JP5222273B2 - 反射防止シート - Google Patents
反射防止シート Download PDFInfo
- Publication number
- JP5222273B2 JP5222273B2 JP2009265253A JP2009265253A JP5222273B2 JP 5222273 B2 JP5222273 B2 JP 5222273B2 JP 2009265253 A JP2009265253 A JP 2009265253A JP 2009265253 A JP2009265253 A JP 2009265253A JP 5222273 B2 JP5222273 B2 JP 5222273B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- antireflection
- sheet
- base sheet
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
ディスプレイやタッチパネルの最表面には、太陽光や室内照明等の外光が映り込んで画像表示性能が低下するのを防止する手段として、プラスチックやガラス基板等の上に光反射防止膜を配設した光反射防止手段が用いられることがある(特許文献1、2参照)。このような光反射防止手段により、外光の反射率(全光線反射率)を3〜4%程度低減することができる。光反射防止手段は、ディスプレイの視認性を向上させるためには必須と言える。
さらに、このようなロール・ツー・ロール方式によれば、紫外線硬化させたベースシートの表面に対し、スパッタリングや蒸着加工等による薄膜形成やウェットコーティング等による厚膜形成を連続的に行うことも可能であり、反射防止シートの製造効率の飛躍的向上が望める。
すなわち、一般に反射防止シートが大気中に曝されると、大気中の酸素や水蒸気が反射防止膜及びベースシートの界面付近に侵入して拡散する。この酸素や水蒸気は、反射防止膜と接するベースシートの極表面領域(表面から約10nm以下の深さ領域)において、ベースシートを劣化させる反応(酸化反応または加水分解反応)を促進する原因となる。
このような剥離の問題は、反射防止シートを良好に使用し続ける上で、是非とも解決すべき課題である。
また、前記第二層は、オルガノシロキサンを加水分解して調整されたゾルをウェットコート法により塗布した後、加熱硬化により形成することもできる。
或いは、前記ベースシートの一方の最上面に透明導電膜を形成することも可能である。
また本発明は、外線硬化型アクリル樹脂を用いてベースシートを形成するベースシート形成工程と、ベースシートの少なくとも一方の表面に反射防止膜を形成する反射防止膜形成工程とを経る反射防止シートの製造方法であって、反射防止膜形成工程は、ベースシート側から第一層及び第二層を順次形成する各工程を有し、第一層形成工程では、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法、イオンプレーティング法、電子ビーム法のいずれかの薄膜形成法を用いて、膜厚が1nm超10nm未満のSi−Sn合金層で第一層を形成し、第二層形成工程では、オルガノシロキサンを加水分解して調整されたゾルをウェットコート法により塗布した後、加熱硬化させてオルガノポリシロキサンからなる第二層を形成するものとした。
或いは、ベースシートの一方の最上面に透明導電膜を形成する工程を経ることもできる。
また、ベースシート形成工程、第一層形成工程、第二層形成工程の少なくともいずれかの工程をロール・ツー・ロール方式で実施することも可能である。
本発明はこの知見に基づいてなされたものであり、反射防止膜をSi−Sn合金からなる第一層と、オルガノシロキサンを出発原料とする第二層(低屈折率層)で構成するとともに、第一層を紫外線硬化型アクリル樹脂からなるベースシートに対して直接積層することで構成されている。
一方、第二層はオルガノシロキサンを出発原料として構成し、分子構造中をなすポリマーネットワーク中に有機基とフッ化炭素基を含有させることができる。このため、当該第二層も従来のSiO2等からなる層(低屈折率層)と比較すると応力発生も極力低減されているとともに、第一層に対する追従性も改善されている。
このため本発明の反射防止シートは、過酷な環境での使用により、比較的強度の高い光照射や紫外線照射を受けてベースシートが劣化したり、タッチパネルへの用途において、入力時の押圧力を繰り返し受けるような場合でも、第一層とベースシート、または第一層と第二層との間で発生する応力が極力低減されており、これらの各層が容易に剥離することはない。従って本発明によれば、長期にわたり高い信頼性で優れた反射防止特性を期待できる。
なお、特許文献1の段落0005等には、「基体上に、基体側から、幾何学的膜厚が5〜25nmの酸窒化チタン膜と、幾何学的膜厚が70〜130nmのシリカを主成分とする膜とがこの順に形成され、シリカを主成分とする膜側からの入射光の反射を低減させる光吸収性反射防止体であって、前記酸窒化チタンにおける酸素のチタンに対する原子数比が0.11以上0.33未満である光吸収性反射防止体」が開示されている。この光吸収性反射防止体は外光反射機能を有する点において本発明の反射防止シートと共通する点もあるが、課題、構成、製造方法のいずれにおいても本発明と異なるものである。
<実施の形態1>
(反射防止シートの構成)
