JP6252676B2 - キャリアの一時保管装置及び一時保管方法 - Google Patents

キャリアの一時保管装置及び一時保管方法 Download PDF

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Description

この発明は、半導体ウェハー等を収納するキャリアの一時保管に関する。
半導体処理装置の稼働率を増すため、そのロードポートの近傍に一時保管装置(バッファ)を設けることが要求されている。これに関して出願人は特許文献1(JP2012-111635)で、天井走行車(OHT:Overhead Hoist Transport)の走行レールと平行にかつその下方に、ローカル台車の走行レールを設けることを提案した。そしてローカル台車と天井走行車の双方が移載可能なバッファを、ローカル台車の走行レールの下方であってロードポートの直上以外の部分に設けると、例えば4個のバッファを設けることができる。バッファの数が不足する場合、天井走行車とローカル台車とにキャリアの横送り機構を設け、ローカル台車の走行レールの斜め下方にバッファを追加することが考えられる。
JP2012-111635
しかしながら、ローカル台車にキャリアの横送り機構を設けるとすると、ローカル台車の高さが増し、一時保管装置の占有体積が増す。そこでローカル台車の高さを増さずに、一時保管できるキャリアの数を増す必要がある。この発明の課題は、ローカル台車に横送り機構を設けずに、一時保管装置が一時保管できるキャリアの数を増すことにある。
この発明の一時保管装置は、走行レールに沿って走行する天井走行車と、処理装置のロードポートとの間で、キャリアを一時保管する一時保管装置であって、
キャリアを昇降させるホイストを備えかつ走行自在なローカル台車と、
天井走行車の走行レールの下方で、かつロードポートの直上部に設けられている、ローカル台車の走行レールと、
前記ローカル台車の走行レールの直下の前進位置と、前記ローカル台車の走行レールの直下から側方に離れている後退位置との間でスライド自在で、かつキャリアを載置自在な台座と、前記台座が前進位置にあることを検出するセンサと、前記後退位置にあることを検出するセンサとを備える、スライドバッファと、
前記ローカル台車及び前記スライドバッファを制御するコントローラ、とを備え、
前記ローカル台車の走行レールは、ロードポートの直上部から延長されて直上部から外れるローカル台車の待機位置まで延び、
前記ローカル台車は前記待機位置で待機するようにされ、
かつ前記コントローラは、センサにより検出した前記台座の位置に応じて、前記スライドバッファの台座との間でのキャリアの移載を、天井走行車及び前記ローカル台車に許可するように構成されている。
またこの発明のキャリアの一時保管方法では、走行レールに沿って走行する天井走行車と、処理装置のロードポートとの間で、キャリアを一時保管する方法であって、
キャリアを昇降させるホイストを備えかつ走行自在なローカル台車と、
天井走行車の走行レールの下方で、かつロードポートの直上部に設けられている、ローカル台車の走行レールと、
前記ローカル台車の走行レールの直下でかつロードポートの直上部の前進位置と、前記ローカル台車の走行レールの直下から側方に離れている後退位置との間でスライド自在で、かつキャリアを載置自在な台座と、前記台座が前進位置にあることを検出するセンサと、前記後退位置にあることを検出するセンサとを備える、スライドバッファと、
前記ローカル台車及び前記スライドバッファを制御するコントローラ、とを備え、
前記ローカル台車の走行レールは、ロードポートの直上部から延長されて直上部から外れるローカル台車の待機位置まで延びている、一時保管装置を用い、
コントローラにより、スライドバッファの台座を前記前進位置から、前記後退位置へ後退させると共に、センサにより前記台座の位置を検出して、天井走行車あるいはローカル台車に、ロードポートとの間でキャリアを受け渡しさせ、
コントローラによりスライドバッファの台座を、前記後退位置から、前記前進位置へ前進させると共に、センサにより前記台座の位置を検出して、天井走行車あるいはローカル台車に、スライドバッファとの間でキャリアを受け渡しさせ、
かつ、ローカル台車を前記待機位置で待機させる。
スライドバッファの数は任意であるが、少なくともその1個を、前記前進位置が、ロードポートの直上部となるようにする。好ましくはロードポート毎に、その直上位置へ前進可能なスライドバッファを設ける。
このようにすると、ロードポートの直上部へ前進可能な位置にもスライドバッファを配置でき、キャリアを一時保管できる個数を増すことができる。しかもローカル台車に横送り機構を設ける必要がない。またローカル台車はロードポートの直上部から離れた位置で待機するので、ローカル台車にトラブルが生じても、ロードポートと天井走行車との間のキャリアの搬送を妨げない。なおスライドバッファに関して、ローカル台車の走行レールの片側に走行方向に沿って1列に複数個設けることが好ましく、また走行レールの両側に走行方向に沿って2列に各複数個設けることが好ましい。なおこの明細書において、キャリアの一時保管装置に関する記載はそのままキャリアの一時保管方法にも当てはまる。
なおコントローラからローカル台車に待機を指令しても、ローカル台車が自発的に待機位置へ移動するようにしても良い。待機位置は、ローカル台車の走行レールの一端にのみ設けても、あるいは両端に設けても良い。
好ましくは、前記ローカル台車の走行レールの直下で、かつロードポートの直上部から外れる位置に、前記待機位置の直下を含むように、キャリアを載置自在な固定バッファが設けられている。このようにすると、キャリアを一時保管できる個数をさらに増すことができる。なお固定バッファを、キャリア1段分、スライドバッファよりも低い位置に配置すると、固定バッファの上部へ前進自在なスライドバッファを設けることができる。
また好ましくは、前記後退位置で、前記スライドバッファの上方が開放され、このことにより、前記上方が開放されている位置で、キャリアを昇降させるホイストと、ホイストを横送りする横送り機構とを備える天井走行車は、横送り機構とホイストにより、キャリアをスライドバッファの台座に移載自在にされている。このようにすると、横送り機構を備えている場合、天井走行車は、ローカル台車の走行レールの直下から側方に離れている後退位置で、キャリアをスライドバッファに移載できる。
好ましくは、スライドバッファとして、ローカル台車の走行レールの一側方に台座がスライド自在なスライドバッファと、他側方に台座がスライド自在なスライドバッファとを設け、スライドバッファの数を増す。
好ましくは、前記スライドバッファは、さらに前記後退位置(ローカル台車の走行レールの直下から側方に離れている位置)に固定のベースを備え、前記台座は前記前進位置(ローカル台車の走行レールの直下の位置)へベースから前進する。またセンサで台座の位置を検出するので、天井走行車及びローカル台車と、スライドバッファの台座との間でのキャリアの移載を的確に行うことができる。
特に好ましくは、前記台座には、キャリアの有無を検出するセンサが設けられ、前記コントローラは、キャリアの有無に応じて、前記スライドバッファとの間でのキャリアの移載を、天井走行車及び前記ローカル台車に許可するように構成されている。このようにすると、キャリアの無いスライドバッファから荷積みしようとする、キャリアの有るスライドバッファへ荷下ろしする、等のエラーを防止できる。
実施例の、キャリアの一時保管装置の平面図 実施例のキャリアの一時保管装置の一部切欠部付き側面図 実施例の、キャリアの一時保管装置の一部切欠部付き正面図 収容能力をより大きくした変形例を模式的に示す平面図 収容能力をより大きくした変形例を模式的に示す側面図 小さな処理装置に対応する変形例を模式的に示す平面図 スライドバッファの平面図 ローカル台車の平面図 実施例での、ローカル台車と天井走行車の制御系を示すブロック図 実施例での、インターロック機構を示すブロック図 実施例での、天井走行車による移載アルゴリズムを示す図 実施例での、天井走行車とローカル台車との干渉の回避アルゴリズムを示す図 キャリアの一時保管装置を天井から支持する変形例の、一部切欠部付き側面図
以下に本発明を実施するための最適実施例を示す。この発明の範囲は、特許請求の範囲の記載に基づき、明細書の記載とこの分野での周知技術とを参酌し、当業者の理解に従って定められるべきである。
図1〜図12に、実施例のキャリアの一時保管装置(一時保管装置)2と、その変形例とを示す。一時保管装置2はクリーンルーム内等に設けられ、クリーンルームの天井側から図3に示す天井走行車30(OHT)の走行レール4が支持されている。6は半導体等の処理装置で、処理装置には検査装置を含むものとし、ロードポート16を1個〜複数個備えている。また半導体ウェハー、レチクル等の物品は、FOUP(Front-Opening Unified Pod)等のキャリア18に収納されて、スライドバッファ12,固定バッファ14に一時保管されると共に、天井走行車(OHT)30とローカル台車10とにより搬送される。
