KR20170084056A - 무습수 평판 인쇄판 원판, 및 무습수 평판 인쇄판을 사용한 인쇄물의 제조 방법 - Google Patents

무습수 평판 인쇄판 원판, 및 무습수 평판 인쇄판을 사용한 인쇄물의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

비화선부에 부착되기 쉬운 잉크에서도 충분하게 반발시키고, 그 반발 효과가 지속되는 잉크 반발층을 갖는 무습수 평판 인쇄판 원판, 및 상기 무습수 평판 인쇄판 원판을 사용한 인쇄 방법을 제공한다.
적어도 감열층과 잉크 반발층을 갖는 평판 인쇄판 원판으로서, 상기 잉크 반발층 중에 잉크 반발성의 액체를 함유하고, 상기 액체의 1기압에 있어서의 비점이 150℃ 이상인 평판 인쇄판 원판이다. 또한, 평판 인쇄판을 이용하여 피인쇄체에 감광성 성분을 10질량% 이상 50질량% 이하 포함하는 잉크를 전사한 후, 상기 피인쇄체에 자외선을 조사하는 공정을 포함하는 인쇄물의 제조 방법으로서, 상기 평판 인쇄판의 인쇄판 원판이 기판 상에 적어도 잉크 반발층을 갖고, 상기 잉크 반발층 중에 포함되는 잉크 반발성의 액체의 표면장력이 30mN/m 이하인 인쇄물의 제조 방법이다.

Description

무습수 평판 인쇄판 원판, 및 무습수 평판 인쇄판을 사용한 인쇄물의 제조 방법{WATERLESS PLANOGRAPHIC PRINTING ORIGINAL PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED MATTER USING WATERLESS PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE}
본 발명은 무습수 평판 인쇄판 원판, 및 무습수 평판 인쇄판을 사용한 UV 인쇄에 의한 인쇄물의 제조 방법에 관한 것이다.
평판 인쇄판을 사용한 인쇄법으로서는, 인쇄시에 판 표면에 미리 물의 박층을 형성함으로써 잉크를 반발하는 물이 있는 인쇄와, 이 물 대신에 실리콘 고무로 잉크를 반발하는 무습수 인쇄가 있다.
양자는 종래부터 유성 잉크(산화중합형의 잉크)에 의한 유성 인쇄가 일반적으로 행하여져 왔지만, 유성 잉크의 건조에는 시간이 걸리기 때문에 인쇄물을 건조 스페이스까지 반송하여 풍건할 필요가 있어, 생산 기간이나 납기의 단축에는 제한이 있었다. 또한 가열 건조하는 경우에는 장치가 대규모로 되어 에너지 코스트도 높아진다고 하는 문제도 갖고 있었다.
이러한 것으로부터, 물이 있는 인쇄에서는 자외선의 조사에 의해 잉크의 경화가 순간적으로 행하여지는 UV 잉크를 사용하는 UV 인쇄가 제안되어, 단납기·저비용화가 도모되고 있다(특허문헌 1). 그러나, 플라스틱 시트, 표면 처리지 등의 비흡수성 소재에 물이 있는 인쇄를 행할 경우, 일반적인 종이를 사용했을 경우에 비해 축임물의 조절이 어려운 것이 알려져 있다. 또한, 식품 패키지 등에도 UV 잉크가 사용되는 경우는 많지만, 물이 있는 인쇄에서는 축임물을 사용하기 때문에 인쇄 후에 인쇄물을 겹쳐서 보관해 두었을 경우에, 축임물의 성분의 일부가 인쇄물 표면으로부터 그 위에 겹쳐진 인쇄물의 식품에 직접 접촉하는 이면에 오프셋하는 문제가 있었다.
한편, 무습수 인쇄에서는 축임물을 사용하지 않기 때문에 원리적으로 이들 문제가 발생할 일은 없다. 무습수 인쇄는 잉크 중의 탄화수소 등 저극성 성분이 비화선부의 잉크 반발층에 도입되고, 인쇄시에 상기 잉크 반발층이 가압되어 저극성 성분을 압출함으로써 잉크 반발층의 표면에 저극성 성분의 액막을 만들고, 잉크를 박리·반발한다고 여겨지고 있다.
일본 특허공개 2011-225751호
그러나, 무습수 인쇄에서는, 예를 들면 UV 잉크와 같은 저극성 성분이 적거나, 또는 포함하지 않는 잉크는 비화선부에 부착되기 쉬워 사용할 수 있는 잉크의 종류에 한계가 있고, 또한 인쇄 환경의 온도가 상승하면 비화선부에 잉크가 부착되기 시작하여 잉크 반발의 효과가 지속되지 않게 된다고 하는 문제가 있었다.
본 발명은 이러한 종래 기술의 결점을 개량하기 위해서 UV 잉크와 같은 비화선부에 부착되기 쉬운 잉크에서도 충분하게 반발시키고, 그 반발 효과가 지속되는 무습수 평판 인쇄판 원판, 및 상기 무습수 평판 인쇄판 원판으로부터 얻어지는 무습수 평판 인쇄판을 사용한 인쇄 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 인쇄판은 이하의 구성으로 이루어진다.
(1) 적어도 감열층과 잉크 반발층을 갖는 평판 인쇄판 원판으로서, 상기 잉크 반발층 중에 잉크 반발성의 액체를 함유하고, 상기 액체의 1기압에 있어서의 비점이 150℃ 이상인 평판 인쇄판 원판.
인쇄판으로서 바람직한 형태로서 이하의 것이 있다.
(2) 상기 액체의 25℃에 있어서의 표면장력이 15mN/m 이상 30mN/m 이하인 상기 평판 인쇄판 원판.
(3) 상기 액체가 상기 잉크 반발층 중에 10질량% 이상 30질량% 이하 포함되는 상기 어느 하나의 평판 인쇄판 원판.
(4) 감열층이 노볼락 수지를 함유하는 상기 어느 하나의 평판 인쇄판 원판.
(5) 감열층이 노볼락 수지를 20질량% 이상 95질량% 이하 함유하는 상기 평판 인쇄판 원판.
(6) 감열층이 유기착화합물을 함유하는 상기 어느 하나의 평판 인쇄판 원판.
(7) 감열층 중의 노볼락 수지/유기착화합물의 질량비가 2 이상 6 이하인 상기 어느 하나의 평판 인쇄판 원판.
(8) 표면에 1400N/㎡의 하중을 가했을 때의 판면 탄성율이 4㎫ 이상 12㎫ 이하인 상기 어느 하나의 평판 인쇄판 원판.
(9) 상기 어느 하나의 평판 인쇄판 원판에 대하여, 상에 따라서 노광하는 공정,
노광된 원판을 현상하여 잉크 반발층을 제거하는 공정으로부터 얻어지는 평판 인쇄판.
그리고 평판 인쇄판의 제조 방법의 발명 및 그 바람직한 형태로서 이하의 것이 있다.
(10) 상기 어느 하나에 기재된 평판 인쇄판 원판에 대하여, 상에 따라서 노광하는 공정, 및
노광된 원판을 현상하여 잉크 반발층을 제거하는 공정을 갖는 평판 인쇄판의 제조 방법.
(11) 상기 어느 하나의 평판 인쇄판의 표면에 잉크를 부착시키는 공정과, 상기 잉크를 직접 또는 블랭킷을 통해서 피인쇄체에 전사하는 공정을 포함하는 인쇄물의 제조 방법.
(12) 피인쇄체에 전사된 잉크에 활성 에너지선을 조사하는 공정을 더 포함하는 상기 어느 하나의 인쇄물의 제조 방법.
또한 인쇄판의 제조 방법의 발명 및 그 바람직한 형태로서 이하의 것이 있다.
(13) 평판 인쇄판을 이용하여 피인쇄체에 잉크를 전사한 후, 상기 피인쇄체에 자외선을 조사하는 공정을 포함하는 인쇄물의 제조 방법으로서, 상기 평판 인쇄판이 감열층 및 잉크 반발층을 갖는 평판 인쇄판 원판에 대하여, 상에 따라서 노광하는 공정, 또한 노광된 원판을 현상하여 잉크 반발층을 제거하는 공정에 의해 얻어진 것이며, 상기 인쇄판 원판이 기판 상에 적어도 잉크 반발층을 갖고, 상기 잉크 반발층 중에 포함되는 잉크 반발성의 액체의 표면장력이 30mN/m 이하이며,
상기 잉크가 감광성 성분을 10질량% 이상 50질량% 이하 포함하는 것인 인쇄물의 제조 방법.
(14) 상기 액체가 1기압에 있어서의 비점이 150℃ 이상인 상기 인쇄물의 제조 방법.
(15) 상기 액체가 실리콘 화합물인 상기 어느 하나의 인쇄물의 제조 방법.
(16) 상기 액체가 상기 잉크 반발층 중에 10질량% 이상 25질량% 이하 포함되는 상기 어느 하나의 인쇄물의 제조 방법.
(17) 상기 잉크가 직쇄 알킬기를 갖는 아크릴산 에스테르 또는 메타크릴산 에스테르를 0.5질량% 이상 15질량% 이하 포함하는 상기 어느 하나의 인쇄물의 제조 방법.
(발명의 효과)
본 발명에 의하면, UV 잉크와 같은 무습수 평판 인쇄판의 비화선부에 부착되기 쉬운 잉크에서도 충분하게 반발시키고, 그 반발 효과가 지속되는 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻을 수 있다.
본 발명의 무습수 평판 인쇄판 원판에 대해서 이하에 설명한다.
본 발명의 무습수 평판 인쇄판 원판은 적어도 감열층과 잉크 반발층을 갖는 평판 인쇄판 원판이며, 상기 잉크 반발층 중에 잉크 반발성의 액체를 함유하고, 상기 액체의 1기압에 있어서의 비점이 150℃ 이상이다.
여기에서 잉크 반발성의 액체로서는, 이 액체가 없는 상태의 잉크 반발층의 표면에 이 액체가 존재했을 때에, 잉크 반발층으로의 잉크의 부착을 저해하는 액체인 것이 바람직하다. 잉크 반발층의 표면을, 잉크 반발성의 액체가 얇은 액막 형상으로 덮음으로써 잉크 반발층으로의 부착을 저해하고 있다고 생각하고 있다.
본 발명의 무습수 평판 원판은 필요에 따라서 기판을 갖는다. 기판이 있을 경우, 기판 상 또는 상방에 적어도 감열층 및 잉크 반발층을 갖는다. 기판의 가까이에 감열층 및 잉크 반발층 중 어느 것이 있어도 좋지만, 기판, 감열층 및 잉크 반발층의 순서로 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 사용할 수 있는 기판으로서는, 종래 인쇄판의 기판으로서 사용되고, 인쇄 공정에 있어서 치수적인 변화가 적은 공지의 종이, 금속, 유리, 필름 등 을 들 수 있다. 구체적으로는, 종이, 플라스틱(폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌 등)이 라미네이트된 종이, 알루미늄(알루미늄 합금도 포함함), 아연, 구리 등의 금속판, 소다라임, 석영 등의 유리판, 규소 웨이퍼, 셀룰로오스아세테이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리스티렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리비닐아세탈 등의 플라스틱의 필름, 상기 금속이 라미네이트 또는 증착된 종이 또는 플라스틱 필름 등을 들 수 있다. 플라스틱 필름은 투명이어도 불투명이어도 좋다. 검판성의 관점으로부터는 불투명의 필름이 바람직하다.
