KR20170107588A - 광학 부품 및 그 제조 방법 - Google Patents

광학 부품 및 그 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20170107588A
KR20170107588A KR1020177025891A KR20177025891A KR20170107588A KR 20170107588 A KR20170107588 A KR 20170107588A KR 1020177025891 A KR1020177025891 A KR 1020177025891A KR 20177025891 A KR20177025891 A KR 20177025891A KR 20170107588 A KR20170107588 A KR 20170107588A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
refractive index
layer
multilayer film
plastic substrate
wavelength range
Prior art date
Application number
KR1020177025891A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101918886B1 (ko
Inventor
소 미야모토
마사오키 도모다
Original Assignee
가부시키가이샤 니콘. 에시로루
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=50388325&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR20170107588(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 가부시키가이샤 니콘. 에시로루 filed Critical 가부시키가이샤 니콘. 에시로루
Publication of KR20170107588A publication Critical patent/KR20170107588A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101918886B1 publication Critical patent/KR101918886B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C7/00—Optical parts
    • G02C7/10—Filters, e.g. for facilitating adaptation of the eyes to the dark; Sunglasses
    • G02C7/104—Filters, e.g. for facilitating adaptation of the eyes to the dark; Sunglasses having spectral characteristics for purposes other than sun-protection
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G02B1/041—Lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0891—Ultraviolet [UV] mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/26—Reflecting filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/283—Interference filters designed for the ultraviolet
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C7/00—Optical parts
    • G02C7/02—Lenses; Lens systems ; Methods of designing lenses
    • G02C7/024—Methods of designing ophthalmic lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C2202/00—Generic optical aspects applicable to one or more of the subgroups of G02C7/00
    • G02C2202/16—Laminated or compound lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C7/00—Optical parts
    • G02C7/10—Filters, e.g. for facilitating adaptation of the eyes to the dark; Sunglasses
    • G02C7/107—Interference colour filters

Abstract

광학 부품은, 플라스틱 기재와, 상기 플라스틱 기재의 양면 중, 적어도 후면에 배설된 다층막을 구비하고, 상기 다층막은, 380∼780nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값이 3∼50%이며, 또한 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 평균값이 20% 이하인 것을 특징으로 한다.

