JPS63145247A - ジヒドロキシジアリ−ル化合物の製造法 - Google Patents
ジヒドロキシジアリ−ル化合物の製造法Info
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- JPS63145247A JPS63145247A JP61292461A JP29246186A JPS63145247A JP S63145247 A JPS63145247 A JP S63145247A JP 61292461 A JP61292461 A JP 61292461A JP 29246186 A JP29246186 A JP 29246186A JP S63145247 A JPS63145247 A JP S63145247A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はジヒドロキシジアリール化合物の製造法に関す
るものである。さらに、詳しくいえば、本発明は、ポリ
カーボネート、芳香族ポリエステル、ポリサルホン、エ
ポキシ樹脂などの高分子重合体の原料として有用な、１
．１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン誘導体を収率よ（製造する方法に関するものであ
る。
るものである。さらに、詳しくいえば、本発明は、ポリ
カーボネート、芳香族ポリエステル、ポリサルホン、エ
ポキシ樹脂などの高分子重合体の原料として有用な、１
．１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン誘導体を収率よ（製造する方法に関するものであ
る。
従来、フェノール類とアルデヒドまたはケトン類との反
応により得られるビスフェノール類は、各種の高分子重
合体、例えばポリカーボネート、エポキシ樹脂、芳香族
ポリエステル、ポリサルホンなどの原料として重要な化
合物であることが知られており、なかでもフェノールと
アセトンから得られる２、２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）は、前記高分子
重合体の原料として大量に用いられている。
応により得られるビスフェノール類は、各種の高分子重
合体、例えばポリカーボネート、エポキシ樹脂、芳香族
ポリエステル、ポリサルホンなどの原料として重要な化
合物であることが知られており、なかでもフェノールと
アセトンから得られる２、２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）は、前記高分子
重合体の原料として大量に用いられている。
このビスフェノール類としては、これまで種々の化合物
が見い出されており、例えばフェノールと各種のアルデ
ヒドまたはケトン類との反応により得られる化合物とし
て、前記ビスフェノールＡ以外に、フェノールとホルム
アルデヒドから得られるビス（ヒドロキシフェニル）メ
タン異性体混合物（ビスフェノールＦ）、フェノールと
アセトアルデヒドから得られる１、１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン（ビスフェノールＡＤ）、フェ
ノールとシクロヘキサノンから得られる１゜１−ビス（
４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンなどが知られ
ている。
が見い出されており、例えばフェノールと各種のアルデ
ヒドまたはケトン類との反応により得られる化合物とし
て、前記ビスフェノールＡ以外に、フェノールとホルム
アルデヒドから得られるビス（ヒドロキシフェニル）メ
タン異性体混合物（ビスフェノールＦ）、フェノールと
アセトアルデヒドから得られる１、１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン（ビスフェノールＡＤ）、フェ
ノールとシクロヘキサノンから得られる１゜１−ビス（
４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンなどが知られ
ている。
また、ビスフェノール類のベンゼン環に置換基を有する
ものとして、例えば０−クレゾール、Ｏ−エチルフェノ
ール、０−イソプロピルフェノール、２．６−シメチル
