KR20170087523A - 캐리어 이동 적재 촉진 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 목적은 기존의 로드 포트의 갱신(교체) 등이 필요 없는 캐리어 이동 적재 촉진 장치를 제공하는 것이다. 캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)는 후프(8)가 적재되는 로드 포트(6)에 대하여 설치되는 것이다. 이 캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)는 후프(8)를 가적재하기 위한 가적재대(2)와, 로드 포트(6)의 적재대(61) 및 가적재대(2)의 상방을 수평 방향으로 주행하고 또한 후프(8)를 승강시켜서 적재대(61)와 가적재대(2) 사이에서 후프(8)의 이동 적재를 행하는 캐리어 이동 적재 대차(3)와, 가적재대(2) 및 캐리어 이동 적재 대차(3)를 지지하는 지지 부재(4)와, 적재대(61) 또는 가적재대(2)와 OHT(7) 사이에서의 후프(8)의 전달 중에 있어서, 캐리어 이동 적재 대차(3)와 후프(8)의 접촉을 회피하도록 캐리어 이동 적재 대차(3)의 동작을 제어하는 컨트롤러(5)를 구비하고 있다.

Description

캐리어 이동 적재 촉진 장치{CARRIER TRANSFER FACILITATING DEVICE}
본 발명은 로드 포트로의 캐리어의 반송 대기 시간을 단축하기 위한 캐리어 이동 적재 촉진 장치에 관한 것이다.
이러한 종류의 기술에 관해서는, 예를 들어 특허문헌 1에 기재된 것이 있다. 특허문헌 1에 기재된 반송 시스템은, 로드 포트와, 로드 포트에 대하여 인접 배치된 중계 유닛과, 로드 포트 및 중계 유닛에 내장된 캐리어 이동 적재 장치를 구비해서 이루어진다. 캐리어 이동 적재 장치는, 로드 포트 및 중계 유닛의 적재대의 하방에 설치된 캐리어의 이동 장치와 승강 장치를 갖는다. 또한, 로드 포트(로드 포트 군)로의 캐리어의 반송은, OHT(Overhead Hoist Transfer : 천장 주행식 무인 반송차) 등의 반송차에 의해 행해진다. 이 반송 시스템에 따르면, 1회의 OHT의 이동으로, 캐리어의 플레이스(캐리어의 적재) 및 피크(캐리어의 수취)가 가능해져, 로드 포트수가 많은 장치를 채용할 일 없이 캐리어의 반송 대기 시간을 단축할 수 있다.
일본 특허 출원 공개 제2008-244416호 공보
그러나, 특허문헌 1에 기재된 반송 시스템에서는, 로드 포트 및 중계 유닛 자체(내부)에 캐리어 이동 적재 장치를 내장하고 있기 때문에, 기존의 로드 포트(캐리어 이동 적재 장치를 구비하지 않는 로드 포트)로의 당해 반송 시스템의 적용에 있어서, 기존의 로드 포트를 그대로 사용할 수 없다. 즉, 기존의 로드 포트의 개조 혹은 로드 포트식의 갱신(교체)이 필요하게 된다는 문제가 있었다.
본 발명은, 상기 실정을 감안해서 이루어진 것으로, 그 목적은, 기존의 로드 포트의 갱신(교체) 등이 필요 없는 캐리어 이동 적재 촉진 장치를 제공하는 것이다.
본 발명은, 캐리어 반송 수단에 의해 반송되는 캐리어가 적재되는 로드 포트에 대하여 설치되는 캐리어 이동 적재 촉진 장치로서, 캐리어를 가적재하기 위한 가적재대와, 상기 로드 포트의 적재대 및 상기 가적재대의 상방을 수평 방향으로 주행하고 또한 캐리어를 승강시켜서 당해 적재대와 당해 가적재대 사이에서 캐리어의 이동 적재를 행하는 캐리어 이동 적재 대차와, 상기 가적재대 및 상기 캐리어 이동 적재 대차를 지지하는 지지 부재와, 상기 적재대 또는 상기 가적재대와 상기 캐리어 반송 수단 사이에서의 캐리어의 전달 중에 있어서, 상기 캐리어 이동 적재 대차와 캐리어와의 접촉을 회피하도록 상기 캐리어 이동 적재 대차의 동작을 제어하는 이동 적재 대차 제어부를 구비하는, 캐리어 이동 적재 촉진 장치이다.
본 발명에서는, 로드 포트의 적재대의 상방을 수평 방향으로 캐리어 이동 적재 대차를 주행시켜서, 로드 포트의 적재대와 가적재대 사이에서 캐리어의 이동 적재를 행하게 하고 있다. 또한, 가적재대 및 캐리어 이동 적재 대차는 지지 부재로지지되어 있다. 또한, 이동 적재 대차 제어부에 의해, 로드 포트의 적재대 또는 가적재대와 캐리어 반송 수단 사이에서의 캐리어의 전달 중에 있어서, 캐리어 이동 적재 대차와 캐리어와의 접촉을 회피하도록 캐리어 이동 적재 대차의 동작을 제어하는 구성으로 되어 있다.
이에 의해, 로드 포트의 적재대의 상방 공간을 이용해서 캐리어의 이동 적재를 행할 수 있다. 그 결과, 종래 기술과 같이, 로드 포트 자체(내부)에 캐리어 이동 적재 장치를 내장할 필요가 없어지고, 캐리어 이동 적재 촉진 장치(캐리어 이동 적재 장치)의 나중 장착(기존의 로드 포트에 대한 첨가)이 가능해진다. 즉, 기존의 로드 포트를 그대로 사용할 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 캐리어 반송 수단은, 상기 캐리어 이동 적재 대차보다도 상방을 주행하는 반송 수단이며, 상기 이동 적재 대차 제어부는, 상기 전달 중에 있어서, 상기 적재대 또는 상기 가적재대의 상방 위치를 피한 위치에 상기 캐리어 이동 적재 대차를 퇴피시키는 것이 바람직하다. 또한, 캐리어 이동 적재 대차의 퇴피 위치는 다음 작업이 바로 가능한 위치가 바람직하다.