一時保管装置2は、クリーンルーム内の通路7上で、人とは干渉しない高さに配置されている。一時保管装置2の最上部を、一対の走行レール8,8に沿って、ロードポート16の列の直上部を処理装置6と平行に、ローカル台車10が走行する。走行レール8,8の間には、キャリア18が通過できる隙間があり、天井走行車30とローカル台車10は走行レール8,8の隙間を通るようにして、キャリア18を移載する。
ロードポート16等と対応する位置に、例えばロードポート16の直上部の側方に、一時保管装置2のフレーム13により、スライドバッファ12を支持させる。スライドバッファ12は、好ましくは列状に複数個支持させるが、スライドバッファ12を1個のみ設けても良い。スライドバッファ12は、走行レール8,8の直下で、例えばロードポート16の直上部にある、前進位置と、走行レール8,8の下部から側方へ離れた後退位置との間で進退自在である。また好ましくは、スライドバッファ12以外に、固定バッファ14を走行レール8,8の両端もしくは一端に設ける。そしてロードポート16の上部と固定バッファ14の上部とが、ローカル台車10及び天井走行車30の停止位置となり、固定バッファ14の上部はローカル台車10の待機位置でもある。なお固定バッファ14の代わりにスライドバッファ12を設けて、固定バッファ14を設けないようにしても良い。ロードポート16の直上部を除く位置を、ローカル台車10の待機位置とする。このため、ローカル台車10にトラブルが生じても、ロードポート16と天井走行車30との移載は妨げられない。
ローカル台車10及び天井走行車30の停止位置は、ロードポート16及び固定バッファ14と1:1に対応する。なおロードポート16に対応する停止位置は、スライドバッファ12に対応する停止位置を兼ねている。そして停止位置毎に図10に示す端末100〜102が設けられて、天井走行車30の移載作業とローカル台車10の進入とのインターロックを成立させる。20は光センサ、21は反射板で、これらは停止位置毎に設けられている。そして反射板21との間が遮られたことから、天井走行車30からの昇降台、昇降台を吊持するベルト、あるいは昇降台に把持されているキャリアを、光センサ20により検出する。22はバッファコントローラで、ローカル台車10の制御とスライドバッファ12の制御、天井走行車30とローカル台車10のインターロック、及び処理装置6との通信を行う。
図2,図3に示すように、一時保管装置2は門形の架台24により支持されている。架台24の通路7側の前面25は、通路7に対して、ロードポート16の前面26とほぼ同じ位置まで進出しているか、あるいは前面26よりも処理装置6寄りの位置にある。このため通路7の幅Wはロードポート16の位置により定まり、一時保管装置2を設けても通路7の幅Wは狭くならない。なおほぼ同じとは、前面の差が例えば±100mm以下であること、特に±50mm以下であることであり、好ましくは前面25,26はほぼ同じ位置にある。ところで一時保管装置2は、クリーンルームの天井あるいは天井走行車30の走行レール4から吊り下げても良い。しかし架台24に一時保管装置2を支持させてクリーンルーム内へ搬入し、位置決めすると、一時保管装置2を容易に設置できる。そして架台24の前面25がロードポート16よりも通路7側に進出しないようにすると、通路7を狭くすることにならない。
天井走行車30の構造を図3に示す。走行部32は走行レール4内を走行すると共に横送り機構33を支持し、横送り機構33は、走行レール4に水平面内で直角な方向に、昇降駆動部34を横送りする。昇降駆動部34は、ベルト36等の吊持材を繰り出し及び巻き取り、キャリア18をチャック及び解放自在な昇降台35を昇降させる。昇降駆動部34,昇降台35,及びベルト36は、ホイストを構成する。そして前記の光センサ20はホイスト及びホイストに支持されているキャリアを検出する。38は、キャリア18の落下を防止する落下防止カバーで、これらの他に、昇降駆動部34を鉛直軸回りに回動させる機構を追加しても良い。なお横送り機構33を備えない天井走行車では、スライドバッファ12を走行レール8,8の下部へ前進させて移載する。
図1〜図3の一時保管装置2は、スライドバッファ12を4個、固定バッファ14を2個備え、処理装置6のロードポート16は例えば4個である。これに対して、4個のロードポート16に対して、キャリア18の収容能力を最大にした一時保管装置40を、図4,図5に示す。一時保管装置40では、固定バッファ14はスライドバッファ12よりもキャリアの高さで1段分低い位置に設けられ(図5)、この結果、一時保管装置40が占める高さが増している。スライドバッファ12は走行レール8,8の両側に設けられ、固定バッファ14の上部にも、ロードポート16から外れたスライドバッファ12’が前進するように設けられている。この結果、スライドバッファ12を8個、ロードポート16から外れたスライドバッファ12'を4個、固定バッファ14を2個設けることができ、固定バッファ14の上部がローカル台車10の待機位置である。
図6は、小型の処理装置6'に対応し収容能力が小さい一時保管装置60を示す。処理装置6'はロードポート16を2個備え、一時保管装置60は、スライドバッファを4個備え、ロードポート16から外れたスライドバッファ12'の上部をローカル台車10の待機位置とする。なお図5のようにすると、固定バッファ14を2個追加できるが、一時保管装置60が占める高さが増す。
図7はスライドバッファ12の構造を示し、70はベースで一時保管装置のフレームに固定され、レール71,71に沿って、前進位置と後退位置との間で、台座72が車輪73により前後進する。なお前進位置はローカル台車の走行レールの直下で、例えばロードポート16の直上部であり、後退位置はそれから側方に離れた位置である。台座72に設けられている、例えば3個の位置決めピン74は、キャリア18の底部を位置決めする。キャリアセンサ75はキャリア18の有無を検出し、着座センサ76はキャリア18が位置決めピン74上の正しい位置に着座していることを検出し、IDリーダ77はキャリアのIDを読み取る。なおIDリーダ77は設けなくても良く、センサ75,76,IDリーダ77は固定バッファにも同様に設ける。
空気圧シリンダ、油圧シリンダ等のシリンダ78とピストン79により、あるいは図示しないモータと歯付ベルト等により、リニアガイド80をレール81に沿って前後進させる。歯付きベルト82等から成る倍速機構により、リニアガイド80の2倍のストロークで、台座72を前後進させる。なおこの倍速機構はスライドフォークで広く用いられているもので、また台座72の前後進の機構は任意である。センサ83はリニアガイド80が後退位置にあることを検出し、センサ84は前進位置にあることを検出し、ケーブルガイド85は電源線と信号線とを屈曲自在にガイドし、センサ75,76、IDリーダ77をベース70側に接続する。センサ83,84の作用は台座72の位置を検出することで、レール71に台座の前端位置を検出する光センサと、後端位置を検出する光センサ等を取り付けても良い。
図8はローカル台車10の構造を示す。ローカル台車10は、一対の走行レール8,8に沿って、車輪86と図示しないモータとにより走行し、昇降駆動部87と図示しないベルト等により、キャリア18をチャック/解放自在な昇降台88を昇降させる。ローカル台車10はこれ以外に、バッファコントローラ22との通信装置、及び天井走行車30とのインターロック用の端末との通信装置、電池等の電源、機上のコントローラを備えている。
図9は、一時保管装置2とその周囲の制御系を示す。材料管理システム(MCS)90は図示しない上位コントローラ等と通信し、キャリアの搬送に関する要求を受け取り、OHTコントローラ92とバッファコントローラ22とに搬送を指示する。OHTコントローラ92は複数台の天井走行車30に搬送を指示し、バッファコントローラ22はローカル台車10に搬送を指示するとともに、スライドバッファ12の前後進を制御する。バッファコントローラ22は、
・ 光センサ20,センサ75,76,IDリーダ77,センサ83,84、及び後述の端末等により、一時保管装置2の状態(バッファ毎のキャリアの有無とスライドバッファ12の位置)を検出すると共に、
・ 天井走行車30とローカル台車10のインターロックを行う。
図10は、天井走行車30とローカル台車10のインターロック機構を示す。光センサ20は、天井走行車30からのベルト、昇降台等のホイストを検出し、あるいは天井走行車30が昇降させているキャリアを検出する。これによって、天井走行車30がキャリアの移載を行っていることを、天井走行車30の停止位置と共に検出できる。
天井走行車30は、走行レールの直下のロードポート、固定バッファ、及び走行レールの直下に前進しているスライドバッファとの間で、キャリアを移載する場合、端末100介して、バッファコントローラ22に移載の許可を要求する。ローカル台車10が、これらの位置との間でキャリアを移載する場合、端末101を介して、バッファコントローラ22に移載の許可を要求する。
バッファコントローラ22は、センサ83,84の信号によりスライドバッファの位置を検出し、さらにスライドバッファと固定バッファでのキャリアの有無を確認し、移載が可能な場合は要求を許可する。またバッファコントローラ22は処理装置6と通信し、天井走行車30及びローカル台車10と、ロードポートとの間での、キャリアの移載要求を処理装置6に転送し、処理装置6から許可信号を受け取る。バッファコントローラ22は、上記の処理に基づき、端末100,101から、天井走行車30とローカル台車10とに移載の許可を送出する。バッファコントローラ22からの移載の許可信号は端末100、101にセットされ、天井走行車30とローカル台車10は移載の許可を確認した後に、移載を実行する。
ローカル台車10と天井走行車30の移載に関する処理を説明したが、天井走行車30からの移載は、ローカル台車10の進入と競合する。そこでローカル台車10は、進入しようとする停止位置毎に、端末101を介して、許可をバッファコントローラ22に要求する。バッファコントローラ22は、天井走行車30の移載と干渉しなければ、ローカル台車10からの進入要求を停止位置毎に許可し、ローカル台車10は進入許可信号を端末101を介して確認した後に、許可された停止位置へ進入する。
天井走行車30は、後退位置(ローカル台車10の走行レールの下方から離れる位置)に有るスライドバッファとの間で、横送り装置によりキャリアを移載することができる。この移載はローカル台車10の走行と干渉せず、またローカル台車10による移載とも干渉しない。この場合、天井走行車30は移載の許可を端末102からバッファコントローラ22に要求し、バッファコントローラ22は要求されたスライドバッファが移載可能な状態で有れば、要求を許可する。
ロードポート及び固定バッファに対する天井走行車30による移載と、ローカル台車10の進入(走行)が干渉するが、端末100,101によるインターロックで干渉を回避できる。仮に端末100を介してのインターロックでは不十分な場合が有るとしても、天井走行車30からのベルト、昇降台、キャリア等を検出することにより、ローカル台車10と天井走行車30との干渉を回避できる。後退位置にあるスライドバッファと天井走行車30との移載では、端末102を介してインターロックを成立させることができる。またバッファコントローラ22は、センサ83,84により、スライドバッファの位置を検出できる。
これらのインターロックは、バッファコントローラ22ではなく、他のコントローラにより処理しても良い。またバッファコントローラ22がローカル台車10から位置の報告を受けている場合、端末101とローカル台車10が通信する代わりに、バッファコントローラ22が内蔵するインターロック処理部へローカル台車10の進入許可を要求して、自ら許可しても良い。
ローカル台車10は、キャリアの搬送も移載も行わない場合、固定バッファ14の上部の待機位置へ、バッファコントローラ22の指令により移動して待機する。
図11は、天井走行車による一時保管装置との移載アルゴリズムを示す。スライドバッファとの移載(処理p1)では、横送り装置を天井走行車が備えていれば、スライドバッファを走行レールの下方の位置から後退させ、ローカル台車と干渉しない位置で移載する。横送り装置がない場合は、走行レールの下方へスライドバッファを前進させて移載し、この場合のインターロックはロードポートとの移載と同様である。
ロードポートとの移載(処理p2)では、スライドバッファを図1の走行レール8,8の直下から後退させて移載する。また固定バッファとの移載(処理p3)で、図5のように、固定バッファ上にスライドバッファがある場合、スライドバッファを固定バッファの上部から後退させて移載する。
図12は、天井走行車とローカル台車との干渉の回避アルゴリズムを示す。天井走行車(OHT)は、ローカル台車の走行レールの直下にあるスライドバッファ、ロードポート、固定バッファとの間で、キャリアを移載する場合、事前に端末を介して移載の許可を要求する。またローカル台車は、進入しようとする停止位置毎に進入の許可を要求し、移載する場合は、進入の許可に加えて、移載の許可を要求する。そして同じ停止位置には、天井走行車からの移載要求とローカル台車の進入要求の一方のみを許可することにより、天井走行車とローカル台車との干渉を回避する(処理p5)。
天井走行車がロードポート等との移載を開始した後にエラーを起こすと、端末に移載中である旨の信号を送出できなくなることがある。この状況では、バッファコントローラは天井走行車が移載中であることを認識できなくなる可能性がある。この問題を、天井走行車が移載中であることを、バッファコントローラが不揮発に記憶することにより解決しても良いが、天井走行車のホイスト、昇降中のキャリア等を、図1の光センサ20で検出する方が確実である。そこでホイスト等を検出すると、その停止位置へのローカル台車の進入を禁止する(処理p6)。
ローカル台車には停止位置毎に進入の許可を要求させる。バッファコントローラは、ローカル台車に進入を許可した範囲では、天井走行車によるロードポート等との移載を許可しないようにする(処理p7)。なお図1の走行レール8,8の下方から離れた位置に有るスライドバッファとの移載は、ローカル台車と干渉しない。従って、干渉の回避処理は不要である(処理p8)。
なお図13に示すように、クリーンルームの天井44から、支柱41と取付部42とにより、一時保管装置2を支持し、架台24は省略しても良い。また43は天井走行車30の走行レール4の支柱である。
2,40,60 キャリアの一時保管装置(一時保管装置)
4 天井走行車の走行レール 6 処理装置 7 通路
8 ローカル台車の走行レール 10 ローカル台車
12 スライドバッファ 13 フレーム 14 固定バッファ
16 ロードポート 18 キャリア 20 光センサ
21 反射板 22 バッファコントローラ(コントローラ)
24 架台 25,26 前面 30 天井走行車(OHT)
32 走行部 33 横送り機構 34 昇降駆動部
35 昇降台 36 ベルト 38 落下防止カバー
44 天井 41,43 支柱 42 取付部
70 ベース 71 レール 72 台座 73 車輪
74 位置決めピン 75 キャリアセンサ 76 着座センサ
77 IDリーダ 78 シリンダ 79 ピストン
80 リニアガイド 81 レール 82 歯付きベルト
83,84 センサ 85 ケーブルガイド 86 車輪
87 昇降駆動部 88 昇降台
90 材料管理システム(MCS)
92 OHTコントローラ 100〜102 端末

Claims (8)

  1. 走行レールに沿って走行する天井走行車と、処理装置のロードポートとの間で、キャリアを一時保管する一時保管装置であって、
    キャリアを昇降させるホイストを備えかつ走行自在なローカル台車と、
    天井走行車の走行レールの下方で、かつロードポートの直上部に設けられている、ローカル台車の走行レールと、
    前記ローカル台車の走行レールの直下の前進位置と、前記ローカル台車の走行レールの直下から側方に離れている後退位置との間でスライド自在で、かつキャリアを載置自在な台座と、前記台座が前進位置にあることを検出するセンサと、前記後退位置にあることを検出するセンサとを備える、スライドバッファと、
    前記ローカル台車及び前記スライドバッファを制御するコントローラ、とを備え、
    前記ローカル台車の走行レールは、ロードポートの直上部から延長されて直上部から外れるローカル台車の待機位置まで延び、
    前記ローカル台車は前記待機位置で待機するようにされ、
    かつ前記コントローラは、センサにより検出した前記台座の位置に応じて、前記スライドバッファの台座との間でのキャリアの移載を、天井走行車及び前記ローカル台車に許可するように構成されている、一時保管装置。
  2. 前記前進位置がロードポートの直上部であるスライドバッファが設けられていることを特徴とする、請求項1の一時保管装置。
  3. 前記ローカル台車の走行レールの直下で、かつロードポートの直上部から外れる位置に、前記待機位置の直下を含むように、キャリアを載置自在な固定バッファが設けられていることを特徴とする、請求項2の一時保管装置。
  4. 前記後退位置で、前記スライドバッファの台座の上方が開放され、
    このことにより、前記後退位置で、キャリアを昇降させるホイストと、ホイストを横送りする横送り機構とを備える天井走行車は、横送り機構とホイストにより、キャリアをスライドバッファの台座に移載自在にされていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかの一時保管装置。
  5. 前記スライドバッファとして、前記台座が前記ローカル台車の走行レールの一側方にスライド自在なスライドバッファと、前記台座が他側方にスライド自在なスライドバッファとを備えていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかの一時保管装置。
  6. 前記スライドバッファは、さらに前記後退位置に固定のベースを備え、前記台座は前記前進位置へベースから前進することを特徴とする、請求項1〜5のいずれかの一時保管装置。
  7. 前記台座には、キャリアの有無を検出するセンサが設けられ、
    前記コントローラは、キャリアの有無に応じて、前記スライドバッファの台座との間でのキャリアの移載を、天井走行車及び前記ローカル台車に許可するように構成されていることを特徴とする、請求項6の一時保管装置。
  8. 走行レールに沿って走行する天井走行車と、処理装置のロードポートとの間で、キャリアを一時保管する方法であって、
    キャリアを昇降させるホイストを備えかつ走行自在なローカル台車と、
    天井走行車の走行レールの下方で、かつロードポートの直上部に設けられている、ローカル台車の走行レールと、
    前記ローカル台車の走行レールの直下でかつロードポートの直上部の前進位置と、前記ローカル台車の走行レールの直下から側方に離れている後退位置との間でスライド自在で、かつキャリアを載置自在な台座と、前記台座が前進位置にあることを検出するセンサと、前記後退位置にあることを検出するセンサとを備える、スライドバッファと、
    前記ローカル台車及び前記スライドバッファを制御するコントローラ、とを備え、
    前記ローカル台車の走行レールは、ロードポートの直上部から延長されて直上部から外れるローカル台車の待機位置まで延びている、一時保管装置を用い、
    コントローラにより、スライドバッファの台座を前記前進位置から、前記後退位置へ後退させると共に、センサにより前記台座の位置を検出して、天井走行車あるいはローカル台車に、ロードポートとの間でキャリアを受け渡しさせ、
    コントローラによりスライドバッファの台座を、前記後退位置から、前記前進位置へ前進させると共に、センサにより前記台座の位置を検出して、天井走行車あるいはローカル台車に、スライドバッファの台座との間でキャリアを受け渡しさせ、
    かつ、ローカル台車を前記待機位置で待機させる、キャリアの一時保管方法。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6428953B2 (ja) * 2015-12-08 2018-11-28 村田機械株式会社 搬送システム及び搬送方法
CN109415163B (zh) 2016-06-27 2020-12-29 村田机械株式会社 输送系统
CN110248878B (zh) * 2017-02-07 2021-03-12 村田机械株式会社 输送系统和输送方法
JP6743967B2 (ja) * 2017-04-06 2020-08-19 村田機械株式会社 天井搬送車システム及びティーチングユニット
JP6794946B2 (ja) * 2017-07-11 2020-12-02 株式会社ダイフク 物品搬送車
US10622236B2 (en) * 2017-08-30 2020-04-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Apparatus and method for handling wafer carrier doors
JP7349240B2 (ja) * 2018-10-05 2023-09-22 東京エレクトロン株式会社 基板倉庫及び基板検査方法
JP7136236B2 (ja) * 2019-01-25 2022-09-13 村田機械株式会社 保管システム
SG11202108086TA (en) * 2019-01-25 2021-08-30 Murata Machinery Ltd Storage system
KR102570641B1 (ko) * 2021-08-23 2023-08-25 허브디티(주) 장비 전단부 모듈 툴버퍼 제어 시스템

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080240892A1 (en) * 2007-03-28 2008-10-02 International Business Machines Corporation Storage buffer device for automated material handling systems
JP4796024B2 (ja) * 2007-08-30 2011-10-19 東京エレクトロン株式会社 容器交換システム及び容器交換方法
KR101015225B1 (ko) 2008-07-07 2011-02-18 세메스 주식회사 기판 처리장치 및 이의 기판 이송 방법
JP5727466B2 (ja) * 2009-05-18 2015-06-03 ブルックス オートメーション インコーポレイテッド 基板用容器貯蔵システムと相互作用する一体システム
US8882433B2 (en) * 2009-05-18 2014-11-11 Brooks Automation, Inc. Integrated systems for interfacing with substrate container storage systems
JP5445015B2 (ja) * 2009-10-14 2014-03-19 シンフォニアテクノロジー株式会社 キャリア移載促進装置
JP5429570B2 (ja) * 2010-03-08 2014-02-26 株式会社ダイフク 物品搬送設備
JP5229363B2 (ja) * 2010-11-04 2013-07-03 村田機械株式会社 搬送システム及び搬送方法
JP5382470B2 (ja) 2010-11-04 2014-01-08 村田機械株式会社 搬送システム及び搬送方法
US20140286733A1 (en) * 2011-11-09 2014-09-25 Sinfonia Technology Co., Ltd. Load port and efem
SG11201407386YA (en) * 2012-06-08 2015-03-30 Murata Machinery Ltd Conveyance system and temporary storage method of articles in conveyance system
CN104395207B (zh) * 2012-07-26 2016-07-06 村田机械株式会社 桥式行驶车系统以及桥式行驶车系统中的移载控制方法
WO2014017222A1 (ja) * 2012-07-26 2014-01-30 村田機械株式会社 天井走行車システム及び天井走行車システムの制御方法
US9633879B2 (en) * 2014-05-14 2017-04-25 Murata Machinery, Ltd. Storage system in the ceiling space and storage method for goods thereby
WO2015194267A1 (ja) * 2014-06-19 2015-12-23 村田機械株式会社 キャリアの搬送システムと搬送方法
WO2015194266A1 (ja) * 2014-06-19 2015-12-23 村田機械株式会社 キャリアの一時保管装置と保管方法
JP6260697B2 (ja) * 2014-06-19 2018-01-17 村田機械株式会社 キャリアの一時保管装置と一時保管方法
JP6048686B2 (ja) * 2014-09-25 2016-12-21 村田機械株式会社 一時保管装置と搬送システム及び一時保管方法
US9698036B2 (en) * 2015-11-05 2017-07-04 Lam Research Corporation Stacked wafer cassette loading system

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