フエノール、２．６−ジニチルフエノール、２．６−ジ
イツプロビルフエノール、ｏ−ｔ−ドデシルフェノール
などのアルキルフェノール類や、ハロゲン化フェノール
頻とアルデヒドまたはケトン類との反応により得られる
化合物、あるいはアルキルフェノール類とイソプロペニ
ルフェノール類との反応により、それぞれのベンゼン環
に異なる置換基を有するビスフェノール類などが知られ
ている〔米国特許第４，３０４．８９９号明細書、ｒＣ
ｏｌｌｅｃｔｉｏｎＣｚｅｃｈｏｓ ｌｏｖ、Ｃｈｅｍ
、Ｃｏｍｍｕｎ。
ものとして、例えば０−クレゾール、Ｏ−エチルフェノ
ール、０−イソプロピルフェノール、２．６−シメチル
フエノール、２．６−ジニチルフエノール、２．６−ジ
イツプロビルフエノール、ｏ−ｔ−ドデシルフェノール
などのアルキルフェノール類や、ハロゲン化フェノール
頻とアルデヒドまたはケトン類との反応により得られる
化合物、あるいはアルキルフェノール類とイソプロペニ
ルフェノール類との反応により、それぞれのベンゼン環
に異なる置換基を有するビスフェノール類などが知られ
ている〔米国特許第４，３０４．８９９号明細書、ｒＣ
ｏｌｌｅｃｔｉｏｎＣｚｅｃｈｏｓ ｌｏｖ、Ｃｈｅｍ
、Ｃｏｍｍｕｎ。
」第３４巻、第２８４３ページ（１９６９年）。
さらに、それぞれのベンゼン環にフェニル基１個を導入
したものや、ベンゼン環の一方にフェニル基１個を導入
したものも知られている〔ｒＣｏｌｌｅｃｔｉｏｎ
Ｃｚｅｃｈｏｓｌｏｖ、Ｃｈａｍ、Ｃｏｍｍｕｎ、Ｊ第
３４巻、第２８４３ページ（１９６９年）。
したものや、ベンゼン環の一方にフェニル基１個を導入
したものも知られている〔ｒＣｏｌｌｅｃｔｉｏｎ
Ｃｚｅｃｈｏｓｌｏｖ、Ｃｈａｍ、Ｃｏｍｍｕｎ、Ｊ第
３４巻、第２８４３ページ（１９６９年）。
これらのビスフェノール類の中で、ビスフェノールＦは
液状エポキシ樹脂の原料として、３．３’、５．５’−
テトラメチルビスフェノールＡはポリカーボネートの改
質剤として工業的に用いられており、またモノまたはジ
アルキル置換ビスフェノール類は、ガスバリヤ−性の優
れたポリカーボネートの原料として注目されている（米
国特許第４．３０４，８９９号明細Ｖ）。
液状エポキシ樹脂の原料として、３．３’、５．５’−
テトラメチルビスフェノールＡはポリカーボネートの改
質剤として工業的に用いられており、またモノまたはジ
アルキル置換ビスフェノール類は、ガスバリヤ−性の優
れたポリカーボネートの原料として注目されている（米
国特許第４．３０４，８９９号明細Ｖ）。
ところで、近年高分子重合体の用途拡大に伴い、厳しい
条件下での使用が多くなり、より優れた物性を有する高
分子重合体が望まれており、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂、芳香族ポリエステル、ポリサルホンなどの分野
においても、物性のより優れたものを得るために、新し
い原料の開発が要望されていた。
条件下での使用が多くなり、より優れた物性を有する高
分子重合体が望まれており、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂、芳香族ポリエステル、ポリサルホンなどの分野
においても、物性のより優れたものを得るために、新し
い原料の開発が要望されていた。
そこで、本発明者らは研究を重ね、先に、０−フェニル
フェノールと特定のアルデヒド類またはケトン類とから
得られる１、１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシ
フェニル）メタンｍ’Ｊ 体が、ポリカーボネート、芳
香族ポリエステル、ポリサルホン、エポキシ樹脂などの
高分子重合体の原料として有用であることを見い出した
。
フェノールと特定のアルデヒド類またはケトン類とから
得られる１、１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシ
フェニル）メタンｍ’Ｊ 体が、ポリカーボネート、芳
香族ポリエステル、ポリサルホン、エポキシ樹脂などの
高分子重合体の原料として有用であることを見い出した
。
ところで、ジヒドロキシジアリール化合物の製造方法と
しては、硫酸または塩酸を縮合剤として用い、フェノー
ル類とケトン類とを縮合させる方法が知られている。
しては、硫酸または塩酸を縮合剤として用い、フェノー
ル類とケトン類とを縮合させる方法が知られている。
この方法において、縮合剤として硫酸を用いる場合には
、フェノール類がスルホン化されるのを防止するために
、濃度が６５〜７５重量％の範囲にある硫酸が通常用い
られる（米国特許第１，９７８．９４９号明細書、同第
１．９７７．６２７号明細書）。
、フェノール類がスルホン化されるのを防止するために
、濃度が６５〜７５重量％の範囲にある硫酸が通常用い
られる（米国特許第１，９７８．９４９号明細書、同第
１．９７７．６２７号明細書）。
しかしながら、０−フェニルフェノールとケトン類とを
反応させる場合、前記の従来用いられている縮合剤では
、反応が十分に進行せず、収率の低下を免れないという
問題があった。
反応させる場合、前記の従来用いられている縮合剤では
、反応が十分に進行せず、収率の低下を免れないという
問題があった。
本発明は、このような問題を解決し、０−フェニルフェ
ノールとケトン類とを効果的に縮合させ、収率よくジヒ
ドロキシジアリール化合物を製造する方法の提供を目的
としてなされたものである。
ノールとケトン類とを効果的に縮合させ、収率よくジヒ
ドロキシジアリール化合物を製造する方法の提供を目的
としてなされたものである。
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重
ねた結果、０−フェニルフェノールは比較的高濃度の硫
酸でもスルホン化されにくいことに着目し、縮合剤とし
て従来用いられているものより高濃度の硫酸を用い、か
つある種の助触媒を併用することにより、その目的を達
成しうろことを見い出し、この知見に基づいて本発明を
完成するに至った。
ねた結果、０−フェニルフェノールは比較的高濃度の硫
酸でもスルホン化されにくいことに着目し、縮合剤とし
て従来用いられているものより高濃度の硫酸を用い、か
つある種の助触媒を併用することにより、その目的を達
成しうろことを見い出し、この知見に基づいて本発明を
完成するに至った。
すなわち、本発明は、０−フェニルフェノールとケトン
類とを反応させてジヒドロキシジアリール化合物を製造
するにあたり、縮合剤として濃度８０重量％以上の硫酸
を用い、かつ助触媒としてメルカプト基含有化合物を用
いて反応させることを特徴とするジヒドロキシジアリー
ル化合物の製造法を提供するものである。
類とを反応させてジヒドロキシジアリール化合物を製造
するにあたり、縮合剤として濃度８０重量％以上の硫酸
を用い、かつ助触媒としてメルカプト基含有化合物を用
いて反応させることを特徴とするジヒドロキシジアリー
ル化合物の製造法を提供するものである。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明方法において用いられるケトン類としては、一般
式 ％式％（１） （式中のＲ１およびＲ２は、それぞれ炭素数１〜５のア
ルキル基、了り−ル基、ベンジル基、フェノキシフェニ
ル基、アルコキシフェニル基などであって、それらは同
一であってもよいし、たがいに異なっていてもよい） で表される化合物を挙げることができる。このようなも
のの代表例としては、アセトン、メチルエチルケトン、
ジエチルケトン、アセトフェノン、プロピオフェノン、
ベンゾフェノン、４′−フェノキシアセトフェノンなど
を挙げることができる。
式 ％式％（１） （式中のＲ１およびＲ２は、それぞれ炭素数１〜５のア
ルキル基、了り−ル基、ベンジル基、フェノキシフェニ
ル基、アルコキシフェニル基などであって、それらは同
一であってもよいし、たがいに異なっていてもよい） で表される化合物を挙げることができる。このようなも
のの代表例としては、アセトン、メチルエチルケトン、
ジエチルケトン、アセトフェノン、プロピオフェノン、
ベンゾフェノン、４′−フェノキシアセトフェノンなど
を挙げることができる。
本発明方法においては、縮合剤として濃度が８０重量％
以上の硫酸を用いることが必要である。
以上の硫酸を用いることが必要である。
濃度が８０重量％未満の硫酸では、反応が十分に進行せ
ず、目的のジヒドロキシジアリール化合物、すなわち１
．１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン誘導体の収率が低い。
ず、目的のジヒドロキシジアリール化合物、すなわち１
．１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン誘導体の収率が低い。
該縮合剤の使用量は、通常０−フェニルフェノールとケ
トン類との合計量に対して、３〜３０重量％の範囲で選
ぶことが好ましい。
トン類との合計量に対して、３〜３０重量％の範囲で選
ぶことが好ましい。
本発明方法においては、前記縮合剤とともに、助触媒と
してメルカプト基を含有する化合物を用いることが必要
である。このメルカプト基を含有する化合物としでは、
例えばメチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロ
ピルメルカプタン、ブ′チルメルカプタン、オクチルメ
ルカプタン、ドデシルメルカプタンなどのアルキルメル
カプタン類、チオフェノールやチオクレゾールなどの芳
香族メルカプタン類、メルカプト酢酸（チオグリコール
酸）やメルカプトプロピオン酸などのメルカプト有機酸
類などが挙げられる。これらの助触媒は、通常０−フェ
ニルフェノールとケトン類との合計量に対して０．１〜
５重量％の範囲で用いられる。
してメルカプト基を含有する化合物を用いることが必要
である。このメルカプト基を含有する化合物としでは、
例えばメチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロ
ピルメルカプタン、ブ′チルメルカプタン、オクチルメ
ルカプタン、ドデシルメルカプタンなどのアルキルメル
カプタン類、チオフェノールやチオクレゾールなどの芳
香族メルカプタン類、メルカプト酢酸（チオグリコール
酸）やメルカプトプロピオン酸などのメルカプト有機酸
類などが挙げられる。これらの助触媒は、通常０−フェ
ニルフェノールとケトン類との合計量に対して０．１〜
５重量％の範囲で用いられる。
Ｏ−フェニルフェノールとケトン類との使用割合につい
ては、０−フェニルフェノールを理論量より過剰に用い
ることが好ましく、通常ケトン類１モルに対し、０−フ
ェニルフェノールが２．２〜６モルの割合で用いられる
。
ては、０−フェニルフェノールを理論量より過剰に用い
ることが好ましく、通常ケトン類１モルに対し、０−フ
ェニルフェノールが２．２〜６モルの割合で用いられる
。
０−フェニルフェノールとケトン類との反応は、溶媒を
用いずに行ってもよいし、必要ならば溶媒を用いて行っ
てもよい。溶媒を使用する場合には、反応に不活性なも
のを選ぶことが必要である。
用いずに行ってもよいし、必要ならば溶媒を用いて行っ
てもよい。溶媒を使用する場合には、反応に不活性なも
のを選ぶことが必要である。
また、反応温度は、使用するケトン類の種類や硫酸濃度
によって異なり、−概に限定できないが、通常２０〜１
５０℃、好ましくは５０〜１００℃の範囲で選ばれる。
によって異なり、−概に限定できないが、通常２０〜１
５０℃、好ましくは５０〜１００℃の範囲で選ばれる。
反応圧力については特に制限はなく、減圧、常圧、加圧
のいずれでもよいが、通常常圧下で反応を行うのが有利
である。さらに、反応時間は、原料の種類、硫酸の濃度
や量、助触媒の種類や量、反応温度などによって左右さ
れるが、通常５〜２ＯＯ時間程度である。
のいずれでもよいが、通常常圧下で反応を行うのが有利
である。さらに、反応時間は、原料の種類、硫酸の濃度
や量、助触媒の種類や量、反応温度などによって左右さ
れるが、通常５〜２ＯＯ時間程度である。
このようにして、一般式
（式中のＲ１およびＲ２は前記と同じ意味をもつ）で表
される１、１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）メタン誘導体が収率よく得られる。
される１、１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）メタン誘導体が収率よく得られる。
このものは、ポリカーボネート、芳香族ポリエステル、
ポリサルホン、エポキシ樹脂などの高分子重合体の原料
として有用である。
ポリサルホン、エポキシ樹脂などの高分子重合体の原料
として有用である。
次に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本
発明はこれらの例によってなんら限定されるものではな
い。
発明はこれらの例によってなんら限定されるものではな
い。
実施例１
反応容器に、Ｏ−フェニルフェノール５１０ｇ（３モル
）とアセトフェノン１２０ｇ（１モル）を入れ、６０℃
に昇温しで溶融させたのち、チオグリコール酸１０．１
ｇ （０，１１モル）を加え、攪拌しながら、８０重
量％濃度の硫酸１４３ｇ（１゜１７モル）を加えて、７
０°Ｃにおいて２４時間反応させた。次に、反応生成物
を塩化メチレン２１で希釈し、水２１で３回洗浄した。
）とアセトフェノン１２０ｇ（１モル）を入れ、６０℃
に昇温しで溶融させたのち、チオグリコール酸１０．１
ｇ （０，１１モル）を加え、攪拌しながら、８０重
量％濃度の硫酸１４３ｇ（１゜１７モル）を加えて、７
０°Ｃにおいて２４時間反応させた。次に、反応生成物
を塩化メチレン２１で希釈し、水２１で３回洗浄した。
次いで、２規定源度の水酸化ナトリウム水溶液２Ｉ！を
用い、４０℃において抽出し、抽出液を氷冷して結晶を
得た。この結晶を塩化メチレンで十分に洗浄したのち、
１規定源度の塩酸４１中に分散し、ろ過、水洗したのち
、トルエンとヘキサンの混合溶媒を用いて再結晶した。
用い、４０℃において抽出し、抽出液を氷冷して結晶を
得た。この結晶を塩化メチレンで十分に洗浄したのち、
１規定源度の塩酸４１中に分散し、ろ過、水洗したのち
、トルエンとヘキサンの混合溶媒を用いて再結晶した。
この結果、結晶の収量は１５６ｇであり、収率はアセト
フェノンに対して３５％であった。融点は１４６〜１４
８℃であり、分子量（ｍ”）は４４２であった。さらに
、’Ｈ−ＮＭＲ（アセトンａａ） δ （ｐｐｍ）は
、２．１７ （ｓ ３Ｈ） 、６．８９ （ｄ２Ｈ）
６．９６ （ｄｄ２Ｈ） 、７．２１ （ｍ７Ｈ） 、
７．３３ （ｔ４Ｈ） 、７．５２ （ｄ４Ｈ） 、８
゜３（ｂ２Ｈ）であり、純度は、９９．５％（ＨＰ Ｌ
Ｃ）であった。
フェノンに対して３５％であった。融点は１４６〜１４
８℃であり、分子量（ｍ”）は４４２であった。さらに
、’Ｈ−ＮＭＲ（アセトンａａ） δ （ｐｐｍ）は
、２．１７ （ｓ ３Ｈ） 、６．８９ （ｄ２Ｈ）
６．９６ （ｄｄ２Ｈ） 、７．２１ （ｍ７Ｈ） 、
７．３３ （ｔ４Ｈ） 、７．５２ （ｄ４Ｈ） 、８
゜３（ｂ２Ｈ）であり、純度は、９９．５％（ＨＰ Ｌ
Ｃ）であった。
以上から、この結晶は次式に示す１−フェニル−１，１
−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタ
ンと判明した。
−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタ
ンと判明した。
実施例２
縮合剤として、９０重量％濃度の硫酸１２７ｇ（１，１
７モル）を用いた他は実施例１と同様に実施した。
７モル）を用いた他は実施例１と同様に実施した。
この結果、１−フェニル−１，１−ビス（３−フェニル
−４−ヒドロキシフェニル）エタンの収量は２４３ｇで
あり、アセトフェノンに対する収率は５５％であった。
−４−ヒドロキシフェニル）エタンの収量は２４３ｇで
あり、アセトフェノンに対する収率は５５％であった。
また、得られた結晶の純度は９９．４％であった。
実施例３
縮合剤として、９８重量％濃度の硫酸１１７ｇ（１，１
７モル）を用いた他は実施例１と同様に実方缶した。
７モル）を用いた他は実施例１と同様に実方缶した。
この結果、１−フェニル−１，１−ビス（３−フェニル
−４−ヒドロキシフェニル）エタンの収量は３１７ｇで
あり、アセトフェノンに対する収率は７２％であった。
−４−ヒドロキシフェニル）エタンの収量は３１７ｇで
あり、アセトフェノンに対する収率は７２％であった。
また、得られた結晶の純度は９９．５％であった。
実施例４
ケトンとして、アセトン５８ｇ（１モル）を用いた他は
実施例１と同様にした。
実施例１と同様にした。
この結果、得られた２、２−ビス（３−フェニル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパンの収量は２０９ｇであり
、アセトンに対する収率は５５％であった。また、融点
は１１３〜１１５℃、分子’ＦＪ （ｍ ” ）は３８
０であり、’Ｈ−ＮＭＲ（アセトンｄ６）δ （ｐｐｍ
）は、１．６８ （ｓ ６ ＩＮ、６．８８ （ｄ２
Ｈ）７．ＩＱ （ｄｄ２Ｈ） 、７．２１〜７．２８
（ｍ４Ｈ） 、７．３５ （ｔ ４Ｈ） 、７．５５
（ｄｄ４Ｈ） 、８、ｏ （ｓ ２Ｈ）であった。さら
に、純度は、９９．７％であった。
ヒドロキシフェニル）プロパンの収量は２０９ｇであり
、アセトンに対する収率は５５％であった。また、融点
は１１３〜１１５℃、分子’ＦＪ （ｍ ” ）は３８
０であり、’Ｈ−ＮＭＲ（アセトンｄ６）δ （ｐｐｍ
）は、１．６８ （ｓ ６ ＩＮ、６．８８ （ｄ２
Ｈ）７．ＩＱ （ｄｄ２Ｈ） 、７．２１〜７．２８
（ｍ４Ｈ） 、７．３５ （ｔ ４Ｈ） 、７．５５
（ｄｄ４Ｈ） 、８、ｏ （ｓ ２Ｈ）であった。さら
に、純度は、９９．７％であった。
実施例５
反応容器に、０−フェニルフェノール５１０ｇ（３モル
）と４′−フェノキシ・アセトフェノン２１２ｇ（１モ
ル）、チオグリコール酸９．２ｇ（０，１モル）を入れ
、６０℃に昇温して溶融し、攪拌下に９８重量％濃度の
硫酸１１７ｇを添加し、７０℃において１２時間反応さ
せた。反応終了後冷却して塩化メチレン３１を加えて希
釈し、水２１で３回洗浄した。次に、５規定源度の水酸
化ナトリウム水溶液５００ｍ／を加えて水冷し、結晶を
析出させた。次いで、この結晶を回収して塩化メチレン
で十分に洗浄したのち、水３１中に分散してｐＨが１以
下となるまで塩酸を添加した。次に、この結晶を回収、
水洗したのち、トルエンとヘキサンの混合溶媒を用いて
再結晶させた。
）と４′−フェノキシ・アセトフェノン２１２ｇ（１モ
ル）、チオグリコール酸９．２ｇ（０，１モル）を入れ
、６０℃に昇温して溶融し、攪拌下に９８重量％濃度の
硫酸１１７ｇを添加し、７０℃において１２時間反応さ
せた。反応終了後冷却して塩化メチレン３１を加えて希
釈し、水２１で３回洗浄した。次に、５規定源度の水酸
化ナトリウム水溶液５００ｍ／を加えて水冷し、結晶を
析出させた。次いで、この結晶を回収して塩化メチレン
で十分に洗浄したのち、水３１中に分散してｐＨが１以
下となるまで塩酸を添加した。次に、この結晶を回収、
水洗したのち、トルエンとヘキサンの混合溶媒を用いて
再結晶させた。
この結果、１−（４−フェノキシフェニル）−１，１−
ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン
の結晶２３５ｇを得た。この結晶の収率は、４′−フェ
ノキシ・アセトフェノンに対して４４％であった。また
、融点は１２８〜１２９℃であり、分子量（ｍｏ）は５
３４であった。
ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン
の結晶２３５ｇを得た。この結晶の収率は、４′−フェ
ノキシ・アセトフェノンに対して４４％であった。また
、融点は１２８〜１２９℃であり、分子量（ｍｏ）は５
３４であった。
さらに、’Ｈ−ＮＭＲ（アセトンｄ６）δ（ｐｐｍ）は
、２．１００ （ｓ３Ｈ） 、６，８２１（ｓ５Ｈ）
、６，９２２ （ｄ２Ｈ）６，９７５（ｄｄ２Ｈ）
、７、ｏ５〜７．２３ （ｍ６Ｈ） 、７．２６〜７．
３９ （ｍ６Ｈ） 、７，９０３ （ｄｄ４Ｈ）であっ
た。
、２．１００ （ｓ３Ｈ） 、６，８２１（ｓ５Ｈ）
、６，９２２ （ｄ２Ｈ）６，９７５（ｄｄ２Ｈ）
、７、ｏ５〜７．２３ （ｍ６Ｈ） 、７．２６〜７．
３９ （ｍ６Ｈ） 、７，９０３ （ｄｄ４Ｈ）であっ
た。
比較例１
実施例１において、縮合剤として濃度７０重里％の硫酸
１４９ｇ（１，１７モル）を用いたほかは、実施例１と
同様に実施した。
１４９ｇ（１，１７モル）を用いたほかは、実施例１と
同様に実施した。
この結果、１−フェニル−１，１−ビス（３−フェニル
−４−ヒドロキシフェニル）エタンの収量は１５ｇであ
り、アセトフェノンに対する収率は３．４％であった。
−４−ヒドロキシフェニル）エタンの収量は１５ｇであ
り、アセトフェノンに対する収率は３．４％であった。
また、得、られた結晶の純度は９９．１％であった。
比較例２
実施例１において、縮合剤として濃塩酸１５０ｇを用い
たほかは、実施例１と同様に実施した。
たほかは、実施例１と同様に実施した。
この結果、１〜フェニル−１，１−ビス（３−フェニル
−４−ヒドロキシフェニル）エタンの収量は１０ｇであ
り、アセトフェノンに対する収率は２．２％であった。
−４−ヒドロキシフェニル）エタンの収量は１０ｇであ
り、アセトフェノンに対する収率は２．２％であった。
また、得られた結晶の純度は９８．４％であった。
本発明方法によると、０−フヱニルフェノールとケトン
類とから、収率よく１．１−ビス（３−フェニル−４−
ヒドロキシフェニル）メタン誘導体を製造することがで
きる。このものは、例えばポリカーボネート、芳香族ポ
リエステル、ポリサルホン、エポキシ樹脂などの高分子
重合体の原料として有用である。
類とから、収率よく１．１−ビス（３−フェニル−４−
ヒドロキシフェニル）メタン誘導体を製造することがで
きる。このものは、例えばポリカーボネート、芳香族ポ
リエステル、ポリサルホン、エポキシ樹脂などの高分子
重合体の原料として有用である。
Claims (1)
- １、ｏ−フェニルフェノールとケトン類とを反応させて
ジヒドロキシジアリール化合物を製造するにあたり、縮
合剤として濃度８０重量％以上の硫酸を用い、かつ助触
媒としてメルカプト基含有化合物を用いて反応させるこ
とを特徴とするジヒドロキシジアリール化合物の製造法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61292461A JPS63145247A (ja) | 1986-12-10 | 1986-12-10 | ジヒドロキシジアリ−ル化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61292461A JPS63145247A (ja) | 1986-12-10 | 1986-12-10 | ジヒドロキシジアリ−ル化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63145247A true JPS63145247A (ja) | 1988-06-17 |
Family
ID=17782104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61292461A Pending JPS63145247A (ja) | 1986-12-10 | 1986-12-10 | ジヒドロキシジアリ−ル化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63145247A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016190994A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 多価ヒドロキシ化合物の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57118528A (en) * | 1981-01-13 | 1982-07-23 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Preparation of bisphenols |
| JPS61103846A (ja) * | 1984-10-27 | 1986-05-22 | レーム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | ９，９‐ビス‐（４‐ヒドロキシフエニル）‐フルオレンの製法 |
-
1986
- 1986-12-10 JP JP61292461A patent/JPS63145247A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57118528A (en) * | 1981-01-13 | 1982-07-23 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Preparation of bisphenols |
| JPS61103846A (ja) * | 1984-10-27 | 1986-05-22 | レーム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | ９，９‐ビス‐（４‐ヒドロキシフエニル）‐フルオレンの製法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016190994A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 多価ヒドロキシ化合物の製造方法 |
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