이 구성에 따르면, 캐리어 이동 적재 대차 및 캐리어 반송 수단 모두가 로드 포트의 적재대의 상방을 주행한다. 이에 의해, 적재대의 상방 공간을 보다 유효하게 이용할 수 있고, 캐리어 반송 시스템 전체의 공간 절약화를 도모할 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 캐리어 반송 수단은 캐리어를 일 방향으로 반송하는 반송 수단이며, 상기 가적재대는 상기 적재대보다도 캐리어의 반송 방향 하류측에 배치되고, 상기 이동 적재 대차 제어부는, 캐리어의 처리가 완료되었을 때, 상기 적재대 상의 처리 완료된 캐리어를 상기 가적재대 상으로 즉시 이동 적재하는 것이 바람직하다.
이 구성에 따르면, 로드 포트의 적재대 상에 처리 완료된 캐리어가 남아 있는 시간을 단축할 수 있다. 그 결과, 로드 포트로의 캐리어의 반송 대기 시간을 보다 단축할 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 캐리어 이동 적재 대차에 의해 캐리어를 들어 올렸을 때의 당해 캐리어의 저면 레벨이, 상기 적재대 및 상기 가적재대 상에 놓여진 상태의 캐리어의 상면 레벨보다도 높게 되어 있는 것이 바람직하다.
이 구성에 따르면, 로드 포트의 적재대상 또는 가적재대 상에 위치하는 다른 캐리어 상을 넘어, 캐리어를 횡이동시킬 수 있다. 그 결과, 기존의 복수의 로드 포트가 이웃하여 배치되어 있다 하더라도, 모든 로드 포트와 가적재대 사이에서 캐리어의 이동 적재를 행할 수 있어, 로드 포트로의 캐리어의 반송 대기 시간을 보다 단축할 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 로드 포트와 상기 가적재대가 이웃하여 배치되고, 상기 캐리어 이동 적재 대차에 의해 캐리어를 들어 올렸을 때의 당해 캐리어의 저면 레벨이, 상기 적재대 및 상기 가적재대 상에 놓여진 상태의 캐리어의 상면 레벨보다도 낮게 되어 있는 것이 바람직하다.
이 구성에 따르면, 캐리어 이동 적재 대차가 주행하는 높이를 최대한 낮게 억제할 수 있다. 그 결과, 캐리어 이동 적재 촉진 장치의 높이를 전체적으로 낮게 억제할 수 있고, 콤팩트한 캐리어 이동 적재 촉진 장치로 할 수 있다. 또한, 캐리어의 승강량이 적기 때문에, 캐리어 이동 적재 대차의 동작 시간을 단축할 수 있고, 결과적으로 로드 포트로의 캐리어의 반송 대기 시간을 보다 단축할 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 지지 부재는, 수평 방향으로 배치되어 상기 캐리어 이동 적재 대차가 주행하는 주행 레일과, 상기 주행 레일로부터 하방으로 연장하도록 설치된 적어도 2개의 다리부재와, 상기 다리부재의 하단부에 장착된 캐스터를 구비해서 이루어지는 것이 바람직하다.
이 구성에 따르면, 주행 가능한 자립식의 캐리어 이동 적재 촉진 장치로 되고, 기존의 로드 포트로의 적용이 보다 용이하게 된다. 그 결과, 캐리어 이동 적재 촉진 장치의 설치 작업 시간을 단축할 수 있고, 기존 공장 설비의 정지 시간을 짧게 할 수 있다. 또한, 다른 프로세스 장치용으로의 이동 설치(캐리어 이동 적재 촉진 장치의 이전)도 보다 용이하게 된다.
본 발명에 따르면, 로드 포트의 적재대의 상방 공간을 이용해서 캐리어의 이동 적재를 행할 수 있고, 그 결과 캐리어 이동 적재 촉진 장치(캐리어 이동 적재 장치)의 나중 장착이 가능해진다. 이에 의해, 기존의 로드 포트의 갱신(교체) 등이 필요 없는 캐리어 이동 적재 촉진 장치를 제공할 수 있다. 게다가, 다른 프로세스 장치용으로의 이동 설치(캐리어 이동 적재 촉진 장치의 이동 설치)도 가능하므로 확장성이 우수하다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치를 도시하는 개략의 정면도이다.
도 2는 도 1에 도시하는 캐리어 이동 적재 촉진 장치의 개략의 평면도(A-A 화살표도)이다.
도 3은 후프의 반송 플로우를 도시하는 도면이다.
도 4는 후프의 반송 플로우를 도시하는 도면이다.
도 5는 후프의 반송 플로우를 도시하는 도면이다.
도 6은 후프의 반송 플로우를 도시하는 도면이다.
도 7은 제1 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치의 변형예를 도시하는 개략 사시도이다.
도 8은 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치를 도시하는 개략 정면도이다.
도 9는 본 발명의 제3 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치를 도시하는 개략 정면도이다.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.
(캐리어 반송 시스템)
캐리어 반송 시스템(50) 및 캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)의 구성에 대해서, 도 1 및 도 2를 참조하면서 설명한다. 도 1에 도시한 바와 같이, 캐리어 반송 시스템(50)은, 공장내의 천장측을 주행하는 OHT(7)(Overhead Hoist Transfer : 천장 주행식 무인 반송차)와, OHT(7)가 주행하는 레일(9)(궤도)과, 레일(9)의 하방에 설치된 로드 포트(6)와, 로드 포트(6)에 대하여 설치된 캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)를 구비하고 있다.
(OHT)
OHT(7)는 후술하는 캐리어 이동 적재 대차(3)보다도 상방을 주행하는 캐리어 반송 수단(캐리어 반송차)이며, 벨트 구동으로 상하 동작이 가능한 호이스트부(71)를 갖는다. OHT(7)는, 호이스트부(71)에 의해 후프[38(8)][FOUP(Front Opening Unified Pod)]를 매달아 올려서 일 방향으로 주행해 후프[38(8)]를 반송한다. 캐리어의 일 예로서 후프(FOUP)로 설명한다.
또한, 캐리어 반송 수단은 OHT(7)가 아니라, OHS(Over Head Shuttle : 천장 주행식 셔틀), RGV(Rail Guided Vehicle : 유궤도식 무인 반송차), AGV(Automated Guided Vehicle : 무인 반송차) 등이라도 된다. RGV 및 AGV는 공장내의 바닥면측을 주행하는 캐리어 반송 수단이다.
후프[38(8)]는 본체(81)와, 본체(81)의 상면에 장착된 플랜지부(82)를 갖는다. 예를 들어, 반도체 기판이 본체(81) 내에 복수매 수납된다. 후프[38(8)]는, 그 플랜지부(82)로 OHT(7)에 메달아 올려져 반송된다. 후프[38(8)]는 본 발명에 있어서 캐리어에 상당한다. 또한, 캐리어는 후프[38(8)]로 한정되는 일은 없다.
[레일(궤도)]
레일(9)은 공장의 천장으로부터 현수하는 등으로 해서 설치된다. 캐리어 반송 수단이 RGV인 경우에는, 레일(궤도)은 공장의 바닥 등에 설치된다.
(로드 포트)
로드 포트(6)는, 그 적재대(61) 상에 적재된 후프(8)의 덮개(83)(도 2 참조)를 개폐하기 위한 장치이다. 로드 포트(6)의 전방면측에 적재대(61)가 설치되어 있다. 로드 포트(6)의 후방면측에는, 반도체 기판 등을 처리하기 위한 프로세스 장치(도시하지 않음)가 배치된다.
(제1 실시 형태의 캐리어 이동 적재 촉진 장치)
캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)는 가적재대(2)와, 캐리어 이동 적재 대차(3)와, 가적재대(2) 및 캐리어 이동 적재 대차(3)를 지지하는 지지 부재(4)와, 캐리어 이동 적재 대차(3)의 동작을 제어하는 컨트롤러(5)(이동 적재 대차 제어 장치)를 구비하여 이루어진다.
(가적재대)
가적재대(2)는 그 위에 후프(8)가 가적재되는 선반이다. 가적재대(2)는 지지 부재(4)의 다리부재(42)의 측면에 장착되는 브래킷(21)과, 브래킷(21)의 상면에 고정된 받침대(22)를 구비하여 이루어진다. 본 실시 형태에 있어서, 가적재대(2)는 적재대(61)[로드 포트(6)]보다도 후프(8)의 반송 방향 하류측에 배치되어 있다.
(캐리어 이동 적재 대차)
캐리어 이동 적재 대차(3)는, 로드 포트(6)의 적재대(61) 및 가적재대(2)의 상방을 수평 방향으로 주행하고 또한 후프(8)를 승강시켜서 적재대(61)와 가적재대(2) 사이에서 후프(8)의 이동 적재를 행하기 위한 것이다.
캐리어 이동 적재 대차(3)는 차륜이 장착된 대차(31)와, 대차(31)에 장착된 리프트 장치(32)를 구비하여 이루어진다. 리프트 장치(32)는, 예를 들어 벨트 구동으로 된다. 캐리어 이동 적재 대차(3)는, 대차(31)에 의해, 로드 포트(6)의 적재대(61) 및 가적재대(2)의 상방을 수평 방향으로 주행하고, 리프트 장치(32)에 의해, 후프(8)를 승강시킨다. 캐리어 이동 적재 대차(3)는 복수대 있어도 된다.
(지지 부재)
지지 부재(4)는 수평 방향으로 배치되어 그 상면을 캐리어 이동 적재 대차(3)가 주행하는 주행 레일(41)과, 주행 레일(41)의 단부로부터 연직 하향으로 연장하도록 설치된 4개의 다리부재(42)를 구비하여 이루어진다. 도 2에 도시한 바와 같이, 주행 레일(41)은 병행해서 배치된 2개의 레일 부재(41a)와, 레일 부재(41a)끼리를 연결하는 2개의 연결 부재(41b)로 구성된다. 2개의 레일 부재(41a)끼리의 간격은, 레일 부재(41a)끼리의 사이를 승강하는 후프(8)가 레일 부재(41a)에 간섭하지 않는 치수로 된다. 마찬가지로, 후프(8)의 승강중에 있어서 후프(8)와 연결 부재(41b)가 접촉하지 않도록, 연결 부재(41b)의 위치는 후프(8)의 연직 상방을 피한 위치로 된다.
본 실시 형태에 있어서, 지지 부재(4)는 그 4개의 다리부재(42)에 의해 공장내의 바닥면에 대하여 세워 설치되고, 로드 포트(6)에 대해서는 접촉하지 않는다. 또한, 로드 포트(6)에 브래킷(도시하지 않음, 지지 부재의 일 구성 부재) 등을 장착하고, 로드 포트(6)로부터 지지를 취하는 형태의 지지 부재로해도 된다. 또한, 프로세스 장치측의 레일 부재(41a)를 프로세스 장치에 장착해 두어도 된다.
(컨트롤러)
컨트롤러(5)는 적재대(61) 또는 가적재대(2)와 OHT(7) 사이에서의 후프(8)의 전달 중에 있어서, 캐리어 이동 적재 대차(3)와 후프(8)의 접촉을 회피하도록 캐리어 이동 적재 대차(3)의 동작을 제어하는 이동 적재 대차 제어부를 내부에 갖는 것이다. 여기서, 이동 적재 대차 제어부는, 예를 들어 컨트롤러에 내장된 마이크로컴퓨터의 프로그램부를 말한다. 컨트롤러(5)는 가적재대(2)의 하방 공간에 배치되고, 지지 부재(4)의 다리부재(42)의 측면에 장착되어 있다.
(캐리어 이동 적재 촉진 장치의 동작)
다음에, 도 3 내지 도 6에 기초하여, 캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)를 이용한 후프(8)의 반송 플로우의 일 예에 대해서 설명하면서, 컨트롤러(5)(이동 적재 대차 제어부를 내부에 갖는 제어 장치)에 의한 캐리어 이동 적재 대차(3)의 제어에 대해서 설명한다. 또한, 이하에 설명하는 캐리어 이동 적재 대차(3)의 움직임이 컨트롤러(5)에 내장된 이동 적재 대차 제어부에 의해 실현된다.
(캐리어 이동 적재 대차의 퇴피)
로드 포트(6)의 적재대(61) 상에 OHT(7)가 후프(8)를 적재하려고 하는 경우, 컨트롤러(5)로부터의 신호에 의해, 캐리어 이동 적재 대차(3)는 적재대(61)의 상방 위치를 피한 위치로 퇴피한다[스텝(1)]. 본 실시 형태에서는, 가적재대(2)의 상방 위치에 캐리어 이동 적재 대차(3)를 퇴피시키고 있다.
또한, 도 3중에 가상선(2점 쇄선)으로 도시한 바와 같이, 가적재대(2)보다도 반송 방향 하류측에 주행 레일(41)을 연장시켜도 된다. 그리고, 가적재대(2)가 하방에 없는 위치까지 캐리어 이동 적재 대차(3)를 퇴피시켜도 된다[스텝(1)-2]. 이것에 의하면, 가적재대(2)와 별개의 OHT 사이에서의 후프의 전달을 캐리어 이동 적재 대차(3)가 방해하는 일은 없다.
