JPS63146837A - 実質的に純粋なスピロビインダンビスフェノール類の製造方法 - Google Patents
実質的に純粋なスピロビインダンビスフェノール類の製造方法Info
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- JPS63146837A JPS63146837A JP62250845A JP25084587A JPS63146837A JP S63146837 A JPS63146837 A JP S63146837A JP 62250845 A JP62250845 A JP 62250845A JP 25084587 A JP25084587 A JP 25084587A JP S63146837 A JPS63146837 A JP S63146837A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/04—Aromatic polycarbonates
- C08G64/06—Aromatic polycarbonates not containing aliphatic unsaturation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスピロビインダンビスフェノール類の製造と精
製、およびそうして製造された実質的に純粋なスピロビ
インダンビスフェノール類に係る。
製、およびそうして製造された実質的に純粋なスピロビ
インダンビスフェノール類に係る。
次式のスピロビインダンビスフェノール類およびその製
造方法は少し前から知られている。
造方法は少し前から知られている。
ここで、各Rはそれぞれ独立してC1−4の第一級か第
二級のアルキルまたはハロであり、nはO〜3である。
二級のアルキルまたはハロであり、nはO〜3である。
また従来の技術によりこれらのスピロビインダンビスフ
ェノール類をポリカーボネートやその他のポリマーに変
換することも知られている。さらに、スピロビインダン
ビスフェノール類の埋伏ポリカーボネートオリゴマーか
らなる411成物が1986年7月210に出願された
米国出願番号第887.503号に開示されており、独
特で有利な特性を有することが示されている。
ェノール類をポリカーボネートやその他のポリマーに変
換することも知られている。さらに、スピロビインダン
ビスフェノール類の埋伏ポリカーボネートオリゴマーか
らなる411成物が1986年7月210に出願された
米国出願番号第887.503号に開示されており、独
特で有利な特性を有することが示されている。
酸性触媒の存在下でビスフェノール類を縮合してスピロ
ビインダンビスフェノール類を製造することはさまざま
な文献に開示されている。たとえば、バーカー(Bak
er)らのジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイヤティ
−(J、 Cham、 Soc、)第1421〜142
4頁(1939年)には、濃塩酸を用いて2.2−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンを縮
合することによって弐I (ただしRはメチルでnが1
)の化合物を製造することが記載されている。2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンすなわちビス
フェノールAの同様な縮合がカーチス(Curtis)
のジャーナルーオブ・ケミカル・ソサイヤティー(」。
ビインダンビスフェノール類を製造することはさまざま
な文献に開示されている。たとえば、バーカー(Bak
er)らのジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイヤティ
−(J、 Cham、 Soc、)第1421〜142
4頁(1939年)には、濃塩酸を用いて2.2−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンを縮
合することによって弐I (ただしRはメチルでnが1
)の化合物を製造することが記載されている。2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンすなわちビス
フェノールAの同様な縮合がカーチス(Curtis)
のジャーナルーオブ・ケミカル・ソサイヤティー(」。
Cheffl、 Soc、)第415〜416頁(19
62年)に開示されている。
62年)に開示されている。
米国特許第2,979.534号には、ベンゼンスルホ
ン酸やp−トルエンスルホン酸のような芳香族スルホン
酸または硫酸のような鉱酸を用いてビスフェノールAの
ようなビスフェノール類を1−(4−ヒドロキシフェニ
ル)インタノール類に変換することが記載されている。
ン酸やp−トルエンスルホン酸のような芳香族スルホン
酸または硫酸のような鉱酸を用いてビスフェノールAの
ようなビスフェノール類を1−(4−ヒドロキシフェニ
ル)インタノール類に変換することが記載されている。
その後、主要な生成物は対応するスピロビインダンビス
フェノール類であることが判明した。スチューペン(S
tueben)のジャーナル・オブ・ポリマー・サイエ
ンス・バー)A(J、 Po1y、 Sc1.、 Pa
rt A)第3巻、第3209〜3217頁(1965
年)参照。ビスフェノールAの縮合によるこの種の化合
物の製造は、硫酸の存在下での場合は米国特許第3,2
71.463号にも記載されており、無水のメタンスル
ホン酸や塩酸の存在下での場合は米国特許i4,552
,949号に、また強酸カチオン交換樹脂の存在下での
場合は米国特許第4,605゜789号に記載されてい
る。
フェノール類であることが判明した。スチューペン(S
tueben)のジャーナル・オブ・ポリマー・サイエ
ンス・バー)A(J、 Po1y、 Sc1.、 Pa
rt A)第3巻、第3209〜3217頁(1965
年)参照。ビスフェノールAの縮合によるこの種の化合
物の製造は、硫酸の存在下での場合は米国特許第3,2
71.463号にも記載されており、無水のメタンスル
ホン酸や塩酸の存在下での場合は米国特許i4,552
,949号に、また強酸カチオン交換樹脂の存在下での
場合は米国特許第4,605゜789号に記載されてい
