JP7128582B2 - ナフタレン骨格を有するビスアリールアルコール類及びその製造方法 - Google Patents
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Description
以下一般式(1)で表されるアルコール類。
〔2〕
環Z1及び環Z2がともにナフタレン環である、〔1〕に記載のアルコール類。
〔3〕
環Z3がナフタレン環である、〔1〕又は〔2〕に記載のアルコール類。
〔4〕
以下一般式(2):
で表されるカルボニル化合物類と、
以下一般式(3):
で表されるアリールアルコール類とを反応させ、以下一般式(4):
本発明のアルコール類は上記一般式(1)で表される。上記一般式(1)中、環Z1、環Z2及び環Z3は芳香環を表し、その内少なくとも1つはナフタレン環を含む。上記一般式(1)で表されるアルコール類がより高融点及び高屈折率となることから、環Z1及び環Z2がともにナフタレン環であることが好ましく、特に環Z1、環Z2及び環Z3の全てがナフタレン環であることが好ましい。
環Z1、環Z2及び環Z3に関し、ナフタレン環以外の芳香環としては、例えばベンゼン環の他、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環等の多環式の芳香環等が挙げられる。少なくとも環Z3は、フルオレン環以外の芳香環であることが好ましく、環Z1、環Z2及び環Z3の全てがフルオレン環以外の芳香環であることがより好ましい。
置換基R1における分岐を有してもよい炭素数1~6のアルキル基として例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の直鎖状又は分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数5~12のシクロアルキル基として例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ビシクロへキシル基等が挙げられ、炭素数6~12のアリール基として例えばフェニル基、アルキル(例えば、炭素数1~4のアルキル)置換フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。これら置換基R1の中でも好ましくは水素原子、炭素数1~3の直鎖状アルキル基又はフェニル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はフェニル基である。
置換基R2a、R2b及びR2cにおける分岐を有してもよい炭素数1~6のアルキル基として例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の直鎖状又は分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数6~12のアリール基として例えばフェニル基、アルキル(例えば、炭素数1~4のアルキル)置換フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素等が挙げられる。これら置換基の中でも炭素数1~4のアルキル基又は炭素数6~12のアリール基が好ましく、特にメチル基が好ましい。
R3a及びR3bにおける分岐を有してもよい炭素数2~4のアルキレン基として例えばエチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、n-ブチレン基、s-ブチレン基、t-ブチレン基が挙げられる。これらアルキレン基の中でもエチレン基又はイソプロピレン基が好ましい。
上記一般式(1)で表されるアルコール類は例えば、塩基もしくは酸存在下、上記一般式(2)で表されるカルボニル化合物類と、上記一般式(3)で表されるアリールアルコール類とを反応させ、上記一般式(4)で表されるビスアリールアルコール類を得、該ビスアリールアルコール類とアルキレンカーボネートとを反応させることによって得られる。上記一般式(2)で表されるカルボニル化合物類の内、置換基R1が水素原子であるカルボニル化合物類(アルデヒド類)である場合、反応性や位置選択性の観点から塩基を用いることが好ましい。また、反応性の観点から置換基R1が水素原子以外のカルボニル化合物類(ケトン類)である場合、酸を用いることが好ましい。
また、上記一般式(2)中、置換基数を表すpは0又は1~3の整数を表し、好ましくは0又は1、特に好ましくは0である。
また、上記一般式(3)中、置換基数を表すqは0又は1~3の整数を表し、好ましくは0又は1、特に好ましくは0である。
上記一般式(3)中、環Zは、上記一般式(1)における環Z1及び環Z2に相当する。
含硫黄カルボン酸類として例えばチオ酢酸、メルカプトプロピオン酸、チオグリコール酸、チオシュウ酸、メルカプトコハク酸、メルカプト安息香酸等が例示され、アルキルメルカプタン類として例えばメチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、イソプロピルメルカプタン、n-ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン等のC1-16アルキルメルカプタンが例示される。これら含硫黄化合物の中でも、工業的な取扱性の良さからドデシルメルカプタンが好適に用いられる。
これら含硫黄化合物を使用する場合の使用量は、上記一般式(2)で表されるカルボニル化合物類1重量部に対し通常0.01~1.0重量部、十分な反応速度を得る観点と後処理の容易さの観点から、好ましくは該カルボニル化合物類1重量部に対し0.01~0.50重量部使用する。これら含硫黄化合物は1種のみを用いてもよいし、あるいは必要に応じ2種以上併用しても良い。
脂肪族炭化水素類として例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカンなどが例示され、芳香族炭化水素類として例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等が例示され、エーテル類として例えばジエチルエーテルなどのジアルキルエーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類が例示され、ハロゲン化炭化水素類として例えば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化水素類が例示され、非プロトン性極性溶媒として例えばジメチルスルホキシド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等が例示される。これら溶媒の中でも、入手性や取扱性の良さからトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が好適に使用される。
これら溶媒を使用する場合の使用量は、上記一般式(2)で表されるカルボニル化合物類1重量部に対し通常0.1~10重量部、十分な反応速度を得る観点と経済的な観点から、好ましくは該カルボニル化合物類1重量部に対し0.5~5.0重量部使用する。これら溶媒は1種のみを用いてもよいし、あるいは必要に応じ2種以上併用してもよい。
これら塩基を使用する際の使用量は、上記一般式(4)で表されるビスアリールアルコール類1モルに対し、通常0.01~1.0モル、好ましくは0.03~0.5倍モルである。