또한, 로드 포트(6)의 적재대(61) 상에 OHT(7)가 후프(8)를 적재하려고 할 경우에, 적재대(61)의 상방 위치에 캐리어 이동 적재 대차(3)가 위치하지 않는 경우에는, 컨트롤러(5)에 의해, 적재대(61)의 상방 위치에 캐리어 이동 적재 대차(3)가 위치하지 않는 것을 확인하게 된다.
(OHT에 의한 후프의 적재)
후프(8)를 보유지지한 상태의 OHT(7)가 로드 포트(6)의 적재대(61)의 상방 위치까지 주행해 온다[스텝(2)]. 로드 포트(6)의 적재대(61)의 상방 위치에 OHT(7)가 도착하면, OHT(7)는 적재대(61) 상에 후프(8)를 내린다[스텝(3)].
(OHT에 의한 다른 후프의 수취)
다음에, 도 4에 도시한 바와 같이, OHT(7)는, 그 호이스트부(71)를 끌어 올린 후, 가적재대(2)의 상방 위치까지 주행을 개시한다[스텝(4)]. 한편, OHT(7)가 주행을 개시한 것, 또는 적재대(61) 상방의 캐리어 이동 적재 대차(3)의 주행 공간에 호이스트부(71)가 없는 것을 조건으로, 캐리어 이동 적재 대차(3)는 컨트롤러(5)에 의해 제어되고, 가적재대(2)의 상방 위치로부터 적재대(61)의 상방 위치룰 향해서 이동한다[스텝(5)].
또한, 도 4 등에 도시한 바와 같이, 가적재대(2) 상에는, 로드 포트(6)의 후방면측에 배치된 프로세스 장치(도시하지 않음)에 의해 처리된 반도체 기판 등을 수납한 처리 완료의 후프(18)가 가적재되어 있는 것으로 한다[당해 후프(18)는 캐리어 이동 적재 대차(3)에 의해 적재대(61)로부터 가적재대(2)로 이동 적재된 것이다].
이때, 도 5에 도시한 바와 같이, 후프(8)를 보유지지하지 않는 빈 OHT(7)가 가적재대(2)의 상방 위치에 도착하면, OHT(7)는 가적재대(2) 상의 처리 완료의 후프(18)를 끌어올린다[스텝(6)]. 그 후, OHT(7)는 후프(18)를 소정 위치까지 반송한다[스텝(7)].
이 반송 시스템(50)에 따르면, OHT(7)에 의한 일 방향 반송으로, 후프의 플레이스{후프의 적재[스텝(3)]} 및 피크{후프의 수취[스텝(6)]}(플레이스 & 피크)가 가능해져, 로드 포트수가 많은 장치를 채용할 일이 없이 후프의 반송 대기 시간을 단축할 수 있다. 바꾸어 말하면, 캐리어 반송 시스템(50)의 반송 효율을 향상시킬 수 있다.
(캐리어 이동 적재 대차에 의한 후프의 이동 적재)
캐리어 이동 적재 대차(3)가 적재대(61)의 상방 위치에 도착하면, 프로세스 장치 등에 의해 반도체 기판 등이 처리되어서 처리 완료된 반도체 기판 등을 수납한 상태의 후프(8)[처리 완료된 후프(8)]로 될 때까지, 컨트롤러(5)에 의해 캐리어 이동 적재 대차(3)는 적재대(61)의 상방 위치에서 대기한다.
여기서, 컨트롤러(5)는 후프(8)의 처리가 완료되었을 때, 적재대(61) 상의 처리 완료된 후프(8)를 가적재대(2) 상으로 즉시 이동 적재하도록 캐리어 이동 적재 대차(3)를 제어한다. 구체적으로는, 도 6에 도시한 바와 같이, 적재대(61) 상의 후프(8)가 처리 완료된 반도체 기판을 수납한 상태로 되면, 캐리어 이동 적재 대차(3)는 바로 후프(8)를 매달아 올리고[스텝(8)], 횡이동시키고[스텝(9)], 그리고 가적재대(2) 상에 후프(8)를 내린다[스텝(10)].
적재대(61)[로드 포트(6)]보다도 후프(8)의 반송 방향 하류측에 가적재대(2)를 배치하고, 상기한 제어를 행함으로써, 로드 포트(6)의 적재대(61) 상에 처리 완료된 후프가 남아있는 시간을 단축할 수 있다. 그 결과, 로드 포트(6)로의 후프의 반송 대기 시간을 보다 단축할 수 있다. 또한, 후프(8)의 처리가 완료되었을 때란, 프로세스 장치 등에 의해 반도체 기판 등이 처리되어서 처리 완료된 반도체 기판 등을 후프(8)가 그 본체(81) 내에 수납한 상태로 되었을 때를 말한다.
또한, 본 실시 형태에 있어서는, 캐리어 이동 적재 대차(3)에 의해 후프(8)를 들어 올렸을 때의 후프(8)[후프(8)의 본체(81)]의 저면 레벨(H1)이, 적재대(61) 및 가적재대(2) 상에 놓인 상태의 후프(8)[후프(8)의 플랜지부(82)] 상면 레벨(h1)보다도 낮게 되어 있다.
또한, 복수의 로드 포트(6)[적재대(61)], 복수의 가적재대(2)가 있는 경우가 있다. 여기서, 후프(8)를 들어 올렸을 때의 후프(8)의 저면 레벨(H1)이, 적재대(61) 및 가적재대(2) 상에 놓인 상태의 후프(8)의 상면 레벨(h1)보다도 낮게 되어 있다라는 것은, 각각의 적재대(61) 및 가적재대(2) 상에 놓인 상태의 후프(8)의 상면 레벨(h1)중 가장 높은 레벨의 상면 레벨(h1)보다도 상기 저면 레벨(H1)이 낮게 되어 있는 것을 말한다.
주행 레일(41)의 설치 레벨, 캐리어 이동 적재 대차(3)의 리프트 장치(32)의 리프트량 등에 의해, 후프(8)를 들어 올렸을 때의 후프(8)의 저면 레벨(H1)이 결정된다.
또한, 본 실시 형태에서는, 적재대(61)의 상면 레벨과 가적재대(2)의 상면 레벨은 동등하지만, 적재대(61)의 상면 레벨과 가적재대(2)의 상면 레벨이 다른 경우도 있을 수 있다.
또한, 도 6에 도시한 바와 같이, 적재대(61)[또는 가적재대(2)]로부터의 후프(8)의 들어 올림 높이{캐리어 이동 적재 대차(3)에 의해 후프(8)를 들어 올렸을 때의, 적재대(61)[또는 가적재대(2)]의 상면과 후프(8) 저면의 거리}는 최대한 작게 하는 것이 바람직하다.
이상 설명한 바와 같이, 캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)에 따르면, 로드 포트(6)의 적재대(61)의 상방 공간을 이용해서 후프(8)의 이동 적재를 행할 수 있다. 그 결과, 종래 기술과 같이, 로드 포트 자체(내부)에 캐리어 이동 적재 장치를 내장할 필요가 없어지고, 캐리어 이동 적재 촉진 장치(캐리어 이동 적재 장치)의 나중 장착이 가능해진다. 즉, 기존의 로드 포트를 그대로 사용할 수 있다.
여기서, 특허문헌 1에 기재된 OHT에 의한 일 방향 반송의 반송 시스템에서는 1개의 로드 포트와 1개의 중계 유닛이 인접 배치되어 있다. 한편, 로드 포트 및 중계 유닛은 전방면측(캐리어가 적재되는 측)이 결정되어 있다. 그로 인해, 1조의 반송 시스템(1개의 로드 포트, 1개의 중계 유닛, 및 1개의 캐리어 이동 적재 장치로 이루어지는 것)에는 좌우 사양이 있었다.
그러나, 상기한 바와 같이, 캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)는 기존의 로드 포트에 대하여 나중에 장착할 수 있다. 즉, OHT에 의한 일 방향 반송의 반송 시스템에 있어서, 기존의 로드 포트의 상류측에도 하류측에도 캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)의 가적재대(2)를 적절하게, 배치할 수 있어(이동설치가 용이), 좌우 사양의 문제는 없다(확장성이 우수하다).
또한, 상기 실시 형태에서는, 우선 OHT(7)에 의해, 로드 포트(6)의 적재대(61) 상에 미처리된 후프(8)를 적재하고, 그 후 처리 완료된 후프(8)를 적재대(61)로부터 가적재대(2) 상으로 캐리어 이동 적재 대차(3)에 의해 이동 적재하는 예를 나타냈지만, 우선 OHT(7)에 의해, 가적재대(2) 상에 미처리된 후프(8)를 가적재하고, 그 후 미처리된 후프(8)를 가적재대(2)로부터 적재대(61) 상으로 캐리어 이동 적재 대차(3)에 의해 이동 적재해도 된다.
이 경우, 가적재대(2) 상에 OHT(7)가 후프(8)를 적재하려고 할 때, 컨트롤러(5)로부터의 신호에 의해, 캐리어 이동 적재 대차(3)는 가적재대(2)의 상방 위치를 피한 위치[상기 실시 형태에서는, 적재대(61)의 상방 위치]로 퇴피하게 된다. 또한, 미처리된 후프(8)라 함은 미처리된 반도체 기판 등을 수납한 상태의 후프(8)를 말한다.
또한, 상기 실시 형태에서는, 적재대(61)[로드 포트(6)]보다도 후프(8)의 반송 방향 하류측에 가적재대(2)를 배치한 예를 나타냈지만, 적재대(61)[로드 포트6)]보다도 후프(8)의 반송 방향 상류측에 가적재대(2)를 배치해도 된다.
이 경우도, 우선 OHT(7)에 의해, 가적재대(2) 상에 미처리된 후프(8)를 가적재하고, 그 후 미처리된 후프(8)를 가적재대(2)로부터 적재대(61) 상으로 캐리어 이동 적재 대차(3)에 의해 이동 적재해도 되고, 반대로 우선 OHT(7)에 의해, 로드 포트(6)의 적재대(61) 상에 미처리된 후프(8)를 적재하고, 그 후 처리 완료된 후프(8)를 적재대(61)로부터 가적재대(2) 상으로 캐리어 이동 적재 대차(3)에 의해 이동 적재해도 된다.
공통되는 것은, 컨트롤러(5)에 의해, 적재대(61) 또는 가적재대(2)와 OHT(7) 사이에서의 후프의 전달 중에 있어서, 적재대(61) 또는 가적재대(2)의 상방 위치를 피한 위치로 캐리어 이동 적재 대차(3)를 퇴피시키도록 캐리어 이동 적재 대차(3)의 동작을 제어하여, 캐리어 이동 적재 대차(3)와 후프의 접촉을 회피하는 것이다.
(캐리어 이동 적재 촉진 장치의 변형예)
도 7을 참조하면서, 제1 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)의 변형예에 대해서 설명한다. 또한, 본 변형예에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(101)의 설명에 있어서는, 제1 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)와의 상이에 대해서 주로 설명한다. 또한, 도 7에 있어서, 가적재대(2) 및 컨트롤러(5)의 도시를 생략하고 있다.
도 7에 도시한 바와 같이, 본 변형예에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(101)는 캐스터(43) 및 에어리어 센서(44)를 더 구비해서 이루어진다.
본 변형예에서는, 4개의 캐스터(43)가 각각 4개의 다리부재(42)의 하단부에 장착되어 있다. 또한, 로드 포트(6)에 대하여 세트된 상태에 있어서 후프의 반송 방향에 대향하는 2개의 다리부재(42)에 에어리어 센서(44)가 장착되어 있다.
다리부재(42)의 하단부에 캐스터(43)를 장착하는 것에 의해, 주행 가능한 자립식의 캐리어 이동 적재 촉진 장치(101)로 되고, 기존의 로드 포트로의 적용이 보다 용이하게 된다. 또한, 에어리어 센서(44)를 설치함으로써, OHT(7)에 의한 후프의 승강이나 캐리어 이동 적재 대차(3)에 의한 후프의 횡이동이 행해지는 캐리어 이동 적재 촉진 장치(101)의 내측 공간에의 작업자의 침입을 검지할 수 있고, 작업자가 부상하는 등의 사고를 미연에 방지할 수 있다. 또한, 지지 부재(4)를 하우징 구조로 함으로써, 에어리어 센서(44)가 장착되기 쉽게 되어 있다. 또한, 특허문헌 1에 기재된 캐리어 이동 적재 장치에서는, 캐리어 이동 적재 장치의 단부로부터 단부까지 도달하는 비임을 발생하는 에어리어 센서의 장착이 곤란했다고 하는 문제가 있었다.
(제2 실시 형태)
다음에, 도 8을 참조하면서, 제2 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(201)에 대해서 설명한다. 또한, 본 실시 형태의 설명에 있어서는, 제1 실시 형태와의 상이에 대해서 주로 설명한다.