이들 기판 중, 알루미늄판은 인쇄 공정에 있어서 치수적인 변화가 적고, 또한 저렴하므로 특히 바람직하다. 또한, 경인쇄용의 유연한 기판으로서는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 특히 바람직하다.
기판의 두께는 특별하게 한정되지 않고, 평판 인쇄에 사용되는 인쇄기에 대응한 두께를 선택하면 좋다.
이어서, 본 발명에 바람직하게 사용할 수 있는 감열층에 대하여 설명한다. 감열층으로서는, 그려넣기에 사용되는 레이저광을 열로 변환(광열 변환)하는 기능을 갖고, 또한 발생한 열에 의해 감열층의 적어도 표면이 분해되거나, 또는 현상액으로의 용해성이 높아지거나, 또는 잉크 반발층과의 접착력이 저하하는 것이 바람직하다. 이러한 감열층은 예를 들면 이하와 같은 조성물을 함유할 수 있다.
(A) 활성수소를 갖는 폴리머, 가교제, 및 광열 변환 물질을 포함하는 조성물.
(B) 활성수소를 갖는 폴리머, 유기착화합물, 및 광열 변환 물질을 포함하는 조성물.
상기 감열층은 이들 조성물을 함유하는 용액 또는 분산액을 도포, 건조해서 제작할 수 있다. 건조는 상온에서 행해도 되고, 가열해서 행해도 된다. 이와 같이 제작된 감열층은 레이저광을 조사함으로써 광열 변환 물질로부터 발생한 열에 의해, (A)에 나타낸 조성물에 있어서는 활성수소를 갖는 폴리머와 가교제로 구성되어 있었던 가교 구조, (B)에 나타낸 조성물에 있어서는 상기 폴리머와 유기착화합물로 구성되어 있었던 가교 구조가 분해된다.
본 발명에 있어서 감열층에 바람직하게 사용되는 활성수소를 갖는 폴리머로서는 활성수소를 가지는 구조단위를 갖는 폴리머를 들 수 있다. 활성수소를 가지는 구조단위로서는 예를 들면, -OH, -SH, -NH2, -NH-, -CO-NH2, -CO-NH-, -OC(=O)-NH-, -NH-CO-NH-, -CO-OH, -CS-OH, -CO-SH, -CS-SH, -SO3H, -PO3H2, -SO2-NH2, -SO2-NH-, -CO-CH2-CO- 등을 들 수 있다.
상기 조성물 (A) 및 (B)에서 사용할 수 있는 활성수소를 갖는 폴리머로서는 이하의 것이 예시된다.
(메타)아크릴산 등의 카르복실기를 함유하는 모노머의 단독중합체 또는 공중합체, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 수산기를 함유하는 (메타)아크릴산 에스테르의 단독중합체 또는 공중합체, N-알킬(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드의 단독중합체 또는 공중합체, 아민류와 (메타)아크릴산 글리시딜 또는 알릴글리시딜의 반응물의 단독중합체 또는 공중합체, p-히드록시스티렌, 비닐알콜의 단독중합체 또는 공중합체 등의 활성수소를 갖는 에틸렌성 불포화 모노머의 단독중합체 또는 공중합체(공중합 모노머 성분으로서는 활성수소를 갖는 다른 에틸렌성 불포화 모노머이어도 좋고, 활성수소를 함유하지 않는 에틸렌성 불포화 모노머이어도 좋다.)를 들 수 있다.
또한, 활성수소를 가지는 구조단위를 갖는 폴리머로서 주쇄에 활성수소를 가지는 구조단위를 갖는 중합체도 들 수 있다. 이러한 폴리머로서는 예를 들면, 폴리우레탄류, 폴리우레아류, 폴리아미드류, 에폭시 수지류, 폴리알킬렌이민류, 노볼락 수지류, 레졸 수지류, 셀룰로오스 유도체류 등을 들 수 있다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
그 중에서도, 알콜성 수산기, 페놀성 수산기, 카르복실기를 갖는 폴리머가 바람직하고, 페놀성 수산기를 갖는 폴리머(p-히드록시스티렌의 단독중합체 또는 공중합체, 노볼락 수지, 레졸 수지 등)가 보다 바람직하고, 노볼락 수지가 더욱 바람직하다. 노볼락 수지로서는 페놀노볼락 수지나 크레졸노볼락 수지를 들 수 있다.
활성수소를 갖는 폴리머의 함유량은, 열에 의하여 감열층 표면을 분해하거나, 또는 현상액에 대하여 이용해성으로 변화시킴으로써 현상을 촉진시키는 점에서, 감열층 중 20질량% 이상이 바람직하고, 30질량% 이상이 보다 바람직하다. 또한, 감열층의 인성의 점에서 95질량% 이하가 바람직하고, 80질량% 이하가 보다 바람직하다.
활성수소를 갖는 폴리머와 함께, 활성수소를 갖지 않는 필름 형성능을 갖는 폴리머(이하 「다른 폴리머 X」라고 칭한다)를 함유하는 것도 바람직하다.
다른 폴리머 X로서는 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리부틸(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 에스테르의 단독중합체 또는 공중합체, 폴리스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 모노머의 단독중합체 또는 공중합체, 이소프렌, 스티렌-부타디엔 등의 각종 합성 고무류, 폴리아세트산 비닐 등의 비닐에스테르 등의 단독중합체 또는 아세트산 비닐-염화비닐 등의 공중합체, 폴리에스테르, 폴리카보네이트 등의 축합계 각종 폴리머 등을 들 수 있다.
이들 다른 폴리머 X의 합계의 함유량은, 감열층 조성물 용액의 도공성을 향상시키기 위해서 감열층 중 5질량% 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10질량% 이상이다. 화상 재현을 고정세화시키기 위해서 감열층의 전체 고형분 중 50질량% 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 30질량% 이하이다.
감열층의 조성물 (A)에 포함되는 가교제로서는 상기 폴리머가 갖는 활성수소와 반응성을 갖는 관능기를 복수 갖는 다관능성 화합물을 들 수 있다. 예를 들면, 다관능 이소시아네이트, 다관능 블록 이소시아네이트, 다관능 에폭시 화합물, 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물, 다관능 알데히드, 다관능 메르캅토 화합물, 다관능 알콕시실릴 화합물, 다관능 아민 화합물, 다관능 카르복실산, 다관능 비닐 화합물, 다관능 디아조늄염, 다관능 아지드 화합물, 히드라진 등을 들 수 있다.
감열층의 조성물 (B)에 포함되는 유기착화합물은 금속과 유기 화합물로 이루어지는 것이다. 이것은 활성수소를 갖는 폴리머로의 가교제로서 기능한다. 감열층에 상술의 가교제를 더 함유해도 좋다. 이러한 유기착화합물로서는 금속에 유기배위자가 배위한 유기착염, 금속에 유기배위자 및 무기배위자가 배위한 유기무기 착염, 금속과 유기분자가 산소를 통해서 공유결합하고 있는 금속 알콕시드류 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 배위자가 2개 이상의 도너 원자를 갖고, 금속원자를 포함하는 환을 형성하는 금속 킬레이트 화합물이 유기착화합물 자신의 안정성이나 감열층 조성물 용액의 안정성 등의 면으로부터 바람직하게 사용된다.
유기착화합물을 형성하는 주된 금속으로서는 Al(III), Ti(IV), Mn(II), Mn(III), Fe(II), Fe(III), Co(II), Co(III), Ni(II), Ni(IV), Cu(I), Cu(II), Zn(II), Ge, In, Sn(II), Sn(IV), Zr(IV), Hf(IV)가 바람직하다. Al(III)은 감도 향상 효과가 얻어지기 쉬운 점으로부터 특히 바람직하고, Ti(IV)는 인쇄 잉크나 잉크 세정제에 대한 내성이 발현되기 쉬운 점으로부터 특히 바람직하다.
또한, 배위자로서는 산소, 질소, 황 등을 도너 원자로서 갖는 배위기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 배위기의 구체예로서는, 산소를 도너 원자로 하는 것으로서는 -OH(알콜, 에놀 및 페놀), -COOH(카르복실산), >C=O(알데히드, 케톤, 퀴논), -O-(에테르), -COOR(에스테르, R: 지방족 또는 방향족 탄화수소를 나타낸다), -N=O(니트로소 화합물), -NO2(니트로 화합물), >N-O(N-옥사이드), -SO3H(술폰산), -PO3H2(아인산) 등, 질소를 도너 원자로 하는 것으로서는 -NH2(1급 아민, 히드라진), >NH(2급 아민, 히드라진), >N-(3급 아민), -N=N-(아조 화합물, 복소환 화합물), =N-OH(옥심), -NO2(니트로 화합물), -N=O(니트로소 화합물), >C=N-(시프염기, 복소환 화합물),> C=NH(알데히드, 케톤이민, 에나민류), -NCS(이소티오시아나토) 등, 황을 도너 원자로 하는 것으로서는 -SH(티올), -S-(티오에테르), >C=S(티오케톤, 티오아미드), =S-(복소환 화합물), -C(=O)-SH, -C(=S)-OH, -C(=S)-SH(티오카르복실산), -SCN(티오시아네이트) 등을 들 수 있다.
상기와 같은 금속과 배위자로 형성되는 유기착화합물 중 바람직하게 사용되는 화합물로서는, Al(III), Ti(IV), Fe(II), Fe(III), Mn(III), Co(II), Co(III), Ni(II), Ni(IV), Cu(I), Cu(II), Zn(II), Ge, In, Sn(II), Sn(IV), Zr(IV), Hf(IV) 등의 금속의 β-디케톤류, 아민류, 알콜류, 카르복실산류와의 착화합물을 들 수 있고, 또한 Al(III), Fe(II), Fe(III), Ti(IV), Zr(IV)의 아세틸아세톤 착체, 아세토아세트산 에스테르 착체 등이 특히 바람직한 착화합물로서 들 수 있다.
이러한 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 이하와 같은 화합물을 들 수 있다.
알루미늄트리스(아세틸아세토네이트), 알루미늄트리스(에틸아세토아세테이트), 알루미늄트리스(프로필아세토아세테이트), 알루미늄트리스(부틸아세토아세테이트), 알루미늄트리스(헥실아세토아세테이트), 알루미늄트리스(노닐아세토아세테이트), 알루미늄트리스(헥사플루오로펜타디오네이트), 알루미늄트리스(2,2,6,6-테트라메틸-3,5-헵탄디오네이트), 알루미늄비스(에틸아세토아세테이트)모노(아세틸아세토네이트), 알루미늄비스(아세틸아세토네이트)모노(에틸아세토아세테이트), 알루미늄비스(프로필아세토아세테이트)모노(아세틸아세토네이트), 알루미늄비스(부틸아세토아세테이트)모노(아세틸아세토네이트), 알루미늄비스(헥실아세토아세테이트)모노(아세틸아세토네이트), 알루미늄비스(프로필아세토아세테이트)모노(에틸아세토아세테이트), 알루미늄비스(부틸아세토아세테이트)모노(에틸아세토아세테이트), 알루미늄비스(헥실아세토아세테이트)모노(에틸아세토아세테이트), 알루미늄비스(노닐아세토아세테이트)모노(에틸아세토아세테이트), 알루미늄디부톡시드모노(아세틸아세토네이트), 알루미늄디이소프로폭시드모노(아세틸아세토네이트), 알루미늄디이소프로폭시드모노(에틸아세토아세테이트), 알루미늄-s-부톡시드비스(에틸아세토아세테이트), 알루미늄디-s-부톡시드모노(에틸아세토아세테이트), 알루미늄디이소프로폭시드모노(-9-옥타데세닐아세토아세테이트), 티타늄트리이소프로폭시드모노(알릴아세토아세테이트), 티타늄디이소프로폭시드비스(트리에탄올아민), 티타늄디-n-부톡시드비스(트리에탄올아민), 티타늄디이소프로폭시드비스(아세틸아세토네이트), 티타늄디-n-부톡시드비스(아세틸아세토네이트), 티타늄디이소프로폭시드비스(2,2,6,6-테트라메틸-3,5-헵탄디오네이트), 티타늄디이소프로폭시드비스(에틸아세토아세테이트), 티타늄디-n-부톡시드비스(에틸아세토아세테이트), 티타늄트리-n-부톡시드모노(에틸아세토아세테이트), 티타늄트리이소프로폭시드모노(메타크릴옥시 에틸아세토아세테이트), 티타늄옥사이드비스(아세틸아세토네이트), 티타늄테트라(2-에틸-3-히드록시헥실옥사이드), 티타늄디히드록시비스(락테이트), 티타늄(에틸렌글리콜레이트)비스(디옥틸포스페이트), 지르코늄디-n-부톡시드비스(아세틸아세토네이트), 지르코늄테트라키스(헥사플루오로펜탄디오네이트), 지르코늄테트라키스(트리플루오로펜탄디오네이트), 지르코늄트리-n-프로폭시드모노(메타크릴옥시에틸아세토아세테이트), 지르코늄테트라키스(아세틸아세토네이트), 지르코늄테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-3,5-헵탄디오네이트), 트리글리콜레이트지르콘산, 트리락테이트지르콘산, 철(III)아세틸아세토네이트, 디벤조일메탄철(II), 트로폴론철, 트리스토로포로노철(III), 히노키티올철, 트리스히노키티오로철(III), 아세토아세트산 에스테르철(III), 철(III)벤조일이세토네이트, 철(III)디페닐프로판디오네이트, 철(III)테트라메틸헵탄디오네이트, 철(III)트리플루오로펜탄디오네이트. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
이러한 유기착화합물은 폴리머의 가교제로서 작용한다. 그 료는 감열층 중 0.5질량% 이상이 바람직하다. 또한, 인쇄판의 내쇄성을 유지하는 점에서 50질량% 이하가 바람직하다.
또한, 감열층의 조성물에 포함되는 폴리머로서 노볼락 수지를 사용할 경우, 화상재현을 고정세화하는 점에서 노볼락 수지/유기착화합물의 질량비는 2 이상이 바람직하고, 2.5 이상이 보다 바람직하고, 3 이상이 더욱 바람직하다. 또한, 노볼락 수지의 가교 구조가 빈틈없이 형성되고, 감열층의 경도가 높아지는 점에서, 노볼락 수지/유기착화합물의 질량비는 6 이하가 바람직하고, 5.5 이하가 보다 바람직하고, 5 이하가 더욱 바람직하다. 상기와 같은 노볼락 수지/유기착화합물의 질량비로 함으로써 감열층의 경도가 보다 높아지고, 인쇄시에 잉크 롤러에 의해 상층의 잉크 반발층이 가압되었을 때에 잉크 반발층이 변형하기 쉬워진다. 그 때문에, 잉크 반발성 액체가 잉크 반발층 표면으로 나오기 쉬워져 잉크 반발성이 향상된다.
본 발명에 있어서 감열층의 조성물 (A) 및 조성물 (B)가 포함할 수 있는 광열 변환 물질로서는, 레이저광을 흡수함으로써 광 에너지를 원자·분자의 운동 에너지로 변환하고, 순간적으로 감열층 표면에서 200℃ 이상의 열을 발생시킴으로써 감열층의 가교 구조를 열분해하는 기능을 갖는 것이 바람직하다. 특히 적외선 또는 근적외선을 흡수하는 안료, 염료가 바람직하다. 예를 들면, 카본블랙, 카본 그래파이트, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙 등의 흑색 안료, 프탈로시아닌, 나프탈로시아닌계의 녹색 안료, 결정수 함유 무기 화합물, 철, 구리, 크롬, 비스무트, 마그네슘, 알루미늄, 티타늄, 지르코늄, 코발트, 바나듐, 망간, 텅스텐 등의 금속분, 또는 이들 금속의 황화물, 수산화물, 규산염, 황산염, 인산염, 디아민 화합물 착체, 디티올 화합물 착체, 페놀티올 화합물 착체, 메르캅토페놀 화합물 착체 등을 들 수 있다.
또한, 적외선 또는 근적외선을 흡수하는 염료로서는 일렉트로닉스용이나 기록용의 염료이고, 최대 흡수 파장이 700㎚∼1500㎚의 범위에 있는 시아닌계 염료, 아줄레니움계 염료, 스쿠아릴리움계 염료, 크로코늄계 염료, 아조계 분산 염료, 비스아조스틸벤계 염료, 나프토퀴논계 염료, 안트라퀴논계 염료, 페릴렌계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 나프탈로시아닌 금속 착체계 염료, 폴리메틴계 염료, 디티올 니켈 착체계 염료, 인도아닐린 금속착체 염료, 분자간형 CT 염료, 벤조티오피란계 스피로피란, 니그로신 염료 등이 바람직하게 사용된다.
이들 염료 중에서도, 몰흡광계수(ε)가 큰 것이 바람직하게 사용된다. 구체적으로는, ε는 1×104L/(㏖·㎝) 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1×105L/(㏖·㎝) 이상이다. ε가 1×104L/(㏖·㎝) 이상이면 초기 감도를 보다 향상시킬 수 있다. 여기에서의 계수는 조사하는 활성 에너지선에 대하여이다. 구체적인 파장을 나타내는 것이라면 780㎚, 830㎚ 또는 1064㎚에 주목하는 것이 좋다.
이들 광열 변환 물질을 2종 이상 함유해도 좋다. 흡수 파장이 다른 2종 이상의 광열 변환 물질을 함유함으로써 발신 파장이 다른 2종 이상의 레이저에 대응시킬 수 있다.
이것들 중에서도, 광열 변환율, 경제성 및 취급성의 면으로부터 카본블랙, 적외선 또는 근적외선을 흡수하는 염료가 바람직하다.
이들 광열 변환 물질의 함유량은 감열층 중 0.1질량%∼70질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5질량%∼40질량%이다. 광열 변환 물질의 함유량을 0.1질량% 이상으로 함으로써 레이저광에 대한 감도를 보다 향상시킬 수 있다. 한편, 70질량% 이하로 함으로써 인쇄판의 높은 내쇄성을 유지할 수 있다.
또한, 본 발명의 무습수 평판 인쇄판 원판에 있어서 감열층은 필요에 따라서 각종의 첨가제를 함유해도 좋다. 예를 들면, 도포성을 개량하기 위해서 실리콘계 계면활성제나 불소계 계면활성제 등을 함유해도 좋다. 또한, 잉크 반발층과의 접착성을 강화하기 위해서 실란커플링제, 티타늄커플링제 등을 함유해도 좋다. 이들 첨가제의 함유량은 그 사용 목적에 따라 다르지만, 일반적으로는 감열층의 전체 고형분 중 0.1질량%∼30질량%이다.
본 발명에 있어서 사용되는 무습수 평판 인쇄판 원판에 있어서, 잉크 반발층으로서는 폴리오가노실록산의 가교물인 실리콘 고무층을 바람직하게 사용할 수 있다. 그 중에서도 부가반응형 실리콘 고무층 조성물 또는 축합반응형 실리콘 고무층 조성물을 도포해서 얻어지는 층, 또는 이들 조성물의 용액을 도포, 건조해서 얻어지는 층을 들 수 있다.
부가반응형의 실리콘 고무층 조성물은 적어도 비닐기 함유 오가노폴리실록산, 복수의 히드로실릴기를 갖는 SiH기 함유 화합물(이하, 「부가반응형 가교제」라고 칭한다.) 및 경화 촉매를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 반응억제제를 함유해도 좋다.
비닐기 함유 오가노폴리실록산은 하기 일반식(I)으로 나타내어지는 구조를 갖고, 주쇄 말단 또는 주쇄 중에 비닐기를 갖는 것이다. 그 중에서도 주쇄 말단에 비닐기를 갖는 것이 바람직하다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
-(SiR1R2-O-)n- (I)
일반식(I) 중, n은 2 이상의 정수를 나타낸다. R1 및 R2는 탄소수 1∼50의 포화 또는 불포화의 탄화수소기를 나타낸다. 탄화수소기는 직쇄상이어도 분기상이어도 환상이어도 좋고, 방향환을 함유하고 있어도 된다. R1 및 R2는 같아도 달라도 좋다. 일반식(I)의 폴리실록산에 복수 존재하는 R1은 서로 같아도 달라도 좋다. 또한, 일반식(I)의 폴리실록산에 복수 존재하는 R2는 서로 같아도 달라도 좋다. 상기 일반식(I) 중, R1 및 R2는 전체의 50% 이상이 메틸기인 것이, 인쇄판의 잉크 반발성의 면에서 바람직하다. 또한, 취급성이나 인쇄판의 잉크 반발성, 내상처성의 관점으로부터 비닐기 함유 오가노폴리실록산의 중량 평균 분자량은 1만∼60만이 바람직하다.
SiH기 함유 화합물로서는, 예를 들면 오가노하이드로젠폴리실록산, 디오가노하이드로젠실릴기를 갖는 유기 폴리머를 들 수 있고, 바람직하게는 오가노하이드로젠폴리실록산이다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
오가노하이드로젠폴리실록산은 직쇄상, 환상, 분기상, 망상의 분자 구조를 가질 수 있다. 예를 들면 이하의 것이 예시된다.
분자쇄 양쪽 말단이 트리메틸실록시기로 봉쇄된 폴리메틸하이드로젠실록산, 분자쇄 양쪽 말단이 트리메틸실록시기로 봉쇄된 디메틸실록산·메틸하이드로젠실록산 공중합체, 분자쇄 양쪽 말단이 트리메틸실록시기로 봉쇄된 디메틸실록산·메틸하이드로젠실록산·메틸페닐실록산 공중합체, 분자쇄가 양쪽 말단 디메틸하이드로젠실록시기로 봉쇄된 디메틸폴리실록산, 분자쇄 양쪽 말단이 디메틸하이드로젠실록시기로 봉쇄된 디메틸실록산·메틸페닐실록산 공중합체, 분자쇄 양쪽 말단이 디메틸하이드로젠실록시기 봉쇄 메틸페닐폴리실록산.
식: R3SiO1/2로 나타내어지는 실록산 단위와 식: R2HSiO1/2로 나타내어지는 실록산 단위와 식: SiO4/2로 나타내어지는 실록산 단위로 이루어지는 오가노폴리실록산 공중합체, 식: R2HSiO1/2로 나타내어지는 실록산 단위와 식: SiO4/2로 나타내어지는 실록산 단위로 이루어지는 오가노폴리실록산 공중합체, 식: RHSiO2/2로 나타내어지는 실록산 단위와 식: RSiO3/2로 나타내어지는 실록산 단위, 및 식: HSiO3/2로 나타내어지는 실록산 단위로 이루어지는 오가노폴리실록산 공중합체.
이들 오가노폴리실록산을 2종 이상 사용해도 좋다. 상기 식 중, R은 각각 독립적으로 알케닐기 이외의 1가의 탄화수소기이며, 치환되어 있어도 된다. 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기 등의 알킬기; 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기 등의 아릴기; 벤질기, 페네틸기 등의 아랄킬기; 클로로메틸기, 3-클로로프로필기, 3,3,3-트리플루오로프로필기 등의 할로겐화 알킬기를 들 수 있다.
디오가노하이드로젠실릴기를 갖는 유기 폴리머로서는 이하의 것이 예시된다.
디메틸하이드로젠실릴(메타)아크릴레이트, 디메틸하이드로젠실릴프로필(메타)아크릴레이트 등의 디메틸하이드로젠실릴기 함유 (메타)아크릴계 모노머와, (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 부틸, (메타)아크릴산 에틸헥실, (메타)아크릴산 라우릴, 스티렌, α-메틸스티렌, 말레산, 아세트산 비닐, 아세트산 알릴 등의 모노머를 공중합한 올리고머.
SiH기 함유 화합물의 함유량은 실리콘 고무층으로 되기 위한 경화성의 관점으로부터, 실리콘 고무층 조성물 중 0.5질량% 이상이 바람직하고, 1질량% 이상이 보다 바람직하다. 또한, 경화 속도의 제어하기 쉬움으로부터 20질량% 이하가 바람직하고, 15질량% 이하가 보다 바람직하다.
반응억제제로서는 질소 함유 화합물, 인계 화합물, 불포화 알콜 등을 들 수 있고, 아세틸렌기 함유 알콜이 바람직하게 사용된다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다. 이것들의 반응억제제를 함유함으로써 실리콘 고무층의 경화 속도를 조정할 수 있다. 반응억제제의 함유량은 실리콘 고무층 조성물이나 그 용액의 안정성의 관점으로부터, 실리콘 고무층 조성물 중 0.01질량% 이상이 바람직하고, 0.1질량% 이상이 보다 바람직하다. 또한, 실리콘 고무층의 경화성의 관점으로부터 실리콘 고무층 조성물 중 20질량% 이하가 바람직하고, 15질량% 이하가 보다 바람직하다.
경화 촉매는 공지의 것으로부터 선택할 수 있다. 바람직하게는 백금계 화합물이며, 구체적으로는 백금 단체, 염화백금, 염화백금산, 올레핀 배위 백금, 백금의 알콜 변성 착체, 백금의 메틸비닐폴리실록산 착체 등을 들 수 있다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다. 경화 촉매의 함유량은 실리콘 고무층의 경화성의 관점으로부터 실리콘 고무층 조성물 중 0.001질량% 이상이 바람직하고, 0.01질량% 이상이 보다 바람직하다. 또한, 실리콘 고무층 조성물이나 그 용액의 안정성의 관점으로부터, 실리콘 고무층 조성물 중 20질량% 이하가 바람직하고, 15질량% 이하가 보다 바람직하다.
또한, 이들 성분의 이외에 수산기 함유 오가노폴리실록산이나 가수분해성 관능기 함유 실란 또는 이 관능기를 함유하는 실록산, 고무 강도를 향상시키는 목적에서 실리카 등의 공지의 충전제, 접착성을 향상시키는 목적에서 공지의 실란커플링제를 함유해도 좋다. 실란커플링제로서는 알콕시실란류, 아세톡시실란류, 케톡시이미노실란류 등이 바람직하고, 또 비닐기나 알릴기가 규소원자에 직결한 것이 바람직하다.
축합반응형의 실리콘 고무층 조성물은 적어도 수산기 함유 오가노폴리실록산, 가교제 및 경화 촉매를 원료로 하는 것이 바람직하다.
수산기 함유 오가노폴리실록산은 상기 일반식(I)으로 나타내어지는 구조를 갖고, 주쇄 말단 또는 주쇄 중에 수산기를 갖는 것이다. 그 중에서도 주쇄 말단에 수산기를 갖는 것이 바람직하다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
축합반응형의 실리콘 고무층 조성물에 포함되는 가교제로서는, 하기 일반식(II)으로 나타내어지는 탈아세트산형, 탈옥심형, 탈알콜형, 탈아세톤형, 탈아미드형, 탈히드록실아민형 등의 규소 화합물을 들 수 있다.
(R3)4-mSiXm （II)
식 중, m은 2∼4의 정수를 나타내고, R3은 동일해도 달라도 좋고, 탄소수 1 이상의 치환 또는 비치환의 알킬기, 알케닐기, 아릴기, 또는 이것들이 조합된 기를 나타낸다. X는 동일해도 달라도 좋고, 가수분해성기를 나타낸다. 가수분해성기로서는, 아세톡시기 등의 아실옥시기, 메틸에틸케토옥심기 등의 케토옥심기, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기 등의 알콕시기, 이소프로페녹시기 등의 알케닐옥시기, 아세틸에틸아미노기 등의 아실알킬아미노기, 디메틸아미노옥시기 등의 아미노옥시기 등을 들 수 있다. 상기 식에 있어서, 가수분해성기의 수 m은 3 또는 4인 것이 바람직하다.
구체적인 화합물로서는 이하의 것이 예시된다.
메틸트리아세톡시실란, 에틸트리아세톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 알릴트리아세톡시실란, 페닐트리아세톡시실란, 테트라아세톡시실란 등의 아세톡시실란류, 비닐메틸비스(메틸에틸케토시미노)실란, 메틸트리스(메틸에틸케토시미노)실란, 에틸트리스(메틸에틸케토시미노)실란, 비닐트리스(메틸에틸케토시미노)실란, 알릴트리스(메틸에틸케토시미노)실란, 페닐트리스(메틸에틸케토시미노)실란, 테트라키스(메틸에틸케토시미노)실란 등의 케톡시미노실란류, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 알릴트리에톡시실란, 비닐트리이소프로폭시실란 등의 알콕시실란류, 비닐트리스이소프로페녹시실란, 디이소프로페녹시디메틸실란, 트리이소프로페녹시메틸실란 등의 알케닐옥시실란류, 테트라아릴옥시실란.
이것들 중에서는 실리콘 고무층의 경화 속도, 취급성 등의 관점으로부터 아세톡시실란류, 케톡시미노실란류가 바람직하다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
상기 가교제는 수산기 함유 오가노폴리실록산과 혼합함으로써 가교제와 실라놀기가 반응함으로써, 실라놀기 대신에 가교제가 결합한 오가노실록산으로 되는 경우가 있다. 따라서, 실리콘 고무 조성물에 있어서는 가교제가 결합한 오가노실록산은 있지만, 실라놀기를 갖는 오가노실록산은 없다고 하는 경우도 있다.
축합반응형의 실리콘 고무층 조성물에 있어서의 가교제의 첨가량은 실리콘 고무층 조성물이나 그 용액의 안정성의 관점으로부터 실리콘 고무층 조성물 중 0.5질량% 이상이 바람직하고, 1질량% 이상이 보다 바람직하다. 또한, 실리콘 고무층의 강도나 인쇄판의 내상처성의 관점으로부터 실리콘 고무층 조성물 중 20질량% 이하가 바람직하고, 15질량% 이하가 보다 바람직하다.
축합반응형의 실리콘 고무층 조성물에 포함되는 경화 촉매로서는 유기 카르복실산, 산류, 알칼리, 아민, 금속 알콕시드, 금속 디케테네이트, 주석, 납, 아연, 철, 코발트, 칼슘, 망간 등의 금속의 유기산염 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 디부틸주석디아세테이트, 디부틸주석디옥테이트, 디부틸주석디라울레이트, 옥틸산 아연, 옥틸산 철 등을 들 수 있다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
축합반응형의 실리콘 고무층 조성물에 있어서의 경화 촉매의 함유량은 실리콘 고무층의 경화성, 접착성의 관점으로부터 실리콘 고무층 조성물 중 0.001질량% 이상이 바람직하고, 0.01질량% 이상이 보다 바람직하다. 또한, 실리콘 고무층 조성물이나 그 용액의 안정성의 관점으로부터 실리콘 고무층 조성물 중 15질량% 이하가 바람직하고, 10질량% 이하가 보다 바람직하다.
본 발명에 있어서의 무습수 평판 인쇄판 원판의 잉크 반발층 중에는 잉크 반발성을 향상시킬 목적으로 잉크 반발성의 액체를 함유한다. 이 액체의 1기압에 있어서의 비점이 150℃ 이상인 것이 바람직하다. 인쇄시에 판면이 가압되었을 때, 잉크 반발층 표면에 상기 잉크 반발성의 액체가 표출하고, 잉크의 박리를 도움으로써 잉크 반발성을 향상시킨다. 비점이 150℃ 이상이면, 무습수 평판 인쇄판 원판을 제조시에 휘발하는 것이 적고, 이 액체의 첨가에 의해 얻어지는 잉크 반발성의 효과를 잃어버릴 일이 없다. 여기에서 말하는 비점은, 1기압의 환경 하에서 1시간 정치한 뒤의 질량 감소량이 0.5질량% 이상으로 되는 온도로 정의된다. 바꿔 말하면, 이 액체는 150℃, 1기압 환경 하에서 1시간 정치한 뒤의 질량 감소가 0.5질량% 미만이다. 그러면, 이 액체의 첨가에 의한 잉크 반발성의 효과를 잃어버리는 경우가 적다.
또한, 상기 잉크 반발성의 액체의 25℃에서의 표면장력은 15mN/m 이상 30mN/m 이하가 바람직하다. 표면장력이 15mN/m 이상이면 다른 잉크 반발층 조성물과의 친화성이 보다 높아지고, 잉크 반발층 조성물 용액의 안정성이 향상된다. 표면장력이 30mN/m 이하이면 잉크가 박리하기 쉬워지고, 잉크 반발성을 보다 향상시킬 수 있다.
상기 잉크 반발성의 액체가 잉크 반발층 표면에 충분히 압출되고, 잉크 반발성을 현저하게 향상시키는 점에서 잉크 반발층 중의 함유량은 10질량% 이상이 바람직하다. 또한, 잉크 반발층의 막강도를 유지하는 점에서 잉크 반발층 중으로의 함유량은 30질량% 이하가 바람직하고, 25질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.
상기 잉크 반발성의 액체는 실리콘 화합물인 것이 바람직하고, 실리콘 오일이 보다 바람직하다. 본 발명에서 말하는 실리콘 오일이란 잉크 반발층의 가교에 관계하지 않는 프리의 폴리실록산 성분을 가리킨다. 따라서, 말단 디메틸폴리디메틸실록산, 환상 폴리디메틸실록산, 말단 디메틸-폴리디메틸-폴리메틸페닐실록산 코폴리머, 말단 디메틸-폴리디메틸-폴리디페닐실록산 코폴리머 등의 디메틸실리콘 오일류, 또한 알킬 변성 실리콘 오일, 불소 변성 실리콘 오일, 폴리에테르 변성 실리콘 오일, 알콜 변성 실리콘 오일, 아미노 변성 실리콘 오일, 에폭시 변성 실리콘 오일, 에폭시폴리에테르 변성 실리콘 오일, 페놀 변성 실리콘 오일, 카르복시 변성 실리콘 오일, 메르캅토 변성 실리콘 오일, 아미드 변성 실리콘 오일, 카르바나 변성 실리콘 오일, 고급 지방산 변성 실리콘 오일 등의 분자 중의 메틸기의 일부에 각종 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일류를 들 수 있다.
이들 실리콘 오일의 분자량은 표품에 폴리스티렌을 사용한 겔 침투 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정할 수 있고, 중량 평균 분자량(Mw)이 1000∼10만인 것이 바람직하다.
본 발명의 무습수 평판 인쇄판 원판에 있어서, 판면 탄성율은 4㎫ 이상 12㎫ 이하인 것이 바람직하다. 판면 탄성율은 나노인덴테이션법을 이용하여 다이아몬드제 원추압자를 인쇄판 원판의 잉크 반발층 표면에 압입하고, 하중-압입 깊이 선도를 취득함으로써 하중에 대한 탄성율을 산출한 것이다. 판면 탄성율은 인쇄판 원판 표면에 1400N/㎡의 하중을 가했을 때의 탄성율로 정의했다. 상세한 측정 방법은 실시예의 란에서 설명한다.
잉크 반발층의 막강도가 향상하고, 내쇄매수가 증가한다고 하는 점에서, 판면 탄성율은 4㎫ 이상이 바람직하고, 5㎫ 이상이 보다 바람직하고, 7㎫ 이상이 더욱 바람직하다. 또한, 상기 잉크 반발성의 액체의 잉크 반발층 표면으로의 배어나옴이나 잉크 반발층으로의 재도입, 또는 잉크 중의 액체 성분의 잉크 반발층 표면으로의 도입을 촉진하고, 잉크 반발성을 지속시키는 점에서 판면 탄성율은 12㎫ 이하가 바람직하다. 또한, 11㎫ 이하가 보다 바람직하고, 10㎫ 이하가 더욱 바람직하다. 특히 판면 탄성율을 10㎫ 이하로 함으로써 잉크 반발성은 현저하게 향상된다.
본 발명의 무습수 평판 인쇄판 원판은 잉크 반발층을 보호하는 목적에서, 잉크 반발층의 표면에 보호 필름 및/또는 합지를 가져도 좋다.
보호 필름으로서는 노광 광원 파장의 광을 양호하게 투과하는 두께 100㎛ 이하의 필름이 바람직하다. 대표예로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 셀로판 등을 들 수 있다. 또한, 노광에 의한 원판의 감광을 방지하는 목적에서, 여러가지 광흡수제, 광발색 물질, 일본 특허 제2938886호 공보에 기재된 바와 같은 광퇴색성 물질을 보호 필름 상에 가져도 좋다.
합지로서는 칭량 30∼120g/㎡의 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30∼90g/㎡이다. 칭량 30g/㎡ 이상이면 기계적 강도가 충분하고, 120g/㎡ 이하이면 경제적으로 유리할 뿐만 아니라, 무습수 평판 인쇄판 원판과 종이의 적층체가 얇아져서 작업성이 유리해진다. 바람직하게 사용되는 합지의 예로서, 예를 들면 정보 기록 원지 40g/㎡(나고야펄프(주)제), 금속 합지 30g/㎡(나고야펄프(주)제), 미표백 크라트프지 50g/㎡(츄에츠펄프고교(주)제), NIP 용지 52g/㎡(츄에츠펄프고교(주)제), 순백 롤지 45g/㎡(오지세이시(주)제), 쿨팩 73g/㎡(오지세이시(주)제) 등을 들 수 있지만 이것들에 한정되는 것은 아니다.
이어서, 본 발명의 무습수 평판 인쇄판 원판으로부터 무습수 평판 인쇄판을 제조하는 방법에 대하여 설명한다. 무습수 평판 인쇄판의 제조 방법은 상기 무습수 평판 인쇄판 원판을 상에 따라서 노광하는 공정(노광 공정), 노광한 무습수 평판 인쇄판 원판에 물리 자극을 주어 노광부의 잉크 반발층을 제거하는 공정(현상 공정)을 포함한다.
우선, 노광 공정에 대하여 설명한다. 본 발명의 무습수 평판 인쇄판 원판을 상에 따라서 노광한다. 무습수 평판 인쇄판 원판이 보호 필름을 가질 경우, 보호 필름 상으로부터 노광해도 좋고, 보호 필름을 박리해서 노광해도 좋다. 노광 공정에서 사용되는 광원으로서는, 발광 파장 영역이 300㎚∼1500㎚의 범위에 있는 것을 들 수 있다. 이것들 중에서도 감열층의 흡수 파장으로서 널리 사용되는 점에서 근적외 영역 부근에 발광 파장 영역이 존재하는 반도체 레이저이나 YAG 레이저가 바람직하게 사용된다. 구체적으로는, 열로의 변환 효율의 관점으로부터 780㎚, 830㎚, 1064㎚의 파장의 레이저광이 노광에 바람직하게 사용된다.
이어서, 현상 공정에 대하여 설명한다. 노광 후의 원판에 물리 자극을 줌으로써 노광부의 잉크 반발층을 제거한다. 물리 자극을 주는 방법으로서는, 예를 들면 (i) 현상액을 함침한 부직포, 탈지면, 천, 스폰지 등으로 판면을 닦아내는 방법, (ii) 현상액으로 판면을 전처리한 후에 수도물 등을 샤워하면서 회전 브러시로 문지르는 방법, (iii) 고압의 물이나 온수, 또는 수증기를 판면에 분사하는 방법 등을 들 수 있다.
현상에 앞서, 전처리액 중에 일정 시간 판을 침지하는 전처리를 행해도 된다. 전처리액으로서는, 예를 들면 물이나 물에 알콜이나 케톤, 에스테르, 카르복실산 등의 극성 용매를 첨가한 것, 지방족 탄화수소류, 방향족 탄화수소류 등의 적어도 1종을 함유하는 용매에 극성 용매를 첨가한 것, 또는 극성 용매가 사용된다. 또한, 상기 현상액 조성에는 공지의 계면활성제를 첨가할 수도 있다. 계면활성제로서는 안전성, 폐기할 때의 비용 등의 점으로부터, 수용액으로 했을 때에 pH가 5∼8이 되는 것이 바람직하다. 계면활성제의 함유량은 현상액의 10질량% 이하인 것이 바람직하다. 이러한 현상액은 안전성이 높고, 폐기 비용 등의 경제성의 점에서도 바람직하다. 또한, 글리콜 화합물 또는 글리콜에테르 화합물을 주성분으로서 사용하는 것이 바람직하고, 아민 화합물을 공존시키는 것이 보다 바람직하다.
현상액으로서는, 예를 들면 물, 알콜이나 파라핀계 탄화수소를 사용할 수 있다. 또한, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜로의 알킬렌옥사이드 부가물 등의 프로필렌글리콜 유도체와 물의 혼합물도 사용할 수 있다. 현상액의 구체예로서는, HP-7N, WH-3(모두 도레이(주)제) 등을 들 수 있다. 전처리액으로서는, 예를 들면 일본 특허 제4839987호 공보에 기재되는 것 같은, 폴리에틸렌에테르디올 및 1급 아미노기를 2개 이상 갖는 디아민 화합물을 함유하는 것을 사용할 수 있다. 전처리액의 구체예로서는 PP-1, PP-3, PP-F, PP-FII, PTS-1, CP-1, CP-Y, NP-1, DP-1(모두 도레이(주)제) 등을 들 수 있다. 또한, 화선부의 시인성이나 망점의 계측 정밀도를 높이는 목적으로부터, 전처리액 또는 현상액에 크리스탈 바이올렛, 빅토리아 퓨어 블루, 아스트라존 레드 등의 염료를 첨가해서 현상과 동시에 화선부의 잉크 수용층의 염색을 행할 수도 있다. 또한, 현상의 뒤에 상기 염료를 첨가한 액에 의해 염색할 수도 있다.
상기 현상 공정의 일부 또는 전부는 자동현상기에 의해 자동적으로 행할 수도 있다. 자동현상기로서는 이하의 장치를 사용할 수 있다. 현상부만의 장치, 전처리부 및 현상부가 이 순서로 설치된 장치, 전처리부, 현상부, 후처리부가 이 순서로 설치된 장치, 전처리부, 현상부, 후처리부, 수세부가 이 순서로 설치된 장치 등. 이러한 자동현상기의 구체예로서는, TWL-650 시리즈, TWL-860 시리즈, TWL-1160 시리즈(모두 도레이(주)제) 등이나, 일본 특허공개 평 5-6000호 공보에 기재되는 바와 같은 판의 이면의 상처 발생을 억제하기 위해서 받침대를 곡면 형상으로 움푹 패이게 하고 있는 자동현상기 등을 들 수 있다. 이것들을 조합시켜서 사용해도 좋다.
현상 처리된 무습수 평판 인쇄판을 적층하여 보관할 경우에 대비하여, 판면 보호의 목적에서 판과 판의 사이에 합지를 끼워 두는 것이 바람직하다.
이어서, 본 발명의 무습수 평판 인쇄판으로부터 인쇄물을 제조하는 방법의 예에 대해서 나타낸다. 무습수 평판 인쇄판은 축임물을 사용하지 않고 인쇄가 가능한 평판 인쇄판이다. 감열층 유래의 층이 잉크 수용층이 되고, 그것이 화선부가 된다. 잉크 반발층은 비화선부가 된다. 잉크 수용층과 잉크 반발층은 미크론 오더의 단차가 있을 뿐이며 거의 동일 평면에 있다고 해도 좋다. 그리고 잉크 부착성의 차이를 이용해서 화선부에만 잉크를 착육시킨 후, 피인쇄체에 잉크를 전사해서 인쇄한다. 피인쇄체란 얇은 종지, 두꺼운 종이, 필름, 라벨 등 인쇄되는 매체 전반을 가리키고, 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한 잉크의 전사는 인쇄판으로부터 직접 피인쇄체에 행해도 되고, 블랭킷을 통해서 행해도 된다.
본 발명의 무습수 평판 인쇄판을 사용한 인쇄에서는, 활성 에너지선에 의해 경화할 수 있는 잉크를 사용할 수 있다. 자외선 조사에 의해 경화하는 잉크(이하, UV 잉크)이면, 통상은 반응성 모노머 또는 반응성 올리고머, 광중합 개시제 및 필요에 따라서 증감제, 등의 자외선에 의해 중합 반응 가능한 감광성 성분이 포함된다. 무습수 평판 인쇄판을 사용한 UV 인쇄에서는 감광성 성분은 10질량% 이상 50질량% 이하 포함되는 것이 바람직하다. 질량 적으면 경화 속도가 느려지고, UV 잉크가 경화 불량의 상태에서 피인쇄체가 적층되기 때문에 오프셋하기 쉬워진다. 한편으로, 감광성 성분의 비율이 증가함에 따라서 잉크 반발성은 저하하고, 질량이 많으면 비화선부에 잉크의 잔사가 남기 쉬워진다.
또한, 잉크 반발성을 향상시킬 목적으로, 직쇄 알킬기를 갖는 아크릴산 에스테르 또는 메타크릴산 에스테르를 함유하는 UV 잉크를 사용해도 좋다. 조사 알킬기로서는 탄소수 9 이상의 것이 바람직하다. 직쇄 알킬기를 갖는 아크릴산 에스테르의 구체적인 예로서는, 노닐아크릴레이트, 데실아크릴레이트, 운데실아크릴레이트, 도데실아크릴레이트, 트리데실아크릴레이트, 테트라데실아크릴레이트, 펜타데실아크릴레이트, 헥사데실아크릴레이트, 헵타데실아크릴레이트, 옥타데실아크릴레이트, 이소옥타데실아크릴레이트 등을 들 수 있다. 직쇄 알킬기를 갖는 메타크릴산 에스테르의 구체적인 예로서는, 노닐메타크릴레이트, 데실메타크릴레이트, 운데실메타크릴레이트, 도데실메타크릴레이트, 트리데실메타크릴레이트, 테트라데실메타크릴레이트, 펜타데실메타크릴레이트, 헥사데실메타크릴레이트, 헵타데실메타크릴레이트, 옥타데실메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
직쇄 알킬기를 갖는 아크릴산 에스테르 또는 메타크릴산 에스테르는 잉크 반발성을 향상시키는 점에서 UV 잉크 전량에 대하여 0.5질량% 이상이 바람직하고, 1질량% 이상이 보다 바람직하다. 또한, UV 잉크의 경화성을 촉진하는 점에서 15질량% 이하가 바람직하고, 10질량% 이하가 보다 바람직하다.
UV 잉크를 조사하는 활성 에너지선으로서는, 경화 반응에 필요한 여기 에너지를 갖는 것이면 어느 것이나 사용할 수 있지만, 예를 들면 자외선이나 전자선 등이 바람직하게 사용된다. 전자선에 의해 경화시키는 경우에는, 100∼500eV의 전자선을 방출할 수 있는 전자선 조사장치가 바람직하게 사용된다. 자외선에 의해 경화시키는 경우에는, 고압수은등, 크세논 램프, 메탈할라이드 램프, LED 등의 자외선 조사장치를 이용할 수 있지만, 특별하게 한정되지 않는다.
자외선으로 경화하는 UV 잉크의 경우, 인쇄기의 인쇄 속도, 광원의 강도·조사 면적에 의존하지만, 일반적인 인쇄 조건에서는 2초 이내의 자외선 조사로 경화 가능한 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1초 이내이다. 2초 이내의 자외선 조사로 경화 가능하면, 오프셋 없이 건조 공정을 단축화할 수 있고, 1초 이내이면 더욱 단축화할 수 있다.
무습수 평판 인쇄판을 사용한 인쇄에서는 바탕 더러움(scumming) 개시온도를 측정함으로써 인쇄판의 잉크 반발성을 평가할 수 있다. 바탕 더러움이란 인쇄판의 비화선부에 잉크가 남고, 본래 잉크의 부착을 의도하고 있지 않은 피인쇄체의 개소에 잉크를 전사해버리는 것을 가리킨다. 무습수 인쇄에 있어서는 판면 온도가 높아질수록 바탕 더러움이 발생하기 쉬워진다. 바탕 더러움이 되지 않으면 안정적인 인쇄가 가능해진다. 이 바탕 더러움이 발생하기 시작하는 판면 온도를 바탕 더러움 개시 온도라고 한다. 이 온도가 높을수록 인쇄는 용이하게 된다. 바탕 더러움 개시 온도에 대해서는 인쇄 환경에도 의하지만, 30℃ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 32℃ 이상이다. 30℃ 이상이면, 공조된 통상의 작업환경에서는 바탕 더러움 없이 인쇄가 가능하고, 32℃ 이상이면 엄밀한 온도 관리가 불필요하게 되기 때문에 보다 인쇄가 용이하게 된다. 또한, 잉크 반발의 지속성을 평가하기 위해서는 바탕 더러움 개시 온도에서 연속 인쇄를 계속하고, 바탕 더러움이 악화할 때까지의 내쇄매수를 평가하는 방법이 있다. 내쇄매수는 10000매 이상이 바람직하고, 50000매 이상이 보다 바람직하다. 내쇄매수는 상기 판면 탄성율과 상관이 있고, 판면 탄성율이 10㎫보다 작으면 보다 내쇄매수는 많아진다.
(실시예)
이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명한다. 재료의 조제 및 각실시예·비교예에 있어서의 평가는 다음 방법으로 행하였다.
(1) 잉크의 조제
이하의 방법으로 본 발명의 실시예에 사용하는 잉크를 조제했다. 이 조제 방법은 일본 특허공개 평 3-39373호 공보의 실시예에 기재된 것이다.
세퍼러블 플라스크에 스테아르산 클로라이드 151g과 펜타에리스리톨디아크릴레이트 122g을 칭량하여 넣고, 톨루엔 273g을 첨가해 용액으로 했다. 상기 용액 100질량부에 대하여 p-톨루엔술폰산 1질량부와 하이드로퀴논 0.5질량부를 더 첨가하고, 질소 가스를 흘리면서 140℃, 5시간 반응시켜서 아크릴에스테르를 생성했다. 이어서 이 아크릴에스테르를 20질량부와, 로진 변성 에폭시아크릴레이트("판빔" 22C1, 하리마카세이(주)제) 60질량부, 트리메티롤프로판트리아크릴레이트("아로닉스" M309, 도아고세이(주)제) 10질량부 및 알키드 수지("하리딥" 116 AM, 하리마카세이(주)제) 10질량을 투입하고, 오일 배스에서 100℃로 해서 균일 용해할 때까지 혼합 교반해서 바니시를 얻었다. 이어서 이 바니시에 광중합 개시제("일가큐어"(등록상표. 이하 동일) 500/"일가큐어" 907=1/1, 치바가이기사제) 6질량부, 안료(미쓰비시카본 MA-7, 미쓰비시카가쿠(주)제) 22질량부, 중합 금지제(하이드로퀴논모노메틸에테르) 0.1질량부를 첨가해서 쓰리롤로 잘 혼련하여 잉크로 했다. 또한 상기 알키드 수지와 아크릴 수지는 용액으로 시판되고 있기 때문에, 여기에서는 760mmHg(1기압), 1100℃, 8시간의 조건에서 용제를 제거하고나서 사용했다.
잉크 중의 감광성 성분율을 변화시키기 위해서, 광경화성을 갖지 않는 폴리머인 "다이소 이소댑"(등록상표)(다이소(주)제)을 적당하게 첨가하고, 쓰리롤로 잘 혼련하여 UV 잉크로 했다. UV 잉크로부터 "다이소 이소댑", 안료 및 중합금지제를 제외한 조성물의 질량을 감광성 성분의 질량으로 하고, 얻어진 UV 잉크 전량에 포함되는 감광성 성분의 질량의 비율을 감광성 성분율로 했다.
(2) 잉크 반발성의 액체의 비점 측정
본 발명에서는 잉크 반발성의 액체의 비점이 150℃ 이상인 것을, 150℃, 1기압 환경 하에서 1시간 정치한 뒤의 질량감소가 0.5질량% 미만이라고 정의하고 있다. 실시예에서 사용한 액체의 비점을 확인하기 위해서, 직경 50㎜의 알루미늄 컵에 액체 2g을 칭량하여 넣고, 150℃의 오븐에 1시간 정치한 뒤의 질량감소를 측정했다. 그 질량감소의 비율로부터 그 액체의 비점이 150℃ 또는 그것보다 위인 것을 확인했다.
(3) 무습수 평판 인쇄판의 제조
실시예의 무습수 평판 인쇄판 원판에 대하여, CTP용 노광기 "PlateRite" 8800E(다이니폰스크린세이조(주)제)를 이용하여, 조사 에너지: 130mJ/㎠(드럼 회전수: 232rpm)의 조건에서 노광을 행하였다. 노광 화상은 세로 550㎜×가로 650㎜의 무습수 평판 인쇄판 원판의 중앙에, 세로 20㎜×가로 650㎜의 띠상의 솔리드 화상을 설치했다. CP-Y(도레이(주)제)를 전처리액으로 하고, 수도물을 현상액으로 해서, 노광한 원판을 자동현상기 TWL-1160F(도레이(주)제)에 속도 80㎝/분으로 통과시키고, 무습수 평판 인쇄판을 제조했다.
(4) UV 인쇄
매엽 인쇄기 "올리버 266EPZ"(사쿠라이 그래픽 시스템즈(주)제)의 배지부에 속도 가변식 컨베이어를 내장한 자외선 조사장치를 연결한 인쇄 시험기를 준비했다. 상기 인쇄 시험기에 상기 (3)에서 제조한 무습수 평판 인쇄판을 장착하고, 상기 (1)에서 조제한 UV 잉크, 또는 시판의 잉크를 이용하여 인쇄 시험을 행하였다. 잉크 롤러에 의해 인쇄판에 잉크를 공급하고, 인쇄판과 블랭킷을 접촉시켜 인쇄판으로부터 블랭킷에 잉크를 전사했다. 계속해서 블랭킷 상의 잉크를 피인쇄체인 박지의 코트지에 전사하는 오프셋 인쇄방식으로 행하였다. 솔리드 인쇄부의 반사 농도가 1.8(먹)로 되도록 UV 잉크의 공급량을 제어하고, UV 잉크가 전사한 종이에 자외선 조사를 행함으로써 인쇄물을 얻었다. 시험에는 출력 120W/㎠의 메탈할라이드 램프를 사용하고, 촛점 거리 150㎜, 흐름 방향의 램프 하우스의 폭 100㎜를 조사 영역으로 하고, 컨베이어 속도를 여러가지로 바꿈으로써 자외선 조사 시간의 변경을 행하였다.
(5) 판면 탄성율의 측정
판면 탄성율의 측정은 초미소 경도계 "Nano Indenter XP"(MTS 시스템즈사제)를 사용해 행하였다. 25℃ 대기 중에서 다이아몬드제 원추압자(선단 곡률반경=50㎛)를 인쇄판 표면에 압입하여 하중-압입 깊이 선도를 취득했다. 취득한 하중-압입 깊이 선도로부터 이하의 식(1)을 사용해서 압자의 탄성변형의 기여를 포함한 복합 탄성율 E*를 구했다.
P=4/3·E*R1/2·h3/2 …식(1)
여기에서, R은 압자의 반경(50㎛), P는 하중, h는 변위를 나타낸다.
계속해서 이하의 식(2)을 사용해서 시료의 탄성율 E를 구했다.
1/E*=1-ν2)/E+(1-νi 2)/Ei …식(2)
여기에서, ν, E는 시료의 포와송비(0.5)와 탄성율, νi와 Ei는 압자의 포와송비(0.07)와 탄성율(1141GPa)을 나타낸다.
본 발명의 실시예에서는 1400N/㎡의 하중을 가했을 때의 탄성율을 식(1) 및 식(2)으로부터 계산하고, 판면 탄성율을 구했다.
(6) UV 잉크의 경화시간 확인
상기 (4)의 인쇄에서 솔리드 인쇄부에 셀로판 테이프(No.29, 니토덴코(주)제)를 붙이고, 벗겼을 때에 셀로판 테이프에 전사되지 않으면 경화되어 있다고 판단하고, 잉크의 최단 경화시간을 확인했다.
(7) 바탕 더러움 개시 온도의 측정
상기 (4)의 인쇄에 있어서, 칠러를 이용하여 잉크 롤러의 온도를 제어하고, 무습수 평판 인쇄판의 판면 온도를 변경했다. 판면 온도는 비접촉 온도계로 측정하고, 온도마다 비화선부의 바탕 더러움을 확인했다.
(8) 내쇄매수의 계측
상기 (7)의 바탕 더러움 개시 온도를 측정한 후, 그 온도를 유지하면서 연속 인쇄를 계속했다. 5000매마다 인쇄물의 바탕 더러움 상태를 확인하고, 육안으로 악화를 확인할 수 있을 때까지의 매수를 내쇄매수로 했다.
[실시예 1]
무습수 평판 인쇄판 원판을 이하의 방법으로 제작했다.
두께 0.24㎜의 탈지한 알루미늄 기판(미쓰비시 알루미늄(주)제) 상에 하기의 단열층 조성물 용액을 도포하고, 200℃에서 90초간 건조하여 두께 6.0㎛의 단열층을 형성했다. 또한, 단열층 조성물 용액은 하기 성분을 실온에서 교반 혼합함으로써 얻었다.
<단열층 조성물 용액>
(a) 활성수소를 갖는 폴리머: 에폭시 수지: "에피코트"(등록상표) 1010(재팬 에폭시레진(주)제): 35질량부
(b) 활성수소를 갖는 폴리머: 폴리우레탄: "선프렌"(등록상표) LQ-T1331D(산요카세이고교(주)제, 고형분 농도: 20질량%): 375질량부
(c) 알루미늄킬레이트: 알루미늄킬레이트 ALCH-TR(가와켄화인케미칼(주)제): 10질량부
(d) 레벨링제: "디스파론"(등록상표) LC951(구스모토카세이(주)제, 고형분: 10질량%): 1질량부
(e) 산화티탄: "타이페이크"(등록상표) CR-50(이시하라산교(주)제)의 N,N-디메틸포름아미드 분산액(산화티탄 50질량%): 60질량부
(f) N,N-디메틸포름아미드: 730질량부
(g) 메틸에틸케톤: 250질량부.
이어서, 하기의 감열층 조성물 용액을 상기 단열층 상에 도포하고, 140℃에서 90초간 가열 건조하여 두께 1.5㎛의 감열층을 형성했다. 또한, 감열층 조성물 용액은 하기 성분을 실온에서 교반 혼합함으로써 얻었다.
<감열층 조성물 용액-1>
(a) 적외선 흡수 염료: "PROJET" 825LDI(Avecia사제): 16.0질량부
(b) 유기착화합물: 티타늄-n-부톡시드비스(아세틸아세토네이트): "나셈"(등록상표) 티타늄(니폰 카가쿠산교(주)제, 농도: 73질량%, 용제로서 n-부탄올: 27질량%를 포함한다): 15.0질량부
(c) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주)제): 60질량부
(d) 폴리우레탄: "닛포란"(등록상표) 5196(닛폰 폴리우레탄(주)제, 농도: 30질량%, 용제로서 메틸에틸케톤: 35질량%, 시클로헥사논: 35질량%를 포함한다): 25질량부
(e) 테트라히드로푸란: 1044질량부
이어서, 도포 직전에 조제한 하기의 잉크 반발층 조성물 용액-1을 상기 감열층 상에 도포하고, 140℃에서 80초간 가열하여 평균 막두께 2.5㎛의 잉크 반발층 을 형성함으로써 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다. 또한, 잉크 반발층 조성물 용액-1은 하기 성분을 실온에서 교반 혼합함으로써 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-1>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100000, 도레이·다우코닝(주)제): 80.0질량부
(b) 실리콘 오일: KF-96-50cs(양쪽 말단 메틸기 봉쇄의 폴리디메틸실록산. 중량 평균 분자량: 3780, 표면장력: 20.8mN/m, 비점: >150℃, 신에츠카가쿠고교(주)제): 10.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) 이소파라핀계 탄화수소 용제 "아이소퍼"(등록상표) E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분율이 10질량%인 UV 잉크를 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 잉크 경화시간은 2초, 바탕 더러움 개시 온도는 33℃로 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 2]
감광성 성분율이 30질량%인 UV 잉크를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 해서 인쇄 시험을 행하였다. 잉크 경화시간은 1초, 바탕 더러움 개시 온도는 32℃로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 3]
감광성 성분율이 50질량%인 UV 잉크를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 해서 인쇄 시험을 행하였다. 잉크 경화시간은 0.5초, 바탕 더러움 개시 온도는 31℃로 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 4]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-2로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-2>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 75.0질량부
(b) 실리콘 오일: KF-96-50cs(중량 평균 분자량: 3,780, 표면장력: 20.8mN/m, 비점: >150℃, 신에츠카가쿠고교(주)제): 15.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분율이 50질량%인 UV 잉크를 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 잉크 경화시간은 0.5초, 바탕 더러움 개시 온도는 33℃로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 5]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-3으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-3>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: "TF" 22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 65.0질량부
(b) 실리콘 오일: KF-96-50cs(중량 평균 분자량: 3,780, 표면장력: 20.8mN/m, 비점: >150℃, 신에츠카가쿠고교(주)제): 25.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분율이 50질량%인 UV 잉크를 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 잉크 경화시간은 0.5초, 바탕 더러움 개시 온도는 35℃로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 6]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-4로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-4>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: "TF" 22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 60.0질량부
(b) 실리콘 오일: KF-96-50cs(중량 평균 분자량: 3,780, 표면장력: 20.8mN/m, 비점: >150℃, 신에츠카가쿠고교(주)제): 30.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분율이 50질량%인 UV 잉크를 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 잉크 경화시간은 0.5초, 바탕 더러움 개시 온도는 36℃로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 7]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-5로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-5>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 70.0질량부
(b) 실리콘 오일: KF-96-10cs(중량 평균 분자량: 1,250, 표면장력: 20.1mN/m, 비점: >150℃, 신에츠카가쿠고교(주)제): 20.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분율이 30질량%인 UV 잉크를 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 잉크 경화시간은 1초, 바탕 더러움 개시 온도는 34℃로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 8]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-6으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-6>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 70.0질량부
(b) 실리콘 오일: KF-96-60000cs(중량 평균 분자량: 116,500, 표면장력: 21.3mN/m, 비점: >150℃, 신에츠카가쿠고교(주)제): 20.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분율이 30질량%인 UV 잉크를 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 잉크 경화시간은 1초, 바탕 더러움 개시 온도는 32℃로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 9]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-7로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-7>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 70.0질량부
(b) 플루오로 변성 실리콘 오일: FL-100-100cs(중량 평균 분자량: 5,970, 비점: >150℃, 신에츠카가쿠고교(주)제): 20.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분율이 30질량%인 UV 잉크를 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 잉크 경화시간은 1초, 바탕 더러움 개시 온도는 34℃로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 10]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-8로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-8>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 70.0질량부
(b) 탄화수소 용제: "Solvesso"(등록상표) 100(표면장력: 29mN/m, 비점: >150℃, 엑슨모빌제): 20.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분율이 30질량%인 UV 잉크를 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 잉크 경화시간은 1초, 바탕 더러움 개시 온도는 32℃로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 11]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-9로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-9>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 70.0질량부
(b) 탄화수소 용제: "Solvesso" 200(표면장력: 36mN/m, 비점: >150℃, 엑슨 모빌제): 20.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분율이 30질량%인 UV 잉크를 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 잉크 경화시간은 1초, 바탕 더러움 개시 온도는 31℃로 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 12]
감열층 조성물 용액-1을 이하의 감열층 조성물 용액-2로 변경하고, 잉크 반발층 조성물 용액-1을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-10으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<감열층 조성물 용액-2>
(a) 적외선 흡수 염료: "PROJET" 825LDI(Avecia사제): 16.0질량부
(b) 유기착화합물: 티타늄-n-부톡시드비스(아세틸아세토네이트): "나셈"(등록상표) 티타늄(니폰 카가쿠산교(주)제, 농도: 73질량%, 용제로서 n-부탄올: 27질량%를 포함한다): 20.5질량부
(c) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주)제): 60질량부
(d) 폴리우레탄: "닛포란"(등록상표) 5196(닛폰 폴리우레탄주)제, 농도: 30질량%, 용제로서 메틸에틸케톤: 35질량%, 시클로헥사논: 35질량%를 포함한다): 30.1질량부
(e) 테트라히드로푸란: 807질량부
<잉크 반발층 조성물 용액-10>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 85.0질량부
(b) 탄화수소 용제: "Solvesso" 200(표면장력: 36mN/m, 비점: >150℃, 엑슨 모빌제): 5.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 12.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 30℃, 내쇄매수는 10000매로 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 13]
잉크 반발층 조성물 용액-10을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-11로 변경한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층(실리콘 고무층) 조성물 용액-11>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 85.0질량부
(b) 탄화수소 용제: "Solvesso" 100(표면장력: 29mN/m, 비점: >150℃, 엑슨 모빌제): 5.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 12.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 30℃, 내쇄매수는 10000매로 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 14]
잉크 반발층 조성물 용액-10을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-12로 변경한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-12>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 85.0질량부
(b) 실리콘 오일: KF-96-50cs(중량 평균 분자량: 3,780, 표면장력: 20.8mN/m, 비점: >150℃, 신에츠카가쿠고교(주)제): 5.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 12.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 32℃, 내쇄매수는 10000매로 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 15]
잉크 반발층 조성물 용액-10을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-13으로 변경한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-13>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 50.0질량부
(b) 실리콘 오일: KF-96-50cs(중량 평균 분자량: 3,780, 표면장력: 20.8mN/m, 비점: >150℃, 신에츠카가쿠고교(주)제): 40.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 4.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 37℃, 내쇄매수는 10000매로 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 16]
잉크 반발층 조성물 용액-10을 잉크 반발층 조성물 용액-1로 변경한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 10.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 34℃, 내쇄매수는 90000매로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 17]
잉크 반발층 조성물 용액-10을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-14로 변경한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-14>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 70.0질량부
(b) 실리콘 오일: KF-96-50cs(중량 평균 분자량: 3,780, 표면장력: 20.8mN/m, 비점: >150℃, 신에츠카가쿠고교(주)제): 20.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 9.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 35℃, 내쇄매수는 100000매로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 18]
감열층 조성물 용액-2를 이하의 감열층 조성물 용액-3으로 변경한 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<감열층 조성물 용액-3>
(a) 적외선 흡수 염료: "PROJET" 825LDI(Avecia사제): 16.0질량부
(b) 유기착화합물: 티타늄-n-부톡시드비스(아세틸아세토네이트): "나셈"(등록상표) 티타늄(니폰 카가쿠산교(주)제, 농도: 73질량%, 용제로서 n-부탄올: 27질량%를 포함한다): 16.4질량부
(c) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주)제): 60질량부
(d) 폴리우레탄: "닛포란"(등록상표) 5196(닛폰 폴리우레탄주)제, 농도: 30질량%, 용제로서 메틸에틸케톤: 35질량%, 시클로헥사논: 35질량%를 포함한다): 40질량부
(e) 테트라히드로푸란: 801질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 9.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 35℃, 내쇄매수는 100000매로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 19]
감열층 조성물 용액-2를 이하의 감열층 조성물 용액-4로 변경한 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<감열층 조성물 용액-4>
(a) 적외선 흡수 염료: "PROJET" 825LDI(Avecia사제): 16.0질량부
(b) 유기착화합물: 티타늄-n-부톡시드비스(아세틸아세토네이트): "나셈"(등록상표) 티타늄(니폰 카가쿠산교(주)제, 농도: 73질량%, 용제로서 n-부탄올: 27질량%를 포함한다): 14.9질량부
(c) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주)제): 60질량부
(d) 폴리우레탄: "닛포란"(등록상표) 5196(닛폰 폴리우레탄(주)제, 농도: 30질량%, 용제로서 메틸에틸케톤: 35질량%, 시클로헥사논: 35질량%를 포함한다): 43.7질량부
(e) 테트라히드로푸란: 799질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 10.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 35℃, 내쇄매수는 90000매로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 20]
잉크 반발층 조성물 용액-10을 잉크 반발층 조성물 용액-4로 변경한 것 이외에는 실시예 12와 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 7.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 36℃, 내쇄매수는 80000매로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 21]
감열층 조성물 용액-2를 이하의 감열층 조성물 용액-5로 변경한 것 이외에는 실시예 20과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<감열층 조성물 용액-5>
(a) 적외선 흡수 염료: "PROJET" 825LDI(Avecia사제): 8.0질량부
(b) 유기착화합물: 티타늄-n-부톡시드비스(아세틸아세토네이트): "나셈"(등록상표) 티타늄(니폰 카가쿠산교(주)제, 농도: 73질량%, 용제로서 n-부탄올: 27질량%를 포함한다): 41.1질량부
(c) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주)제): 60질량부
(d) 폴리우레탄: "닛포란"(등록상표) 5196(닛폰 폴리우레탄(주)제, 농도: 30질량%, 용제로서 메틸에틸케톤: 35질량%, 시클로헥사논: 35질량%를 포함한다): 6.7질량부
(e) 테트라히드로푸란: 818질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 5.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 36℃, 내쇄매수는 40000매로 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 22]
감열층 조성물 용액-2를 이하의 감열층 조성물 용액-6으로 변경한 것 이외에는 실시예 16과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<감열층 조성물 용액-6>
(a) 적외선 흡수 염료: "PROJET" 825LDI(Avecia사제): 16.0질량부
(b) 유기착화합물: 티타늄-n-부톡시드비스(아세틸아세토네이트): "나셈"(등록상표) 티타늄(니폰 카가쿠산교(주)제, 농도: 73질량%, 용제로서 n-부탄올: 27질량%를 포함한다): 13.7질량부
(c) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주)제): 60질량부
(d) 폴리우레탄: "닛포란"(등록상표) 5196(닛폰 폴리우레탄(주)제, 농도: 30질량%, 용제로서 메틸에틸케톤: 35질량%, 시클로헥사논: 35질량%를 포함한다): 46.7질량부
(e) 테트라히드로푸란: 797질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 11.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 34℃, 내쇄매수는 60000매로 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 23]
감열층 조성물 용액-2를 이하의 감열층 조성물 용액-7로 변경한 것 이외에는 실시예 20과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<감열층 조성물 용액-7>
(a) 적외선 흡수 염료: "PROJET" 825LDI(Avecia사제): 16.0질량부
(b) 유기착화합물: 티타늄-n-부톡시드비스(아세틸아세토네이트): "나셈"(등록상표) 티타늄(니폰 카가쿠산교(주)제, 농도: 73질량%, 용제로서 n-부탄올: 27질량%를 포함한다): 54.8질량부
(c) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주)제): 40질량부
(d) 폴리우레탄: "닛포란"(등록상표) 5196(닛폰 폴리우레탄(주)제, 농도: 30질량%, 용제로서 메틸에틸케톤: 35질량%, 시클로헥사논: 35질량%를 포함한다): 13.3질량부
(e) 테트라히드로푸란: 809질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 4.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 36℃, 내쇄매수는 10000매로 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 24]
감열층 조성물 용액-2를 이하의 감열층 조성물 용액-8로 변경한 것 이외에는 실시예 16과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<감열층 조성물 용액-8>
(a) 적외선 흡수 염료: "PROJET" 825LDI(Avecia사제): 16.0질량부
(b) 유기착화합물: 티타늄-n-부톡시드비스(아세틸아세토네이트): "나셈"(등록상표) 티타늄(니폰 카가쿠산교(주)제, 농도: 73질량%, 용제로서 n-부탄올: 27질량%를 포함한다): 12.6질량부
(c) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주)제): 60질량부
(d) 폴리우레탄: "닛포란"(등록상표) 5196(닛폰 폴리우레탄(주)제, 농도: 30질량%, 용제로서 메틸에틸케톤: 35질량%, 시클로헥사논: 35질량%를 포함한다): 49.3질량부
(e) 테트라히드로푸란: 795질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 12.0㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 34℃, 내쇄매수는 10000매로 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 25]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 잉크 반발층 조성물 용액-14로 변경한 것 이외에는 실시예 24와 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 11.5㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 35℃, 내쇄매수는 30000매로 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 26]
실시예 17에서 얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 도데실아크릴레이트를 전량의 10질량%가 되도록 첨가한 UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 38℃, 내쇄매수는 100000매로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[실시예 27]
실시예 17에서 얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분을 포함하지 않는 잉크로서 유성 잉크 "알포 GT SOYA"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 사용하고, 자외선 조사가 아니라 송풍 건조한 것 이외에는 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 38℃, 내쇄매수는 100000매로 매우 양호한 결과를 나타냈다.
[비교예 1]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-15로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-15>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 90.0질량부
(b) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(c) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(d) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(e) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분을 포함하지 않는 잉크로서 유성 잉크 "알포 GT SOYA"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 사용하고, 자외선 조사가 아니라 송풍 건조한 것 이외에는 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 잉크 경화시간은 1시간 이상, 바탕 더러움 개시 온도는 32℃로 되고, 충분한 잉크 경화 속도는 얻어지지 않았다.
[비교예 2]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 잉크 반발층 조성물 용액-12로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분을 포함하지 않는 잉크로서 유성 잉크 "알포 GT SOYA"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 사용하고, 자외선 조사가 아니라 송풍 건조한 것 이외에는 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 잉크 경화시간은 1시간 이상, 바탕 더러움 개시 온도는 34℃로 되고, 충분한 잉크 경화 속도는 얻어지지 않았다.
[비교예 3]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 잉크 반발층 조성물 용액-15로 변경한 것 이외에는 실시예 24와 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 12.5㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 28℃, 내쇄매수는 5000매로 잉크 반발성은 지속하지 않았다.
[비교예 4]
잉크 반발층 조성물 용액-1을 이하의 잉크 반발층 조성물 용액-16으로 변경한 것 이외에는 실시예 24와 마찬가지로 해서 무습수 평판 인쇄판 원판을 얻었다.
<잉크 반발층 조성물 용액-16>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: TF22(중량 평균 분자량 100,000, 도레이·다우코닝(주)제): 85.0질량부
(b) 옥탄(표면장력: 21.1mN/m, 비점: 125℃, 와코쥰야쿠고교(주)제): 5.0질량부
(c) 메틸하이드로젠실록산 HMS305(GELEST Inc.제): 2.95질량부
(d) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 0.88질량부
(e) 백금 촉매 SRX212(도레이·다우코닝(주)제): 6.17질량부
(f) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주)제): 900질량부
얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 판면 탄성율을 측정한 결과 12.5㎫이었다. UV 잉크 "UV171CT TW"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 이용하여 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 28℃, 내쇄매수는 5000매로 잉크 반발성은 지속하지 않았다.
[비교예 5]
비교예 4에서 얻어진 무습수 평판 인쇄판에 대해서 감광성 성분을 포함하지 않는 잉크로서 유성 잉크 "알포 GT SOYA"-M(가부시키가이샤 T&K TOKA제)을 사용하고, 자외선 조사가 아니라 송풍 건조한 것 이외에는 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 바탕 더러움 개시 온도는 30℃, 내쇄매수는 5000매로 잉크 반발성은 지속하지 않았다.
잉크, 잉크 반발층, 및 감열층의 조성, 및 인쇄 성능에 대해서 표 1 및 표 2에 나타낸다.
Figure pct00001
Figure pct00002
Figure pct00003

Claims (17)

  1. 적어도 감열층과 잉크 반발층을 갖는 평판 인쇄판 원판으로서, 상기 잉크 반발층 중에 잉크 반발성의 액체를 함유하고, 상기 액체의 1기압에 있어서의 비점이 150℃ 이상인 평판 인쇄판 원판.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 액체의 25℃에 있어서의 표면장력이 15mN/m 이상 30mN/m 이하인 평판 인쇄판 원판.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 액체가 상기 잉크 반발층 중에 10질량% 이상 30질량% 이하 포함되는 평판 인쇄판 원판.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    감열층이 노볼락 수지를 함유하는 평판 인쇄판 원판.
  5. 제 4 항에 있어서,
    감열층이 노볼락 수지를 20질량% 이상 95질량% 이하 함유하는 평판 인쇄판 원판.
  6. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
    감열층이 유기착화합물을 함유하는 평판 인쇄판 원판.
  7. 제 6 항에 있어서,
    감열층 중의 노볼락 수지/유기착화합물의 질량비가 2 이상 6 이하인 평판 인쇄판 원판.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    표면에 1400N/㎡의 하중을 가했을 때의 판면 탄성율이 4㎫ 이상 12㎫ 이하인 평판 인쇄판 원판.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 평판 인쇄판 원판에 대하여, 상에 따라서 노광하는 공정,
    노광된 원판을 현상하여 잉크 반발층을 제거하는 공정으로부터 얻어지는 평판 인쇄판.
  10. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 평판 인쇄판 원판에 대하여, 상에 따라서 노광하는 공정, 및
    노광된 원판을 현상하여 잉크 반발층을 제거하는 공정을 갖는 평판 인쇄판의 제조 방법.
  11. 제 9 항에 기재된 평판 인쇄판의 표면에 잉크를 부착시키는 공정과, 상기 잉크를 직접 또는 블랭킷을 통해서 피인쇄체에 전사하는 공정을 포함하는 인쇄물의 제조 방법.
  12. 제 10 항에 있어서,
    피인쇄체에 전사된 잉크에 활성 에너지선을 조사하는 공정을 더 포함하는 인쇄물의 제조 방법.
  13. 평판 인쇄판을 이용하여 피인쇄체에 잉크를 전사한 후, 상기 피인쇄체에 자외선을 조사하는 공정을 포함하는 인쇄물의 제조 방법으로서, 상기 평판 인쇄판이 감열층 및 잉크 반발층을 갖는 평판 인쇄판 원판에 대하여, 상에 따라서 노광하는 공정, 또한 노광된 원판을 현상하여 잉크 반발층을 제거하는 공정에 의해서 얻어진 것이며, 상기 인쇄판 원판이 기판 상에 적어도 잉크 반발층을 갖고, 상기 잉크 반발층 중에 포함되는 잉크 반발성의 액체의 표면장력이 30mN/m 이하이며 상기 잉크가 감광성 성분을 10질량% 이상 50질량% 이하 포함하는 것인 인쇄물의 제조 방법.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 액체가 1기압에 있어서의 비점이 150℃ 이상인 인쇄물의 제조 방법.
  15. 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,
    상기 액체가 실리콘 화합물인 인쇄물의 제조 방법.
  16. 제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 액체가 상기 잉크 반발층 중에 10질량% 이상 25질량% 이하 포함되는 인쇄물의 제조 방법.
  17. 제 11 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 잉크가 직쇄 알킬기를 갖는 아크릴산 에스테르 또는 메타크릴산 에스테르를 0.5질량% 이상 15질량% 이하 포함하는 인쇄물의 제조 방법.
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