図1は、実施の形態1の反射防止シート1の構成を示す模式的な断面図である。反射防止シート1は、ベースシート2の一方の面に反射防止膜が形成されて構成される。反射防止膜は、ベースシート2側から第一層(Si−Sn合金層)3、第二層(低屈折率層)4を順次積層した構成を有する。
第一層3は、ST膜(Si−Sn合金層)で構成された薄膜層であり、ベースシート2及び第二層4に対し、応力発生を極力低減できるとともに、ベースシート2に対して良好な追従性を発揮することができる。また、ここでは第一層3を第二層4と組み合わせることで、少なくとも300nm〜800nmの光波長領域にわたり、優れた反射防止効果を発揮できる(後述する図6を参照)。なお、第一層3の膜厚を1nm超10nm未満に設定することにより、良好な透明性と反射防止効果の両立を図ることができる。
第一層3を構成するSi−Sn合金層は、従来の反射防止膜材料(SiO2、TiO2、その他の無機酸化物系材料等)に比べると展性や可撓性に非常に優れた材料である。従って、反射防止シート1ではSi−Sn合金層からなる第一層3を用いることで、使用時に当該第一層3から熱膨張や熱収縮等に伴う変形応力がベースシート2に及ぶのを極力低減できる。これにより、ベースシート2に対する第一層3の優れた密着性を維持できる。
よって、反射防止シート1中に使用経過に伴って大気中の水蒸気や酸素が侵入するとともに、紫外線等の光照射を受けてベースシート2の劣化反応が進行しても、ベースシート2と第一層3が密着性を過度に失うことなく、長期にわたり安定した形態が維持される。また、これに加えて第一層3と第二層4との密着性も発揮され、これらの3、4の組み合わせによる優れた反射防止効果が実現される。
(反射防止膜の剥離についての考察)
一般に、SiO2やTiO2等の無機材料を主成分とし、スパッタリング法や真空蒸着法等で成膜される反射防止膜は、光照射によっても殆ど化学変化が生じない。従って、反射防止シートの劣化は、有機材料から構成されるベースシートに起因して生じ易い性質がある。
<その他の実施の形態>
本発明の反射防止シートは図2の断面図に示す1Aのように、ベースシート2の両面にそれぞれ対称的に第一層3、第二層4を順次積層した構成としてもよい。このような構成によって、シートの両面に良好な反射防止機能を付与することができる。また、このような多層積層構造をなすことで、反射防止シートの透明性の向上を期待することもできる。
なお、反射防止シート1Bでは、ベースシート2の他方の面に公知の透明導電材料(ITO、ZnO等)を用いて透明導電膜6を形成している。この透明導電膜6は、当該反射防止シート1Bをタッチパネル等に適用することを想定したものであり、用途に合わせて適宜配設の有無を選択できる。このような透明導電膜は、他の反射防止シートに適用してもよい。
<製造工程の例示>
ここでは反射防止シート1の製造工程例を中心に説明する。
(ベースシートの作製)
紫外線硬化型アクリル樹脂材料と重合開始剤に対し、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、イソブチルアルコール(IBA)、エチルアルコール、メチルアルコール、ノルマルブチルアルコール(NBA)、シクロヘキサノン(CAN)、ジアセチルアセトン(DAA)、酢酸ブチル、酢酸エチル、イソプロピルアルコール(IPA)等の溶媒を加えて塗料(揮発性溶液)を調整する。なお、さらにSiO2、ZrO2、SnO2等の無機酸化物成分を含むナノ酸化物粒子材料を添加してもよい。これらの粒子材料としては、パウダーまたは有機溶媒に均一分散された各種市販品を利用することができる。
紫外線硬化型アクリル樹脂材料は、分子構造中のモノマーやオリゴマーによって、光硬化後のベースシートの硬度や巻取性(割れやすさ)が決定される。従って、紫外線硬化型アクリル樹脂材料の選定は重要である。具体的には骨格中にビニル基を含むモノマー、オリゴマー成分を用いる。このうちモノマーは反応性希釈剤とも呼ばれ、アクリル系モノマー、例えば3官能モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPT)あるいはそれのEO変性、PO変性物、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PET−3A)、4官能モノマーとしてはペンタエリスリトールテトラアクリレート、6官能モノマーとしてはジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPE−6A)などが例示できる。一方、オリゴマーとしては、ビニル基を含むウレタン系やエポキシ系オリゴマー成分を適宜選択して導入する。
上記塗料を用いて公知のキャスティング法及び紫外線照射工程を実施することにより、シート成型体(ベースシート)を得る。ここで、上記塗料に含まれるラジカル開始剤が紫外線照射によりラジカルを発生し、生成したラジカルを開始点として3次元状に架橋反応(重合反応)が進む。これにより、ベースシートは3次元のネットワークポリマー構造を有するため、機械強度(硬度、耐擦傷性など)に優れ、別途、ハードコート処理を行うことが不要な利点がある。
なお、ベースシートに高硬度及び耐熱性の両特性を付与したい場合は、シロキサン骨格を分子鎖中に導入したり、粒径100nm以下のシリカ微粒子(いわゆるナノシリカ)を分散させることもできる。この場合、シロキサン骨格は、ゾル・ゲル法を利用してアクリルモノマーとシロキサンを付加重合させる(ハイブリッド化)方法や、シルセスキオキサンをモノマーやオリゴマー分子骨格中に導入して取り込む方法が例示できる。この具体的な方法としては、例えば、「プラスチックハードコート材料の最新技術」(シーエムシー出版、2008)を参照することができる。
(第一層の作製)
上記形成したベースシートの片面に、スパッタリング法または真空蒸着法を用いることにより、膜厚が1nm超10nm未満のSi−Sn合金からなる第一層(ST膜)を形成する。この膜厚範囲に設定すれば、第一層はほぼ透明となり、反射防止シートとして要求される透明性を満足できるとともに、優れた反射防止特性も確保することができる。
(第二層の作製)
次に、第一層の上にポリオルガノシロキサンからなる低屈折率層である第二層を形成する。
或いは、オルガノシロキサンを出発原料とし、SiO2成分を分散させた溶液を用いることもできる。
具体的には上記のように、所定容量のフルオロシラン化合物あるいはメチル基、エチル基等を有するオルガノシラン材料を用意し、SiO2成分を分散させてゾルとしたものを塗料とする。この塗料をゾル・ゲル法に基づき塗布・乾燥させることにより、オルガノポリシロキサンからなる低屈折率の第二層を形成する。この方法で得られる第二層の屈折率は、バルクSiO2の屈折率値(1.46)よりも一般に低くなる。
なお、第二層4の最上面には、反射防止特性のさらなる向上を図るため、フルオロシラン系化合物やフッ素系化合物(たとえばダイキン工業株式会社製「オプツールTMDSX」)からなる第三層を形成することもできる。この第三層もロールコーティング法で積層することが可能である。
<性能確認実験>
[サンプル作製]
以下の手順で実施例及び比較例の各サンプルを作製した。
紫外線硬化型アクリル樹脂材料として、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PET−3A)75重量部に対して、3官能ウレタンアクリレート(第一工業製薬製ニューフロンティアR1302)25重量部を混合したものを用意した。これに光重合開始剤(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製イルガキュア184)5重量部混合することにより、紫外線硬化塗料を作製した。
(ベースシートの作製)
ベースシートを以下の手順で作製した。
(反射防止膜の作製)
次に、成型体Aの片面に対し、所定のスパッタ源(Si、Ti、ST合金のいずれか)を用い、スパッタリング法を実施して、Si層、Ti層、ST層のいずれかからなる、所定の厚み(1、5、10nmのいずれか)の第一層を形成した。スパッタリング法の実施条件として、スパッタリング前の到達真空度を2.5×10−4Paとし、基板温度を150℃に設定した。
なお、実施例1、2において得られた反射防止膜の反射率を測定したところ、波長550nmの光に対する表面反射率は0.63%であった。これにより、当該反射防止膜を形成しない場合(成型体A)の4.2%と比較し、反射率が著しく低減したことを確認した。
[密着性の評価]
上記作製した各サンプルについて、現時点(初期(0hr))で剥離が発生していないことを確認した上で、下記2種類の処理を行った。その後、エタノールを含浸させたウェスで反射防止膜の表面を往復摺動することにより、密着性の評価を行った。
(1)環境;60℃90%湿度の高温多湿環境(遮光環境)に所定時間にわたり放置
(2)環境;スガ試験機株式会社製の紫外線フェードメーター(光源はカーボンアーク)を用いて所定時間にわたり紫外線照射処理
上記エタノールを用いて摺動する際、ウェス(千代田株式会社製「コットンシーガル」)の荷重は500g/cm2とし、ウェスの摺動よる剥離の有無を目視で確認した。なお当該評価方法は、本願発明の効果が確認し易いように、一般的な評価方法であるテープ剥離法よりも過酷な評価方法となるように設定したものである。
[考察]
表1に示される結果が示すように、実施例1及び2では、可視光反射率も1より十分低く抑えられるとともに、密着性試験(1)環境、(2)環境のいずれにおいても良好な剥離耐久性が発揮されることが確認できた。
これに対し、比較例1、2は、いずれも実施例1、2と同じSi−Sn合金を用いた第一層を備えるが、比較例1の膜厚(1nm)では薄すぎて剥離が生じ、比較例2の膜厚(10nm)では逆に厚すぎて不透明となり、反射率の上昇を招くなど、それぞれ問題を有していることが確認された。なお、比較例2の透明性がかなり低下していたため、当該サンプルについては最小反射率測定及び測定実験を行わなかった。
さらに、第一層をSi膜で構成した比較例3〜5の結果から、第一層の膜厚が薄い(1nm)と剥離を生じやすく、膜厚が厚くなると(5nm〜10nm)透明性が失われ、反射率が極端に上昇することが確認された。反射率に関する特性は、図4のグラフでも確認でき、膜厚が比較的厚い比較例4、5ではそれぞれ波長500nm以下、波長600nm以下の範囲で急激に反射率の上昇傾向が確認できる。
このため非常に幅広い用途に利用可能であるが、例示すると光照射量が比較的多い屋外での用途(公共施設の表示装置)や、高温・高湿環境での用途(カーナビゲーションシステム等)に適用できる。また、優れた入力耐久性も発揮できるので、各種ディスプレイ表面に配設されるタッチパネルに適用することも可能である。
2 ベースシート(基材フィルム)
3 第一層(Si−Sn合金層)
4 第二層(低屈折率層)
5 第三層
6 透明導電膜
Claims (10)
- 紫外線硬化型アクリル樹脂からなるベースシートの少なくとも一方の面に、反射防止膜が形成された反射防止シートであって、
反射防止膜は、ベースシート側から第一層及び第二層が順次積層された構造を有し、
第一層は、膜厚が1nm超10nm未満に設定されたSi−Sn合金層からなり、
第二層は、オルガノポリシロキサンで構成されている
ことを特徴とする反射防止シート。 - 第一層は、膜厚が2nm以上7nm以下に設定されている
ことを特徴とする請求項1に記載の反射防止シート。 - 第一層は、膜厚が3nm以上6nm以下に設定されている
ことを特徴とする請求項1に記載の反射防止シート。 - 前記第二層は、オルガノシロキサンを加水分解して調整されたゾルをウェットコート法により塗布した後、加熱硬化により形成されたものである
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止シート。 - 反射防止膜は、前記第二層の上にフルオロシラン系化合物またはフッ素系化合物からなる第三層が積層された構造を有する
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止シート。 - 前記ベースシートの一方の最上面に透明導電膜が形成されている
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の反射防止シート。 - 紫外線硬化型アクリル樹脂を用いてベースシートを形成するベースシート形成工程と、
ベースシートの少なくとも一方の表面に反射防止膜を形成する反射防止膜形成工程とを経る反射防止シートの製造方法であって、
反射防止膜形成工程は、ベースシート側から第一層及び第二層を順次形成する各工程を有し、
第一層形成工程では、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法、イオンプレーティング法、電子ビーム法のいずれかの薄膜形成法を用いて、膜厚が1nm超10nm未満のSi−Sn合金層で第一層を形成し、
第二層形成工程では、オルガノシロキサンを加水分解して調整されたゾルをウェットコート法により塗布した後、加熱硬化させてオルガノポリシロキサンからなる第二層を形成する
ことを特徴とする反射防止シートの製造方法。 - 反射防止膜形成工程は、さらに第二層形成工程後に、第二層の上にフルオロシラン系化合物またはフッ素系化合物からなる第三層を形成する工程を有する
ことを特徴とする請求項7に記載の反射防止シートの製造方法。 - ベースシートの一方の最上面に透明導電膜を形成する工程を経る
ことを特徴とする請求項7または8のいずれかに記載の反射防止シートの製造方法。 - ベースシート形成工程、第一層形成工程、第二層形成工程の少なくともいずれかの工程をロール・ツー・ロール方式で実施する
ことを特徴とする請求項7〜9のいずれかに記載の反射防止シートの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009265253A JP5222273B2 (ja) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | 反射防止シート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009265253A JP5222273B2 (ja) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | 反射防止シート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011107618A JP2011107618A (ja) | 2011-06-02 |
JP5222273B2 true JP5222273B2 (ja) | 2013-06-26 |
Family
ID=44231119
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009265253A Expired - Fee Related JP5222273B2 (ja) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | 反射防止シート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5222273B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130055311A (ko) * | 2011-11-18 | 2013-05-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치용 윈도우 패널 및 이를 포함하는 표시 장치 |
KR101918886B1 (ko) * | 2012-09-28 | 2018-11-14 | 가부시키가이샤 니콘. 에시로루 | 광학 부품 및 그 제조 방법 |
KR101526650B1 (ko) | 2012-11-21 | 2015-06-05 | (주)엘지하우시스 | 광학특성이 우수한 반사방지 필름 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63158245A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-01 | 株式会社 麗光 | 成形用シ−ト |
JP2000198964A (ja) * | 1999-01-05 | 2000-07-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学機能性膜及びその製造方法 |