Description

광학 부품 및 그 제조 방법{OPTICAL COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCING SAME}
본 발명은 광학 부품 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
본원은, 2012년 9월 28일에 출원된 일본 특허출원 2012-216234호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
최근, 안경 렌즈에서는, 경량이고 내충격성이 우수하며, 또한 염색하기 쉽다는 이점 때문에 플라스틱 렌즈가 다용되고 있다. 안경 렌즈에 사용되는 플라스틱 렌즈에는, 표면 반사를 방지할 목적으로, 그 양면에 반사 방지막이 통상 입혀져 있다. 안경 렌즈용 반사 방지막은, 일반적으로 400nm∼700nm의 가시 영역 전역에 걸쳐, 낮은 반사 특성(광대역 저반사 특성)을 갖는다.
안경 렌즈 등의 광학 부품에 있어서, 예컨대 특허문헌 1∼3에 개시되어 있는 것과 같은 플라스틱의 기재와, 그 기재 상에 배치되는 반사 방지막을 구비한 광학 부품이 알려져 있다.
일본 특허공개 평11-30703호 공보 일본 특허공개 2006-251760호 공보 일본 특허공개 2007-127681호 공보
그러나, 최근의 연구로부터, 반드시 가시 영역 전역에 걸쳐 낮은 반사 특성을 갖는 것이 시인성 및 눈의 건강에 대하여 바람직한 것은 아님을 알게 되었다. 가시광선의 청색 영역(380∼500nm)을 커트하는 것에 의해, 눈부심이 저감되어 시인성, 콘트라스트가 향상된다.
또한, 눈의 건강에 대하여, 가시광선의 청색 영역(380∼500nm)은 에너지가 강하기 때문에, 망막 등에 바람직하지 않은 영향을 주는 원인이 된다고 말하여진다. 청색광에 의한 영향을 「블루 라이트 해저드(blue light hazard)」라고 말하고, 특히 435∼440nm 부근이 바람직하지 않은 파장 대역이며, 이 영역의 광을 커트하는 것이 바람직하다고 말하여진다.
작금, 디스플레이의 주류로 되고 있는 액정 화면이나, LED 조명에서는, 450nm 부근의 광이 많이 나오고 있기 때문에, 이와 같은 청색 영역의 광선의 제어가 주목되고 있다.
또한, 자외선도 안구에 대한 폭로가 망막 등에 바람직하지 않은 영향을 주는 원인이 된다. 옥외에서의 장시간의 자외선 폭로가 각막염이나 백내장의 원인이 되기 때문에, 자외 영역의 광을 커트하는 것이 바람직하다고 말하여진다.
가시광선의 청색 영역(380∼500nm)을 커트하는 수단으로서는, 선글라스 등의 염색 렌즈가 알려져 있다. 그러나, 염색 렌즈에서는 전체 가시 영역을 커트하기 때문에, 광량 저하에 의해 시인성이 나빠지는 경우가 있다.
또한, 종래의 안경 렌즈에 있어서는, 안경 렌즈의 후면에서 반사된 자외광이 그대로 안구에 입사되어 버릴 가능성이 있다.
본 발명의 태양은, 방현 효과를 가져, 피로감의 저감, 눈병 예방에도 효과적이고, 또한, 시인성이 양호한 광학 부품 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 태양에 따른 광학 부품은, 플라스틱 기재와, 상기 플라스틱 기재의 양면 중, 적어도 후면에 배설(配設)된 다층막을 구비한 광학 부품으로서, 상기 다층막은, 380∼780nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값이 3∼50%이며, 또한 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 평균값이 20% 이하인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 일 태양에 따른 광학 부품의 제조 방법은, 플라스틱 기재와, 상기 플라스틱 기재의 양면 중, 적어도 후면에 배설된 다층막을 구비한 광학 부품의 제조 방법으로서, 상기 플라스틱 기재를 가열하는 공정과, 상기 가열에 의해서 상기 플라스틱 기재를 소정 온도로 조정한 후, 상기 플라스틱 기재 상에 상기 다층막을 형성하는 공정을 구비하고, 상기 다층막을 형성하는 공정은, 고굴절률 재료와 저굴절률 재료를 교대로 복수 적층하여 다층 구조의 고굴절률층을 형성하는 처리와, 상기 고굴절률층의 굴절률보다 낮은 굴절률의 저굴절률 재료로 이루어지는 저굴절률층을 상기 고굴절률층 상에 형성하는 처리를 가짐과 더불어, 상기 다층막의 380∼780nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값을 3∼50%가 되도록 하고, 또한 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 평균값을 20% 이하가 되도록 하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 태양에 따른 광학 부품에 의하면, 양호한 시인성을 유지한 채로 충분한 방현 효과가 얻어지고, 또한 안구 내에 입사되는 자외선을 저감시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 일 태양에 따른 광학 부품의 제조 방법에 의하면, 안구 내에 입사되는 자외선이 저감되고, 눈부심을 저감하고, 보기 쉽고, 피로, 눈병 예방에도 효과적인 광학 특성을 가진 광학 부품을 제공하는 것이 가능해진다.
도 1은 제 1 실시형태에 따른 광학 부품의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 2는 제 2 실시형태에 따른 광학 부품의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 3은 제 1 실시형태에 따른 증착 장치의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 4는 제 1 실시형태에 따른 성막 장치의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 5a는 실시예 1의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성도이다.
도 5b는 도 5a의 분광 특성의 수치 데이터이다.
도 6a는 실시예 2의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성도이다.
도 6b는 도 6a의 분광 특성의 수치 데이터이다.
도 7a는 실시예 3의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성도이다.
도 7b는 도 7a의 분광 특성의 수치 데이터이다.
도 8a는 비교예 1의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성도이다.
도 8b는 도 8a의 분광 특성의 수치 데이터이다.
도 9a는 실시예 1∼3의 렌즈의 표면, 및 비교예 1의 렌즈의 표면에 있어서의 분광 특성도이다.
도 9b는 도 9a의 분광 특성의 수치 데이터이다.
도 10a는 실시예 4의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성도이다.
도 10b는 도 10a의 분광 특성의 수치 데이터이다.
도 11a는 실시예 5의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성도이다.
도 11b는 도 11a의 분광 특성의 수치 데이터이다.
도 12a는 실시예 6의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성도이다.
도 12b는 도 12a의 분광 특성의 수치 데이터이다.
도 13a는 실시예 7의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성도이다.
도 13b는 도 13a의 분광 특성의 수치 데이터이다.
이하, 본 발명을 실시형태에 의해서 상세히 설명한다.
한편, 이 형태는, 발명의 취지를 보다 잘 이해시키기 위해서 구체적으로 설명하는 것이며, 특별히 지정이 없는 한, 본 발명을 한정하는 것은 아니다.
(1) 제 1 실시형태
도 1은, 본 발명의 광학 부품의 제 1 실시형태를 모식적으로 나타내는 측단면도이며, 도 1에 있어서 부호 1은 안경 렌즈용의 광학 부품이다.
이 광학 부품(1)은, 플라스틱 기재(2)와, 플라스틱 기재(2)의 후면에 배설된 무기 다층막(3)을 구비하여 구성되어 있다. 플라스틱 기재(2)의 후면과 무기 다층막(3) 사이에는, 본 실시형태에서는 기능성 박막(4)이 배설되어 있다. 이 기능성 박막(4)은, 본 실시형태에서는 프라이머층(5)과 하드 코팅층(6)으로 이루어져 있다.
본 실시형태에 있어서, 플라스틱 기재(2)의 표면에도, 무기 다층막(3) 및 기능성 박막(4)에 상당하는 임의의 막이 형성되어 있지만, 이 막의 도시 및 설명을 생략한다.
플라스틱 기재(2)는, 예컨대 투명한 플라스틱인 아크릴계 수지, 싸이오우레탄계 수지, 메타크릴계 수지, 알릴계 수지, 에피설파이드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스터계 수지, 폴리스타이렌계 수지, 에피설파이드 수지, 폴리에터설폰 수지, 폴리4-메틸펜텐-1 수지, 다이에틸렌글리콜비스알릴카보네이트 수지(CR-39), 폴리염화바이닐 수지, 할로젠 함유 공중합체, 및 황 함유 공중합체 등에 의해서 형성된 것이다.
또한, 본 실시형태에서는, 플라스틱 기재(2)의 굴절률(nd)로서는, 예컨대 1.50, 1.60, 1.67, 및 1.74 중에서 선택된 것이 이용된다. 한편, 플라스틱 기재(2)의 굴절률을 1.6 이상으로 하는 경우, 플라스틱 기재(2)로서는, 알릴카보네이트계 수지, 아크릴레이트계 수지, 메타크릴레이트계 수지, 및 싸이오우레탄계 수지 등을 사용할 수 있다.
또한, 플라스틱 기재(2)는, 자외선을 흡수하는 기능을 가질 수 있다. 즉, 플라스틱 기재(2)를 구성하는 수지는, 자외선 흡수제를 포함할 수 있다.
또는, 플라스틱 기재(2)의 면에 배설되는 기능성 박막(4) 중에, 자외선 흡수제가 포함되어 있어도 된다. 이 경우에는, 기능성 박막(4) 중의 자외선 흡수제 성분이 플라스틱 기재(2)에 함침된다.
또, 플라스틱 기재(2)는 투광성을 갖고 있으면 투명이 아니어도 되고, 착색되어 있어도 된다. 착색된 플라스틱 기재(2)의 투과율은, 5∼85%로 할 수 있다.
기능성 박막(4)은, 전술한 바와 같이 플라스틱 기재(2)와 무기 다층막(3) 사이에 배치되고, 플라스틱 기재(2)에 접하여 배설된 프라이머층(5)과, 이 프라이머층(5)에 접하고, 또한 무기 다층막(3)에 접하여 배설된 하드 코팅층(6)으로 이루어져 있다.
프라이머층(5)은, 플라스틱 기재(2)와 하드 코팅층(6)의 밀착성을 양호하게 하기 위한 것으로, 밀착층으로서 기능하도록 되어 있다. 또한, 광학 부품(1)에 대한 충격을 흡수하기 위한 것이기도 하여, 충격 흡수층으로서도 기능하도록 되어 있다.
이 프라이머층(5)은, 폴리우레탄계 수지를 주성분으로 하는 것으로, 본 실시형태에서는, 폴리우레탄계 수지에 예컨대 무기 재료의 미립자를 함유시킨 것이다. 한편, 프라이머층(5)은, 아크릴계 수지, 메타크릴계 수지, 및 유기 규소계 수지 중의 적어도 1종을 포함하고 있어도 된다. 프라이머층(5)의 두께(실제의 두께)는, 0.5μm 이상 1.0μm 이하 정도로 할 수 있다.
프라이머층(5)은, 프라이머층(5)의 형성 재료액에 플라스틱 기재(2)를 침지하고, 그 후 끌어올려 건조하는 것에 의해, 플라스틱 기재(2) 상에 소정의 두께로 형성할 수 있다. 프라이머층(5)의 형성 재료액으로서는, 예컨대 물 또는 알코올계의 용매에, 상기의 프라이머층(5)이 되는 수지와 무기 산화물 미립자 졸을 분산 또는 용해시켜, 혼합한 액을 이용할 수 있다.
하드 코팅층(6)은, 플라스틱 기재(2)를 보호하여, 플라스틱 기재(2)의 손상을 억제하는 기능을 갖는 것으로, 내찰상성 막으로서 기능하도록 되어 있다.
하드 코팅층(6)은, 예컨대 오가노실록세인계 하드 코팅층으로 이루어져 있다. 오가노실록세인계 하드 코팅층은, 오가노실록세인계 수지에 무기 산화물의 미립자를 분산시킨 것이다. 무기 산화물로서는, 예컨대 루틸형의 산화타이타늄이나, 규소, 주석, 지르코늄, 및 안티몬의 산화물이 이용된다. 또한, 하드 코팅층(6)은, 예컨대 일본 특허공고 평4-55615호 공보에 개시되어 있는 것과 같은, 콜로이드상 실리카 함유의 유기 규소계 수지여도 된다. 하드 코팅층(6)의 두께(실제의 두께)는, 2μm 이상 4μm 이하 정도로 할 수 있다.
하드 코팅층(6)은, 하드 코팅층(6)의 형성 재료액에, 프라이머층(5)을 형성한 플라스틱 기재(2)를 침지하고, 그 후 끌어올려 건조하는 것에 의해, 플라스틱 기재(2) 상의 프라이머층(5) 상에 소정의 두께로 형성할 수 있다. 하드 코팅층(6)의 형성 재료액으로서는, 예컨대 물 또는 알코올계의 용매에, 상기의 하드 코팅층(6)이 되는 수지와 무기 산화물 미립자 졸을 분산 또는 용해시켜, 혼합한 액을 이용할 수 있다.
프라이머층(5) 및 하드 코팅층(6)을 포함하는 기능성 박막(4)에 대해서는, 그 굴절률과, 플라스틱 기재(2)의 굴절률이 실질적으로 동일하면, 기능성 박막(4)과 플라스틱 기재(2)의 계면에서의 반사로 생기는 간섭 줄무늬의 발생 및 투과율의 저하를 억제할 수 있다. 따라서, 플라스틱 기재(2)의 굴절률에 따라, 기능성 박막(4)의 굴절률이 조정된다. 기능성 박막(4)(프라이머층(5), 하드 코팅층(6))의 굴절률의 조정은, 기능성 박막(4)의 주성분이 되는 수지의 종류(물성)를 선택하는 것, 또는 그 주성분이 되는 수지에 첨가하는 미립자의 종류(물성)를 선택하는 것 등에 의해서 행할 수 있다.
한편, 본 실시형태에 있어서는, 기능성 박막(4)이 프라이머층(5) 및 하드 코팅층(6)을 포함하여 형성되어 있지만, 예컨대 프라이머층(5)과 하드 코팅층(6) 중, 어느 한쪽, 또는 양쪽이 생략되어 있어도 된다. 또한, 기능성 박막(4)의 구성막으로서, 예컨대 ITO(Indium Tin Oxide) 등으로 이루어지는 유전체막이나 금속막을, 프라이머층(5) 및 하드 코팅층(6)에 추가하여 배설해도 된다.
또한, 본 실시형태에 있어서, 무기 다층막을 구성하는 고굴절률 무기 재료와 저굴절률 무기 재료 사이에, 두께 20nm 이하의 유전체막 또는 금속막을 배설해도 된다. 한편, 유전체막 또는 금속막의 두께는, 10nm 이하여도 된다.
무기 다층막(3)은, 플라스틱 기재(2)에, 고굴절률 무기 재료와 저굴절률 무기 재료가 교대로 복수 적층되어 이루어지는 다층 구조의 고굴절률층(7)을 갖고, 고굴절률층(7) 상에, 이 고굴절률층(7)의 굴절률보다 낮은 굴절률의 저굴절률 무기 재료로 이루어지는 저굴절률층(8)을 갖는 복층으로 구성되어 있다. 무기 다층막(3)은, 입사한 광의 반사를 방지하는 반사 방지막으로서의 기능을 갖는다.
무기 다층막(3)은, 본 실시형태에서는 380∼780nm의 파장 범위(제 1 파장 범위)에 있어서의 반사율의 최댓값이 3∼50%이도록 설계되어 있다.
제 1 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값은, 3% 이상이며, 4% 이상인 것이 바람직하고, 5% 이상인 것이 보다 바람직하다. 제 1 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값을 3% 미만으로 설정한 경우, 이와 같은 안경을 쓴 사람은, 충분한 방현 효과 등의 필터 기능이 얻어지지 않아, 무기 다층막(3)에 의한 피로 예방 효과 및 눈병 예방 효과를 얻기 어렵다.
바꾸어 말하면, 무기 다층막(3)에 있어서의 제 1 파장 범위에서의 반사율의 최댓값이 3% 미만인 경우, 안경 렌즈의 전면(표면, 안면과 반대측)에 입사하는 가시광은, 100%에 가까운 높은 투과율로 무기 다층막(3)을 투과하여, 안경 렌즈의 후면(안면측)으로 출사된다(즉, 필터 기능이 얻어지지 않는다). 이것 때문에, 피로 예방 효과, 및 눈병 예방 효과를 얻기 어렵다.
제 1 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값은, 50% 이하이며, 35% 이하인 것이 바람직하고, 15% 이하인 것이 보다 바람직하다. 제 1 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값을 50%를 초과하게 설정한 경우, 투과광량이 저하되어 시인성이 나빠져 버린다.
바꾸어 말하면, 무기 다층막(3)에 있어서의 제 1 파장 범위에서의 반사율의 최댓값이 50%를 초과하는 경우, 안경 렌즈의 전면(표면, 안면과 반대측)에 입사하는 가시광은, 50% 이하의 낮은 투과율로 무기 다층막(3)을 투과하여, 안경 렌즈의 후면(안면측)으로 출사된다(즉, 투과광의 양이 저하된다). 이것 때문에, 시인성이 악화된다.
또한, 본 실시형태에 있어서는, 다층막으로서 무기 다층막을 이용하고 있지만, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 유기 다층막을 이용해도 된다.
또, 무기 다층막(3)은, 본 실시형태에서는 280∼380nm의 파장 범위(제 2 파장 범위)에 있어서의 반사율의 평균값이 20% 이하이도록 설계되어 있다. 제 2 파장 범위에 있어서의 반사율의 평균값은, 15% 이하인 것이 바람직하다.
제 2 파장 범위에 있어서의 평균 반사율을 20% 이하로 설정한 경우, 자외 영역의 광을 충분히 커트할 수 있다.
바꾸어 말하면, 무기 다층막(3)에 있어서의 제 2 파장 범위에서의 평균 반사율이 20% 이하인 경우, 안경 렌즈의 후면(안면측)에 입사하는 자외광은, 20% 이하의 낮은 반사율로 무기 다층막(3)에 의해 반사되어, 안경 렌즈의 후면으로(안구를 향하여) 출사된다. 이것 때문에, 안구에 입사하는 자외 영역의 광의 양을 저감하는(즉, 자외 영역의 광을 커트하는) 것이 가능하다.
제 2 파장 범위에 있어서의 평균 반사율은, 낮을수록 좋지만, 380∼780nm의 제 1 파장 범위에 있어서의 반사율(가시 영역의 광의 커트 능력)과의 균형 때문에, 3% 이상이 바람직하고, 4% 이상이 보다 바람직하고, 5% 이상이 특히 바람직하다.
무기 다층막(3)의 상기 파장역에 있어서의 반사율의 특성이 상기 범위 내에 있으면, 안경 렌즈로서 사용한 경우, 양호한 시인성을 유지한 채로, 충분한 방현 효과 등의 필터 기능이 얻어지고, 또한 안구 내에 입사되는 자외선을 저감시킬 수 있다.
또한, 본 실시형태에 있어서는, 다층막으로서 무기 다층막을 이용하고 있지만, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 유기 다층막을 이용해도 좋다.
또, 본 실시형태에 있어서, 플라스틱 기재(2)의 표면에 (도시하지 않은) 무기 다층막을 배설할 수 있다.
플라스틱 기재(2)의 표면에 배설된 무기 다층막의 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 평균 반사율은, 플라스틱 기재(2)의 후면에 배설된 무기 다층막(3)의 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 평균 반사율보다도 크게 할 수 있다. 예컨대, 플라스틱 기재(2)의 후면에 배설된 무기 다층막(3)은, 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 평균 반사율이 3∼15%이며, 플라스틱 기재(2)의 표면에 배설되는 무기 다층막은, 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 평균 반사율이 20% 이상이 되도록 설계할 수 있다. 이와 같은 반사율의 조건을 만족시키는 무기 다층막이 배설되는 것에 의해, 자외선의 저감에 한층 더한 효과를 갖는 안경 렌즈를 얻을 수 있다.
고굴절률층(7)은, 본 실시형태에서는, 플라스틱 기재(2)측에 설치된 고굴절률 무기 재료로 이루어지는 제 1 층(9)과, 제 1 층(9) 상에 설치된 저굴절률 무기 재료로 이루어지는 제 2 층(10)과, 제 2 층(10) 상에 설치된 고굴절률 무기 재료로 이루어지는 제 3 층(11)으로 이루어진다.
제 1 층(9)은, 하드 코팅층(6)에 접하여 설치된 것으로, 굴절률이 2.0인 이산화지르코늄(ZrO2)으로 이루어져 있다. 한편, 제 1 층(9)을 구성하는 고굴절률 무기 재료로서는, ZrO2 이외에도, 예컨대 이산화타이타늄(TiO2)이나 이산화탄탈럼(Ta2O5)을 이용할 수도 있다. 나아가서는, 지르코늄, 타이타늄, 탄탈럼의 복수종으로 이루어지는 합금의 산화물에 의해서 형성할 수도 있다. 또한, 이들 이외에도, 예컨대 산화알루미늄(Al2O3), 이산화이트륨(Y2O3), 이산화하프늄(HfO2), Nb2O5(이산화니오븀)를 이용할 수도 있다.
여기에서, 이와 같이 제 1 층(9)을 고굴절률 무기 재료(ZrO2)로 형성하는 것에 의해, 제 1 층(9)과 하드 코팅층(6) 사이의 밀착성을 얻을 수 있다. 즉, 고굴절률 무기 재료로 이루어지는 층(ZrO2)과 하드 코팅층(6)의 밀착성(밀착력) 쪽이, 저굴절률 무기 재료로 이루어지는 층(SiO2)과 하드 코팅층(6)의 밀착성(밀착력)보다도 크기 때문이다. 또한, 기능성 박막(4)(프라이머층(5), 하드 코팅층(6))이 생략된 경우에 있어서도, 고굴절률층(ZrO2)과 플라스틱 기재(2)의 밀착성(밀착력) 쪽이, 저굴절률층(SiO2)과 플라스틱 기재(2)의 밀착성(밀착력)보다도 크기 때문에, 밀착성에 대하여 보다 유리하게 된다.
제 2 층(10)은, 제 1 층(9)에 접하여 설치된 것으로, 굴절률이 1.47인 이산화규소(SiO2)로 이루어져 있다. 한편, 제 2 층(10)을 구성하는 저굴절률 무기 재료로서는, SiO2 이외에도, 예컨대 굴절률이 1.36인 MgF2를 이용할 수 있다.
제 3 층(11)은, 제 2 층(10)에 접하여 설치된 것으로, 제 1 층(9)과 마찬가지로 이산화지르코늄(ZrO2)으로 이루어져 있다. 한편, 이 제 3 층(11)에 대해서도, 제 1 층(9)과 마찬가지로, ZrO2 이외의 고굴절률 무기 재료에 의해서 형성할 수도 있다.
또한, 고굴절률층(7)에 대해서는, 상기와 같이 제 1 층(9), 제 2 층(10), 제 3 층(11)의 3층 구조로 형성하지 않고, 전술한 반사율에 대한 조건을 만족시키면, 2층, 또는 4층 이상으로 구성할 수도 있다.
저굴절률층(8)은, 제 3 층(11)에 접하여 설치된 것으로, 제 2 층(10)과 마찬가지로 이산화규소(SiO2)로 이루어져 있다.
상기 구성의 무기 다층막(3)은, 예컨대, 도 6a, 6b(후술하는 실시예 2의 렌즈의 후면)에 나타내는 바와 같이, 광 파장과, 그 광 파장에 있어서의 무기 다층막(3)의 반사율의 관계를 나타내는 분광 특성 곡선에 있어서, 280∼380nm의 파장 범위에 적어도 1개(예컨대, 1개)의 극값을 가질 수 있다. 극값으로서는, 극솟값, 극댓값을 들 수 있고, 극댓값이 바람직하다.
또, 무기 다층막(3)은, 예컨대, 도 10a, 10b(후술하는 실시예 4의 렌즈의 후면)에 나타내는 바와 같이, 분광 특성 곡선에 있어서, 380∼780nm의 파장 범위에 적어도 1개(예컨대, 1개)의 극값을 가질 수 있다. 극값으로서는, 극솟값, 극댓값을 들 수 있고, 마찬가지로, 극댓값이 바람직하다.
또한, 본 실시형태에서는, 무기 다층막(3) 상, 즉 플라스틱 기재(2)로부터 가장 먼 무기 다층막(3)의 최외층(저굴절률층(8)) 상에, 불소 치환 알킬기 함유 유기 규소 화합물을 포함하는 발수발유막(12)이 설치되어 있다.
발수발유막(12)은, 불소 치환 알킬기 함유 유기 규소 화합물을 주성분으로 하는 것으로, 발액성(발수성, 발유성)을 갖는 것이다. 즉, 발수발유막(12)은, 광학 부품의 표면 에너지를 저하시켜, 물자국 방지, 오염 방지의 기능을 발휘함과 더불어, 광학 부품 표면의 미끄럼 성능을 향상시켜, 그 결과로서, 내찰상성을 향상시킬 수 있다.
불소 치환 알킬기 함유 유기 규소 화합물로서는, 하기 화학식(1):
Figure pat00001
(식(1) 중, Rf는 탄소수 1∼16의 직쇄상 또는 분기상 퍼플루오로알킬기를 나타내고, Y는 요오드 또는 수소를 나타내고, Y'는 수소 또는 탄소수 1∼5의 저급 알킬기를 나타내고, Y"는 불소 또는 트라이플루오로메틸기를 나타내고, R1은 가수분해 가능한 기를 나타내고, R2는 수소 또는 불활성인 1가의 유기기를 나타내고, a, b, c, d는 각각 0∼200의 정수를 나타내고, e는 0 또는 1을 나타내고, s 및 t는 각각 0∼2의 정수를 나타내고, w는 1∼10의 정수를 나타낸다.) 및 하기 화학식(2)∼(5):