도 8에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(201)는 이웃하는 2개의 로드 포트(6a·6b)의 양측에, 각각, 가적재대(2a·2b)가 위치하도록 구성되어 있다. 또한, 가적재대(2a) 및 가적재대(2b)는, 각각, 로드 포트(6a) 및 로드 포트(6b)에 이웃하도록 배치되어 있다. 또한, 제1 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)와 마찬가지로, 캐리어 이동 적재 대차(3)에 의해 후프(8)를 들어 올렸을 때의 후프(8)[후프(8)의 본체]의 저면 레벨이, 로드 포트(6)의 적재대 및 가적재대(2) 상에 놓인 상태의 후프(8)[후프(8)의 플랜지부]의 상면 레벨보다도 낮아지도록 구성되어 있다.
이하, 캐리어 이동 적재 촉진 장치(201)를 이용한 후프(8)의 반송 플로우의 일 예에 대해서 그 개요를 설명한다.
우선, 가적재대(2a) 상에 OHT(7)가 후프(8)를 가적재해서[스텝(1)], 반송 방향 하류측으로 이동한다[스텝(2)][반송 방향 하류측의 이웃하는 로드 포트(6a)의 적재대 상방으로 이동한다]. 여기에서, 로드 포트(6a)의 적재대 상에는 처리 완료된 다른 후프(18)가 이미 적재되어 있는 상태에 있는 것으로 한다.
또한, 가적재대(2a) 상에 OHT(7)가 후프(8)를 가적재하려고 할 경우, 컨트롤러(5)로부터의 신호에 의해, 캐리어 이동 적재 대차(3)는, 가적재대(2a)의 상방 위치를 피한 위치로 퇴피시겨진다. 본 실시 형태에서는, 로드 포트(6b)의 적재대 상방 위치에 캐리어 이동 적재 대차(3)는 퇴피시켜져 있다.
다음에, 로드 포트(6a)의 적재대의 상방으로 이동한 OHT(7)는, 적재대 상의 후프(18)를 끌어 올리고, 그 후 후프(18)를 소정 위치까지 반송한다[스텝(3)]. 이 예에 있어서도, 1회의 OHT(7)의 이동으로, 후프의 플레이스{후프의 적재[스텝(1)]} 및 피크{후프의 수취[스텝(3)]}가 가능해져, 로드 포트수가 많은 장치를 채용할 일 없이 후프의 반송 대기 시간을 단축하는 것이 가능하다(후술하는 제3 실시 형태에 있어서도 동일함).
한편, 컨트롤러(5)는, 가적재대(2a) 상의 미처리된 후프(8)를 로드 포트(6a)의 적재대 상으로 이동 적재하도록 캐리어 이동 적재 대차(3)를 제어한다[스텝(4)]. 이에 의해, 후프(8)의 이동 적재가 행해진다.
본 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(201)에 따르면, 캐리어 이동 적재 대차(3)가 주행하는 높이[바꾸어말하면, 주행 레일(41)의 높이]를 낮게 억제할 수 있다. 그 결과, 캐리어 이동 적재 촉진 장치(201)의 높이를 전체적으로 낮게 억제할 수 있고, 콤팩트한 캐리어 이동 적재 촉진 장치로 할 수 있다. 또한, 후프의 승강량이 적기 때문에, 캐리어 이동 적재 대차(3)의 동작 시간을 단축할 수 있고, 결과적으로 로드 포트(6)로의 후프의 반송 대기 시간을 보다 단축할 수 있다.
(제3 실시 형태)
다음에, 도 9를 참조하면서, 제3 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(301)에 대해서 설명한다. 또한, 본 실시 형태의 설명에 있어서는, 제1 실시 형태와의 상이에 대해서 주로 설명한다.
도 9에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(301)는 서로 이웃해서 배치된 복수의(5개의) 로드 포트(6a 내지 6e)를 모두 둘러싸도록 해서 설치되는 것이다. 후프(8)가 가적재되는 가적재대(2)는, 최하류측의 로드 포트(6e)에 대하여 이웃하도록 당해 로드 포트(6e)의 하류측에 위치하도록 배치되어 있다.
또한, 로드 포트(6a 내지 6e)중 어느 하나의 로드 포트끼리의 사이에 가적재대(2)가 배치되어도 되고(로드 포트간에 가적재대가 있어도 되고), 최상류측의 로드 포트(6a)에 대하여 이웃하도록 당해 로드 포트(6a)의 상류측에 위치하도록 가적재대(2)가 배치되어도 된다.
제1 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(1)와 본 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(301)의 상이점은, 로드 포트수의 상이에 기인하는 주행 레일(41)의 길이 뿐만 아니라, 캐리어 이동 적재 대차(3)에 의한 후프(8)의 들어 올림 높이에 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 캐리어 이동 적재 대차(3)에 의해 후프(8)를 들어 올렸을 때의 후프(8)[후프(8)의 본체(81)]의 저면 레벨(H2)이, 로드 포트(6)의 적재대 및 가적재대(2) 상에 놓인 상태의 후프(8)[후프(8)의 플랜지부(82)]의 상면 레벨(h1)보다도 높게 되어 있다.
또한, 후프(8)를 들어 올렸을 때의 후프(8)의 저면 레벨(H2)이, 로드 포트(6)의 적재대 및 가적재대(2) 상에 놓인 상태의 후프(8)의 상면 레벨(h1)보다도 높게 되어 있다는 것은, 각 로드 포트(6a 내지 6e)의 적재대 및 가적재대(2) 상에 놓인 상태의 후프(8)의 상면 레벨(h1)중 가장 높은 레벨의 상면 레벨(h1)보다도 상기 저면 레벨(H2)이 높게 되어 있는 것을 말한다. 또한, 본 실시 형태에서는, 각 로드 포트(6a 내지 6e)의 적재대의 상면 레벨과 가적재대(2)의 상면 레벨은 동등하다.
또한, 주행 레일(41)의 설치 레벨, 캐리어 이동 적재 대차(3)의 리프트 장치(32)의 리프트량 등에 의해, 후프(8)를 들어 올렸을 때의 후프(8)의 저면 레벨(H1)이 결정된다.
본 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(301)에 따르면, 로드 포트(6)의 적재대 상에 위치하는 다른 후프 상을 넘어, 후프(8)를 횡이동시킬 수 있다. 그 결과, 기존의 복수의 로드 포트가 이웃해서 배치되어 있다고 하더라도, 모든 로드 포트와 가적재대 사이에서 캐리어의 이동 적재를 행할 수 있고, 로드 포트로의 캐리어의 반송 대기 시간을 보다 단축할 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 관한 캐리어 이동 적재 촉진 장치(301)는, 후프(8)를 들어 올렸을 때의 후프(8)의 저면 레벨(H2)이, 놓인 상태의 후프(8)의 상면 레벨(h1)보다도 높게 되어 있는 것에 의해, 인접 배치된 기존의 로드 포트 군에 적용하기 쉽다.
이상, 본 발명의 실시 형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은 상술한 실시 형태에 한정되는 것이 아니고, 특허청구의 범위에 기재한 한정에 있어서 다양하게 변경해서 실시하는 것이 가능하다.
1 : 캐리어 이동 적재 촉진 장치
2 : 가적재대
3 : 캐리어 이동 적재 대차
4 : 지지 부재
5 : 컨트롤러
6 : 로드 포트
7 : OHT(캐리어 반송 수단)
8 : 후프(캐리어)
61 : 적재대

Claims (6)

  1. 캐리어 반송 수단에 의해 반송되는 캐리어가 적재되는 로드 포트에 대하여 설치되는 캐리어 이동 적재 촉진 장치이며,
    캐리어를 가적재하기 위한 가적재대와,
    상기 로드 포트의 외측 상부에 설치되어, 상기 로드 포트의 적재대 및 상기 가적재대의 상방을 수평 방향으로 주행하고 또한 캐리어를 승강시켜서 당해 적재대와 당해 가적재대 사이에서 캐리어의 이동 적재를 행하는 캐리어 이동 적재 대차와,
    상기 가적재대 및 상기 캐리어 이동 적재 대차를 지지하는 지지 부재를 구비하고,
    상기 캐리어 반송 수단은, 상기 캐리어 이동 적재 대차보다도 상방을 주행하는 반송 수단이며,
    상기 지지 부재는,
    수평 방향으로 배치되어 상기 캐리어 이동 적재 대차가 주행하는 주행 레일과,
    상기 주행 레일로부터 하방으로 연장하도록 설치된 적어도 2개의 다리부재를 구비해서 이루어지고,
    상기 지지 부재가 상기 가적재대 및 상기 캐리어 이동 적재 대차를 지지하는 상태로 캐리어 이동 적재 촉진 장치를 상기 로드 포트에 이동 설치 가능한 것을 특징으로 하는, 캐리어 이동 적재 촉진 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 캐리어 반송 수단이, 상기 가적재대와 상하 방향으로 겹치는 위치(가적재대용 정지 위치)에 정지한 상태에서, 캐리어 반송 수단에 구비된 호이스트부를 승강시킴으로써 가적재대에 대하여 캐리어를 이동 적재 가능하게 구성되고,
    상기 주행 레일은, 상기 가적재대용 정지 위치에 정지한 상태의 상기 캐리어 반송 수단이 캐리어를 이동 적재하는 때에, 상기 호이스트부 및 상기 캐리어가 상하 방향으로 통과 가능한 공간을 형성하는, 캐리어 이동 적재 촉진 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 주행 레일이, 캐리어를 지지하고 있는 상기 호이스트부가 상하 방향으로 통과 가능한 간극을 형성하는 상태에서 상기 캐리어 이동 적재 대차의 횡 폭 방향으로 간격을 사이에 두고 배치된 한 쌍의 레일 부재로 구성되는, 캐리어 이동 적재 촉진 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 캐리어 반송 수단에 의해 보유 지지되어 있는 캐리어의 하단부가, 상기 캐리어 이동 적재 대차의 상단부보다도 높은, 캐리어 이동 적재 촉진 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적재대 또는 상기 가적재대와, 상기 캐리어 반송 수단과의 사이에서의 캐리어의 전달 중에 있어서, 상기 캐리어 이동 적재 대차와 캐리어의 접촉을 회피하도록 상기 캐리어 이동 적재 대차의 동작을 제어하는 이동 적재 대차 제어부를 구비하고,
    상기 이동 적재 대차 제어부는, 상기 전달 중에 있어서, 상기 적재대 또는 상기 가적재대의 상방 위치를 피한 위치에 상기 캐리어 이동 적재 대차를 퇴피시키는, 캐리어 이동 적재 촉진 장치.
  6. 천정측에 배치된 레일을 따라서 주행 가능하며 또한 후프(캐리어)를 지지하는 호이스트부를 승강 가능하게 구비하고, 바닥측에 설치된 로드 포트와의 사이에서 후프를 이동 적재 가능한 OHT(캐리어 반송 수단)보다도 하방에 배치되며, 상기 로드 포트에 대하여 이동 적재되는 후프를 가적재하는 가적재대가 설치된 캐리어 이동 적재 촉진 장치이며,
    상기 가적재대가 상기 OHT의 주행 방향에서 상기 로드 포트와 다른 위치에 배치되고,
    상기 OHT가, 상기 로드 포트와 상하 방향으로 겹치는 위치에 설정된 로드 포트용 정지 위치에 정지한 상태에서 상기 호이스트부를 승강시킴으로써 상기 로드 포트에 대하여 후프를 이동 적재 가능하게 구성되고, 또한 상기 가적재대와 상하 방향으로 겹치는 위치에 설정된 가적재대용 정지 위치에 정지한 상태에서 상기 호이스트부를 승강시킴으로써 상기 가적재대에 대하여 후프를 이동 적재 가능하게 구성되며,
    후프를 지지하는 리프트를 승강 가능하게 구비하여 상기 가적재대와의 사이 및 상기 로드 포트와의 사이에서 후프를 이동 적재 가능한 캐리어 이동 적재 대차가, 상기 OHT 및 상기 로드 포트와 상하로 겹치는 상태이며, 또한 상기 로드 포트와의 사이에서 후프를 이동 적재하는 로드 포트용 이동 적재 위치, 상기 가적재대와의 사이에서 후프를 이동 적재하는 가적재대용 이동 적재 위치, 상기 OHT가 상기 로드 포트와의 사이에서 후프를 이동 적재하는 때에 상기 호이스트부 및 후프와의 간섭을 회피하는 수수(授受)시 퇴피 위치, 및 상기 OHT가 상기 가적재대와의 사이에서 후프를 이동 적재하는 때에 상기 호이스트부 및 후프와의 간섭을 회피하는 가적재시 퇴피 위치에 걸쳐서, 상기 로드 포트와 상기 OHT와의 사이의 높이에 있어서 상기 주행 방향을 따라서 이동 가능하게 설치되고,
    상기 캐리어 이동 적재 대차의 상기 주행 방향을 따르는 이동을 안내하는 주행 레일을 갖고, 상기 캐리어 이동 적재 대차를 지지하는, 상기 로드 포트에 대하여 접촉하지 않는 지지 부재가 설치되고,
    상기 주행 레일은, 상기 로드 포트용 정지 위치 및 상기 가적재용 정지 위치에 정지한 상태의 상기 OHT가 후프를 이동 적재하는 때에 상기 호이스트부 및 후프가 상하 방향으로 통과 가능한 공간을 형성하도록 구성되어 있는, 캐리어 이동 적재 촉진 장치.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102310390B1 (ko) 2021-03-05 2021-10-08 주식회사 지에스아이 상공물류 시스템
KR20230102516A (ko) * 2021-12-30 2023-07-07 세메스 주식회사 물품 반송 장치

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5429570B2 (ja) * 2010-03-08 2014-02-26 株式会社ダイフク 物品搬送設備
CN103201198B (zh) 2010-11-04 2015-03-11 村田机械株式会社 搬运系统以及搬运方法
JP5382470B2 (ja) * 2010-11-04 2014-01-08 村田機械株式会社 搬送システム及び搬送方法
JP5754209B2 (ja) * 2011-03-31 2015-07-29 大日本印刷株式会社 半導体装置の製造方法
JP5713202B2 (ja) * 2012-01-27 2015-05-07 株式会社ダイフク 物品搬送設備
WO2013183376A1 (ja) * 2012-06-08 2013-12-12 村田機械株式会社 搬送システム及び搬送システムでの物品の一時保管方法
CN104395207B (zh) * 2012-07-26 2016-07-06 村田机械株式会社 桥式行驶车系统以及桥式行驶车系统中的移载控制方法
US10153189B2 (en) * 2014-06-19 2018-12-11 Murata Machinery, Ltd. Carrier buffering device and buffering method
JP6260697B2 (ja) * 2014-06-19 2018-01-17 村田機械株式会社 キャリアの一時保管装置と一時保管方法
KR102338464B1 (ko) 2015-01-08 2021-12-15 삼성전자주식회사 운반물 반송 유닛, 그를 포함하는 운반물 관리 장치
CN104986565A (zh) * 2015-06-24 2015-10-21 张家港市华源染织有限公司 多层面料储存柜
WO2017098804A1 (ja) * 2015-12-08 2017-06-15 村田機械株式会社 搬送システム
US10446427B2 (en) * 2015-12-08 2019-10-15 Murata Machinery, Ltd. Conveyance system and conveyance method
JP7002529B2 (ja) * 2016-07-21 2022-02-10 シーメンス・ヘルスケア・ダイアグノスティックス・インコーポレーテッド 自動臨床分析器システム及び方法
TWI634384B (zh) * 2017-04-26 2018-09-01 台灣積體電路製造股份有限公司 傳送盒與半導體製程元件傳輸系統
JP7213056B2 (ja) * 2018-10-18 2023-01-26 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP7256360B2 (ja) 2018-12-14 2023-04-12 シンフォニアテクノロジー株式会社 搬送異常検知システム
WO2021049203A1 (ja) * 2019-09-13 2021-03-18 村田機械株式会社 天井搬送車
CN110589338B (zh) * 2019-10-24 2024-04-19 北京三快在线科技有限公司 存货装置及货品储运系统
TWI766311B (zh) * 2020-07-10 2022-06-01 鴻勁精密股份有限公司 電子元件轉運裝置及其應用之作業設備

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008508731A (ja) * 2004-07-29 2008-03-21 ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション 迅速スワップロードポート
JP2008244416A (ja) 2006-11-07 2008-10-09 Shinko Electric Co Ltd 搬送システム
JP2008258192A (ja) * 2007-03-30 2008-10-23 Tokyo Electron Ltd 枚葉式の基板処理装置、枚葉式の基板処理装置の運転方法及び記憶媒体

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5570990A (en) * 1993-11-05 1996-11-05 Asyst Technologies, Inc. Human guided mobile loader stocker
US7100340B2 (en) 2001-08-31 2006-09-05 Asyst Technologies, Inc. Unified frame for semiconductor material handling system
US10957569B2 (en) * 2002-10-11 2021-03-23 Murata Machinery Ltd. Access to one or more levels of material storage shelves by an overhead hoist transport vehicle from a single track position
US6779760B2 (en) * 2002-12-19 2004-08-24 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Safety system for overhead transport vehicle
JP2006096427A (ja) * 2004-09-28 2006-04-13 Murata Mach Ltd 物品保管設備
JP4296601B2 (ja) * 2005-01-20 2009-07-15 村田機械株式会社 搬送台車システム
US7771151B2 (en) * 2005-05-16 2010-08-10 Muratec Automation Co., Ltd. Interface between conveyor and semiconductor process tool load port
JP2007331906A (ja) * 2006-06-16 2007-12-27 Murata Mach Ltd 天井走行車システム
JP4796024B2 (ja) * 2007-08-30 2011-10-19 東京エレクトロン株式会社 容器交換システム及び容器交換方法
US8043039B2 (en) * 2007-09-20 2011-10-25 Tokyo Electron Limited Substrate treatment apparatus
KR101015225B1 (ko) * 2008-07-07 2011-02-18 세메스 주식회사 기판 처리장치 및 이의 기판 이송 방법
KR101077566B1 (ko) * 2008-08-20 2011-10-28 세메스 주식회사 기판 처리장치 및 이의 기판 이송 방법
JP5229363B2 (ja) * 2010-11-04 2013-07-03 村田機械株式会社 搬送システム及び搬送方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008508731A (ja) * 2004-07-29 2008-03-21 ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション 迅速スワップロードポート
JP2008244416A (ja) 2006-11-07 2008-10-09 Shinko Electric Co Ltd 搬送システム
JP2008258192A (ja) * 2007-03-30 2008-10-23 Tokyo Electron Ltd 枚葉式の基板処理装置、枚葉式の基板処理装置の運転方法及び記憶媒体

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102310390B1 (ko) 2021-03-05 2021-10-08 주식회사 지에스아이 상공물류 시스템
KR20230102516A (ko) * 2021-12-30 2023-07-07 세메스 주식회사 물품 반송 장치

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