これら有機溶媒を使用する際の使用量は、上記一般式(4)で表されるビスアリールアルコール類1重量倍に対し、通常0.1~10重量倍、好ましくは0.5~3重量倍である。
装置 :島津製作所製 LC-20A
カラム:YMC-Pack ODS-A(5μm、4.6mmφ×250mm)
移動相:A液純水、B液アセトニトリル。B液濃度に付、下記の通り濃度を変化させ分析を行った。
B液濃度:70%(5分)→(5分)→90% →(5分)→100%(15分)
流量:1.0ml/min、カラム温度:40℃、検出波長:UV 254nm
以下実施例及び参考例に記載した化合物の結晶5mgをアルミパンに精密に秤取し、示差走査熱量計(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社:DSC7020)を用い、酸化アルミニウムを対照として下記操作条件で測定し、検出された融解吸熱最大温度を融点とした。
(操作条件)
昇温速度:10℃/min
測定範囲:30-300℃
雰囲気 :開放、窒素40ml/min
1H-NMR及び13C-NMRは、内部標準としてテトラメチルシランを用い、溶媒としてCDCl3を用いて、JEOL-ESC400分光計によって記録した。
LC-MSは次の測定条件で分離、質量分析し、目的物を同定した。
装置:(株)Waters製「Xevo G2 Q-Tof」
カラム:(株)YMC製「YMC-UltraHT Pro C18」
(2μm、2.0mmφ×100mm)
カラム温度:40℃
検出波長:UV 220-500nm
移動相:A液=10mM酢酸アンモニウム水、B液=アセトニトリル
移動相流量:0.3ml/分
移動相グラジエント:B液濃度:70%→(2分)→90%→(2分)→100%(6分)
検出法:Q-Tof
イオン化法:ESI(+)法
Ion Source:電圧(+)2.0kV、温度120℃
Sampling Cone :電圧 30V、ガスフロー50L/h
Desolvation Gas:温度500℃、ガスフロー1000L/h
次のようにして測定した屈折率を各化合物の屈折率とした。
実施例で得られた化合物をジメチルスルホキシドに溶解して5重量%、10重量%及び15重量%溶液を調製し、各溶液について後述の装置、条件にて屈折率を測定した。次に、得られた3点の測定値から近似直線を導き、これを100重量%に外挿したときの値を各化合物の屈折率とした。
<各溶液の屈折率測定条件>
装置:アッベ屈折計((株)アタゴ製「多波長アッベ屈折計 DR-2M」)
測定波長:589nm(20℃)
熱重量測定器((株)島津製作所 TGA-50)を用いて、窒素気流下、室温から500℃まで10℃/分で昇温し、測定した。
反応後、得られた反応液にトルエンを追加し、35%塩酸水にて中和後、反応液を20℃まで冷却することにより結晶を析出させ、析出した結晶をろ別、乾燥することにより、ビスアリールアルコール化合物の結晶239g(純度95%、収率88%)を得た。
反応後、得られた反応液にN-メチル-2-ピロリドン800gを加え90℃で1時間撹拌し均一な溶液を得た後、イオン交換水をゆっくりと滴下し同温度で1時間撹拌することにより結晶を析出させた後、20℃まで冷却することにより更に結晶を析出させた。その後、析出した結晶をろ別、乾燥することにより、上記式(1-1)で表されるアルコール化合物の結晶70g(純度99%、収率67%)を得た。
得られた上記式(1-1)で表されるアルコール化合物の融点、屈折率及び5%重量減少温度を上記の方法で測定した。また、得られた結晶を1H-NMR、13C-NMR及びLC-MSにて測定することにより、該結晶が上記式(1-1)で表されるアルコール化合物であることを確認した。1H-NMR、13C-NMR及びLC-MSの測定チャートをそれぞれ図1、図2及び図3に示すと共に、測定結果を下記する。
δ2.56-2.74ppm(3H、m)、3.00(1H、d)、3.38-3.40(2H、m)、3.59-3.62(1H、m)、3.73(1H、t)、3.92-3.97(1H、m)、7.09-7.19(4H、m)、7.22-7.35(5H、m)、7.42(1H、t)、7.52(1H、s)、7.73-7.89(9H、m)
δ42.09ppm、60.96ppm、70.42ppm、71.86ppm、114.56ppm、116.85ppm、122.90ppm、123.64ppm、123.78ppm、123.93ppm、125.64ppm、125.94ppm、126.14ppm、126.79ppm、127.01ppm、127.51ppm、128.79ppm、128.93ppm、129.04ppm、129.10ppm、129.63ppm、129.81ppm、130.23ppm、131.97ppm、133.22ppm、133.30ppm、133.86ppm、140.46ppm、155.62ppm
融点:262℃
5%重量減少温度:340℃
以下式(5)で表されるフルオレン化合物の融点、屈折率及び5%重量減少温度を上記の方法で測定した。結果を以下に示す。
融点:161℃
5%重量減少温度:320℃
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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---|---|---|---|---|
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WO2017038979A1 (ja) | 2015-09-03 | 2017-03-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物及びその製造方法、並びに、組成物、光学部品形成用組成物、リソグラフィー用膜形成組成物、レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、感放射線性組成物、アモルファス膜の製造方法、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜の製造方法、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法、及び、精製方法 |
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Non-Patent Citations (2)
Title |
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Kinnear, K. I. et al.,Crown Ethers with Twin Propeller Substituents,Journal of Chemical Research, Synopses,1989年,(3),pp. 64-65 |
Kinnear, K. I. et al.,The First Example of a Propeller Thio Crown,Journal of Chemical Research, Synopses,1990年,(11),pp. 364-365 |
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