JP2001147777A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-05-29 | Sekisui Chem Co Ltd | タッチパネル用反射防止フィルム、その製造方法及びタッチパネル |
JP2001324707A (ja) * | 2000-05-15 | 2001-11-22 | Gunze Ltd | 液晶デイスプレイ用タッチパネル |
JP2005262597A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Gunze Ltd | ハードコートフィルム |
JP2007268897A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Gunze Ltd | タッチパネル用フィルムとその製造方法 |
WO2008078775A1 (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-03 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | 電気電子部品用複合材料、電気電子部品および電気電子部品用複合材料の製造方法 |
JP2009036910A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 光学フィルム |
-
2009
- 2009-11-20 JP JP2009265253A patent/JP5222273B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011107618A (ja) | 2011-06-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101812962B1 (ko) | 광학용 시트 및 도전성 시트 및 상기 광학용 시트를 구비하는 표시 장치 | |
JP5806620B2 (ja) | 透明導電性フィルムおよびタッチパネル | |
JP5341790B2 (ja) | タッチパネル用フィルムとこれを用いたタッチパネル | |
JP2007234424A (ja) | 透明導電性フィルムおよびタッチパネル | |
JP2011098563A (ja) | 透明導電性フィルム | |
TWI248870B (en) | Antireflection film for optical applications | |
KR20110037881A (ko) | 투명 도전성 필름 | |
JP2001287308A (ja) | プラスチック積層体および画像表示保護フイルム | |
KR20060109939A (ko) | 반사 방지 필름, 전자파 실드성 광 투과창재, 가스 방전형발광 패널, 플랫 디스플레이 패널, 진열창재 및 태양 전지모듈 | |
JPH07333404A (ja) | 光学機能性膜、光学機能性フィルム、防眩性反射防止フィルム、その製造方法、偏光板および液晶表示装置 | |
JP2006235125A (ja) | 反射防止フィルム及びその製造方法 | |
JP4500159B2 (ja) | 透明導電性積層体およびそれを備えたタッチパネル | |
KR102083679B1 (ko) | 정전용량방식 터치패널용 고투과 복합필름 | |
KR101069569B1 (ko) | 하드 코트층 형성용 조성물, 하드 코트 필름, 광학 소자 및 화상 표시 장치 | |
CN112415638B (zh) | 层叠薄膜的制造方法 | |
JP4496726B2 (ja) | 減反射材料用低屈折率層、それを備えた減反射材料及びその用途 | |
JP5222273B2 (ja) | 反射防止シート | |
JP5219363B2 (ja) | 積層体 | |
JP2002297042A (ja) | プラスチック積層体および画像表示保護部材 | |
CN112993188A (zh) | 一种显示面板及显示设备 | |
JP5758672B2 (ja) | 光反射防止シートとその製造方法およびその光反射防止シートを用いたタッチパネルおよびディスプレイ | |
TW201637842A (zh) | 透明導電膜積層用薄膜及其製造方法以及透明導電性薄膜 | |
CN117480412A (zh) | 硬涂膜、光学构件及图像显示装置 | |
JP2008201922A (ja) | コーティング剤、硬化コート層および構造体 | |
JPH11286078A (ja) | 透明導電性積層体およびその製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120313 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130221 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130305 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130308 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160315 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5222273 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |