JPS62289536A - 1−(p−ビフエニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフエニル)メタン誘導体 - Google Patents
1−(p−ビフエニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフエニル)メタン誘導体Info
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- JPS62289536A JPS62289536A JP13171386A JP13171386A JPS62289536A JP S62289536 A JPS62289536 A JP S62289536A JP 13171386 A JP13171386 A JP 13171386A JP 13171386 A JP13171386 A JP 13171386A JP S62289536 A JPS62289536 A JP S62289536A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規ビスフェノール類に関するものである。さ
らに詳しくいえば、本発明は、例えばポリカーボネート
、芳香族ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリサルホンな
どの高分子重合体の原料として有用な新規な1−(p−
ビフェニリル)−1゜1−ビス(4′−ヒドロキシフェ
ニル)メタン誘導体に関するものである。
らに詳しくいえば、本発明は、例えばポリカーボネート
、芳香族ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリサルホンな
どの高分子重合体の原料として有用な新規な1−(p−
ビフェニリル)−1゜1−ビス(4′−ヒドロキシフェ
ニル)メタン誘導体に関するものである。
従来、フェノール類とアルデヒドまたはケトン類との反
応により得られるビスフェノール類は、各種の高分子重
合体、例えばポリカーボネート、エポキシ樹脂、芳香族
ポリエステル、ポリサルホンなどの原料として重要な化
合物であることが知られており、なかでもフェノールと
アセトンから得られる2、2−ビス(4′−ヒドロキシ
フェニル)プロパン(ビスフェノールA)は、前記高分
予電合体の原料として大量に用いられて0る。
応により得られるビスフェノール類は、各種の高分子重
合体、例えばポリカーボネート、エポキシ樹脂、芳香族
ポリエステル、ポリサルホンなどの原料として重要な化
合物であることが知られており、なかでもフェノールと
アセトンから得られる2、2−ビス(4′−ヒドロキシ
フェニル)プロパン(ビスフェノールA)は、前記高分
予電合体の原料として大量に用いられて0る。
このビスフェノール類としては、これまで種々の化合物
が見出されており、例えばフェノールと各種のアルデヒ
ドまたはケトン類との反応番こより得られる化合物とし
て、前記ビスフェノールA以外に、フェノールとホルム
アルデヒドから得られるビス(4′−ヒドロキシフェニ
ル)メタン異性体混合物(ビスフェノールF)、フェノ
ールとアセトアルデヒドから得られる1、1−ビス(4
′−ヒドロキシフェニル)エタン(ビスフェノールAD
) 、フェノールとシクロヘキサノンから得られる1、
1−ビス(4′−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
などが知られている。
が見出されており、例えばフェノールと各種のアルデヒ
ドまたはケトン類との反応番こより得られる化合物とし
て、前記ビスフェノールA以外に、フェノールとホルム
アルデヒドから得られるビス(4′−ヒドロキシフェニ
ル)メタン異性体混合物(ビスフェノールF)、フェノ
ールとアセトアルデヒドから得られる1、1−ビス(4
′−ヒドロキシフェニル)エタン(ビスフェノールAD
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1−ビス(4′−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
などが知られている。
マタ、ビスフェノール類のベンゼン環にW 換2Mを有
するものとして、例えば0−クレゾール、〇−エチルフ
ェノール、0−イソプロピルフェノール、2.6−シメ
チルフエノール、2,6−ジニチルフエノール、2,6
−ジイツプロビlレフエノール、o−t−ドテシルフェ
ノールなどのアルキルフェノール類や、ハロゲン化フェ
ノール類とアルデヒドまたはケトン類との反応により得
られる化合物、あるいはアルキルフェノール類とイ゛ノ
プロペニルフェノール類との反応により、それぞれのベ
ンゼン環に異なる置換基を有するビスフェノール類など
が知られている〔米国特許第4,304.899号明細
書、’Co11ectionCzechos lov、
Chem、Commun。
するものとして、例えば0−クレゾール、〇−エチルフ
ェノール、0−イソプロピルフェノール、2.6−シメ
チルフエノール、2,6−ジニチルフエノール、2,6
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ノールなどのアルキルフェノール類や、ハロゲン化フェ
ノール類とアルデヒドまたはケトン類との反応により得
られる化合物、あるいはアルキルフェノール類とイ゛ノ
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が知られている〔米国特許第4,304.899号明細
書、’Co11ectionCzechos lov、
Chem、Commun。
」第34巻、第2843ページ(1969年)〕。
さらに、それぞれのベンゼン環にフェニル基1個を導入
したものや、ベンゼン環の一方にフェニル基1個を導入
したものも知られている〔「C011ection
Czechoslov、Chem、Commun、J第
34巻、第2843ページ(1969年)〕。
したものや、ベンゼン環の一方にフェニル基1個を導入
したものも知られている〔「C011ection
Czechoslov、Chem、Commun、J第
34巻、第2843ページ(1969年)〕。
また、ビスフェノール類の中心炭素にフェニル基が結合
した、一般式 (式中のR′は水素原子または低級アルキル基である) および、式 で表される化合物も知られている。
した、一般式 (式中のR′は水素原子または低級アルキル基である) および、式 で表される化合物も知られている。
これらのビスフェノール類の中で、ビスフェノールFは
液状エポキシ樹脂の原料として、3,3’、5.5’−
テトラメチルとスフエノールAはポリカーボネートの改
質剤として工業的に用いられており、またモノまたはジ
アルキル置換ビスフェノール類は、ガスバリヤ−性の優
れたポリカーボネートの原料として注目されている(米
国特許第4.304,899号明細書)。
液状エポキシ樹脂の原料として、3,3’、5.5’−
テトラメチルとスフエノールAはポリカーボネートの改
質剤として工業的に用いられており、またモノまたはジ
アルキル置換ビスフェノール類は、ガスバリヤ−性の優
れたポリカーボネートの原料として注目されている(米
国特許第4.304,899号明細書)。
ところで、近年高分子重合体の用途拡大に伴い、厳しい
条件下での使用が多(なり、より優れた物性を有する高
分子重合体が望まれており、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂、芳香族ポリエステル、ポリサルホンなどの分野
においても、物性のより優れたものを得るために、新し
い原料の開発が積極的に試みられている。
条件下での使用が多(なり、より優れた物性を有する高
分子重合体が望まれており、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂、芳香族ポリエステル、ポリサルホンなどの分野
においても、物性のより優れたものを得るために、新し
い原料の開発が積極的に試みられている。
本発明の目的は、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、芳
香族ポリエステル、ポリサルホンなどの高分子重合体の
原料として有用な新規なビスフェノール類を提供するこ
とにある。
香族ポリエステル、ポリサルホンなどの高分子重合体の
原料として有用な新規なビスフェノール類を提供するこ
とにある。
本発明者らは前記高分子重合体の原料として有用な新規
なビスフェノール類を開発するために鋭意研究を重ねた
結果、無置換または置換基を有するフェノール類とビフ
ェニリル基を有するアルデヒドまたはケトン類とから得
られる1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(4′
−ヒドロキシフェニル)メタン誘導体は文献未載の新規
な化合物であって、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、
芳香族ポリエステル、ポリサルホンなどの高分子重合体
の原料として有用であることを見出し、この知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。
なビスフェノール類を開発するために鋭意研究を重ねた
結果、無置換または置換基を有するフェノール類とビフ
ェニリル基を有するアルデヒドまたはケトン類とから得
られる1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(4′
−ヒドロキシフェニル)メタン誘導体は文献未載の新規
な化合物であって、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、
芳香族ポリエステル、ポリサルホンなどの高分子重合体
の原料として有用であることを見出し、この知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、一般式
基、フェニル基またはp−ビフェニリル基、XおよびY
はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のア
ルキル基またはフェニル基であって、これらは同一であ
ってもよいし、たがいに異なってもよく、mおよびnは
1〜4の整数である)で表される1−(p−ビフェニリ
ル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフェニル)メタ
ン誘導体を堤供するものである。
はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のア
ルキル基またはフェニル基であって、これらは同一であ
ってもよいし、たがいに異なってもよく、mおよびnは
1〜4の整数である)で表される1−(p−ビフェニリ
ル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフェニル)メタ
ン誘導体を堤供するものである。
本発明の前記一般式(IIりで表される1−(p−ビフ
ェニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフェニル
)メタン誘導体は、例えば、無溶媒または溶媒中におい
て、酸性触媒の存在下、−S式 (式中のX′は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5
のアルキル基、フェニル基またはp−ビフェニリル基、
n′は1〜4の整数であり、水酸基に対して少なくとも
4位は無置換である)で表されるフェノール類と、一般
式 (式中のRは前記と同じ意味をもつ) で表される化合物とを反応させるか、あるいは、一般式 (式中のX′およびn′は前記と同じ意味をもつ)で表
されるフェノール類および一般式 (式中のY′は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5
のアルキル基、フェニルまたはp−ビフェニリル基、m
′は1〜4の整数であり、水酸基に対して少な(とも4
位は無置換である)で表されるフェノール類の混合物と
、一般式(式中のRは前記と同じ意味をもつ) で表される化合物とを反応させることによって製造する
ことができる。
ェニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフェニル
)メタン誘導体は、例えば、無溶媒または溶媒中におい
て、酸性触媒の存在下、−S式 (式中のX′は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5
のアルキル基、フェニル基またはp−ビフェニリル基、
n′は1〜4の整数であり、水酸基に対して少なくとも
4位は無置換である)で表されるフェノール類と、一般
式 (式中のRは前記と同じ意味をもつ) で表される化合物とを反応させるか、あるいは、一般式 (式中のX′およびn′は前記と同じ意味をもつ)で表
されるフェノール類および一般式 (式中のY′は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5
のアルキル基、フェニルまたはp−ビフェニリル基、m
′は1〜4の整数であり、水酸基に対して少な(とも4
位は無置換である)で表されるフェノール類の混合物と
、一般式(式中のRは前記と同じ意味をもつ) で表される化合物とを反応させることによって製造する
ことができる。
前者の反応による生成物は、−C式
(式中のR,X’およびn′は前記と同じ意味をもつ)
で表されるビスフェノール類であり、一方後者の反応に
よる生成物は、一般式 %式%) と同じ意味をもつ) で表されるビスフェノール類の混合物である。
よる生成物は、一般式 %式%) と同じ意味をもつ) で表されるビスフェノール類の混合物である。
前記一般式(IV)および(VI)で表されるフェノー
ル類の代表的なものとしては、フェノール、0−クレゾ
ール、m−クレゾール、2,6−シメチルフエノール、
2,3ジメチルフエノール、2゜3.6−ドリメチルフ
エノール、0−エチルフェノール、0−イソプロピルフ
ェノール、o−t−ブチルフェノール、2.6−ジーt
−ブチルフェノール、o−t−アミルレフ−ノール、0
−フエニルフェノール、0−クロロフェノールなどが挙
げられる。
ル類の代表的なものとしては、フェノール、0−クレゾ
ール、m−クレゾール、2,6−シメチルフエノール、
2,3ジメチルフエノール、2゜3.6−ドリメチルフ
エノール、0−エチルフェノール、0−イソプロピルフ
ェノール、o−t−ブチルフェノール、2.6−ジーt
−ブチルフェノール、o−t−アミルレフ−ノール、0
−フエニルフェノール、0−クロロフェノールなどが挙
げられる。
また、前記一般式(V)で表される化合物の代表的なも
のとしては、4−ホルミルビフェニル、4−アセチルビ
フェニル、4−プロピオニルビフェニル、4−フェニル
ベンゾフヱノンなどのアルデヒドまたはケトン類が挙げ
られる。
のとしては、4−ホルミルビフェニル、4−アセチルビ
フェニル、4−プロピオニルビフェニル、4−フェニル
ベンゾフヱノンなどのアルデヒドまたはケトン類が挙げ
られる。
前記のフェノール類とアルデヒドまたはケトン類との反
応は、溶媒を用いずに行ってもよいし、溶媒を用いて行
ってもよい。使用する溶媒としては、反応に不活性なも
の、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒が好ましい。
応は、溶媒を用いずに行ってもよいし、溶媒を用いて行
ってもよい。使用する溶媒としては、反応に不活性なも
の、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒が好ましい。
触媒としては、酸性触媒、例えば塩化水素、硫酸、トル
エンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタ
ンスルホン酸、シュウ酸、五塩化リン、ポリリン酸など
が用いられるが、これらの中で、特に塩化水素は反応の
促進性や後処理の容易さなどの点から好適である。これ
らの触媒の使用量については、使用する触媒の種類によ
って異なるので一概に限定できないが、例えば塩化水素
を用いる場合、通常、フェノール類とアルデヒドまたは
ケトン類との合計量に対し、0.5〜10重。
エンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタ
ンスルホン酸、シュウ酸、五塩化リン、ポリリン酸など
が用いられるが、これらの中で、特に塩化水素は反応の
促進性や後処理の容易さなどの点から好適である。これ
らの触媒の使用量については、使用する触媒の種類によ
って異なるので一概に限定できないが、例えば塩化水素
を用いる場合、通常、フェノール類とアルデヒドまたは
ケトン類との合計量に対し、0.5〜10重。
量%の範囲で選ばれる。
この反応においては、前記酸性触媒とともに助触媒とし
てメルカプト基を含有する化合物を用いることが好まし
い。メルカプトMを含有する化合物としては、例えばメ
チルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメル
カプタン、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン
、ドデシルメルカプタンなどのアルキルメルカプタン類
、チオフェノールやチオクレゾールなどの芳香族メルカ
プタン類、メルカプト酢酸(チオグリコール酸)やメル
カプトプロピオン酸などのメルカプト有機酸類などが挙
げられる。これらの助触媒は、通常フェノール類とアル
デヒドまたはケトン類との合計量に対して0.1〜5重
量%の範囲で用いられる。
てメルカプト基を含有する化合物を用いることが好まし
い。メルカプトMを含有する化合物としては、例えばメ
チルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメル
カプタン、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン
、ドデシルメルカプタンなどのアルキルメルカプタン類
、チオフェノールやチオクレゾールなどの芳香族メルカ
プタン類、メルカプト酢酸(チオグリコール酸)やメル
カプトプロピオン酸などのメルカプト有機酸類などが挙
げられる。これらの助触媒は、通常フェノール類とアル
デヒドまたはケトン類との合計量に対して0.1〜5重
量%の範囲で用いられる。
フェノール類とアルデヒドまたはケトン類との使用割合
については、フェノール類を理論量より過剰に用いるこ
とが好ましく、通常アルデヒドまたはケトン類1モルに
対し、フェノール類が2゜2〜6モルの割合で用いられ
る。
については、フェノール類を理論量より過剰に用いるこ
とが好ましく、通常アルデヒドまたはケトン類1モルに
対し、フェノール類が2゜2〜6モルの割合で用いられ
る。
また、反応温度は、使用するアルデヒドまたはケトン類
および触媒の種類などによって異なり、−概に限定でき
ないが、一般的には20〜150℃の範囲で選ばれる。
および触媒の種類などによって異なり、−概に限定でき
ないが、一般的には20〜150℃の範囲で選ばれる。
反応圧力については特に制限はなく、減圧、常圧、加圧
のいずれでもよいが、通常常圧下で反応を行うのが有利
である。さらに、反応時間は、原料の種類、触媒および
助触媒の種類や量、反応温度などによって左右されるが
、通常5〜200時間程度である。
のいずれでもよいが、通常常圧下で反応を行うのが有利
である。さらに、反応時間は、原料の種類、触媒および
助触媒の種類や量、反応温度などによって左右されるが
、通常5〜200時間程度である。
次に、本発明の1−(p−ビフェニリル)−1゜1−ビ
ス(4′−ヒドロキシフェニル)メタン誘4体の好適な
製造方法の1例として、構造式で表される1−(p−ビ
フェニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフェニ
ル)エタンの製造について説明すると、まずフェノール
と4−アセチルビフェニルとを所定の割合、例えばモル
比で3:1の割合で混合して加熱溶解したのち、これに
メルカプト酢酸などの助触媒を所定量添加し、次いで触
媒として、例えば塩化水素ガスを反応系に吹き込みなが
ら40〜80℃の範囲の温度において、50〜150時
間反応を行う。
ス(4′−ヒドロキシフェニル)メタン誘4体の好適な
製造方法の1例として、構造式で表される1−(p−ビ
フェニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフェニ
ル)エタンの製造について説明すると、まずフェノール
と4−アセチルビフェニルとを所定の割合、例えばモル
比で3:1の割合で混合して加熱溶解したのち、これに
メルカプト酢酸などの助触媒を所定量添加し、次いで触
媒として、例えば塩化水素ガスを反応系に吹き込みなが
ら40〜80℃の範囲の温度において、50〜150時
間反応を行う。
次に、反応終了液を温水などで洗浄して塩化水素ガスを
除去したのち、未反応のフェノールを減圧下で留去して
、粗製の反応生成物を得、次いで常法に従って精製する
ことにより、目的とする1−(p−ビフェニリル)−1
,1−ビス(4′−ヒドロキシフェニル)エタンが得ら
れる。
除去したのち、未反応のフェノールを減圧下で留去して
、粗製の反応生成物を得、次いで常法に従って精製する
ことにより、目的とする1−(p−ビフェニリル)−1
,1−ビス(4′−ヒドロキシフェニル)エタンが得ら
れる。
この1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(4′−
ヒドロキシフェニル)エタンは文献未載の新規化合物で
あり、その融点は184〜185℃である。
ヒドロキシフェニル)エタンは文献未載の新規化合物で
あり、その融点は184〜185℃である。
前記方法において、フェノールの代わりに、例えばフェ
ノールと0−クレゾールとの混合物を用いれば、前記の
1−(p−ビフェニリル)−1゜1−ビス(4′−ヒド
ロキシフェニル)エタンと構造式 %式% で表される1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(
3′−メチル−4′−ヒドロキシフェニル)エタンと構
造式 %式% で表される1−(p−ビフェニリル)−1−(4′−ヒ
ドロキシフェニル)−1−(3”−メチル−4″−ヒド
ロキシフェニル)エタンとの混合物が得られる。この混
合物は、公知の方法に従ってそれぞれの化合物を単離し
てもよいし、単離せずにそのままエポキシ樹脂などの原
料として用いてもよい。
ノールと0−クレゾールとの混合物を用いれば、前記の
1−(p−ビフェニリル)−1゜1−ビス(4′−ヒド
ロキシフェニル)エタンと構造式 %式% で表される1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(
3′−メチル−4′−ヒドロキシフェニル)エタンと構
造式 %式% で表される1−(p−ビフェニリル)−1−(4′−ヒ
ドロキシフェニル)−1−(3”−メチル−4″−ヒド
ロキシフェニル)エタンとの混合物が得られる。この混
合物は、公知の方法に従ってそれぞれの化合物を単離し
てもよいし、単離せずにそのままエポキシ樹脂などの原
料として用いてもよい。
前記(IDEA)、(I[IB>、(IIIC)の化合
物以外の本発明の代表的なビスフェノール類を次に示す
。
物以外の本発明の代表的なビスフェノール類を次に示す
。
1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(4′−ヒド
ロキシフェニル)メタン 1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(3′−フェ
ニル−4′−ヒドロキシフェニル)エタ融点:85〜8
7℃ 1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(3′−クロ
ロ−4′−ヒドロキシフェニル)エタン融点:163〜
166℃ 1−(p−ビフェニリル)−1−フェニル−1゜1−ビ
ス(4′−ヒドロキシフェニル)メタンこれらの1−(
p−ビフェニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシ
フェニル)メタン誘導体は、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂、芳香族ポリエステル、ポリサルホンなどの高分
子重合体の原料として有用である。
ロキシフェニル)メタン 1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(3′−フェ
ニル−4′−ヒドロキシフェニル)エタ融点:85〜8
7℃ 1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(3′−クロ
ロ−4′−ヒドロキシフェニル)エタン融点:163〜
166℃ 1−(p−ビフェニリル)−1−フェニル−1゜1−ビ
ス(4′−ヒドロキシフェニル)メタンこれらの1−(
p−ビフェニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシ
フェニル)メタン誘導体は、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂、芳香族ポリエステル、ポリサルホンなどの高分
子重合体の原料として有用である。
例えば、該1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(
4′−ヒドロキシフェニル)メタン誘導体を、公知の方
法よってホスゲンと反応させることにより、ポリカーボ
ネートが得られる。また、この際、ビスフェノールAを
共存させることによって、ビスフェノールAとのコポリ
マーのポリカーボネートを得ることができる。
4′−ヒドロキシフェニル)メタン誘導体を、公知の方
法よってホスゲンと反応させることにより、ポリカーボ
ネートが得られる。また、この際、ビスフェノールAを
共存させることによって、ビスフェノールAとのコポリ
マーのポリカーボネートを得ることができる。
さらに、該1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(
4′−ヒドロキシフェニル)メタン誘導体に、公知の方
法よってエピクロルヒドリンを反応させることによりエ
ポキシ樹脂が得られる。また、公知の方法により、該1
(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン誘導体を、テレフタル酸などの
芳香族ポリカルボン酸と縮合させることによって芳香族
ポリエステルが、ジー(4−クロロフヱニル)サルホン
と縮合させることによってポリサルホンが得られる。
4′−ヒドロキシフェニル)メタン誘導体に、公知の方
法よってエピクロルヒドリンを反応させることによりエ
ポキシ樹脂が得られる。また、公知の方法により、該1
(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン誘導体を、テレフタル酸などの
芳香族ポリカルボン酸と縮合させることによって芳香族
ポリエステルが、ジー(4−クロロフヱニル)サルホン
と縮合させることによってポリサルホンが得られる。
実施例
次に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本
発明はこれらの例によってなんら限定されるものではな
い。
発明はこれらの例によってなんら限定されるものではな
い。
実施例1
フェノール75g(0,8モル)および4−アセチルビ
フェニル50g(0,26モル)を混合し、約60℃に
加熱して溶解したのち、メルカプト酢酸5gを添加して
、攪拌しながら塩酸ガスを24時間吹き込み、その後7
2時間反応させた。
フェニル50g(0,26モル)を混合し、約60℃に
加熱して溶解したのち、メルカプト酢酸5gを添加して
、攪拌しながら塩酸ガスを24時間吹き込み、その後7
2時間反応させた。
この反応混合液を約70℃の温水で数回洗浄したのち、
有機相を14flHgの減圧下でオイルバス温度180
℃まで加熱して、蒸発物を留去した。
有機相を14flHgの減圧下でオイルバス温度180
℃まで加熱して、蒸発物を留去した。
次いで、残渣をキシレン250!I11に溶解し、冷却
すると結晶が析出した。この結晶をろ別し、メタノール
200+1に溶解したのち、キシレン250II11を
加え、減圧下でメタノールを留去すると白色結晶が析出
した。この結晶をろ別し、120℃で減圧乾燥して、1
−(p−ビフェニリル)−1゜1−(4’−ヒドロキシ
フェニル)エタン65gを得た。このものの収率は68
%(対4−アセチルビフェニル)、融点は184〜18
5℃、純度は99.1%(HP L Cより)であった
。
すると結晶が析出した。この結晶をろ別し、メタノール
200+1に溶解したのち、キシレン250II11を
加え、減圧下でメタノールを留去すると白色結晶が析出
した。この結晶をろ別し、120℃で減圧乾燥して、1
−(p−ビフェニリル)−1゜1−(4’−ヒドロキシ
フェニル)エタン65gを得た。このものの収率は68
%(対4−アセチルビフェニル)、融点は184〜18
5℃、純度は99.1%(HP L Cより)であった
。
また、’ H−NMR(アセトンd、 、TMS)δ
(ppm)は、2.14 (s 3H) 、6.76
(d4H) 、6.95 (d 4H) 、7.18
(d 2H)、7.32 (t IH) 7.42 (
t2H) 、7.55 (d2H) 、7.64 (d
2H) 、8.3 (b2H)であった。
(ppm)は、2.14 (s 3H) 、6.76
(d4H) 、6.95 (d 4H) 、7.18
(d 2H)、7.32 (t IH) 7.42 (
t2H) 、7.55 (d2H) 、7.64 (d
2H) 、8.3 (b2H)であった。
分子量(m+)は366であった。
以下同様にして次の化合物を反応させて目的とする新規
化合物を得た。
化合物を得た。
実施例2
0−クレゾールと4−アセチルビフェニルとの反応(I
[IB) 融点は153〜155℃、純度は98.7%(HPLO
より)であった。
[IB) 融点は153〜155℃、純度は98.7%(HPLO
より)であった。
また、’ H−NMR(7(!トンd、 、TMS)δ
(ppm)は、2.15 (s 3H) 、2.21
(s6H) 、6.91 (d2H) 、6.68
(dd2H)、7.02 (d 2H) 、7.18
(d 2H) 、7.32(tlH)7.42 (t
2旦) 、7.56 (d2H)、7.64 (d2H
) 、8.5 (b2H)であった。
(ppm)は、2.15 (s 3H) 、2.21
(s6H) 、6.91 (d2H) 、6.68
(dd2H)、7.02 (d 2H) 、7.18
(d 2H) 、7.32(tlH)7.42 (t
2旦) 、7.56 (d2H)、7.64 (d2H
) 、8.5 (b2H)であった。
分子量(m+)は394であった。
実施例3
フェノールと4−ホルミルビフェニルとの反応(II[
D) 融点は143〜146℃、純度は97.9%(HPLC
より)であった。
D) 融点は143〜146℃、純度は97.9%(HPLC
より)であった。
また、’ H−NMR(7セトンd6、TMS)δ(p
pm)は、5.81 (slH>、6.79 (d4
H) 、6.93 、(d 4H) 、7.25 (d
2H)、7.38 (t2H) 、7.48 (k2
H) 、7.58(d2H) 、7.68 (d2H)
、8.44 (b2H)であった。
pm)は、5.81 (slH>、6.79 (d4
H) 、6.93 、(d 4H) 、7.25 (d
2H)、7.38 (t2H) 、7.48 (k2
H) 、7.58(d2H) 、7.68 (d2H)
、8.44 (b2H)であった。
分子量(m+)は352であった。
実施例4
0−フェニルフェノールと4−アセチルビフェニルとの
反応(I[[E) 融点は85〜89℃、純度は97.4%(HPLCより
)であった。
反応(I[[E) 融点は85〜89℃、純度は97.4%(HPLCより
)であった。
また、’ H−NMR(7セト7d、 、TMS)δ
(ppm)は、2.17 (s 3H) 、6.90
(d2H) 、6.98 (dd2H) 、7.2
5 <m7H)、7.40 (m6H) 、7.55
(m8H) 、8.5 (b2H)、であった。
(ppm)は、2.17 (s 3H) 、6.90
(d2H) 、6.98 (dd2H) 、7.2
5 <m7H)、7.40 (m6H) 、7.55
(m8H) 、8.5 (b2H)、であった。
分子量(m+)は518であった。
実施例5
0−クロロフェノールと4−アセチルビフェニルとの反
応(I[[F) 融点は163〜166℃、純度は98.7%(HPLC
より)であった。
応(I[[F) 融点は163〜166℃、純度は98.7%(HPLC
より)であった。
また、’ H−N M R(7セトンd、 、TMS)
δ(ppm)は、2.16 (s 3H) 、6.93
(d2H) 、7.04 (dd2H) 、7
.12 (d2H) 、7.20 (d2H)
、7.36 (t IH) 、7.45(t2H
) 、7.56 (d2H) 、7.66 (
d2H) 、8.7 (b2H) 、であった。
δ(ppm)は、2.16 (s 3H) 、6.93
(d2H) 、7.04 (dd2H) 、7
.12 (d2H) 、7.20 (d2H)
、7.36 (t IH) 、7.45(t2H
) 、7.56 (d2H) 、7.66 (
d2H) 、8.7 (b2H) 、であった。
分子量(m+)は434であった。
実施例6
フェノールと4−フェニルベンゾフェノンとの反応(I
[[G) 融点は118〜120℃、純度は96.3%(HPLC
より)であった。
[[G) 融点は118〜120℃、純度は96.3%(HPLC
より)であった。
また、’ H−NMR(アセトンd、 、TMS)δ(
ppm)は、6.72 (t 4H) 、7.04 (
d4H) 、7.25 (m7H) 、7.42 (t
2H)、7.58 (d2H) 、7.68 (d2
H)であった。
ppm)は、6.72 (t 4H) 、7.04 (
d4H) 、7.25 (m7H) 、7.42 (t
2H)、7.58 (d2H) 、7.68 (d2
H)であった。
分子量(m+)は428であった。
応用例1
ビスフェノールA70g(0,25モル)を6重量%N
aOH水溶液480+1に溶解したのち、これに塩化メ
チレン250m1を加え、これを11のじゃま板付きフ
ラスコに入れて激しく攪拌しながら、ホスゲンガスを約
900ml/winの割合で14分間吹き込んだ。ガス
の吹込みを停止後、静置分離し、クロロホーメート基末
端を有する重合体皮2〜3のポリカーボネート前駆体の
塩化メチレン溶液を得た。
aOH水溶液480+1に溶解したのち、これに塩化メ
チレン250m1を加え、これを11のじゃま板付きフ
ラスコに入れて激しく攪拌しながら、ホスゲンガスを約
900ml/winの割合で14分間吹き込んだ。ガス
の吹込みを停止後、静置分離し、クロロホーメート基末
端を有する重合体皮2〜3のポリカーボネート前駆体の
塩化メチレン溶液を得た。
次に、この前駆体溶液150m1を塩化メチレンで22
5m1に希釈し、これにp−t−ブチルフェノール1.
0gを溶解した。一方、実施例1で得た1−(p−ビフ
ェニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフエニル
)エタン14.0gを2NNaOH水溶液70m1に溶
解した。これらの溶液を混合後、これに5重量%トリエ
チルアミン水溶液0.5+1および2.NNaOH水溶
液2.7mlを添加し、激しく攪拌しながら1時間反応
させた。
5m1に希釈し、これにp−t−ブチルフェノール1.
0gを溶解した。一方、実施例1で得た1−(p−ビフ
ェニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフエニル
)エタン14.0gを2NNaOH水溶液70m1に溶
解した。これらの溶液を混合後、これに5重量%トリエ
チルアミン水溶液0.5+1および2.NNaOH水溶
液2.7mlを添加し、激しく攪拌しながら1時間反応
させた。
反応終了後、塩化メチレン500m1で希釈し、水、0
.01NNaOH水溶液、水、0.0INHC1水溶液
、水の順で洗浄したのち、ポリカーボネ−4を含む塩化
メチレン溶液をメタノール約31中に注入し、白色のポ
リカーボネート共重合体を得た。
.01NNaOH水溶液、水、0.0INHC1水溶液
、水の順で洗浄したのち、ポリカーボネ−4を含む塩化
メチレン溶液をメタノール約31中に注入し、白色のポ
リカーボネート共重合体を得た。
得られたポリマーの還元粘度は0.48(20℃、0、
5 g / d 12塩化メチレン溶液)であった。
5 g / d 12塩化メチレン溶液)であった。
応用例2
実施例1で得た1−(p−ビフェニリル)−1゜1−(
4’−ヒドロキシフェニル)エタン40gを2NNaO
H水溶液200R11に溶解し、これに塩化メチレン2
50m1 トリエチルアミン1.0+*l。
4’−ヒドロキシフェニル)エタン40gを2NNaO
H水溶液200R11に溶解し、これに塩化メチレン2
50m1 トリエチルアミン1.0+*l。
p−t−ブチルフェノール1.0gを加え、激しく撹拌
しながら、ホスゲンを250〜300ml/minの割
合で25分間吹き込んだ。この際反応系のpHが11以
下にならないように、12NNa。
しながら、ホスゲンを250〜300ml/minの割
合で25分間吹き込んだ。この際反応系のpHが11以
下にならないように、12NNa。
H水溶液を滴下した。吹込み終了後、1時間反応させた
。その後、塩化メチレン500+mlで希釈し、水、0
.01 N N a OH水溶液、水、0.01NHC
1水溶液、水の順で洗浄したのち、有機相をメタノール
約3Il中に注入し、ポリカーボネート樹脂は0.45
(20℃、0.5 g / d l塩化メチレン溶液)
であった。
。その後、塩化メチレン500+mlで希釈し、水、0
.01 N N a OH水溶液、水、0.01NHC
1水溶液、水の順で洗浄したのち、有機相をメタノール
約3Il中に注入し、ポリカーボネート樹脂は0.45
(20℃、0.5 g / d l塩化メチレン溶液)
であった。
本発明の1−(p−ビフェニリル)−1,1−ビス(4
′−ヒドロキシフェニル)メタン8M R体は、文献未
載の新規な化合物であって、例えばポリカーボネート、
エポキシ樹脂、芳香族ポリエステル、ポリサルホンなど
の高分子重合体の原料として有用である。
′−ヒドロキシフェニル)メタン8M R体は、文献未
載の新規な化合物であって、例えばポリカーボネート、
エポキシ樹脂、芳香族ポリエステル、ポリサルホンなど
の高分子重合体の原料として有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、フ
ェニル基またはp−ビフェニリル基、XおよびYはそれ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル
基またはフェニル基であって、これらは同一であっても
よいし、たがいに異なってもよく、mおよびnは1〜4
の整数である)で表される1− (p−ビフェニリル)−1、1−ビス(4′−ヒドロキ
シフェニル)メタン誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13171386A JPS62289536A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 1−(p−ビフエニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフエニル)メタン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13171386A JPS62289536A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 1−(p−ビフエニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフエニル)メタン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62289536A true JPS62289536A (ja) | 1987-12-16 |
Family
ID=15064456
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13171386A Pending JPS62289536A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 1−(p−ビフエニリル)−1,1−ビス(4′−ヒドロキシフエニル)メタン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62289536A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108473639A (zh) * | 2015-12-25 | 2018-08-31 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62122782A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ビスフェノール化合物およびそれを使用した記録材料 |
-
1986
- 1986-06-09 JP JP13171386A patent/JPS62289536A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62122782A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ビスフェノール化合物およびそれを使用した記録材料 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108473639A (zh) * | 2015-12-25 | 2018-08-31 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 |
US11130724B2 (en) | 2015-12-25 | 2021-09-28 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, composition, resist pattern formation method, and circuit pattern formation method |
TWI752001B (zh) * | 2015-12-25 | 2022-01-11 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | 化合物、樹脂、組成物、阻劑圖型之形成方法、及電路圖型之形成方法 |
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