る。
上記の方法で製造される生成物は収率が低く、あまり純
粋ではないので高分子量のポリカーボネートに変換する
ことができない場合が多い。(ポリカーボネートを有効
に製造するためにはビスフェノールの純度が非常に高く
なければならないことが知られている。)各種の多段階
精製工程がす −でに記載されているが、それは面倒
で時間がかかり、しかも高分子量のポリマーへ変換する
のに充分な純度をもつ生成物を得るのには有効ではない
。
粋ではないので高分子量のポリカーボネートに変換する
ことができない場合が多い。(ポリカーボネートを有効
に製造するためにはビスフェノールの純度が非常に高く
なければならないことが知られている。)各種の多段階
精製工程がす −でに記載されているが、それは面倒
で時間がかかり、しかも高分子量のポリマーへ変換する
のに充分な純度をもつ生成物を得るのには有効ではない
。
たとえば、スチューペン(Stueben)のTn ”
JJ工程では、クロロホルムによる充分な洗浄、ニナト
リウム塩への変換、ならびにその後の4回の再結晶、さ
らに遊離のビスフェノールへの変換、その上さらにもう
一回再結晶を必要とする。米国特許第3゜271.46
3号の方法にはトルエンによる再結晶か必要であるが、
これによって?11られる生成物は融点、高圧液体クロ
マトグラフィーおよびガスクロマトグラフィーでは純粋
であることが示されるものの浸出色に着色しており、比
較的低分子量のポリカーボネートしか得られない。米国
特許第4.605,789号の方法を2.2−ビス(3
゜5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに
適用すると適当なスピロビインダンビスフェノールの収
率は67%にしかならない。
JJ工程では、クロロホルムによる充分な洗浄、ニナト
リウム塩への変換、ならびにその後の4回の再結晶、さ
らに遊離のビスフェノールへの変換、その上さらにもう
一回再結晶を必要とする。米国特許第3゜271.46
3号の方法にはトルエンによる再結晶か必要であるが、
これによって?11られる生成物は融点、高圧液体クロ
マトグラフィーおよびガスクロマトグラフィーでは純粋
であることが示されるものの浸出色に着色しており、比
較的低分子量のポリカーボネートしか得られない。米国
特許第4.605,789号の方法を2.2−ビス(3
゜5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに
適用すると適当なスピロビインダンビスフェノールの収
率は67%にしかならない。
鉱酸を用いてビスフェノールを縮合させるスピロビイン
ダンビスフェノールの製造の際の他の欠点は酸の必要量
が大きいということである。硫酸、塩酸および臭化水素
酸を使用する従来の方法では通常酸がビスフェノールの
重量より過剰に必要であり、大過剰であることが多い。
ダンビスフェノールの製造の際の他の欠点は酸の必要量
が大きいということである。硫酸、塩酸および臭化水素
酸を使用する従来の方法では通常酸がビスフェノールの
重量より過剰に必要であり、大過剰であることが多い。
このような方法では酸が浪費される。
本発明は比較的少量の触媒を使用して比較的高い収率で
高純度のスピロビインダンビスフェノール類を製造する
方法を包含する。また本発明は、この方法によって製造
される実質的に純粋な6゜6′−ジヒドロキシ−3,3
,3’ 、3’ −テトラメチル−1,1′ −スピロ
ビインダンも包含する。これらの高純度の物質は非常に
高い分子量のポリカーボネートに変換することができる
。
高純度のスピロビインダンビスフェノール類を製造する
方法を包含する。また本発明は、この方法によって製造
される実質的に純粋な6゜6′−ジヒドロキシ−3,3
,3’ 、3’ −テトラメチル−1,1′ −スピロ
ビインダンも包含する。これらの高純度の物質は非常に
高い分子量のポリカーボネートに変換することができる
。
本発明はその一面において式Iの実質的に純粋なスピロ
ビインダンビスフェノール類の製造方法を包含し、この
方法は次の工程からなる。
ビインダンビスフェノール類の製造方法を包含し、この
方法は次の工程からなる。
(A)およそ100〜200℃の範囲の温度で、下記式
■: のビスフェノール類および下記式■: し1′13 のイソプロペニルフェノール類のうちの少なくともlF
r1を、アルカンスルホン酸および強いルイス酸である
多価金属ハロゲン化物から選択された酸性触媒と接触上
しめて、それにより祖なスピロビインダンビスフェノー
ルを生成させる。ただし、Rとnはすでに定義した通り
である。
■: のビスフェノール類および下記式■: し1′13 のイソプロペニルフェノール類のうちの少なくともlF
r1を、アルカンスルホン酸および強いルイス酸である
多価金属ハロゲン化物から選択された酸性触媒と接触上
しめて、それにより祖なスピロビインダンビスフェノー
ルを生成させる。ただし、Rとnはすでに定義した通り
である。
(B)下記式■;
H
のフェノール類および下記式V:
の1−(4−ヒドロキシフェニル)インタノール類を始
めとした副生物の大部分を前記粗なスピロビインダンビ
スフェノールから除去する。
めとした副生物の大部分を前記粗なスピロビインダンビ
スフェノールから除去する。
(C)工程Bの生成物をメタノールとメチレンクロライ
ドの混合物に溶解し、次いで水を加えて沈澱させること
によってさらに精製する。
ドの混合物に溶解し、次いで水を加えて沈澱させること
によってさらに精製する。
本発明の方法によって製造できる式1のスピロビインダ
ンビスフェノール類には6.6′ −ジヒドロキシ−3
,3,3’ 、3’ −テトラメチル−1,1′−スピ
ロビインダン(以後rsBIJとする)が含まれており
、通常はこれが好ましい。
ンビスフェノール類には6.6′ −ジヒドロキシ−3
,3,3’ 、3’ −テトラメチル−1,1′−スピ
ロビインダン(以後rsBIJとする)が含まれており
、通常はこれが好ましい。
また、SBIの各種のアルキル置換類似体やハロ置換類
似体、とくにnが1か2で、Rがメチル、クロロまたは
ブロモであるものがある。
似体、とくにnが1か2で、Rがメチル、クロロまたは
ブロモであるものがある。
本発明の方法は3つの連続する段階からなっており、第
1段階は調製工程で、第2および第3の段階は精製工程
である。工程Aで有用な反応体としては式■のビスフェ
ノール類がある。代表的なビスフェノール類としては、
2.2−ビス(3゜5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2.2−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパンおよび2.2−ビス(
3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンがある
。この度、対応する式■のイソプロペニルフェノール類
またはビスフェノール類とイソプロペニルフェノール類
の混合物も使用できることが発見された。好ましい化合
物はビスフェノールAとp−インプロペニルフェノール
である。後者の化合物はビスフェノールAの製造の際の
副生物流をクラッキングして1ワられる。
1段階は調製工程で、第2および第3の段階は精製工程
である。工程Aで有用な反応体としては式■のビスフェ
ノール類がある。代表的なビスフェノール類としては、
2.2−ビス(3゜5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2.2−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパンおよび2.2−ビス(
3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンがある
。この度、対応する式■のイソプロペニルフェノール類
またはビスフェノール類とイソプロペニルフェノール類
の混合物も使用できることが発見された。好ましい化合
物はビスフェノールAとp−インプロペニルフェノール
である。後者の化合物はビスフェノールAの製造の際の
副生物流をクラッキングして1ワられる。
工程Aにおいてビスフェノールおよびイソプロペニルフ
ェノールの少なくとも18を酸性触媒と接触させる。こ
の触媒はアルカンスルホン酸でよい。好ましいアルカン
スルホン酸はC1−4の第一級か第二級のアルキル基、
たとえばメチル、エチル、2−プロピルおよび1−ブチ
ルを含有するものである。入手容易性とを幼性の点でメ
タンスルホン酸が特に好ましい。
ェノールの少なくとも18を酸性触媒と接触させる。こ
の触媒はアルカンスルホン酸でよい。好ましいアルカン
スルホン酸はC1−4の第一級か第二級のアルキル基、
たとえばメチル、エチル、2−プロピルおよび1−ブチ
ルを含有するものである。入手容易性とを幼性の点でメ
タンスルホン酸が特に好ましい。
触媒としては強いルイス酸である多価金属ハロゲン化物
も有用である。これらは通常、オラー(Olah)らの
ジャーナル・オブΦアメリカンーケミカル・ソサイヤテ
ィ−(J、 Al11. Cll0II1. Soe、
)第94巻、第7448〜7461頁(1972年)で
「非常に活性な」フリーデル−クラフッ触媒として分類
されている金属ハロゲン化物と同等である。そのような
ハロゲン化物はAlCl3、AiB r −Al1
I %GaCl20)GaC15、G a B r
G a I 3、Z r Cl 4 、Hf Ci
4.3 ゝ Hf B r Hf I SbF −NbF
3.4 ゝ 4 ゝ 5NbC1
5、TaF5、TaCl5、TaB「5、MoF お
よびM o C1sである。人手容易性と有効性の点で
ハロゲン化アルミニウムが好ましく、塩化アルミニウム
が最も好ましい。
も有用である。これらは通常、オラー(Olah)らの
ジャーナル・オブΦアメリカンーケミカル・ソサイヤテ
ィ−(J、 Al11. Cll0II1. Soe、
)第94巻、第7448〜7461頁(1972年)で
「非常に活性な」フリーデル−クラフッ触媒として分類
されている金属ハロゲン化物と同等である。そのような
ハロゲン化物はAlCl3、AiB r −Al1
I %GaCl20)GaC15、G a B r
G a I 3、Z r Cl 4 、Hf Ci
4.3 ゝ Hf B r Hf I SbF −NbF
3.4 ゝ 4 ゝ 5NbC1
5、TaF5、TaCl5、TaB「5、MoF お
よびM o C1sである。人手容易性と有効性の点で
ハロゲン化アルミニウムが好ましく、塩化アルミニウム
が最も好ましい。
メタンスルホン酸と塩化アルミニウムとでは、スピロビ
インダンビスフェノールを高収率で、特に高純度で製造
する際の有効性の点で通常メタンスルホン酸が最も好ま
しい。しかし、塩化アルミニウムの場合は反応時間が非
常に短いので反応の完了が早ければ収率と純度が多少落
ちてもよいような場合には塩化アルミニウムを使用して
もよい。
インダンビスフェノールを高収率で、特に高純度で製造
する際の有効性の点で通常メタンスルホン酸が最も好ま
しい。しかし、塩化アルミニウムの場合は反応時間が非
常に短いので反応の完了が早ければ収率と純度が多少落
ちてもよいような場合には塩化アルミニウムを使用して
もよい。
反応はおよそ100〜200’C,好ましくはおよそ1
25〜175°Cの範囲の温度で行なう。反応は溶融状
態で行なってもよいし、フェノール、Q−ジクロロベン
ゼンまたは1,2.4−)ジクロロベンゼンのような適
切な比較的高沸点の有機媒質中の溶液中で行なってもよ
い。
25〜175°Cの範囲の温度で行なう。反応は溶融状
態で行なってもよいし、フェノール、Q−ジクロロベン
ゼンまたは1,2.4−)ジクロロベンゼンのような適
切な比較的高沸点の有機媒質中の溶液中で行なってもよ
い。
ビスフェノールまたはインプロペニルフェノールを基準
とした酸性化合物の割合は臨界的なものではなく、たと
えば約0.3〜10重瓜%の範囲内でよい。好ましい範
囲は約1〜5%である。0゜5%より低いと反応速度が
急激に落ちてしまい、副生物の1−(4−ヒドロキシフ
ェニル)インタノールの収率が上がってスピロビインダ
ンビスフェノールの収量は落ちる。一方、5%より多い
量にしてもほとんどまたはまったく利点は得られない。
とした酸性化合物の割合は臨界的なものではなく、たと
えば約0.3〜10重瓜%の範囲内でよい。好ましい範
囲は約1〜5%である。0゜5%より低いと反応速度が
急激に落ちてしまい、副生物の1−(4−ヒドロキシフ
ェニル)インタノールの収率が上がってスピロビインダ
ンビスフェノールの収量は落ちる。一方、5%より多い
量にしてもほとんどまたはまったく利点は得られない。
反応の完了に必要な時間は通常約6時間までであり、こ
れより長い反応時間を使用しても特に生成物の収率が下
がることはない。すでに述べたように、触媒としてアル
カンスルホン酸を使用するより塩化アルミニウムを使用
した場合の方が反応の完了が多少早い。
れより長い反応時間を使用しても特に生成物の収率が下
がることはない。すでに述べたように、触媒としてアル
カンスルホン酸を使用するより塩化アルミニウムを使用
した場合の方が反応の完了が多少早い。
工程Bは祖なスピロビインダンビスフェノールから副生
物の大部分を除去する段階である。最も高濃度で存在す
る副生物は式IVのフェノール類と式Vの1−(4−ヒ
ドロキシフェニル)インタノール類であり、SBIの製
造の場合にはフェノールと1−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1,3゜3−トリメチル−6−インタノールであ
る。前者はビスフェノールAから4−イソプロペニルフ
ェノールへのクラッキングによって生成し、後者はイソ
プロペニルフェノールのコロ化によって生成する。
物の大部分を除去する段階である。最も高濃度で存在す
る副生物は式IVのフェノール類と式Vの1−(4−ヒ
ドロキシフェニル)インタノール類であり、SBIの製
造の場合にはフェノールと1−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1,3゜3−トリメチル−6−インタノールであ
る。前者はビスフェノールAから4−イソプロペニルフ
ェノールへのクラッキングによって生成し、後者はイソ
プロペニルフェノールのコロ化によって生成する。
フェノール類、特にフェノール自体は1ド純な水洗およ
び/または水蒸気蒸溜によって除去するのが便利であろ
う。1−(4−ヒドロキシフェニル)インタノール類を
除去するには、これに対する溶剤であるが大量のスピロ
ビインダンビスフェノールを溶解しない有機の液体に溶
解すればよい。そのような液体としては、芳香族炭化水
素(たとえばベンゼン、トルエン)および塩素化脂肪族
炭化水素(たとえばメチレンクロライド、クロロホルム
、1,1,2.2. −テトラクロロエタン)がある。
び/または水蒸気蒸溜によって除去するのが便利であろ
う。1−(4−ヒドロキシフェニル)インタノール類を
除去するには、これに対する溶剤であるが大量のスピロ
ビインダンビスフェノールを溶解しない有機の液体に溶
解すればよい。そのような液体としては、芳香族炭化水
素(たとえばベンゼン、トルエン)および塩素化脂肪族
炭化水素(たとえばメチレンクロライド、クロロホルム
、1,1,2.2. −テトラクロロエタン)がある。
メチレンクロライドが好ましい。
工程Bで除去された1−(4−ヒドロキシフェニル)イ
ンタノール副生物は追加のビスフェノールおよび/また
はインプロペニルフェノールと一緒にしてスピロビイン
ダンビスフェノールに変換してもよい。
ンタノール副生物は追加のビスフェノールおよび/また
はインプロペニルフェノールと一緒にしてスピロビイン
ダンビスフェノールに変換してもよい。
本発明の方法の工程Cは工程Bの生成物をさらに精製す
る段階である。この字li製は、粗生成物をメタノール
とメチレンクロライドの混合物に溶解し、水を加えて実
質的に純粋なスピロビインダンビスフェノールを沈澱さ
せることによって行なわれる。この工程で見られる生成
物の損失は極端に少ない。というのは、除去されるのは
極めて少量存在していてもスピロビインダンビスフェノ
ールからポリカーボネートへの変換に重大な影響を与え
、特にこのポリカーボネートの分子量に重大な影響を与
えることがある着色物質およびその他の不純物にすぎな
いからである。
る段階である。この字li製は、粗生成物をメタノール
とメチレンクロライドの混合物に溶解し、水を加えて実
質的に純粋なスピロビインダンビスフェノールを沈澱さ
せることによって行なわれる。この工程で見られる生成
物の損失は極端に少ない。というのは、除去されるのは
極めて少量存在していてもスピロビインダンビスフェノ
ールからポリカーボネートへの変換に重大な影響を与え
、特にこのポリカーボネートの分子量に重大な影響を与
えることがある着色物質およびその他の不純物にすぎな
いからである。
工程Cで使用するメタノール、メチレンクロライドおよ
び水の割合は臨界的なものではなく、所望の溶解と沈澱
が達成されるように適宜調節できる。一般に、メタノー
ル対メチレンクロライドの容積比は約3〜6:1であり
、水対メタノールとメチレンクロライドの合計の容積比
は約0.8〜1.2:1が適している。
び水の割合は臨界的なものではなく、所望の溶解と沈澱
が達成されるように適宜調節できる。一般に、メタノー
ル対メチレンクロライドの容積比は約3〜6:1であり
、水対メタノールとメチレンクロライドの合計の容積比
は約0.8〜1.2:1が適している。
工程Cの溶解操作の間に均一な溶液が形成される。水を
添加するとこれは液相と固相とを金白°する不均一混合
物に変換される。二つの液相と一つの固相が存在するこ
とが多く、この固相が所望の精製されたスピロビインダ
ンビスフェノールであり、これは主として下相のメチレ
ンクロライド液相にある。生成物は通常の濾過や遠心操
作によって除去することができ、所望であればメチレン
クロライドのような適切な有機液体で洗浄して、高温お
よび/または減圧で乾燥させてもよい。所望により、工
程Cを繰返して特に高い純度の物質を得てもよい。
添加するとこれは液相と固相とを金白°する不均一混合
物に変換される。二つの液相と一つの固相が存在するこ
とが多く、この固相が所望の精製されたスピロビインダ
ンビスフェノールであり、これは主として下相のメチレ
ンクロライド液相にある。生成物は通常の濾過や遠心操
作によって除去することができ、所望であればメチレン
クロライドのような適切な有機液体で洗浄して、高温お
よび/または減圧で乾燥させてもよい。所望により、工
程Cを繰返して特に高い純度の物質を得てもよい。
本発明の方法で製造されたSBIの純度は、その1gを
分光級のメタノール100mlに溶かした溶液の光路長
を10cmとしたときの350ナノメーターの吸光度で
表わすと便利である。本発明の方法で製造したSBIの
こうして7!−j定した吸光度は一般に最大で0.06
であり、好ましくは最大で0.03までである。これは
、従来SBIを製造するのに用いられていた方法では得
られなかった純度である。したがってこの純度のSBI
は本発明の別の一面を構成する。
分光級のメタノール100mlに溶かした溶液の光路長
を10cmとしたときの350ナノメーターの吸光度で
表わすと便利である。本発明の方法で製造したSBIの
こうして7!−j定した吸光度は一般に最大で0.06
であり、好ましくは最大で0.03までである。これは
、従来SBIを製造するのに用いられていた方法では得
られなかった純度である。したがってこの純度のSBI
は本発明の別の一面を構成する。
以下の実施例で本発明の方法を例示する。パーセントは
他に明記してない限りすべて重量基準である。
他に明記してない限りすべて重量基準である。
実施例1
ビスフェノールA l kgとメタンスルホン酸50g
との混合物を3時間135℃に加熱した。その間にこの
混合物は溶融した。溶融した混合物を攪拌しながら水2
リットル中に注ぎ、沈澱した固体を濾過し、追加の水2
リットルで洗浄した。濾過した残有をぶ流ドでメチレン
クロライド1.5リットルと共に1時間加熱した。この
混合物を一5℃に冷却して濾過し、残有を追加の冷たい
メチレンクロライド1リツトルで洗浄した。この時点で
生成物を高圧液体クロマトグラフィーで分析したところ
SBIの純度は98.5%であった。
との混合物を3時間135℃に加熱した。その間にこの
混合物は溶融した。溶融した混合物を攪拌しながら水2
リットル中に注ぎ、沈澱した固体を濾過し、追加の水2
リットルで洗浄した。濾過した残有をぶ流ドでメチレン
クロライド1.5リットルと共に1時間加熱した。この
混合物を一5℃に冷却して濾過し、残有を追加の冷たい
メチレンクロライド1リツトルで洗浄した。この時点で
生成物を高圧液体クロマトグラフィーで分析したところ
SBIの純度は98.5%であった。
この生成物を、メタノール1リツトルとメチレンクロラ
イド200mlの混合物に溶解して均一な溶液を形成し
た。この溶液に、攪拌しながら脱イオン水を1.2リッ
トル加えたところ、三相の混合物が形成された。下側の
液相はメチレンクロライドとメタノールからなり、上側
の液相はメチレンクロライドと水からなり、固相は下側
の液相と一緒になっていた。この混合物を濾過し、残有
をメチレンクロライドで洗浄した。メチレンクロライド
−メタノール−水の溶解と沈澱を繰返し、それによって
得られた固体生成物を減圧下のオーブンで乾燥した。実
質的に純粋なSBIが253g(理論値の57%)が得
られた。
イド200mlの混合物に溶解して均一な溶液を形成し
た。この溶液に、攪拌しながら脱イオン水を1.2リッ
トル加えたところ、三相の混合物が形成された。下側の
液相はメチレンクロライドとメタノールからなり、上側
の液相はメチレンクロライドと水からなり、固相は下側
の液相と一緒になっていた。この混合物を濾過し、残有
をメチレンクロライドで洗浄した。メチレンクロライド
−メタノール−水の溶解と沈澱を繰返し、それによって
得られた固体生成物を減圧下のオーブンで乾燥した。実
質的に純粋なSBIが253g(理論値の57%)が得
られた。
この精製されたSBIのサンプルを1g分光級のメタノ
ール100+nlに溶解し、光路f:<10 cmのパ
リアン(Varlan) 219分光光度計を用いて3
50nmでの紫外吸収を決定した。吸光度は0.016
であることが判明した。
ール100+nlに溶解し、光路f:<10 cmのパ
リアン(Varlan) 219分光光度計を用いて3
50nmでの紫外吸収を決定した。吸光度は0.016
であることが判明した。
実施例2
実施例1の手順に従い、各種の触媒をいろいろな濃度で
用い、さまざまな温度で、いろいろな時間の後に高圧液
体クロマトグラフィーによって粗生成物を分析して、ビ
スフェノールAと4−インプロペニルフェノールを縮合
反応にかけた。いくつかの実験では溶媒を使用した。
用い、さまざまな温度で、いろいろな時間の後に高圧液
体クロマトグラフィーによって粗生成物を分析して、ビ
スフェノールAと4−インプロペニルフェノールを縮合
反応にかけた。いくつかの実験では溶媒を使用した。
これらの実験の結果を表Iに挙げた。次の略号を使用す
る。
る。
BPA−ビスフェノールA
lPP−4−イソプロペニルフェノールCD−1−(4
−ヒドロキシフェニル)−1,3,3−)ツメチル−6
−インタノール(4−インプロペニルフェノールの環状
ダイマー) MSA−メタンスルホン酸 DCB−o−ジクロロベンゼン AC−塩化アルミニウム。
−ヒドロキシフェニル)−1,3,3−)ツメチル−6
−インタノール(4−インプロペニルフェノールの環状
ダイマー) MSA−メタンスルホン酸 DCB−o−ジクロロベンゼン AC−塩化アルミニウム。
生成物に変換されていた反応体のパーセントは「変喚率
」で表わしである。「収率」と表示した欄はSBIと環
状ダイマーの合計を基■にした粗生成物中のSBIと環
状ダイマーのモル%を意味する。
」で表わしである。「収率」と表示した欄はSBIと環
状ダイマーの合計を基■にした粗生成物中のSBIと環
状ダイマーのモル%を意味する。
実施例3
ビスフェノールA30gと塩化アルミニウム1gとの混
合物を窒素下で攪拌しながら15分間140℃に加熱し
た。水を10ml加えて反応を停止し、粗生成物を高圧
液体クロマトグラフィーで分析したところビスフェノー
ルAは完全に消費されていた。
合物を窒素下で攪拌しながら15分間140℃に加熱し
た。水を10ml加えて反応を停止し、粗生成物を高圧
液体クロマトグラフィーで分析したところビスフェノー
ルAは完全に消費されていた。
この混合物を水蒸気蒸溜して副生物のフェノールを除去
し、半固体の残香をa過して分離し、75mlのメチレ
ンクロライドと共に還流下で1時間加熱した。固体の生
成物を濾過し、90℃の真空オーブンで乾燥した後、実
施例1に記載した方法で吸光度を/1llj定すると0
.119であった。
し、半固体の残香をa過して分離し、75mlのメチレ
ンクロライドと共に還流下で1時間加熱した。固体の生
成物を濾過し、90℃の真空オーブンで乾燥した後、実
施例1に記載した方法で吸光度を/1llj定すると0
.119であった。
粗SBIをメタノール50mlとメチレンクロライド1
0mlの混合物に溶解し、この溶液を水60ml中に注
いだ。SBIを濾過して除き、再びメタノール、メチレ
ンクロライドおよび水で精製し、真空オーブンで乾燥し
た。二度目の乾燥の後の吸光度はo、osogであった
。
0mlの混合物に溶解し、この溶液を水60ml中に注
いだ。SBIを濾過して除き、再びメタノール、メチレ
ンクロライドおよび水で精製し、真空オーブンで乾燥し
た。二度目の乾燥の後の吸光度はo、osogであった
。
実施例4
実施例3の手順に従い、各種の酸性触媒をさまざまな割
合で存在させてビスフェノールAを縮合した。適当な時
間経過後tn生成物をビスフェノールAが存在するか否
かについて分析した。その結果を表■に挙げた。
合で存在させてビスフェノールAを縮合した。適当な時
間経過後tn生成物をビスフェノールAが存在するか否
かについて分析した。その結果を表■に挙げた。
表 ■
実施例5
本実施例は、いくつかの酸性物質を触媒としてビスフェ
ノールAを縮合し、その後いくつかの場合には各種の媒
質を用いて精製して得られたSB■生成物の吸光度を比
較する。
ノールAを縮合し、その後いくつかの場合には各種の媒
質を用いて精製して得られたSB■生成物の吸光度を比
較する。
結果を表■に示す。p−)ルエンスルホン酸はrTSA
Jと表わしである。「スチューペン(Stuebcn)
Jと表示したサンプルはスチューペン法によって精製
したものであり、この方法では、クロロホルムで四回洗
浄し、空気乾燥し、ニナトリウム塩に変換し、この塩を
窒素下でエタノール−水混合物で五回再結晶し、再び遊
離のビスフェノールに変換し、これをさらに三日メタノ
ール−水混合物で11結晶した。
Jと表わしである。「スチューペン(Stuebcn)
Jと表示したサンプルはスチューペン法によって精製
したものであり、この方法では、クロロホルムで四回洗
浄し、空気乾燥し、ニナトリウム塩に変換し、この塩を
窒素下でエタノール−水混合物で五回再結晶し、再び遊
離のビスフェノールに変換し、これをさらに三日メタノ
ール−水混合物で11結晶した。
表 ■
表■の結果は、本発明の製造・精製方法を用いて得られ
る生成物の純度か向上していることを極めて明確に示し
ている。また、塩化アルミニウムと比べてメタンスルホ
ン酸を用いた場合に得られる純度の利点も示している。
る生成物の純度か向上していることを極めて明確に示し
ている。また、塩化アルミニウムと比べてメタンスルホ
ン酸を用いた場合に得られる純度の利点も示している。
本発明の方法によって製造される実質的に純粋なスピロ
ビインダンビスフェノールは、分子量が非常に大きいホ
モポリカーボネートとコポリカーボネートの製造に有用
である。分子量を制御しなければ、従来から知られてい
たものよりもかなり高い分子量の生成物が得られる。
ビインダンビスフェノールは、分子量が非常に大きいホ
モポリカーボネートとコポリカーボネートの製造に有用
である。分子量を制御しなければ、従来から知られてい
たものよりもかなり高い分子量の生成物が得られる。
以下の説明で、ホモポリカーボネートに特に言及するが
、それはその性質が容品に確かめられ、しかも分子量と
容品に関連づけられるからである。
、それはその性質が容品に確かめられ、しかも分子量と
容品に関連づけられるからである。
そのような性質のうちのふたつは、25℃のクロロホル
ム中での固有粘度(IV)とガラス転移温度(Tg)で
ある。
ム中での固有粘度(IV)とガラス転移温度(Tg)で
ある。
すでに引用したスチューペンの論文によると、比較的に
常用されている界面重合では「還元粘度」が0.75で
Tgが150℃のホモボリカーボネ−トが得られていた
。「還元粘度」というパラメーターはIVと等しくはな
いことに注意すべきであり、このIVは匹敵する分子量
ではずっと小さい値を示す。前述した米国特許第4.5
52.949号には、同様に製造されたTgが207.
2℃のSBIホモポリカーボネートが記載されている。
常用されている界面重合では「還元粘度」が0.75で
Tgが150℃のホモボリカーボネ−トが得られていた
。「還元粘度」というパラメーターはIVと等しくはな
いことに注意すべきであり、このIVは匹敵する分子量
ではずっと小さい値を示す。前述した米国特許第4.5
52.949号には、同様に製造されたTgが207.
2℃のSBIホモポリカーボネートが記載されている。
対照的に、本発明の実質的に純粋なSBI生成物からは
Tgの値が約230℃までものホモポリカーボネートが
得られている。分子量が増大(したがってIVが増大)
するとTg値は最大値まで」−昇し、その後はさらに分
子口が増大しても一定の値にとどまることが業界で知ら
れている。したがって、本発明のSBIから得られるホ
モポリカーボネートは従来技術に開示されているものよ
りかなり高い分子量をもっている。
Tgの値が約230℃までものホモポリカーボネートが
得られている。分子量が増大(したがってIVが増大)
するとTg値は最大値まで」−昇し、その後はさらに分
子口が増大しても一定の値にとどまることが業界で知ら
れている。したがって、本発明のSBIから得られるホ
モポリカーボネートは従来技術に開示されているものよ
りかなり高い分子量をもっている。
ここで図面を参照する。図はSBIホモポリカーボネー
トのTg値をIVに対してプロットしたクラフチアル。
トのTg値をIVに対してプロットしたクラフチアル。
T g ハ、Ivが0.1dl/gのときの215℃か
らIVが0.4dl/gのときの230℃まで比較的着
実に上昇していることが分る。
らIVが0.4dl/gのときの230℃まで比較的着
実に上昇していることが分る。
IVがさらに増大してもTgにはほとんど変化が見られ
ない。また、スチューペンや米国特許第4゜552.9
49号のホモポリカーボネートはIVが0.1dl/g
より低く、シたがってその分子量は本発明の組成物から
得られる分子量と比較できない程低い。
ない。また、スチューペンや米国特許第4゜552.9
49号のホモポリカーボネートはIVが0.1dl/g
より低く、シたがってその分子量は本発明の組成物から
得られる分子量と比較できない程低い。
次の実施例で、本発明の実質的に純粋なSBIから高分
子口のホモポリカーボネートを製造する場合を例示する
。
子口のホモポリカーボネートを製造する場合を例示する
。
実施例6
はぼ実施例1に記載したようにして製造した5B19.
86g (32,1ミリモル)、メチレンクロライド7
5ml.および脱イオン水60mlの混合物に、50%
の水酸化ナトリウム水溶液を水相のpHを11に調節す
るような毒で加えた。この混合物中にホスゲンを0.4
g/分で通した。ホスゲンの理論量の2596.50%
および75%を加えた後、さらに9.86gのSBIを
導入し、ホスゲンの添加を続けた。SBIの全使用量は
39.5g(128ミリモル)であった。
86g (32,1ミリモル)、メチレンクロライド7
5ml.および脱イオン水60mlの混合物に、50%
の水酸化ナトリウム水溶液を水相のpHを11に調節す
るような毒で加えた。この混合物中にホスゲンを0.4
g/分で通した。ホスゲンの理論量の2596.50%
および75%を加えた後、さらに9.86gのSBIを
導入し、ホスゲンの添加を続けた。SBIの全使用量は
39.5g(128ミリモル)であった。
SBIの最後の添加の後、1.05Mトリエチルアミン
のメチレンクロライド溶液(トリエチルアミンが1.6
ミリモル)を3.01ml加え、ホスゲンの添加を続け
た。ホスゲンの添加mが理論の130%になったとき、
混合物をメチレンクロライド200mlで希釈し、有機
相を分離し、3%塩酸および脱イオン水で洗浄した。ア
セトンを10ml加えた後、メタノールを250ml加
えて混合物をワーリングブレンダーで攪拌した。沈澱し
たSBIホモポリカーボネートを濾過し、100℃のオ
ーブンで乾燥した。
のメチレンクロライド溶液(トリエチルアミンが1.6
ミリモル)を3.01ml加え、ホスゲンの添加を続け
た。ホスゲンの添加mが理論の130%になったとき、
混合物をメチレンクロライド200mlで希釈し、有機
相を分離し、3%塩酸および脱イオン水で洗浄した。ア
セトンを10ml加えた後、メタノールを250ml加
えて混合物をワーリングブレンダーで攪拌した。沈澱し
たSBIホモポリカーボネートを濾過し、100℃のオ
ーブンで乾燥した。
得られた生成物の性質を二つのコントロール(比較対照
)と比べて表IVに示す。f[fil平均分子星はゲル
透過クロマトグラフィーでポリスチレンに対してdl1
1定した。
)と比べて表IVに示す。f[fil平均分子星はゲル
透過クロマトグラフィーでポリスチレンに対してdl1
1定した。
表 ■
実施例6の生成物の分子口に星印をつけであるのは、こ
れが約100,000までしか正確には読取れないよう
な装置でAl1定したためおおよその値であるからであ
る。しかし、分子口とIVの値から明らかなように、実
施例6のポリマーはコントロールのものよりずっと高い
分子口を何していた。
れが約100,000までしか正確には読取れないよう
な装置でAl1定したためおおよその値であるからであ
る。しかし、分子口とIVの値から明らかなように、実
施例6のポリマーはコントロールのものよりずっと高い
分子口を何していた。
またコントロールBの生成物のTg値が237℃である
ことから明らかなように、これは典型的なSBIホモポ
リカーボネートを表わしていない。
ことから明らかなように、これは典型的なSBIホモポ
リカーボネートを表わしていない。
すなわち、得ることができる最も高いTgの値は通常約
230℃であるからである。このポリマーの高い分子量
とTg値は、おそらくはSBIサンプル中の不純物が関
与するある種の形態の分枝または架橋の証拠であると思
われる。したがって、本発明の実質的に純粋なSBIは
ずでに知られているものよりもずっと大きい分子量をも
つホモポリカーボネートの製造に使用することができる
ことが明らかである。
230℃であるからである。このポリマーの高い分子量
とTg値は、おそらくはSBIサンプル中の不純物が関
与するある種の形態の分枝または架橋の証拠であると思
われる。したがって、本発明の実質的に純粋なSBIは
ずでに知られているものよりもずっと大きい分子量をも
つホモポリカーボネートの製造に使用することができる
ことが明らかである。
図はSBIホモポリカーボネートのTg値をlVに対し
てプロットしたグラフである。
てプロットしたグラフである。
Claims (20)
- (1)式: ( I )▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、各Rはそれぞれ独立してC_1_−_4の第一
級もしくは第二級のアルキルまたはハロであり、nは0
〜3である]の実質的に純粋なスピロビインダンビスフ
ェノールの製造方法であって、 (A)およそ100〜200℃の範囲の温度で、 (II)▲数式、化学式、表等があります▼のビスフェノ
ール類および式: (III)▲数式、化学式、表等があります▼ のイソプロペニルフェノール類のうちの少なくとも1種
を、アルカンスルホン酸および強いルイス酸である多価
金属ハロゲン化物から選択された酸性触媒と接触せしめ
て、それにより粗なスピロビインダンビスフェノールを
生成させ、 (B)式: (IV)▲数式、化学式、表等があります▼ のフェノール類および式: (V)▲数式、化学式、表等があります▼ の1−(4−ヒドロキシフェニル)インタノール類を含
めた副生物の大部分を前記粗なスピロビインダンビスフ
ェノールから除去し、 (C)工程Bの生成物をメタノールとメチレンクロライ
ドの混合物に溶解し、次いで水を加えて沈澱させること
によってさらに精製する ことからなる方法。 - (2)触媒がアルカンスルホン酸であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項に記載の方法。 - (3)アルカンスルホン酸がメタンスルホン酸であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の方法。 - (4)nが0であることを特徴とする特許請求の範囲第
3項に記載の方法。 - (5)工程Aの反応体がビスフェノールAであることを
特徴とする特許請求の範囲第4項に記載の方法。 - (6)工程Aの反応体が4−イソプロペニルフェノール
であることを特徴とする特許請求の範囲第4項に記載の
方法。 - (7)触媒が金属ハロゲン化物であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項に記載の方法。 - (8)金属ハロゲン化物がAlCl_3、AlBr_3
、AlI_3、GaCl_2、GaCl_3、GaBr
_3、GaI_3、ZrCl_4、HfCl_4、Hf
Br_4、HfI_4、SbF_5、NbF_5、Nb
Cl_5、TaF_5、TaCl_5、TaBr_5、
MoF_6またはMoCl_5であることを特徴とする
特許請求の範囲第7項に記載の方法。 - (9)金属ハロゲン化物が塩化アルモニウムであること
を特徴とする特許請求の範囲第8項に記載の方法。 - (10)工程Aを溶融状態で行なうことを特徴とする特
許請求の範囲第1項に記載の方法。 - (11)工程Aを溶液中で行なうことを特徴とする特許
請求の範囲第1項に記載の方法。 - (12)式IVのフェノール類を、水洗および水蒸気蒸溜
の少なくともいずれかによって除去することを特徴とす
る特許請求の範囲第1項に記載の方法。 - (13)式Vの1−(4−ヒドロキシフェニル)インタ
ノール類を、その溶剤であるが大量のスピロビインダン
ビスフェノールは溶解しない有機の液体に溶解すること
によって除去することを特徴とする特許請求の範囲第1
2項に記載の方法。 - (14)有機の液体がメチレンクロライドであることを
特徴とする特許請求の範囲第13項に記載の方法。 - (15)工程Cのメタノール対メチレンクロライドの容
積比が約3〜6:1であり、水対メタノールとメチレン
クロライドの合計の容積比が約0.8〜1.2:1であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第13項に記載の方
法。 - (16)nが0であることを特徴とする特許請求の範囲
第14項に記載の方法。 - (17)工程Aの反応体がビスフェノールAであること
を特徴とする特許請求の範囲第16項に記載の方法。 - (18)工程Aの反応体が4−イソプロペニルフェノー
ルであることを特徴とする特許請求の範囲第16項に記
載の方法。 - (19)1gを分光級メタノール100mlに溶かした
溶液で光路長を10cmとして測定したときに350ナ
ノメーターの吸光度が最大でも0.06である、実質的
に純粋な6,6′−ジヒドロキシ−3,3,3′,3′
−テトラメチル−1,1′−スピロビインダン。 - (20)特許請求の範囲第19項に記載の吸光度が最大
でも0.03である、実質的に純粋な6,6′−ジヒド
ロキシ−3,3,3′,3′−テトラメチル−1,1′
−スピロビインダン。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/917,644 US4791234A (en) | 1986-10-10 | 1986-10-10 | Substantially pure spirobiindane bisphenols and method for their preparation |
US917,644 | 1986-10-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63146837A true JPS63146837A (ja) | 1988-06-18 |
JP2651157B2 JP2651157B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=25439113
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62250845A Expired - Lifetime JP2651157B2 (ja) | 1986-10-10 | 1987-10-06 | 実質的に純粋なスピロビインダンビスフェノール類の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4791234A (ja) |
EP (1) | EP0264026B1 (ja) |
JP (1) | JP2651157B2 (ja) |
DE (1) | DE3768411D1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5399783A (en) * | 1993-04-12 | 1995-03-21 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Preparation of 6,6'-dihydroxy-3,3,3',3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane |
JP2008507516A (ja) * | 2004-07-20 | 2008-03-13 | インダストリアル テクノロジー リサーチ インスティチュート | 鏡像関係にある純粋な1,1’−スピロビインダン−6,6’−ジオール誘導体の製造方法 |
JP2015025031A (ja) * | 2013-07-24 | 2015-02-05 | 三菱化学株式会社 | ポリカーボネート樹脂の製造方法及びポリカーボネート樹脂 |
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---|---|---|---|---|
US4950731A (en) * | 1987-04-20 | 1990-08-21 | General Electric Company | Method for preparing spirobiindane polycarbonates |
US4895919A (en) * | 1988-10-07 | 1990-01-23 | General Electric Company | Spirobiindane copolysiloxanecarbonates and method for their preparation |
US5401973A (en) * | 1992-12-04 | 1995-03-28 | Atomic Energy Of Canada Limited | Industrial material processing electron linear accelerator |
US5994596A (en) * | 1998-03-31 | 1999-11-30 | Molecular Optoelectronics Corporation | Method for preparing high purity indane bisphenols |
RU2759197C1 (ru) * | 2020-12-16 | 2021-11-10 | Закрытое акционерное общество "Научно-технический центр "Электросети" (ЗАО "НТЦ "Электросети") | НАТЯЖНОЙ ЗАЖИМ СПИРАЛЬНОГО ТИПА С УКОРОЧЕННОЙ НИЖНЕЙ СИЛОВОЙ ПРЯДЬЮ И ВЕРХНЕЙ СИЛОВОЙ ПРЯДЬЮ СТУПЕНЧАТОЙ КОНСТРУКЦИИ (варианты) |
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US2979534A (en) * | 1957-04-15 | 1961-04-11 | American Cyanamid Co | Novel process for preparing substituted dihydric indane derivatives |
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US4049721A (en) * | 1976-09-07 | 1977-09-20 | General Electric Company | Purification of crude 9,9-bis-(4-hydroxyphenyl)-fluorene |
US4461915A (en) * | 1982-11-15 | 1984-07-24 | General Electric Company | Purification of bisphenol-A |
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US4605789A (en) * | 1985-12-23 | 1986-08-12 | The Dow Chemical Company | Process for preparing spirobiindanols |
-
1986
- 1986-10-10 US US06/917,644 patent/US4791234A/en not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-09-30 EP EP87114281A patent/EP0264026B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-30 DE DE8787114281T patent/DE3768411D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-10-06 JP JP62250845A patent/JP2651157B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP2008507516A (ja) * | 2004-07-20 | 2008-03-13 | インダストリアル テクノロジー リサーチ インスティチュート | 鏡像関係にある純粋な1,1’−スピロビインダン−6,6’−ジオール誘導体の製造方法 |
JP4856070B2 (ja) * | 2004-07-20 | 2012-01-18 | インダストリアル テクノロジー リサーチ インスティチュート | 鏡像関係にある純粋な1,1’−スピロビインダン−6,6’−ジオール誘導体の製造方法 |
JP2015025031A (ja) * | 2013-07-24 | 2015-02-05 | 三菱化学株式会社 | ポリカーボネート樹脂の製造方法及びポリカーボネート樹脂 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2651157B2 (ja) | 1997-09-10 |
EP0264026B1 (en) | 1991-03-06 |
US4791234A (en) | 1988-12-13 |
EP0264026A1 (en) | 1988-04-20 |
DE3768411D1 (de) | 1991-04-11 |
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