Figure pat00002
Figure pat00003
Figure pat00004
Figure pat00005
(식(2)∼(5) 중, X는 산소 또는 2가의 유기기를 나타내고, X'는 가수분해 가능한 기를 나타내고, X"는 2가의 유기 실리콘기를 나타내고, R3은 탄소수 1∼22의 직쇄상 또는 분기상 알킬렌기를 나타내고, q는 1∼3의 정수를 나타내고, m, n, o는 각각 0∼200의 정수를 나타내고, p는 1 또는 2를 나타내고, r은 2∼20의 정수를 나타내고, k는 0∼2의 정수를 나타내고, z는 k가 0 또는 1인 경우에 0∼10의 정수를 나타낸다.) 및 하기 화학식(6):
Figure pat00006
(식(6) 중, Rf2는 2가의 직쇄상의 퍼플루오로폴리에터기를 나타내고, R4는 탄소수 1∼4의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, R5는 가수분해 가능한 기를 나타내고, i는 0∼2의 정수를 나타내고, j는 1∼5의 정수를 나타내고, u는 2 또는 3을 나타낸다.) 중에서 선택된다.
여기에서, 발수발유막(12)에 우수한 내구성을 부여하기 위해서, 화학식(1)∼(5) 중으로부터 선택되는 불소 치환 알킬기 함유 유기 규소 화합물과, 화학식(6)으로부터 선택되는 불소 치환 알킬기 함유 유기 규소 화합물을 조합하여 이용할 수 있다.
화학식(1)∼(5)로 표시되는 불소 치환 알킬기 함유 유기 규소 화합물로서는, 다이킨공업주식회사제 오프툴 DSX, 오프툴 AES4 등을 이용할 수 있다. 또한, 화학식(6)으로 표시되는 불소 치환 알킬기 함유 유기 규소 화합물로서는, 신에츠화학공업주식회사제 KY-130, KY-164 등을 이용할 수 있다.
(2) 제 2 실시형태
도 2는, 본 발명의 광학 부품의 제 2 실시형태를 모식적으로 나타내는 측단면도이다. 도 2에 있어서 부호 1'는 안경 렌즈용의 광학 부품이다. 도 2에 있어서, 도 1에 나타낸 광학 부품(1)과 동일한 구성 요소에는, 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략한다.
광학 부품(1')은, 제 1 실시형태의 광학 부품(1)의 구조에 추가하여, 플라스틱 기재(2)의 표면에 배설된 무기 다층막(3')을 구비하여 구성되어 있다. 플라스틱 기재(2)의 표면과 무기 다층막(3') 사이에는, 본 실시형태에서는 기능성 박막(4)이 배설되어 있다. 기능성 박막(4)은, 본 실시형태에서는 프라이머층(5)과 하드 코팅층(6)으로 이루어진다.
무기 다층막(3')은, 플라스틱 기재(2)에, 고굴절률 무기 재료와 저굴절률 무기 재료가 교대로 복수 적층되어 이루어지는 다층 구조의 고굴절률층(7')을 갖고, 고굴절률층(7') 상에, 이 고굴절률층(7')의 굴절률보다 낮은 굴절률의 저굴절률 무기 재료로 이루어지는 저굴절률층(8')을 가진 복층으로 구성되어 있다.
고굴절률층(7')은, 본 실시형태에서는, 플라스틱 기재(2)측에 설치된 고굴절률 무기 재료로 이루어지는 제 1 층(9')과, 제 1 층(9') 상에 설치된 저굴절률 무기 재료로 이루어지는 제 2 층(10')과, 제 2 층(10') 상에 설치된 고굴절률 무기 재료로 이루어지는 제 3 층(11')으로 이루어진다.
본 실시형태에 있어서의 제 1 층(9'), 제 2 층(10'), 제 3 층(11')에 이용되는 무기 재료로서는, 제 1 실시형태에 있어서의 제 1 층(9), 제 2 층(10), 제 3 층(11)에 이용되는 무기 재료와 마찬가지의 것을 들 수 있다.
고굴절률층(7')에 대해서는, 제 1 실시형태에 있어서의 고굴절률층(7)과 마찬가지로, 3층 구조로 형성하지 않고, 2층, 또는 4층 이상으로 구성할 수도 있다.
본 실시형태에 있어서, 무기 다층막(3')은, 제 1 실시형태의 무기 다층막(3)과 마찬가지로, 380∼780nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값이 3∼50%이며, 또한 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 평균값이 20% 이하이도록 설계된다.
플라스틱 기재(2)의 양면에, 이와 같은 반사율의 조건을 만족시키는 무기 다층막이 배설되는 것에 의해, 방현 효과, 시인성, 및 자외선의 저감에 한층 더한 효과를 갖는 안경 렌즈를 얻을 수 있다.
한편, 본 실시형태에 있어서는, 기능성 박막(4)이 프라이머층(5) 및 하드 코팅층(6)을 포함하여 형성되어 있지만, 제 1 실시형태와 마찬가지로, 예컨대 프라이머층(5)과 하드 코팅층(6) 중, 어느 한쪽, 또는 양쪽이 생략되어 있어도 된다. 또한, 기능성 박막(4)의 구성막으로서, 예컨대 ITO(Indium Tin Oxide) 등으로 이루어지는 유전체막이나 금속막을, 프라이머층(5) 및 하드 코팅층(6)에 추가하여 배설해도 된다.
또한, 본 실시형태에 있어서, 무기 다층막을 구성하는 고굴절률 무기 재료와 저굴절률 무기 재료 사이에, 두께 20nm 이하의 유전체막 또는 금속막을 배설해도 된다. 한편, 유전체막 또는 금속막의 두께는, 10nm 이하여도 된다.
또한, 본 실시형태에 있어서는, 다층막으로서 무기 다층막을 이용하고 있지만, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 유기 다층막을 이용해도 된다.
[광학 부품의 제조 방법]
다음으로, 광학 부품(1)의 실시형태에 기초하여, 본 발명의 광학 부품의 제조 방법의 일 실시형태에 대하여 설명한다.
본 실시형태의 제조 방법은, 플라스틱 기재(2)에 대하여 종래와 마찬가지의 방법으로 기능성 박막(4)(프라이머층(5), 하드 코팅층(6))을 형성하는 공정과, 플라스틱 기재(2)를 가열하는 공정과, 가열에 의해서 플라스틱 기재(2)를 소정 온도(예컨대 70℃)로 조정한 후, 이 플라스틱 기재(2) 상에 무기 다층막(3)을 형성하는 공정과, 무기 다층막(3) 상에 발수발유막(12)을 형성하는 공정을 구비한다.
무기 다층막(3)을 형성하는 공정은, 고굴절률 무기 재료와 저굴절률 무기 재료를 교대로 복수 적층하여 다층 구조의 고굴절률층(7)을 형성하는 처리와, 이 고굴절률층(7) 상에, 저굴절률 무기 재료로 이루어지는 저굴절률층(8)을 형성하는 처리를 갖고 있다. 이들 각 층의 형성에는, 예컨대, 진공 증착법을 이용할 수 있다.
도 3은, 무기 다층막(3)의 각 층을 형성하기 위한 증착 장치(30)의 일례를 나타내는 도면이다. 도 3에 나타내는 바와 같이 증착 장치(30)는, 제 1 성막실(31)과 제 2 성막실(32)과 제 3 성막실(33)을 구비하여 구성되어 있다. 이들 제 1 성막실(31), 제 2 성막실(32), 제 3 성막실(33)은, 각각의 내부가 실질적으로 진공으로 감압되고, 그 상태로 유지되도록 되어 있다. 또한, 증착 장치(30)는, 도시하지 않은 온도조절 수단에 의해, 제 1 성막실(31), 제 2 성막실(32), 제 3 성막실(33)의 각각의 내부 온도가 조정 가능하게 되어 있다.
증착 장치(30)는, 제 1 성막실(31), 제 2 성막실(32), 제 3 성막실(33)의 각각의 내부 공간에, 유지 부재(34)를 구비하고 있다. 유지 부재(34)는, 그 상면(유지면)이 곡면 형상으로 되어 있고, 또한 회전 가능하게 구성되어 있으며, 이 상면에 복수의 플라스틱 기재(2)를 유지하도록 되어 있다.
증착 장치(30)의 증착원(35)은, 제 2 성막실(32)의 내측의 공간에 배치되어 있다. 증착원(35)은, 제 1 증착원(35A) 및 제 2 증착원(35B)으로 이루어진다. 또한, 제 2 성막실(32)에는, 증착원(35)에 빔을 조사 가능한 광원 장치(36)가 배치되어 있다. 광원 장치(36)는, 증착원(35)에 대하여 전자를 조사하여 증착원(35)의 구성 입자를 쫓아낼 수 있다.
광원 장치(36)로부터 사출된 전자가 증착원(35)에 조사되는 것에 의해, 증착원(35)으로부터, 무기 다층막(3)을 형성하기 위한 재료(가스)가 방출된다.
예컨대, 광원 장치(36)가 제 1 증착원(35A)에 빔을 조사하는 것에 의해, ZrO2의 증기를 제 1 증착원(35A)으로부터 방출시켜, 유지 부재(34)에 유지되어 있는 플라스틱 기재(2) 상에 공급하여 증착시킨다. 이것에 의해, 무기 다층막(3)의 고굴절률층(7)에 있어서의 제 1 층(9)과 제 3 층(11)을 형성할 수 있다. 마찬가지로, 제 2 증착원(35B)에 빔을 조사하는 것에 의해, SiO2의 증기를 제 2 증착원(35B)으로부터 방출시켜, 유지 부재(34)에 유지되어 있는 플라스틱 기재(2) 상에 공급하여 증착시킨다. 이것에 의해, 무기 다층막(3)의 고굴절률층(7)에 있어서의 제 2 층(10)과, 저굴절률층(8)을 형성할 수 있다.
즉, 제 1 증착원(35A)에 대한 빔의 조사와 제 2 증착원(35B)에 대한 빔의 조사를 교대로 행하는 것에 의해, 유지 부재(34)에 유지되어 있는 플라스틱 기재(2) 상에, 고굴절률 무기 재료로 이루어지는 층과 저굴절률 무기 재료로 이루어지는 층을 교대로 형성하여 적층할 수 있다. 단, 본 발명에서는, 무기 다층막(3)을 380∼780nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값이 3∼50%이며, 또한 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 평균값이 20% 이하이도록 설계한다.
한편, 제 1 증착원(35A)으로서 산화지르코늄(ZrO)으로 이루어지는 증착원을 이용하고, 제 2 성막실(32)의 내부 공간에 산소를 도입하면서 제 1 증착원(35A)에 빔을 조사하여, 이산화지르코늄(ZrO2)으로 이루어지는 고굴절률 무기 재료층을 형성하도록 해도 된다.
또한, 본 실시형태의 광학 부품의 제조 방법에 있어서, 무기 다층막(3)을 형성하는 공정은, 무기 다층막(3)을 구성하는 층 중의 적어도 1층을, 이온 빔 어시스트를 실시하면서 성막을 행하는 공정을 포함하고 있어도 된다. 본 실시형태의 광학 부품의 제조 방법이, 이와 같은 공정을 포함하는 것에 의해, 무기 다층막을 구성하는 고굴절률 무기 재료와 저굴절률 무기 재료 사이에, 유전체막이 배설된다.
도 4는, 이온 빔 어시스트를 실시하기 위한 성막 장치(30')의 일례를 나타내는 도면이다. 성막 장치(30')는, 도 3에 나타낸 증착 장치(30)의 제 2 성막실에 이온 건(37)이 비치된 구성으로 되어 있다. 도 4에 있어서, 도 3에 나타낸 증착 장치(30)와 동일한 구성 요소에는, 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략한다.
본 실시형태에 있어서는, 무기 다층막(3)을 구성하는 고굴절률층(7)과 저굴절률층(8) 사이에, ITO 등의 유전체막을 배설할 때에, 이온 빔 어시스트를 실시하면서 성막을 행한다.
한편, 제 2 성막실(32) 내에서 무기 다층막(3)을 구성하는 층 중 적어도 1층을, 이온 빔 어시스트를 실시하면서 성막을 행하면 되고, 이온 빔 어시스트를 실시하는 대상은, 유전체막에 한정되지 않는다.
본 실시형태에 있어서, 이 성막 장치(30')의 제 2 성막실은, 플라스틱 기재(2) 상에 고굴절률층(7)이 성막된 기재를 유지하는 유지 부재(34)와, 증착원(35')과, 증착원(35')과 이간하여 배치된 이온 건(37)과, 광원 장치(36)를 주체로 하여 구성되어 있다.
또한, 성막 장치(30')는 그 내부가 실질적으로 진공으로 감압되고, 플라스틱 기재(2)의 주위를 진공 분위기로 유지할 수 있도록 구성되어 있다. 또 성막 장치(30')에는, 가스 봄베 등의 분위기 가스 공급원이 접속되어 있고, 진공 용기의 내부를 진공 등의 저압 상태로, 또한 산소 가스, 아르곤 가스, 또는 그 밖의 불활성 가스 분위기, 또는 산소를 포함하는 불활성 가스 분위기로 할 수 있도록 구성되어 있다.
증착원(35')은, 예컨대 ITO를 포함한다. 광원 장치(36)가 증착원(35')에 빔을 조사하는 것에 의해, 가스화된 ITO가 그 증착원(35')으로부터 방출되어, 유지 부재(34)에 유지되어 있는 플라스틱 기재(2)에 공급된다. 이것에 의해, 고굴절률층(7) 상에 ITO로 이루어지는 유전체막을 형성할 수 있다.
이온 건(37)은, 제 2 성막실(32)의 내부에, 이온화시키는 가스를 도입하는 가스 도입부와, 정면에 인출(引出) 전극을 구비하여 구성되어 있다. 이온 건(37)은, 가스의 원자 또는 분자의 일부를 이온화하고, 그 이온화된 입자를 인출 전극에서 발생시킨 전계로 제어하여 이온 빔으로서 조사하는 장치이다.
광원 장치(36)는, 이온 건(37)과 동등한 구성을 이루고, 증착원(35')에 대하여 전자를 조사하여 증착원(35')의 구성 입자를 쫓아낼 수 있다. 한편, 성막 장치(30')에 있어서는, 증착원(35')의 구성 입자를 쫓아낼 수 있을 것이 중요하기 때문에, 증착원(35')에 고주파 코일 등으로 전압을 인가하여 증착원(35')의 구성 입자를 쫓아내기 가능하도록 구성하고, 광원 장치(36)를 생략해도 된다.
다음으로 상기 구성의 성막 장치(30')를 이용하여 플라스틱 기재(2) 상의 고굴절률층(7) 상에 ITO의 유전체막을 형성하는 경우에 대하여 설명한다. ITO의 유전체막을 형성하기 위해서는, ITO의 증착원(35')을 이용함과 더불어, 이온 건(37)으로부터 조사되는 이온을 유지 부재(34)의 상면에 조사할 수 있도록 한다. 다음으로 플라스틱 기재(2)를 수납하고 있는 성막실(32)의 내부를 진공 흡인하여 감압 분위기로 한다. 그리고, 이온 건(37)과 광원 장치(36)를 작동시킨다.
광원 장치(36)로부터 증착원(35')에 전자를 조사하면, 증착원(35')의 구성 입자가 쫓겨나 고굴절률층(7) 상으로 날아온다. 그리고, 고굴절률층(7) 상에, 증착원(35')으로부터 쫓아낸 구성 입자를 퇴적시킴과 동시에, 이온 건(37)으로부터 아르곤 이온을 이온 빔으로서 조사한다.
본 실시형태에 있어서, 이온 빔 어시스트는, 불활성 가스, 산소 가스, 및 불활성 가스와 산소 가스의 혼합 가스로부터 선택되는 적어도 1종의 가스를 이용하여 행해진다. 불활성 가스로서, 예컨대 아르곤을 이용할 수 있다.
이렇게 하여 무기 다층막(3)을 형성하면, 이것 위에 발수발유막(12)을 형성한다.
발수발유막(12)의 형성 방법으로서는, 디핑법, 스핀 코팅법, 스프레이법 등의 습식법, 또는 진공 증착법 등의 건식법이 있다.
습식법 중에서는, 디핑법이 일반적이고, 잘 이용된다. 이 방법은, 불소 치환 알킬기 함유 유기 규소 화합물을 유기 용제에 용해시킨 액 중에, 무기 다층막(3)까지 형성한 광학 부품을 침지하고, 일정 조건에서 끌어올리고, 건조시켜 성막하는 방법이다. 유기 용제로서는, 퍼플루오로헥세인, 퍼플루오로-4-메톡시뷰테인, 퍼플루오로-4-에톡시뷰테인, 메타자일렌헥사플루오라이드 등이 사용된다.
유기 용제에 의한 희석 농도는, 0.01∼0.5중량%로 할 수 있고, 0.03∼0.1중량%가 바람직하다. 농도가 지나치게 낮으면 충분한 막 두께의 발수발유층(12)이 얻어지지 않는 경우가 있으며, 또한 농도가 지나치게 높으면 도포 불균일이 발생하기 쉽고, 재료 비용도 높아져 버리는 경우가 있다.
건식법 중에서는, 진공 증착법이 잘 이용된다. 이 방법은, 불소 치환 알킬기 함유 유기 규소 화합물을 진공조 내에서 가열하여 증발시켜, 발수발유막(12)을 형성하는 방법이다.
이렇게 하여 형성된 광학 부품(1)에 있어서는, 무기 다층막(3)을 380∼780nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값이 3∼50%이며, 또한 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 평균값이 20% 이하이도록 설계했기 때문에, 전술한 바와 같이 반사 특성 및 시인성에 대하여, 모두 양호한 성능을 확보할 수 있다.
또한, 광학 부품의 제조 방법에 있어서는, 이와 같은 균형이 잡힌 우수한 광학 부품을 확실히 제공할 수 있다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
≪실험 1≫
우레탄계 합성 수지 기판 상에, 굴절률 1.67의 실리콘계 하드 코팅, 및 굴절률 1.67의 프라이머 코팅을 가열 경화로 실시하고, 이하에 나타내는 바와 같이 진공 증착법에 의해 성막했다.
<실시예 1>
후면(얼굴측): 렌즈를 진공조 내에 설치된 회전하는 돔에 세팅하고, 진공조 내의 온도를 70도로 가열하고, 압력이 1.0×10-3Pa이 될 때까지 배기하고, 가속 전압 500V, 가속 전류 100mA의 조건에서 Ar 이온 빔 클리닝을 60초간 실시한 후, 플라스틱 기재측으로부터 순차적으로, 제 1 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.060λ, 제 2 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.110λ, 제 3 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.155λ, 제 4 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.050λ, 제 5 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.215λ, 제 6 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.040λ, 제 7 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.080λ, 제 8 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.300λ로 적층했다. 한편, λ는 설계의 중심 파장으로 500nm로 했다.
표면: 얼굴측의 면과 마찬가지의 장치를 이용하고, 마찬가지의 가공 분위기 하에서 전처리 후, 플라스틱 기재측으로부터 순차적으로, 제 1 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.135λ, 제 2 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.085λ, 제 3 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.200λ, 제 4 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.055λ, 제 5 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.190λ, 제 6 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.345λ로 적층했다. 한편, λ는 설계의 중심 파장으로 500nm로 했다.
실시예 1의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성을 도 5a에 나타낸다. 도 5a의 분광 특성의 수치 데이터를 도 5b에 나타낸다.
<실시예 2>
후면(얼굴측): 렌즈를 진공조 내에 설치된 회전하는 돔에 세팅하고, 진공조 내의 온도를 70도로 가열하고, 압력이 1.0×10-3Pa이 될 때까지 배기하고, 가속 전압 500V, 가속 전류 100mA의 조건에서 Ar 이온 빔 클리닝을 60초간 실시한 후, 플라스틱 기재측으로부터 순차적으로, 제 1 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.070λ, 제 2 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.065λ, 제 3 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.125λ, 제 4 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.045λ, 제 5 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.130λ, 제 6 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.300λ로 적층했다. 한편, λ는 설계의 중심 파장으로 500nm로 했다.
표면: 실시예 1의 표면과 마찬가지의 방법으로, 하기 막을 적층했다.
얼굴측의 면과 마찬가지의 장치를 이용하고, 마찬가지의 가공 분위기 하에서 전처리 후, 플라스틱 기재측으로부터 순차적으로, 제 1 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.135λ, 제 2 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.085λ, 제 3 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.200λ, 제 4 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.055λ, 제 5 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.190λ, 제 6 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.345λ로 적층했다. 한편, λ는 설계의 중심 파장으로 500nm로 했다.
실시예 2의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성을 도 6a에 나타낸다. 도 6a의 분광 특성의 수치 데이터를 도 6b에 나타낸다.
<실시예 3>
후면(얼굴측): 렌즈를 진공조 내에 설치된 회전하는 돔에 세팅하고, 진공조 내의 온도를 70도로 가열하고, 압력이 1.0×10-3Pa이 될 때까지 배기하고, 가속 전압 500V, 가속 전류 100mA의 조건에서 Ar 이온 빔 클리닝을 60초간 실시한 후, 플라스틱 기재측으로부터 순차적으로, 제 1 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.060λ, 제 2 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.075λ, 제 3 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.360λ, 제 4 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.250λ로 적층했다. 한편, λ는 설계의 중심 파장으로 500nm로 했다.
표면: 실시예 1의 표면과 마찬가지의 하기 막을 적층했다.
얼굴측의 면과 마찬가지의 장치를 이용하고, 마찬가지의 가공 분위기 하에서 전처리 후, 플라스틱 기재측으로부터 순차적으로, 제 1 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.135λ, 제 2 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.085λ, 제 3 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.200λ, 제 4 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.055λ, 제 5 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.190λ, 제 6 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.345λ로 적층했다. 한편, λ는 설계의 중심 파장으로 500nm로 했다.
실시예 3의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성을 도 7a에 나타낸다. 도 7a의 분광 특성의 수치 데이터를 도 7b에 나타낸다.
<비교예 1>
후면(얼굴측): 실시예와 마찬가지의 장치를 이용하고, 마찬가지의 가공 분위기 하에서 전처리 후, 플라스틱 기재측으로부터 순차적으로, 제 1 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.110λ, 제 2 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.090λ, 제 3 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.220λ, 제 4 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.060λ, 제 5 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.200λ, 제 6 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.325λ로 적층했다. 한편, λ는 설계의 중심 파장으로 500nm로 했다.
표면: 실시예 1의 표면과 마찬가지의 하기 막을 적층했다.
얼굴측의 면과 마찬가지의 장치를 이용하고, 마찬가지의 가공 분위기 하에서 전처리 후, 플라스틱 기재측으로부터 순차적으로, 제 1 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.135λ, 제 2 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.085λ, 제 3 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.200λ, 제 4 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.055λ, 제 5 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.190λ, 제 6 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.345λ로 적층했다. 한편, λ는 설계의 중심 파장으로 500nm로 했다.
비교예 1의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성을 도 8a에 나타낸다. 도 8a의 분광 특성의 수치 데이터를 도 8b에 나타낸다.
또한, 실시예 1∼3의 렌즈의 표면, 및 비교예 1의 렌즈의 표면에 있어서의 분광 특성을 도 9a에 나타낸다. 도 9a의 분광 특성의 수치 데이터를 도 9b에 나타낸다.
실시예 1∼3, 비교예 1에 있어서의 각 성막층의 상세를 표 1에 나타낸다. 한편, 표 1 중에 나타내는 반사율의 단위는 %이다.
Figure pat00007
이렇게 하여 얻어진 광학 부품의 후면에 대하여, 280∼380nm의 파장 범위의 평균 반사율을 비교했다. 결과로서, 비교예 1에 비하여 실시예 1은 68%, 실시예 2는 70%, 실시예 3은 81%의 자외선 커트율을 갖고 있다는 것이 확인되었다.
또한, 이들 광학 부품을 이용하여 장용(裝用) 평가를 행했다.
(장용 평가)
실시예에 따라 제작한 광학 부품을 장비한 안경을 장용하되, 퍼스널 컴퓨터에 의한 데스크 작업 시에 장용하여, 비교예에 따라 제작한 광학 부품을 장비한 안경과의 비교 평가를 행했다. 평가 시의 조건 및 판정 항목은 이하와 같다.
모니터 인원수: 10명
디스플레이: 17인치 액정 디스플레이
작업 시간: 1시간/일
장용 기간: 1주간
판정 항목: 1. 눈부심 2. 표시 문자 등의 보기 쉬움 3. 피로감
각 평가 항목에 있어서 실시예 1∼3을 비교예 1과 비교하여, 동등한 효과를 확인할 수 있던 것을 ○라고 평가했다. 결과를 표 2에 나타낸다.
Figure pat00008
이와 같은 장용 비교 평가를 행한 결과, 시인성 및 피로감에 대해서는 실시예 1∼3과 비교예 1이 차이가 없음이 확인되었다. 380∼780nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값이 3∼50%이며, 또한 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 평균값이 20% 이하인 다층막을, 적어도 후면에 배설하는 것에 의해, 입사광에 의한 번거로움이 없고, 시인성이 향상된다는 것이 확인되고, 더욱이 안경 렌즈 장용자 후방으로부터의 자외선도 약 70∼80% 커트되고 있다는 것이 확인되었다.
≪실험 2≫
굴절률 1.67의 우레탄계 합성 수지 기판 상에, 이하의 다층막을 진공 증착으로 형성하여, 후면의 반사 특성을 측정했다.
<실시예 4>
렌즈를 진공조 내에 설치된 회전하는 돔에 세팅하고, 진공조 내의 온도를 70도로 가열하고, 압력이 1.0×10-3Pa이 될 때까지 배기하고, 가속 전압 500V, 가속 전류 100mA의 조건에서 Ar 이온 빔 클리닝을 60초간 실시한 후, 플라스틱 기재측으로부터 순차적으로, 제 1 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.075λ, 제 2 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.130λ, 제 3 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.070λ, 제 4 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.055λ, 제 5 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.220λ, 제 6 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.060λ, 제 7 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.120λ, 제 8 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.260λ로 적층했다. 한편, λ는 설계의 중심 파장으로 500nm로 했다.
실시예 4의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성을 도 10a에 나타낸다. 도 10a의 분광 특성의 수치 데이터를 도 10b에 나타낸다.
<실시예 5>
렌즈를 진공조 내에 설치된 회전하는 돔에 세팅하고, 진공조 내의 온도를 70도로 가열하고, 압력이 1.0×10-3Pa이 될 때까지 배기하고, 가속 전압 500V, 가속 전류 100mA의 조건에서 Ar 이온 빔 클리닝을 60초간 실시한 후, 플라스틱 기재측으로부터 순차적으로, 제 1 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.110λ, 제 2 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.130λ, 제 3 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.065λ, 제 4 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.055λ, 제 5 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.195λ, 제 6 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.060λ, 제 7 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.110λ, 제 8 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.290λ로 적층했다. 한편, λ는 설계의 중심 파장으로 500nm로 했다.
실시예 5의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성을 도 11a에 나타낸다. 도 11a의 분광 특성의 수치 데이터를 도 11b에 나타낸다.
<실시예 6>
렌즈를 진공조 내에 설치된 회전하는 돔에 세팅하고, 진공조 내의 온도를 70도로 가열하고, 압력이 1.0×10-3Pa이 될 때까지 배기하고, 가속 전압 500V, 가속 전류 100mA의 조건에서 Ar 이온 빔 클리닝을 60초간 실시한 후, 플라스틱 기재측으로부터 순차적으로, 제 1 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.140λ, 제 2 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.125λ, 제 3 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.065λ, 제 4 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.050λ, 제 5 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.170λ, 제 6 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.065λ, 제 7 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.090λ, 제 8 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.345λ로 적층했다. 한편, λ는 설계의 중심 파장으로 500nm로 했다.
실시예 6의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성을 도 12a에 나타낸다. 도 12a의 분광 특성의 수치 데이터를 도 12b에 나타낸다.
<실시예 7>
렌즈를 진공조 내에 설치된 회전하는 돔에 세팅하고, 진공조 내의 온도를 70도로 가열하고, 압력이 1.0×10-3Pa이 될 때까지 배기하고, 가속 전압 500V, 가속 전류 100mA의 조건에서 Ar 이온 빔 클리닝을 60초간 실시한 후, 플라스틱 기재측으로부터 순차적으로, 제 1 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.260λ, 제 2 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.125λ, 제 3 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.020λ, 제 4 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.040λ, 제 5 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.215λ, 제 6 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.065λ, 제 7 층 ZrO2(굴절률 2.00)를 광학적 막 두께 0.045λ, 제 8 층 SiO2(굴절률 1.47)를 광학적 막 두께 0.360λ로 적층했다. 한편, λ는 설계의 중심 파장으로 500nm로 했다.
실시예 7의 렌즈의 후면에 있어서의 분광 특성을 도 13a에 나타낸다. 도 13a의 분광 특성의 수치 데이터를 도 13b에 나타낸다.
또한, 실시예 4∼7에 있어서의 각 성막층의 상세를 표 3에 나타낸다. 한편, 표 3 중에 나타내는 반사율의 단위는 %이다.
Figure pat00009
도 10a∼13b에 나타내는 바와 같이, 380∼780nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값이 3∼50%이며, 또한 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 평균값이 20% 이하인 다층막은, 자외 영역에서 낮은 반사율을 갖고, 가시 영역에서 특정한 파장을 반사하는 특성을 갖는다는 것이 확인되었다.
이상의 결과로부터, 본 발명의 태양에 따르면 방현 효과를 갖고, 시인성이 양호하고, 또한 자외 영역의 낮은 표면 반사 특성에 의해서, 후방으로부터 입사되는 자외광의 반사에 의한 안구에의 입사를 억제할 수 있는 광학 부품 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다는 것이 분명하다.
1,1': 광학 부품,
2: 플라스틱 기재,
3, 3': 무기 다층막,
4: 기능성 박막,
5: 프라이머층(기능성 박막),
6: 하드 코팅층(기능성 박막),
7, 7': 고굴절률층,
8, 8': 저굴절률층,
9, 9': 제 1 층,
10, 10': 제 2 층,
11, 11': 제 3 층,
12: 발수발유막,
30: 증착 장치,
30': 성막 장치,
31: 제 1 성막실,
32: 제 2 성막실,
33: 제 3 성막실,
34: 유지 부재,
35, 35': 증착원,
35A: 제 1 증착원,
35B: 제 2 증착원,
36: 광원 장치,
37: 이온 건.

Claims (17)

  1. 플라스틱 기재와, 상기 플라스틱 기재의 양면 중, 적어도 후면에 배설된 다층막을 구비한 안경 렌즈로서,
    상기 다층막의, 파장과 반사율의 관계를 나타내는 분광 특성 곡선이, 380∼500nm의 파장 범위에 단 하나의 극댓값을 갖고,
    상기 다층막은, 380∼500nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값이 5∼50%이며, 또한 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 평균값이 20% 이하인, 안경 렌즈.
  2. 제 1 항에 있어서,
    380∼500nm의 파장 범위에 있어서의 상기 분광 특성 곡선의 상기 극댓값이, 380∼500nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값인, 안경렌즈.
  3. 플라스틱 기재와, 상기 플라스틱 기재의 양면 중, 적어도 후면에 배설된 다층막을 구비한 안경 렌즈로서,
    상기 다층막의, 파장과 반사율의 관계를 나타내는 분광 특성 곡선이, 380∼780nm의 파장 범위에 단 하나의 극댓값을 갖고,
    상기 다층막은, 380∼780nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값이 3∼50%이며, 또한 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 평균값이 20% 이하이고,
    380∼780nm의 파장 범위에 있어서의 상기 분광 특성 곡선의 상기 극댓값이, 380∼780nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 최댓값인, 안경 렌즈.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다층막이, 상기 플라스틱 기재의 전면 및 후면인 양면에 배설되어 있는, 안경 렌즈.
  5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 플라스틱 기재의 전면에 배설된 상기 다층막의 280∼380nm의 파장 범위에 있어서의 반사율의 평균값이, 상기 플라스틱 기재의 후면에 배설된 상기 다층막의 반사율의 평균값보다도 큰, 안경 렌즈.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 분광 특성 곡선이, 280∼380nm의 파장 범위에 적어도 하나의 극값을 갖는, 안경 렌즈.
  7. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 분광 특성 곡선이, 280∼380nm의 파장 범위에 단 하나의 극댓값을 갖는, 안경 렌즈.
  8. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 분광 특성 곡선이, 280∼380nm의 파장 범위에 단 하나의 극솟값을 갖는, 안경 렌즈.
  9. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다층막은, 4층 이상의 다층막인, 안경 렌즈.
  10. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 플라스틱 기재와 상기 다층막 사이에, 기능성 박막을 구비한, 안경 렌즈.
  11. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다층막은 고굴절률 재료와 저굴절률로부터 구성되고, 상기 고굴절률 재료는 이산화지르코늄을 포함하고, 상기 저굴절률 재료는 이산화규소를 포함하는, 안경 렌즈.
  12. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 안경 렌즈의 제조 방법으로서,
    상기 플라스틱 기재를 가열하는 공정과,
    상기 가열에 의해서 상기 플라스틱 기재를 소정 온도로 조정한 후, 상기 플라스틱 기재 상에 상기 다층막을 형성하는 공정을 구비하는, 안경 렌즈의 제조 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 다층막을 형성하는 공정에서, 상기 다층막은, 고굴절률 재료와 저굴절률 재료를 교대로 복수 적층하여 다층 구조의 고굴절률층을 형성하는 처리와, 상기 고굴절률층의 굴절률보다 낮은 굴절률의 저굴절률 재료로 이루어지는 저굴절률층을 상기 고굴절률층 상에 형성하는 처리를 포함하여 형성되는, 안경 렌즈의 제조 방법.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 다층막을 형성하는 공정에서, 상기 다층막은, 진공 증착법을 이용하여 형성되는, 안경 렌즈의 제조 방법.
  15. 제 12 항에 있어서,
    상기 다층막을 형성하는 공정에서, 상기 다층막을 구성하는 층 중의 적어도 1층이, 이온 빔 어시스트를 실시하면서 성막되는, 안경 렌즈의 제조 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 이온 빔 어시스트는, 불활성 가스, 산소 가스, 및 불활성 가스와 산소 가스의 혼합 가스 중에서 선택되는 적어도 1종의 가스를 이용하여 행해지는, 안경 렌즈의 제조 방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 불활성 가스는 아르곤인, 안경 렌즈의 제조 방법.
KR1020177025891A 2012-09-28 2013-09-26 광학 부품 및 그 제조 방법 KR101918886B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2012-216234 2012-09-28
JP2012216234 2012-09-28
PCT/JP2013/075988 WO2014050930A1 (ja) 2012-09-28 2013-09-26 光学部品およびその製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157009557A Division KR101781703B1 (ko) 2012-09-28 2013-09-26 광학 부품 및 그 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170107588A true KR20170107588A (ko) 2017-09-25
KR101918886B1 KR101918886B1 (ko) 2018-11-14

Family

ID=50388325

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157009557A KR101781703B1 (ko) 2012-09-28 2013-09-26 광학 부품 및 그 제조 방법
KR1020177025891A KR101918886B1 (ko) 2012-09-28 2013-09-26 광학 부품 및 그 제조 방법

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157009557A KR101781703B1 (ko) 2012-09-28 2013-09-26 광학 부품 및 그 제조 방법

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20150198821A1 (ko)
EP (1) EP2902817B2 (ko)
JP (2) JP5966011B2 (ko)
KR (2) KR101781703B1 (ko)
CN (1) CN104903756A (ko)
AU (2) AU2013321051B9 (ko)
CA (1) CA2886332C (ko)
WO (1) WO2014050930A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190049014A (ko) * 2017-11-01 2019-05-09 호원대학교산학협력단 소방대상물 화재피난 훈련용 안경

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6253009B2 (ja) * 2013-08-28 2017-12-27 東海光学株式会社 光学製品及び眼鏡レンズ
JP6311426B2 (ja) * 2014-04-16 2018-04-18 東海光学株式会社 光学製品及び眼鏡レンズ
CN204694870U (zh) * 2014-08-11 2015-10-07 深圳市康视佳网络科技发展有限公司 一种多功能镜片
KR101941798B1 (ko) * 2014-10-17 2019-01-23 호야 렌즈 타일랜드 리미티드 안경 렌즈 및 안경
CA2969346C (en) 2014-12-01 2021-03-23 Hoya Lens Thailand Ltd. Spectacle lens and spectacles
ES2964693T3 (es) 2016-03-31 2024-04-09 Hoya Lens Thailand Ltd Lente de gafas y gafas
FR3055157B1 (fr) * 2016-08-19 2018-09-07 Essilor International Lentille ophtalmique a revetement multicouche reflechissant et anti-abrasion, et son procede de fabrication.
CN108431678A (zh) * 2016-08-22 2018-08-21 豪雅镜片泰国有限公司 眼镜镜片及眼镜
CN106324731A (zh) * 2016-10-28 2017-01-11 宜昌南玻显示器件有限公司 车载外视镜多功能反射膜及其制备方法
JP6572327B2 (ja) * 2017-01-20 2019-09-04 ツィンファ ユニバーシティ ショットキーダイオード、ショットキーダイオードアレイ及びショットキーダイオードの製造方法
TWI655475B (zh) * 2017-02-08 2019-04-01 和昇眼鏡企業股份有限公司 Anti-glare dissipating optical lens
JP2018141847A (ja) * 2017-02-27 2018-09-13 東海光学株式会社 プラスチック眼鏡レンズ及び眼鏡
CN106918851A (zh) * 2017-04-26 2017-07-04 福建福光光电科技有限公司 一种疏水疏油抗污超硬的光学玻璃膜层
KR102189656B1 (ko) * 2017-09-29 2020-12-14 호야 렌즈 타일랜드 리미티드 안경 렌즈 및 안경
JP6873880B2 (ja) * 2017-09-29 2021-05-19 ホヤ レンズ タイランド リミテッドＨＯＹＡ Ｌｅｎｓ Ｔｈａｉｌａｎｄ Ｌｔｄ 眼鏡レンズおよび眼鏡
JP6473282B1 (ja) * 2017-09-29 2019-02-20 ホヤ レンズ タイランド リミテッドＨＯＹＡ Ｌｅｎｓ Ｔｈａｉｌａｎｄ Ｌｔｄ 眼鏡レンズおよび眼鏡
JP6473281B1 (ja) 2017-09-29 2019-02-20 ホヤ レンズ タイランド リミテッドＨＯＹＡ Ｌｅｎｓ Ｔｈａｉｌａｎｄ Ｌｔｄ 眼鏡レンズおよび眼鏡
WO2019065985A1 (ja) * 2017-09-29 2019-04-04 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
JP7265983B2 (ja) 2017-11-24 2023-04-27 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
EP3495127A1 (en) * 2017-12-06 2019-06-12 Essilor International Method for additively manufacturing an opthalmic lens and opthalmic lens
JP7303613B2 (ja) * 2018-06-29 2023-07-05 ホヤ レンズ タイランド リミテッド 眼鏡レンズおよび眼鏡
EP3884314B1 (en) * 2018-11-19 2024-01-03 Essilor International Optical lens having a mirror coating and a multilayer system for improving abrasion-resistance
US20200341168A1 (en) * 2019-04-25 2020-10-29 Quantum Innovations, Inc. Thin film optical lens and method for coating a lens
WO2021240805A1 (ja) * 2020-05-29 2021-12-02 株式会社乾レンズ 眼鏡レンズ及び眼鏡
CN112030115B (zh) * 2020-11-06 2021-04-09 上海米蜂激光科技有限公司 一种透雷达波柔性基底红外滤光膜及其制备方法

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3441948A1 (de) * 1984-11-16 1986-05-28 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Antireflex beschichtete, transparente abdeckung von zeichen, insbesondere fuer anzeigegeraete
JPS6310640A (ja) 1986-06-30 1988-01-18 Hoya Corp 眼鏡プラスチックレンズ用コーティング組成物
JP3911046B2 (ja) † 1996-04-12 2007-05-09 ペンタックス株式会社 波長選択性を有する光学部材
JP3975242B2 (ja) 1997-05-16 2007-09-12 Ｈｏｙａ株式会社 反射防止膜を有するプラスチック光学部品
JPH11106900A (ja) * 1997-10-01 1999-04-20 Toray Ind Inc 薄膜の製造方法
US6164777A (en) * 1998-12-16 2000-12-26 Bausch & Lomb Incorporated Color-imparting contact lenses with interference coating and method for making the same
JP2002015237A (ja) * 2000-06-30 2002-01-18 Toshiba Corp 課金制御システムおよび端末装置
JP4524877B2 (ja) * 2000-07-17 2010-08-18 コニカミノルタホールディングス株式会社 眼鏡用レンズ
US8002962B2 (en) * 2002-03-05 2011-08-23 Enthone Inc. Copper electrodeposition in microelectronics
JP2004029536A (ja) * 2002-06-27 2004-01-29 Sumitomo Chem Co Ltd 耐擦傷性低反射樹脂板及びその製造方法
JP4279074B2 (ja) * 2002-08-02 2009-06-17 Ｈｏｙａ株式会社 光学部材
JP4051015B2 (ja) * 2003-09-22 2008-02-20 株式会社有沢製作所 反射防止フィルム
JP2005114852A (ja) * 2003-10-03 2005-04-28 Jsr Corp プラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム及びその製造方法
JP2005215038A (ja) * 2004-01-27 2005-08-11 Seiko Epson Corp 眼鏡レンズ
JP2005310266A (ja) * 2004-04-21 2005-11-04 Konica Minolta Opto Inc 対物レンズ及び光ピックアップ装置
JP2006126233A (ja) † 2004-10-26 2006-05-18 Seiko Epson Corp 反射防止膜付き眼鏡レンズ
JP2006251760A (ja) 2005-02-08 2006-09-21 Seiko Epson Corp 光学部品およびその製造方法
WO2007046401A1 (ja) * 2005-10-21 2007-04-26 Nikon-Essilor Co., Ltd. 眼鏡用補助光学部材製造システム、眼鏡用補助光学部材製造方法、コンピュータプログラム製品
JP5211289B2 (ja) 2005-11-01 2013-06-12 東海光学株式会社 可視域用プラスチックレンズ
JP2007183412A (ja) † 2006-01-06 2007-07-19 Pentax Corp 波長選択性を有する光学部材
JP5241504B2 (ja) * 2006-10-31 2013-07-17 株式会社ニコン・エシロール 眼鏡レンズ及びその製造方法
WO2008069031A1 (ja) * 2006-12-07 2008-06-12 Konica Minolta Opto, Inc. 光学素子および光ピックアップ装置
JP2009210677A (ja) † 2008-03-03 2009-09-17 Seiko Epson Corp 眼鏡レンズ及びその製造方法
JP2009237509A (ja) * 2008-03-28 2009-10-15 Kanazawa Medical Univ 眼鏡用レンズ
WO2010016242A1 (ja) * 2008-08-04 2010-02-11 株式会社ニコン・エシロール 光学部品及び光学部品の製造方法
JP5222273B2 (ja) * 2009-11-20 2013-06-26 グンゼ株式会社 反射防止シート
JP2012093689A (ja) † 2010-09-29 2012-05-17 Nikon-Essilor Co Ltd 光学部品およびその製造方法
FR2968774B1 (fr) * 2010-12-10 2013-02-08 Essilor Int Article d'optique comportant un revetement antireflet a faible reflexion dans le domaine ultraviolet et le domaine visible
JP6105205B2 (ja) * 2011-02-28 2017-03-29 Hoya株式会社 光学レンズ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190049014A (ko) * 2017-11-01 2019-05-09 호원대학교산학협력단 소방대상물 화재피난 훈련용 안경

Also Published As

Publication number Publication date
WO2014050930A1 (ja) 2014-04-03
JPWO2014050930A1 (ja) 2016-08-22
CA2886332A1 (en) 2014-04-03
AU2013321051B9 (en) 2017-03-30
US20150198821A1 (en) 2015-07-16
CA2886332C (en) 2018-04-17
AU2013321051B2 (en) 2016-11-10
KR20150058327A (ko) 2015-05-28
JP5966011B2 (ja) 2016-08-10
EP2902817B2 (en) 2023-09-27
EP2902817A1 (en) 2015-08-05
AU2017200497A1 (en) 2017-02-16
EP2902817B1 (en) 2020-11-18
AU2017200497B2 (en) 2018-01-18
EP2902817A4 (en) 2016-06-08
KR101918886B1 (ko) 2018-11-14
KR101781703B1 (ko) 2017-09-26
AU2013321051A1 (en) 2015-04-30
CN104903756A (zh) 2015-09-09
JP2016197253A (ja) 2016-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101918886B1 (ko) 광학 부품 및 그 제조 방법
KR101477940B1 (ko) 광학 부품 및 그의 제조방법
JP5795675B2 (ja) 眼鏡レンズ用光学部品、眼鏡レンズ用光学部品の製造方法
JP6073355B2 (ja) 眼鏡レンズ、及び眼鏡レンズの製造方法
KR101986931B1 (ko) 안경 렌즈
JP5625077B2 (ja) 眼鏡レンズおよびその製造方法
WO2014208412A1 (ja) 光学部品

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant