 브롬계 가스로 기판을 에칭한 경우는, 규소함유 레지스트층 또는 규소함유 중간층의 박리가 별도 행해지고, 일반적으로는, 기판가공후에 프론계 가스에 의한 드라이에칭박리가 행해진다.
본 실시형태에 있어서의 하층막은, 이들 기판의 에칭내성이 우수한 특징이 있다. 한편, 기판은, 공지의 것을 적당히 선택하여 사용할 수 있으며, 특별히 한정되지 않으나, Si, α-Si, p-Si, SiO2, SiN, SiON, W, TiN, Al 등을 들 수 있다. 또한, 기판은, 기재(지지체) 상에 피가공막(피가공기판)을 갖는 적층체일 수도 있다. 이러한 피가공막으로는, Si, SiO2, SiON, SiN, p-Si, α-Si, W, W-Si, Al, Cu, Al-Si 등 다양한 Low-k막 및 그 스토퍼막 등을 들 수 있고, 통상, 기재(지지체)와는 상이한 재질인 것이 이용된다. 한편, 가공대상이 되는 기판 혹은 피가공막의 두께는, 특별히 한정되지 않으나, 통상, 1,000,000nm 정도인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 75~500,000nm이다.
실시예
이하, 본 실시형태를 합성예 및 실시예에 의해 더욱 상세히 설명하나, 본 실시형태는, 이들 예에 의해 전혀 한정되는 것은 아니다.
(탄소농도 및 산소농도)
유기원소분석에 의해 탄소농도 및 산소농도(질량%)를 측정하였다.
장치: CHN코더MT-6(야나코분석공업(주)제)
(분자량)
LC-MS분석에 의해, Water사제 Acquity UPLC/MALDI-Synapt HDMS를 이용하여 측정하였다.
(용해성)
23℃에서, 화합물을 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)에 대하여 5질량% 용액이 되도록 용해시키고, 그 후, 5℃에서 30일간 정치하고, 결과를 이하의 기준으로 평가하였다.
평가A: 육안으로 석출물 없음을 확인
평가C: 육안으로 석출물 있음을 확인
(합성실시예 1) BiN-1의 합성
교반기, 냉각관 및 뷰렛을 구비한 내용적 300mL의 용기에 있어서, 2-나프톨(시그마-알드리치사제 시약) 10g(69.0mmol)을 120℃에서 용융후, 황산 0.27g을 투입하고, 4-아세틸비페닐(시그마-알드리치사제 시약) 2.7g(13.8mmol)을 첨가하여, 내용물을 120℃에서 6시간 교반하고 반응을 행하여 반응액을 얻었다. 이어서 반응액에 N-메틸-2-피롤리돈(관동화학주식회사제) 100mL, 순수 50mL를 첨가한 후, 아세트산에틸에 의해 추출하였다. 다음에 순수를 첨가하여 중성이 될 때까지 분액후, 농축을 행하여 용액을 얻었다.
얻어진 용액을, 칼럼크로마토에 의한 분리후, 하기 식(BiN-1)로 표시되는 목적화합물(BiN-1)이 1.0g 얻어졌다.
얻어진 화합물(BiN-1)에 대하여 상기 방법에 의해 분자량을 측정한 결과, 466이었다. 또한, 탄소농도는 87.5질량%, 산소농도는 6.9질량%였다.
얻어진 화합물(BiN-1)에 대하여, 상기 측정조건으로, NMR측정을 행한 결과, 이하의 피크가 발견되었으며, 하기 식(BiN-1)의 화학구조를 갖는 것을 확인하였다.
δ(ppm)9.69(2H,O-H), 7.01~7.67(21H,Ph-H), 2.28(3H,C-H)
[화학식 212]
Figure pct00212
(합성실시예 2) BiP-1의 합성
교반기, 냉각관 및 뷰렛을 구비한 내용적 300mL의 용기에 있어서, o-페닐페놀(시그마-알드리치사제 시약) 12g(69.0mmol)을 120℃에서 용융후, 황산 0.27g을 투입하고, 4-아세틸비페닐(시그마-알드리치사제 시약) 2.7g(13.8mmol)을 첨가하여, 내용물을 120℃에서 6시간 교반하여 반응을 행하여 반응액을 얻었다. 다음에 반응액에 N-메틸-2-피롤리돈(관동화학주식회사제) 100mL, 순수 50mL를 첨가한 후, 아세트산에틸에 의해 추출하였다. 이어서 순수를 첨가하여 중성이 될 때까지 분액후, 농축을 행하여 용액을 얻었다.
얻어진 용액을, 칼럼크로마토에 의한 분리후, 하기 식(BiP-1)로 표시되는 목적화합물(BiP-1)을 5.0g 얻어졌다.
얻어진 화합물(BiP-1)에 대하여, 상기 방법에 의해 분자량을 측정한 결과, 518이었다. 또한, 탄소농도는 88.0질량%, 산소농도는 6.2질량%였다.
얻어진 화합물(BiP-1)에 대하여, 상기 측정조건으로, NMR측정을 행한 결과, 이하의 피크가 발견되었으며, 하기 식(BiP-1)의 화학구조를 갖는 것을 확인하였다.
δ(ppm)9.48(2H,O-H), 6.88~7.61(25H,Ph-H), 3.36(3H,C-H)
[화학식 213]
Figure pct00213
(합성실시예 3~10)
합성실시예 1에 있어서, 원료인 2-나프톨 및 4-아세틸비페닐을 하기 표 1과 같이 변경한 것 이외는 합성실시예 1과 동일한 방법으로, 각 목적물을 얻었다.
또한, 합성실시예 3~10에서 얻어진 화합물에 대하여 각각, 1H-NMR을 동정하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.
[표 1]
Figure pct00214
[표 2]
Figure pct00215
[화학식 214]
Figure pct00216
[화학식 215]
Figure pct00217
(합성실시예 11)
[BisN-1의 합성]
교반기, 냉각관 및 뷰렛을 구비한 내용적 100mL의 용기에, 2,6-디하이드록시나프탈렌(시그마-알드리치사제 시약) 1.60g(10mmol)과, 4-비페닐알데히드(미쯔비시가스화학사제) 1.82g(10mmol)과, 메틸이소부틸케톤 30mL를 투입하고, 95%의 황산 5mL를 첨가하여, 반응액을 100℃에서 6시간 교반하여 반응을 행하였다. 이어서, 반응액을 농축하고, 순수 50g을 첨가하여 반응생성물을 석출시키고, 실온까지 냉각한 후, 여과를 행하여 분리하였다. 얻어진 고형물을 여과하고, 건조시킨 후, 칼럼크로마토에 의한 분리정제를 행함으로써, 하기 식으로 표시되는 화합물(BisN-1) 3.05g을 얻었다.
1H-NMR에 의해 이하의 피크가 발견되었으며, 하기 식의 화학구조를 갖는 것을 확인하였다.
1H-NMR: (d-DMSO, 내부표준TMS)
δ(ppm)9.7(2H,O-H), 7.2~8.5(19H,Ph-H), 6.6(1H,C-H)
[화학식 216]
Figure pct00218
[Me-BisN-1의 합성]
교반기, 냉각관 및 뷰렛을 구비한 내용적 200mL의 용기에, BisN-1을 10g(21.4mmol)과, 탄산칼륨(관동화학제) 7.4g(53.5mmol), N,N-디메틸포름아미드(관동화학제) 50mL를 투입하고, 5℃에서 요오드화메틸(관동화학제) 7.6g(53.5mmol)을 5분간에 걸쳐 첨가한 후, 실온에서 6시간 교반하여 반응을 행하였다. 이어서, 반응액에 순수 200mL를 첨가하여 반응성생물을 석출시키고, 여과를 행하여 분리하였다. 얻어진 고형분을 세정, 건조하고, 하기 식으로 표시되는 화합물(Me-BisN-1)을 10g 얻었다.
[화학식 217]
Figure pct00219
[Me-XBiN-1의 합성]
교반기, 냉각관 및 뷰렛을 구비한 내용적 200mL의 용기에, Me-BisN-1을 2.5g(5.1mmol)과, 디메틸설폭사이드 50mL(관동화학제) 50mL를 투입하고, 2.6mol/L의 n-부틸리튬(관동화학제)n-헥산용액 2.2mL(n-부틸리튬으로서 5.61mmol)를 첨가하고, 실온에서 30분간 교반한 후, 실온에서 요오드화메틸(관동화학제) 2.1g(14.5mmol)을 첨가하여 실온에서 30분간 교반하여 반응을 행하였다. 이어서, 반응액에 순수 200mL를 첨가하여 반응성생물을 석출시키고, 여과를 행하여 분리하였다. 얻어진 고형분을 세정, 건조하고, 하기 식으로 표시되는 화합물(Me-XBiN-1) 2.2g을 얻었다.
[화학식 218]
Figure pct00220
[XBiN-1의 합성]
교반기, 냉각관 및 뷰렛을 구비한 내용적 500mL의 용기에, Me-XBiN-1을 15g(29mmol)과, 피리딘염산염(관동화학제) 80g을 첨가하고, 190℃에서 용융후, 2시간 교반하고 반응하였다. 반응 종료 후, 90℃로 냉각하고, 90℃의 순수를 160mL 첨가하여 결정을 석출시켰다. 결정을 아세트산에틸/순수=250mL/100mL로 세정하고, 이어서 아세트산에틸 100mL에 용해후, 아세트산에틸/헥산=150mL/150mL를 첨가하여 결정을 얻었다. 얻어진 결정을 분리, 건조하고, 하기 식으로 표시되는 화합물(XbiN-1) 13g을 얻었다.
얻어진 화합물(XbiN-1)에 대하여, 상기 방법에 의해 분자량을 측정한 결과, 480이었다. 또한, 탄소농도는 85.0질량%, 산소농도는 10.0질량%였다.
상기 측정조건으로, NMR측정을 행한 결과, 이하의 피크가 발견되었으며, 하기 식(XBiN-1)의 화학구조를 갖는 것을 확인하였다.
δ(ppm)9.2(2H,O-H), 6.8~7.9(19H,Ph-H), 2.5(3H,C-H)
[화학식 219]
Figure pct00221
(합성실시예 12~13)
합성실시예 11에 있어서 원료인 2,6-디하이드록시나프탈렌 및 4-비페닐알데히드를 하기 표 3과 같이 변경한 것 이외는 합성실시예 11과 동일한 방법으로, 각 목적물을 얻었다.
또한, 합성실시예 12~13에서 얻어진 화합물에 대하여 각각, 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 표 4에 나타낸다.
[표 3]
Figure pct00222
[표 4]
Figure pct00223
[화학식 220]
Figure pct00224
(합성실시예 14~15)
합성실시예 1에 있어서, 원료인 2-나프톨 및 4-아세틸비페닐을 하기 표 5와 같이 변경하고, 물 1.5mL, 도데실메르캅탄 73mg(0.35mmol), 37% 염산 2.3g(22mmol)을 첨가하고, 반응온도를 55℃로 변경한 것 이외는 합성실시예 1과 동일한 방법으로, 각 목적물을 얻었다.
또한, 합성실시예 14~15에서 얻어진 화합물에 대하여 각각, 1H-NMR로 동정하였다. 결과를 표 6에 나타낸다.
[표 5]
Figure pct00225
[표 6]
Figure pct00226
[화학식 221]
Figure pct00227
(합성예 1)
딤로스냉각관, 온도계 및 교반날개를 구비한, 바닥 탈부착이 가능한 내용적 10L의 4구 플라스크를 준비하였다. 이 4구 플라스크에, 질소기류중, 1,5-디메틸나프탈렌 1.09kg(7mol, 미쯔비시가스화학(주)제), 40질량% 포르말린수용액 2.1kg(포름알데히드로서 28mol, 미쯔비시가스화학(주)제) 및 98질량% 황산(관동화학(주)제) 0.97mL를 투입하고, 상압하, 100℃에서 환류시키면서 7시간 반응시켰다. 그 후, 희석용매로서 에틸벤젠(와코순약공업(주)제 시약특급) 1.8kg을 반응액에 첨가하고, 정치후, 하상의 수상을 제거하였다. 다시, 중화 및 수세를 행하고, 에틸벤젠 및 미반응의 1,5-디메틸나프탈렌을 감압하에서 유거함으로써, 담갈색 고체의 디메틸나프탈렌포름알데히드 수지 1.25kg을 얻었다.
얻어진 디메틸나프탈렌포름알데히드의 분자량은, Mn: 562였다.
계속해서, 딤로스냉각관, 온도계 및 교반날개를 구비한 내용적 0.5L의 4구 플라스크를 준비하였다. 이 4구 플라스크에, 질소기류하에서, 상기 서술한 바와 같이 하여 얻어진 디메틸나프탈렌포름알데히드 수지 100g(0.51mol)과 파라톨루엔설폰산 0.05g을 투입하고, 190℃까지 승온시켜 2시간 가열한 후, 교반하였다. 그 후 다시, 1-나프톨 52.0g(0.36mol)을 첨가하고, 다시 220℃까지 승온시켜 2시간 반응시켰다. 용제희석후, 중화 및 수세를 행하고, 용제를 감압하에서 제거함으로써, 흑갈색 고체의 변성 수지(CR-1) 126.1g을 얻었다.
얻어진 수지(CR-1)는, Mn: 885, Mw: 2220, Mw/Mn: 4.17이었다. 또한, 탄소농도는 89.1질량%, 산소농도는 4.5질량%였다.
[실시예 1~15, 비교예 1]
상기 BiN-1, BiP-1, BiN-2, BiN-3, BiN-4, BiP-2, BiP-3, BiP-4, P-1, P-2, XBiN-1, XBiN-2, XBiN-3, P-3, P-4, CR-1에 대하여, 용해도 시험을 행하였다. 결과를 제1 표에 나타낸다.
또한, 표 1에 나타낸 조성의 리소그래피용 하층막 형성재료를 각각 조제하였다. 이어서, 이들 리소그래피용 하층막 형성재료를 실리콘기판 상에 회전도포하고, 그 후, 240℃에서 60초간, 다시 400℃에서 120초간 베이크하여, 막두께 200nm의 하층막을 각각 제작하였다. 산발생제, 가교제 및 유기용매에 대해서는 다음의 것을 이용하였다.
산발생제: 미도리화학사제 디터셔리부틸디페닐요오드늄노나플루오로메탄설포네이트(DTDPI)
가교제: 산와케미칼사제 니카락MX270(니카락)
유기용매: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트아세테이트(PGMEA)
노볼락: 군에이화학사제 PSM4357
그리고, 하기에 나타낸 조건으로 에칭시험을 행하고, 에칭내성을 평가하였다. 평가결과를 제1표에 나타낸다.
[에칭시험]
에칭장치: 삼코인터내셔널사제 RIE-10NR
출력: 50W
압력: 20Pa
시간: 2min
에칭가스
Ar가스유량:CF4가스유량:O2가스유량=50:5:5(sccm)
[에칭내성의 평가]
에칭내성의 평가는, 이하의 순서로 행하였다.
우선, 실시예 1에 있어서 이용하는 화합물(BiN-1)을 대신하여 노볼락(군에이화학사제 PSM4357)을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 동일한 조건으로, 노볼락의 하층막을 제작하였다. 그리고, 이 노볼락의 하층막을 대상으로서, 상기 서술한 에칭시험을 행하고, 그 때의 에칭레이트를 측정하였다.
이어서, 실시예 1 및 비교예 1의 하층막을 대상으로서, 상기 에칭시험을 동일하게 행하고, 그 때의 에칭레이트를 측정하였다.
그리고, 노볼락의 하층막의 에칭레이트를 기준으로 하여, 이하의 평가기준으로 에칭내성을 평가하였다.
[평가기준]
S: 노볼락의 하층막에 비해 에칭레이트가, -15% 미만
A: 노볼락의 하층막에 비해 에칭레이트가, -15%~-10% 미만
B: 노볼락의 하층막에 비해 에칭레이트가, -10%~+5%
C: 노볼락의 하층막에 비해 에칭레이트가, +5% 초과
[표 7]
Figure pct00228
[실시예 16~30]
이어서, BiN-1, BiP-1, BiN-2, BiN-3, BiN-4, BiP-2, BiP-3, BiP-4, P-1, P-2, XBiN-1, XBiN-2, XBiN-3, P-3 또는, P-4를 포함하는 리소그래피용 하층막 형성재료의 각 용액을 막두께 300nm의 SiO2기판 상에 도포하여, 240℃에서 60초간, 다시 400℃에서 120초간 베이크함으로써, 막두께 70nm의 하층막을 형성하였다. 이 하층막 상에, ArF용 레지스트용액을 도포하고, 130℃에서 60초간 베이크함으로써, 막두께 140nm의 포토레지스트층을 형성하였다. 한편, ArF레지스트용액으로는, 하기 식(11)의 화합물: 5질량부, 트리페닐설포늄노나플루오로메탄설포네이트: 1질량부, 트리부틸아민: 2질량부, 및 PGMEA: 92질량부를 배합하여 조제한 것을 이용하였다.
식(11)의 화합물은, 2-메틸-2-메타크릴로일옥시아다만탄 4.15g, 메타크릴로일옥시-γ-부티로락톤 3.00g, 3-하이드록시-1-아다만틸메타크릴레이트 2.08g, 아조비스이소부티로니트릴 0.38g을, 테트라하이드로푸란 80mL에 용해시켜 반응용액으로 하였다. 이 반응용액을, 질소분위기하, 반응온도를 63℃로 유지하여, 22시간 중합시킨 후, 반응용액을 400mL의 n-헥산중에 적하하였다. 이와 같이 하여 얻어지는 생성수지를 응고정제시키고, 생성된 백색분말을 여과하고, 감압하 40℃에서 하룻밤 건조시켜 얻었다.
[화학식 222]
Figure pct00229
상기 식(11) 중, 40, 40, 20이라 되어 있는 것은, 각 구성단위의 비율을 나타내는 것으로, 블록 공중합체를 나타내는 것은 아니다.
이어서, 전자선묘화장치(엘리오닉스사제; ELS-7500, 50keV)를 이용하여, 포토레지스트층을 노광하고, 115℃에서 90초간 베이크(PEB)하고, 2.38질량% 테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH) 수용액으로 60초간 현상함으로써, 포지티브형의 레지스트 패턴을 얻었다.
얻어진 55nmL/S(1:1) 및 80nmL/S(1:1)의 레지스트 패턴의 형상 및 결함을 관찰한 결과를, 표 8에 나타낸다.
[비교예 2]
하층막의 형성을 행하지 않은 것 이외는, 실시예 16과 동일한 방법으로, 포토레지스트층을 SiO2기판 상에 직접 형성하고, 포지티브형의 레지스트 패턴을 얻었다. 결과를 표 8에 나타낸다.
[표 8]
Figure pct00230
표 7로부터 명백한 바와 같이, 본 실시형태의 화합물인 BiN-1, BiP-1, BiN-2, BiN-3, BiN-4, BiP-2, BiP-3, BiP-4, P-1, P-2, XBiN-1, XBiN-2, XBiN-3, P-3, P-4를 이용한 실시예 1~15에서는, 용해도 및 에칭내성의 어떠한 점에서도 양호한 것이 확인되었다. 한편, CR-1(페놀변성 디메틸나프탈렌포름알데히드 수지)을 이용한 비교예 1에서는, 에칭내성이 불량하였다.
또한, 실시예 16~30에서는, 현상후의 레지스트 패턴형상이 양호하며, 결함도 보이지 않는 것이 확인되었다. 하층막의 형성을 생략한 비교예 2에 비해, 해상성 및 감도 모두 유의하게 우수한 것이 확인되었다.
현상후의 레지스트 패턴형상의 상위로부터, 실시예 16~30에 있어서 이용한 리소그래피용 하층막 형성재료는, 레지스트 재료와의 밀착성이 좋은 것이 나타났다.
[실시예 31~45]
실시예 1~15의 리소그래피용 하층막 형성재료의 용액을 막두께 300nm의 SiO2기판 상에 도포하여, 240℃에서 60초간, 다시 400℃에서 120초간 베이크함으로써, 막두께 80nm의 하층막을 형성하였다. 이 하층막 상에, 규소함유 중간층재료를 도포하고, 200℃에서 60초간 베이크함으로써, 막두께 35nm의 중간층막을 형성하였다. 다시, 이 중간층막 상에, 상기 ArF용 레지스트용액을 도포하고, 130℃에서 60초간 베이크함으로써, 막두께 150nm의 포토레지스트층을 형성하였다. 한편, 규소함유 중간층재료로는, 일본특허공개 2007-226170호 공보 <합성예 1>에 기재된 규소원자함유 폴리머를 이용하였다.
이어서, 전자선묘화장치(엘리오닉스사제; ELS-7500, 50keV)를 이용하여, 포토레지스트층을 마스크노광하고, 115℃에서 90초간 베이크(PEB)하고, 2.38질량% 테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH)수용액으로 60초간 현상함으로써, 55nmL/S(1:1)의 포지티브형의 레지스트 패턴을 얻었다.
그 후, 삼코인터내셔널사제 RIE-10NR을 이용하여, 얻어진 레지스트 패턴을 마스크로 하여 규소함유 중간층막(SOG)의 드라이에칭가공을 행하고, 계속해서, 얻어진 규소함유 중간층막 패턴을 마스크로 한 하층막의 드라이에칭가공과, 얻어진 하층막 패턴을 마스크로 한 SiO2막의 드라이에칭가공을 순차 행하였다.
각각의 에칭조건은, 하기에 나타낸 바와 같다.
레지스트 패턴의 레지스트 중간층막에의 에칭조건
출력: 50W
압력: 20Pa
시간: 1min
에칭가스
Ar가스유량:CF4가스유량:O2가스유량=50:8:2(sccm)
레지스트 중간막패턴의 레지스트 하층막에의 에칭조건
출력: 50W
압력: 20Pa
시간: 2min
에칭가스
Ar가스유량:CF4가스유량:O2가스유량=50:5:5(sccm)
레지스트 하층막 패턴의 SiO2막에의 에칭조건
출력: 50W
압력: 20Pa
시간: 2min
에칭가스
Ar가스유량:C5F12가스유량:C2F6가스유량:O2가스유량=50:4:3:1(sccm)
[평가]
상기 서술한 바와 같이 하여 얻어진 패턴단면(에칭후의 SiO2막의 형상)을, (주)히다찌제작소제 전자현미경(S-4800)을 이용하여 관찰한 결과, 본 실시형태의 하층막을 이용한 실시예는, 다층 레지스트가공에 있어서의 에칭후의 SiO2막의 형상은 직사각형이며, 결함도 보이지 않고 양호한 것이 확인되었다.
[실시예 46~60]
실시예 1~15의 리소그래피용 하층막 형성재료와 동일 조성의 광학부품형성 조성물용액을 막두께 300nm의 SiO2기판 상에 도포하여, 260℃에서 300초간 베이크함으로써, 막두께 100nm의 광학부품형성막을 형성하였다.
이어서, 제이·에이·울람·재팬사제 진공자외역 다입사각 분광엘립소미터(VUV-VASE)를 이용하여, 633nm의 파장에 있어서의 굴절률 및 투명성 시험을 행하고, 이하의 기준에 따라 굴절률 및 투명성을 평가하였다.
[굴절률의 평가기준]
A: 굴절률이 1.60 이상
C: 굴절률이 1.60 미만
[투명성의 평가기준]
A: 흡광상수가 0.03 미만
C: 흡광상수가 0.03 이상
그 결과, 실시예 46~60 어느 것이나 굴절률이 A의 평가, 투명성이 A의 평가이며, 광학부품형성 조성물로서 유용한 것이 확인되었다.
상기 서술한 바와 같이, 본 발명은, 상기 실시형태 및 실시예에 한정되는 것은 아니고, 그 요지를 일탈하지 않는 범위내에 있어서 적당히 변경을 가하는 것이 가능하다.
본 실시형태의 화합물 및 수지는, 안전용매에 대한 용해성이 높고, 내열성 및 에칭내성이 양호하며, 본 실시형태의 레지스트 조성물은 양호한 레지스트 패턴형상을 부여한다.
또한, 습식 프로세스가 적용가능하며, 내열성 및 에칭내성이 우수한 포토레지스트 하층막을 형성하기 위하여 유용한 화합물, 수지 및 리소그래피용 막형성 조성물을 실현할 수 있다. 그리고, 이 리소그래피용 막형성 조성물은, 내열성이 높고, 용매용해성도 높은, 특정 구조를 갖는 화합물 또는 수지를 이용하고 있으므로, 고온베이크시의 막의 열화가 억제되고, 산소플라즈마에칭 등에 대한 에칭내성도 우수한 레지스트 및 하층막을 형성할 수 있다. 더 나아가, 하층막을 형성한 경우, 레지스트층과의 밀착성도 우수하므로, 우수한 레지스트 패턴을 형성할 수 있다.
더 나아가 굴절률이 높고, 또한 저온~고온처리에 의해 착색이 억제되는 점에서, 각종 광학부품형성 조성물로서도 유용하다.
따라서, 본 발명은, 예를 들어, 전기용 절연재료, 레지스트용 수지, 반도체용 봉지 수지, 프린트배선판용 접착제, 전기기기·전자기기·산업기기 등에 탑재되는 전기용 적층판, 전기기기·전자기기·산업기기 등에 탑재되는 프리프레그의 매트릭스 수지, 빌드업 적층판재료, 섬유강화 플라스틱용 수지, 액정표시패널의 봉지용 수지, 도료, 각종 코팅제, 접착제, 반도체용 코팅제, 반도체용 레지스트용 수지, 하층막 형성용 수지, 필름상, 시트상으로 사용되는 것 외에, 플라스틱렌즈(프리즘렌즈, 렌티큘러렌즈, 마이크로렌즈, 프레넬렌즈, 시야각제어렌즈, 콘트라스트향상렌즈 등), 위상차 필름, 전자파쉴드용 필름, 프리즘, 광화이버, 플렉서블프린트배선용 솔더레지스트, 도금레지스트, 다층 프린트배선판용 층간절연막, 감광성 광도파로 등의 광학부품 등에 있어서, 널리 또한 유효하게 이용가능하다.
특히, 본 발명은 리소그래피용 레지스트, 리소그래피용 하층막 및 다층 레지스트용 하층막 및 광학부품의 분야에 있어서, 특히 유효하게 이용가능하다.
2015년 12월 25일에 출원된 일본국특허출원 2015-254433호의 개시는, 그 전체가 참조에 의해 본 명세서에 편입된다.
또한, 명세서에 기재된 모든 문헌, 특허출원, 및 기술규격은, 각각의 문헌, 특허출원, 및 기술규격이 참조에 의해 편입되는 것이 구체적이면서 각각에 기재된 경우와 동일 정도로, 본 명세서중에 참조에 의해 편입된다.

Claims (18)

  1. 하기 식(0)으로 표시되는, 화합물.
    [화학식 1]
    Figure pct00231

    (식(0) 중, RY는, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기 또는 탄소수 6~30의 아릴기이며,
    RZ는, 탄소수 1~60의 N가의 기 또는 단결합이며,
    RT는, 각각 독립적으로, 치환기를 가질 수도 있는 탄소원자수 1~30의 알킬기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소원자수 6~40의 아릴기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소원자수 2~30의 알케닐기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 니트로기, 아미노기, 시아노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 여기서, 상기 알킬기, 상기 알케닐기 및 상기 아릴기는, 에테르결합, 케톤결합 또는 에스테르결합을 포함할 수도 있고, 여기서, RT의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
    X는, 산소원자, 황원자 또는 무가교인 것을 나타내고,
    m은, 각각 독립적으로 0~9의 정수이며, 여기서, m의 적어도 1개는 1~9의 정수이며,
    N은, 1~4의 정수이며, 여기서, N이 2 이상의 정수인 경우, N개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고,
    r은, 각각 독립적으로 0~2의 정수이다.)
  2. 제1항에 있어서,
    상기 식(0)으로 표시되는 화합물이 하기 식(1)로 표시되는 화합물인, 화합물.
    [화학식 2]
    Figure pct00232

    (식(1) 중, R0은, 상기 RY와 동의이며,
    R1은, 탄소수 1~60의 n가의 기 또는 단결합이며,
    R2~R5는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 시아노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 여기서, R2~R5의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
    m2 및 m3은, 각각 독립적으로, 0~8의 정수이며,
    m4 및 m5는, 각각 독립적으로, 0~9의 정수이며,
    단, m2, m3, m4 및 m5는 동시에 0이 되는 일은 없고,
    n은 상기 N과 동의이며, 여기서, n이 2 이상의 정수인 경우, n개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고,
    p2~p5는, 상기 r과 동의이다.)
  3. 제1항에 있어서,
    상기 식(0)으로 표시되는 화합물이 하기 식(2)로 표시되는 화합물인, 화합물.
    [화학식 3]
    Figure pct00233

    (식(2) 중, R0A는, 상기 RY와 동의이며,
    R1A는, 탄소수 1~60의 nA가의 기 또는 단결합이며,
    R2A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 할로겐원자, 시아노기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 여기서, R2A의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
    nA는, 상기 N과 동의이며, 여기서, nA가 2 이상의 정수인 경우, nA개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고,
    XA는, 산소원자, 황원자 또는 무가교인 것을 나타내고,
    m2A는, 각각 독립적으로, 0~7의 정수이며, 단, 적어도 1개의 m2A는 1~7의 정수이며,
    qA는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이다.)
  4. 제2항에 있어서,
    상기 식(1)로 표시되는 화합물이 하기 식(1-1)로 표시되는 화합물인, 화합물.
    [화학식 4]
    Figure pct00234

    (식(1-1) 중, R0, R1, R4, R5, n, p2~p5, m4 및 m5는, 상기와 동의이며,
    R6~R7은, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 티올기이며,
    R10~R11은, 각각 독립적으로, 수소원자 또는 산해리성기이며,
    m6 및 m7은, 각각 독립적으로, 0~7의 정수이며,
    단, m4, m5, m6 및 m7은 동시에 0이 되는 일은 없다.)
  5. 제4항에 있어서,
    상기 식(1-1)로 표시되는 화합물이 하기 식(1-2)로 표시되는 화합물인, 화합물.
    [화학식 5]
    Figure pct00235

    (식(1-2) 중, R0, R1, R6, R7, R10, R11, n, p2~p5, m6 및 m7은, 상기와 동의이며,
    R8~R9는, 상기 R6~R7과 동의이며,
    R12~R13은, 상기 R10~R11과 동의이며,
    m8 및 m9는, 각각 독립적으로, 0~8의 정수이며,
    단, m6, m7, m8 및 m9는 동시에 0이 되는 일은 없다.)
  6. 제3항에 있어서,
    상기 식(2)로 표시되는 화합물이 하기 식(2-1)로 표시되는 화합물인, 화합물.
    [화학식 6]
    Figure pct00236

    (식(2-1) 중, R0A, R1A, nA, qA 및 XA는, 상기 식(2)에서 설명한 것과 동의이다.
    R3A는, 각각 독립적으로, 할로겐원자, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 또는 탄소수 2~30의 알케닐기이며,
    R4A는, 각각 독립적으로, 수소원자 또는 산해리성기이며,
    m6A는, 각각 독립적으로, 0~5의 정수이다.)
  7. 제1항에 기재된 화합물을 모노머로 하여 얻어지는, 수지.
  8. 제7항에 있어서,
    하기 식(3)으로 표시되는 구조를 갖는, 수지.
    [화학식 7]
    Figure pct00237

    (식(3) 중, L은, 탄소수 1~30의 직쇄상 혹은 분지상의 알킬렌기 또는 단결합이며,
    R0은, 상기 RY와 동의이며,
    R1은, 탄소수 1~60의 n가의 기 또는 단결합이며,
    R2~R5는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 탄소수 1~30의 알콕시기, 할로겐원자, 시아노기, 티올기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 여기서, R2~R5의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
    m2 및 m3은, 각각 독립적으로, 0~8의 정수이며,
    m4 및 m5는, 각각 독립적으로, 0~9의 정수이며,
    단, m2, m3, m4 및 m5는 동시에 0이 되는 일은 없고,
    n은 상기 N과 동의이며, 여기서, n이 2 이상의 정수인 경우, n개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고,
    p2~p5는, 상기 r과 동의이다.)
  9. 제7항에 있어서,
    하기 식(4)로 표시되는 구조를 갖는, 수지.
    [화학식 8]
    Figure pct00238

    (식(4) 중, L은, 탄소수 1~30의 직쇄상 혹은 분지상의 알킬렌기 또는 단결합이며,
    R0A는, 상기 RY와 동의이며,
    R1A는, 탄소수 1~60의 nA가의 기 또는 단결합이며,
    R2A는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30의 직쇄상, 분지상 혹은 환상의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 2~30의 알케닐기, 할로겐원자, 시아노기, 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며, 여기서, R2A의 적어도 1개는 수산기 또는 수산기의 수소원자가 산해리성기로 치환된 기이며,
    nA는, 상기 N과 동의이며, 여기서, nA가 2 이상의 정수인 경우, nA개의 [ ]내의 구조식은 동일할 수도 상이할 수도 있고,
    XA는, 산소원자, 황원자 또는 무가교인 것을 나타내고,
    m2A는, 각각 독립적으로, 0~7의 정수이며, 단, 적어도 1개의 m2A는 1~6의 정수이며,
    qA는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이다.)
  10. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 화합물 및 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 함유하는, 조성물.
  11. 제10항에 있어서,
    용매를 추가로 함유하는, 조성물.
  12. 제10항 또는 제11항에 있어서,
    산발생제를 추가로 함유하는, 조성물.
  13. 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    산가교제를 추가로 함유하는, 조성물.
  14. 제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    리소그래피용 막형성에 이용되는, 조성물.
  15. 제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    광학부품형성에 이용되는, 조성물.
  16. 기판 상에, 제14항에 기재된 조성물을 이용하여 포토레지스트층을 형성한 후, 상기 포토레지스트층의 소정의 영역에 방사선을 조사하고, 현상을 행하는 공정을 포함하는, 레지스트 패턴 형성방법.
  17. 기판 상에, 제14항에 기재된 조성물을 이용하여 하층막을 형성하고, 상기 하층막 상에, 적어도 1층의 포토레지스트층을 형성한 후, 상기 포토레지스트층의 소정의 영역에 방사선을 조사하고, 현상을 행하는 공정을 포함하는, 레지스트 패턴 형성방법.
  18. 기판 상에, 제14항에 기재된 조성물을 이용하여 하층막을 형성하고, 상기 하층막 상에, 레지스트 중간층막 재료를 이용하여 중간층막을 형성하고, 상기 중간층막 상에, 적어도 1층의 포토레지스트층을 형성한 후, 상기 포토레지스트층의 소정의 영역에 방사선을 조사하고, 현상하여 레지스트 패턴을 형성하고, 그 후, 상기 레지스트 패턴을 마스크로 하여 상기 중간층막을 에칭하고, 얻어진 중간층막 패턴을 에칭마스크로 하여 상기 하층막을 에칭하고, 얻어진 하층막 패턴을 에칭마스크로 하여 기판을 에칭함으로써 기판에 패턴을 형성하는 공정을 포함하는, 회로 패턴 형성방법.
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