KR20210024988A - 평판 인쇄판 원판, 평판 인쇄판의 제조 방법, 및 그것을 사용한 인쇄물의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

기판 상에 적어도 감열층과, 잉크 반발층을 갖는 평판 인쇄판 원판으로서, 상기 평판 인쇄판 원판을 질소기류 하에서 450℃, 5분간 가열했을 때의 GC-MS 측정에서의 기체 발생량이 6.5×105g/㎥∼12.5×105g/㎥인 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판 원판, 평판 인쇄판의 제조 방법, 및 그것을 사용한 인쇄물의 제조 방법을 제공한다.

Description

평판 인쇄판 원판, 평판 인쇄판의 제조 방법, 및 그것을 사용한 인쇄물의 제조 방법
본 발명은 평판 인쇄에 사용되는 평판 인쇄판 원판, 평판 인쇄판의 제조 방법, 및 그것을 사용한 인쇄물의 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 인쇄판의 고정세화에 추가해, 현상시에 현상액으로서 약액을 사용하지 않는 케미컬프리 현상의 요구가 높아지고 있다. 그 때문에, 평판 인쇄에 사용되는 평판 인쇄판에 있어서도, 약액 현상과 케미컬프리 현상의 양쪽으로 현상 가능하고 또한 고정세화에의 대응이 필요하다. 현재, 무습수 평판 인쇄판에서 주류로 되어 있는 노광 방법은, 레이저광 조사로 광열 변환을 행해서 열반응을 일으킴으로써 감열층을 파괴해서 화상을 형성하는 것이다. 이 종류의 평판 인쇄판을, 약액 현상 뿐만 아니라, 현상 능력이 낮은 케미컬프리 현상에서도 고정세한 화상이을 얻을 수 있도록 하기 위해서는, 레이저광에 대한 감열층의 감도 향상이 중요하다.
이 과제에 대하여, 특허문헌 1에서는, 직묘형 무습수 인쇄판 원판의 감열층에 기포를 함유시킴으로써, 감열층의 열전도율을 작게 하여 레이저 조사에 의해 발생한 열의 확산을 억제하고, 레이저 조사 부분의 감열층 표면 부근에서 일어나는 화학 반응을 촉진시키고 있다. 이것에 의해, 레이저 조사 부분의 감열층과 실리콘층의 접착성이 현저하게 저하하고, 감도를 향상시킴으로써 고정세 화상 재현성의 달성을 시도하고 있다(특허문헌 1 참조).
또한, 특허문헌 2에서는, 직묘형 무습수 인쇄판 원판의 감열층에 열분해성 화합물로서 금속 함유 유기물을 함유시킴으로써, 레이저 조사부에서 분해물 가스를 발생시키고 있다. 이것에 의해, 화선부의 실리콘 고무층과 감열층간의 접착을 약화시켜 제거하기 쉽게 함으로써, 감도를 향상시키고, 고정세 화상 재현성의 달성을 시도하고 있다(특허문헌 2 참조).
일본 특허공개 2005-300586호 공보 일본 특허공개 2001-324799호 공보
그렇지만, 특허문헌 1에 기재되어 있는 바와 같은, 감열층에 기포를 함유시키는 방법에 있어서는, 감열층의 감도는 충분하지는 않고, 케미컬프리 현상했을 경우에는 실용적인 고정세 화상 재현성에는 이르지 않았다. 또한, 감열층의 가교 반응이 기포에 의해 저해되기 때문에, 약액 현상했을 때의 내용제성이 낮아질 우려가 있었다.
또한, 특허문헌 2에 기재되어 있는 바와 같은, 감열층에 열분해성 화합물로서 금속 함유 유기물을 함유시키는 방법에 있어서도 감열층의 감도는 충분하지는 않고, 감도를 높이기 위해서 감열층의 막두께를 대폭 높여서 기체 발생량을 증가시켰을 경우에는, 감열층 박리가 생기는 문제가 있었다.
이러한 것으로부터, 케미컬프리 현상했을 경우에도 고정세한 화상을 얻을 수 있을 만큼 감도가 높은 인쇄판 원판이 요구되고 있다. 그래서 본 발명은, 고정세 화상 재현성을 갖는 평판 인쇄판 원판을 제공한다.
본 발명은, 기판 상에 적어도 감열층과, 잉크 반발층을 갖는 평판 인쇄판 원판으로서, 상기 평판 인쇄판 원판을 질소기류 하에서 450℃, 5분간 가열했을 때의 GC-MS 측정에 있어서의 감열층 1㎥당의 기체 발생량이 6.5×105g/㎥∼12.5×105g/㎥인 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판 원판이다.
본 발명에서는, 케미컬프리 현상시에도 고정밀 화상 재현성을 갖는 평판 인쇄판 원판을 얻을 수 있다.
본 발명의 평판 인쇄판 원판에 대해서 이하에 설명한다.
본 발명이 있어서의 평판 인쇄판 원판은, 적어도 기판, 감열층, 잉크 반발층으로 이루어지고, 450℃, 유량: N2 100mL/분으로 설정된 가열로에 평판 인쇄판 원판을 투입하고, 발생하는 기체 성분을 흡착관에 5분간 포집했을 경우, 이 포집한 흡착관으로부터 이탈하는 기체 발생량이 감열층 1㎥당 6.5×105g/㎥∼12.5×105g/㎥이 되는 것이다. 여기에서, 본 발명에 있어서 규정하는 기체 발생량은, 평판 인쇄판 원판 중의 감열층 1㎥당의 발생량(g/㎥)이다. 감열층이란 레이저광을 흡수해 발열하는 층을 가리키고, 단면 SEM 관찰에 의해 그 막두께를 측정할 수 있다. 또, 450℃, 유량: N2 100mL/분으로 설정된 가열로는, 평판 인쇄판 원판에 레이저를 조사했을 때와 같은 고온으로 급격하게 가열한 상태를 모방한 것이다. 발생하는 기체 성분은 주로 감열층에 포함되는 물질에 유래하는 성분 및 잉크 반발층에 포함되는 물질에 유래하는 성분이지만, 본 발명에 있어서 규정하는 기체 성분은 감열층에 포함되는 물질에 유래하는 성분을 가리킨다. 구체적으로는, 감열층은 적어도 폴리머를 포함하고, 임의로 가교제, 근적외 흡수 화합물, 열분해 용이성 화합물, 및 후술하는 실리콘계 계면활성제 및 불소계 계면활성제를 제외하는 첨가제를 포함할 수 있다. 감열층에 포함되는 물질에 유래하는 기체 성분으로서, 폴리머의 분해물, 임의로 가교제의 분해물, 근적외 흡수 화합물의 분해물, 열분해 용이성 화합물의 분해물, 및 후술하는 실리콘계 계면활성제 및 불소계 계면활성제를 제외하는 첨가제의 분해물을 들 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서의 기체 발생량이란, 이들 성분의 합계이며, 평판 인쇄판 원판을 시료로 하여 감열층에 포함되는 물질에 유래하는 성분을 특정하고, 그 합계를 정량화하는 것으로 한다. 기체 발생량의 상세한 측정 방법은 실시예의 란에서 설명한다.
감열층 1㎥당의 기체 발생량이 6.5×105g/㎥ 미만의 경우에는 평판 인쇄판 원판 내부의 구조 파괴가 충분히 일어나고 있지 않다고 생각되기 때문에, 화상 재현성이 불충분하다. 고정세 화상 재현성을 갖는 평판 인쇄판 원판을 제공한다고 하는 관점에서, 기체 발생량은 7.0×105g/㎥ 이상이 바람직하고, 8.0×105g/㎥ 이상이 보다 바람직하고, 9.0×105g/㎥ 이상이 더욱 바람직하고, 10.0×105g/㎥ 이상이 더욱 보다 바람직하다. 또한, 기체 발생량이 12.5×105g/㎥를 초과할 경우에는 감열층의 과잉한 구조 파괴를 초래하고, 충분한 내용제성, 내감열층 박리가 얻어지지 않기 때문에 바람직하지 못하다. 충분한 내용제성 및 내감열층 박리를 갖는 평판 인쇄판 원판을 얻는 관점에서, 12.2×105g/㎥ 이하가 바람직하고, 12.0×105g/㎥ 이하가 보다 바람직하다.
본 발명의 평판 인쇄판 원판은 기판을 갖는다. 또한, 기판 위 또는 상방에 적어도 감열층 및 잉크 반발층을 갖는다. 기판의 가까이에 감열층 및 잉크 반발층의 어느 것이 있어도 좋지만, 기판, 감열층 및 잉크 반발층의 순서로 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 사용할 수 있는 기판으로서는, 종래 인쇄판의 기판으로서 사용되고, 인쇄 공정에 있어서 치수적인 변화가 적은 통상의 종이, 금속, 유리, 필름 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 종이, 플라스틱(폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌 등)이 라미네이트된 종이, 알루미늄(알루미늄 합금도 포함한다), 아연, 구리 등의 금속판, 소다라임, 석영 등의 유리판, 규소 웨이퍼, 셀룰로오스아세테이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리스티렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리비닐아세탈 등의 플라스틱의 필름, 상기 금속이 라미네이트 또는 증착된 종이 또는 플라스틱 필름 등을 들 수 있다. 플라스틱 필름은 투명이라도 불투명이라도 좋다. 검판판성의 관점에서는, 불투명의 필름이 바람직하다.
이들 기판 중, 알루미늄판은 인쇄 공정에 있어서 치수적인 변화가 적고, 또한 저렴하므로 특히 바람직하다. 또한, 경인쇄용의 유연한 기판으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 특히 바람직하다.
기판의 두께는 특별히 한정되지 않고, 평판 인쇄에 사용되는 인쇄기에 대응한 두께를 선택하면 좋다.
본 발명의 평판 인쇄판 원판은 감열층의 잉크 반발층과는 반대측에 유기층을 가질 수 있다. 즉, 기판, 감열층 및 잉크 반발층의 순서대로 적층하고 있을 경우, 기판과 감열층의 사이에 유기층을 형성할 수 있다. 본 발명의 평판 인쇄판 원판에 사용되는 유기층의 특성은, 평판 인쇄판 원판에 유연성을 부여하고, 기판 또는 감열층과 양호한 접착성을 갖는 것이다. 예를 들면, 일본국 특허공개 2004-199016호 공보, 일본국 특허공개 2004-334025호 공보 등에 개시되어 있는 금속 킬레이트 화합물을 함유하는 유기층이 바람직하게 사용되지만, 이것에 한정되지 않는다.
본 발명에 있어서 유기층은, 유연성을 부여해 내상성을 제어할 목적으로, 폴리우레탄 수지나 천연 고무, 합성 고무 등의 유연성 부여제를 함유해도 좋다. 이들 유연성 부여제 중에서, 도공 성능, 도포액 안정성의 점으로부터 폴리우레탄 수지가 특히 바람직하게 사용된다.
유기층은 기판 또는 감열층과의 접착성을 부여할 목적으로, 활성 수소기 함유 화합물을 함유해도 좋다. 활성 수소기 함유 화합물로서는, 수산기 함유 화합물, 아미노기 함유 화합물, 카르복실기 함유 화합물, 티올기 함유 화합물 등을 들 수 있지만, 수산기 함유 화합물이 바람직하고, 기판과의 접착성의 점으로부터 에폭시 수지가 특히 바람직하게 사용된다.
본 발명에 있어서 유기층은 안료를 포함하는 것이 바람직하다. 안료를 포함함으로써 유기층의 광투과율을 400∼650㎚의 모든 파장에 대하여 15% 이하로 하는 것이 가능해지고, 이것에 의해, 기계 판독에 의한 검판성을 부여할 수 있다. 안료로서는, 산화티타늄, 아연화, 리토폰 등의 무기 백색 안료나, 황연, 카드뮴 옐로, 황색 산화철, 오커, 티타늄 옐로 등의 무기 황색 안료를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 안료 중에서, 은폐력, 착색력의 점으로부터 산화티타늄이 특히 바람직하다.
다음에, 본 발명에 바람직하게 사용할 수 있는 감열층에 대해서 설명한다.
감열층으로서는, 그려 넣음에 사용되는 레이저광을 조사하면, 감열층의 적어도 표면이 분해되고, 잉크 반발층과의 접착력이 저하하거나, 또는 현상액으로의 용해성이 높아지는 것이 바람직하다. 특히, 레이저광을 흡수해 열로 변환(광열 변환)하는 기능을 갖는 근적외 흡수 화합물과, 열에 의해 용이하게 분해되는 열분해 용이성 화합물의 양쪽을 함유할 경우에는, 근적외 흡수 화합물에 의해 발생한 열에 의해 그것 자체의 분해, 또한 열에너지를 받은 열분해 용이성 화합물의 분해가 진행되고, 발생한 기체에 의해 다른 물질의 분해도 촉진된다고 생각되기 때문에 보다 바람직하다.
이러한 감열층은, (1) 활성수소를 갖는 폴리머를 포함하는 층이면 좋고, 바람직하게는 (1) 활성수소를 갖는 폴리머 및 (2) 근적외 흡수 화합물을 포함하는 층, 더욱 바람직하게는 (1) 활성수소를 갖는 폴리머, (2) 근적외 흡수 화합물, 및 (3) 가교제를 포함하는 층, 및 (1) 활성수소를 갖는 폴리머, (2) 근적외 흡수 화합물, 및 (4) 열분해 용이성 화합물을 포함하는 층, 더욱 보다 바람직하게는 (1) 활성수소를 갖는 폴리머, (2) 근적외 흡수 화합물, (3) 가교제, 및 (4) 열분해 용이성 화합물을 포함하는 층을 들 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서 상기와 같은 감열층을 제작하기 위해서 사용되는 조성물을 「감열층 조성물」이라고 한다.
본 발명에 있어서, 감열층이란 감열층 조성물을 함유하는 용액 또는 분산액을 도포, 건조(휘발 성분을 제거)한 후에 잔존하는 층을 나타낸다. 건조는 상온에서 행해도 좋고, 가열하여 행해도 좋다.
본 발명에 있어서, 감열층에 바람직하게 사용되는 (1) 활성수소를 갖는 폴리머로서는, 활성수소를 가지는 구조단위를 갖는 폴리머를 들 수 있다. 활성수소를 가지는 구조단위로서는 예를 들면, -OH, -SH, -NH2, -NH-, -CO-NH2, -CO-NH-, -OC(=O)-NH-, -NH-CO-NH-, -CO-OH, -CS-OH, -CO-SH, -CS-SH, -SO3H, -PO3H2, -SO2-NH2, -SO2-NH-, -CO-CH2-CO- 등을 들 수 있다.
상기 (1) 활성수소를 갖는 폴리머로서는 이하의 것이 예시된다.
(메타)아크릴산 등의 카르복실기를 함유하는 모노머의 단독중합체 또는 공중합체, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 수산기를 함유하는 (메타)아크릴산 에스테르의 단독중합체 또는 공중합체, N-알킬(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드의 단독중합체 또는 공중합체, 아민류와 (메타)아크릴산 글리시딜 또는 알릴글리시딜의 반응물의 단독중합체 또는 공중합체, p-히드록시스티렌, 비닐알콜의 단독중합체 또는 공중합체 등의 활성수소를 갖는 에틸렌성 불포화 모노머의 단독중합체 또는 공중합체(공중합 모노머 성분으로서는, 활성수소를 갖는 다른 에틸렌성 불포화 모노머이어도 좋고, 활성수소를 함유하지 않는 에틸렌성 불포화 모노머이여도 좋다.)를 들 수 있다.
또한, 활성수소를 가지는 구조단위를 갖는 폴리머로서 주쇄에 활성수소를 가지는 구조단위를 갖는 중합체도 들 수 있다. 이러한 폴리머로서는 예를 들면, 폴리우레탄류, 폴리우레아류, 폴리아미드류, 에폭시 수지류, 폴리알킬렌이민류, 멜라민 수지류, 노볼락 수지류, 레졸 수지류, 셀룰로오스 유도체류 등을 들 수 있다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
그 중에서도, 잉크 반발층과의 접착성이 양호해진다고 하는 점으로부터, 알콜성 수산기, 페놀성 수산기, 카르복실기를 갖는 폴리머가 바람직하고, 페놀성 수산기를 갖는 폴리머(p-히드록시스티렌의 단독중합체 또는 공중합체, 노볼락 수지, 레졸 수지 등)가 보다 바람직하고, 노볼락 수지가 더욱 바람직하다. 노볼락 수지로서는 페놀노볼락 수지나 크레졸노볼락 수지를 들 수 있다.
(1) 활성수소를 갖는 폴리머의 함유량은, 충분한 양의 기체를 발생시킬 수 있는 점에 추가해, 감열층의 내용제성과 내감열층 박리를 보다 높은 상태로 유지하는 점에서, 감열층 중 20질량% 이상이 바람직하고, 40질량% 이상이 보다 바람직하다. 또한, 감열층의 충분한 인성을 얻는 점에서 80질량% 이하가 바람직하고, 70질량% 이하가 보다 바람직하다.
활성수소를 갖는 폴리머와 함께, 활성수소를 갖지 않는 필름 형성능을 갖는 폴리머(이하 「다른 폴리머 X」라고 칭한다)를 함유해도 좋다.
다른 폴리머 X로서는, 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리부틸(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 에스테르의 단독중합체 또는 공중합체, 폴리스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 모노머의 단독중합체 또는 공중합체, 이소프렌, 스티렌-부타디엔 등의 각종 합성 고무류, 폴리아세트산 비닐 등의 비닐에스테르 등의 단독중합체 또는 아세트산 비닐-염화비닐 등의 공중합체, 폴리에스테르, 폴리카보네이트 등의 축합계 각종 폴리머 등을 들 수 있다.
이들 다른 폴리머 X의 합계의 함유량은, 감열층 조성물의 용액의 도포성을 향상시키기 위해서, 감열층 중 3.5질량% 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 7.5질량% 이상이다. 평판 인쇄판 원판 화상 재현을 고정세화시키기 위해서, 감열층의 전체 고형분 중 40질량% 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 20질량% 이하다.
본 발명에 있어서, 감열층에 바람직하게 사용되는 (2) 근적외 흡수 화합물로서는, 레이저광을 흡수함으로써 광 에너지를 원자·분자의 운동 에너지로 변환하고, 순간적으로 감열층 표면에서 200℃ 이상의 열을 발생시킴으로써 감열층의 적어도 표면을 열분해하는 기능을 갖는 것이 바람직하다. 예를 들면, 카본 블랙, 카본 그래파이트, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙 등의 흑색 안료, 프탈로시아닌, 나프탈로시아닌계의 녹색 안료, 결정수 함유 무기 화합물, 철, 구리, 크롬, 비스무트, 마그네슘, 알루미늄, 티타늄, 지르코늄, 코발트, 바나듐, 망간, 텅스텐 등의 금속분, 또는 이들 금속의 황화물, 수산화물, 규산염, 황산염, 인산염, 디아민 화합물 착체, 디티올 화합물 착체, 페놀티올 화합물 착체, 메르캅토페놀 화합물 착체 등을 들 수 있다.
또한, (2) 근적외 흡수 화합물로서 700∼1,200㎚의 파장역에 최대 흡수 파장(λmax)을 갖는 것이 바람직하다. 근적외 흡수 화합물의 최대 흡수 파장(λmax)이 700∼1,200㎚의 파장역에 있으면, 레이저광을 흡수하기 쉽고, 노광부를 발열하기 쉽게 한다고 생각된다. 본 명세서에 있어서, 최대 흡수 파장(이하, 「λmax」로 기재할 경우가 있다.)은, 대상으로 하는 화합물을 에탄올이나 디메틸포름아미드 등의 적당한 용매를 사용해서 용해시켜서 시료로 하고, 자외 가시 근적외 분광 광도계 V-770(니폰분코(주) 제품)을 사용해서 흡수 스펙트럼을 측정하고, 최대 흡광도가 얻어진 파장을 말한다.
이러한 (2) 근적외 흡수 화합물로서 염료가 예시된다. 염료는 효율적인 광열변환의 점에서 보다 바람직하다. 예를 들면, 일렉트로닉스용이나 기록용의 염료인, 시아닌계 염료, 아줄레니움계 염료, 스쿠아릴리움계 염료, 크로코늄계 염료, 아조계 염료, 비스아조스틸벤계 염료, 나프토퀴논계 염료, 안트라퀴논계 염료, 페릴렌계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 나프탈로시아닌 금속 착체계 염료, 폴리메틴계 염료, 디티올니켈 착체계 염료, 인도아닐린 금속 착체 염료, 분자간형 CT 염료, 벤조티오피란계 스피로피란, 니그로신 염료 등이 바람직하게 사용된다.
이들 염료 중에서도, 몰 흡광계수(ε)가 큰 것이 바람직하게 사용된다. 구체적으로는, ε는 1×104L/(㏖·㎝) 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1×105L/(㏖·㎝) 이상이다. ε가 1×104L/(㏖·㎝) 이상이면, 초기 감도를 보다 향상시킬 수 있다. 여기에서의 계수는 조사하는 활성 에너지선에 대해서이다. 구체적인 파장을 나타내는 것이라면 780㎚, 808㎚, 830㎚ 또는 1064㎚에 주목하는 것이 좋다.
감열층은 이들 염료를 2종 이상 함유해도 좋다. 700∼1,200㎚의 파장역에 다른 λmax를 갖는 2종 이상의 염료를 함유함으로써, 발신 파장이 다른 2종 이상의 레이저에 대응시킬 수 있다.
또한, 이들 (2) 근적외 흡수 화합물의 함유량은 감열층 중 1.0질량% 이상이 바람직하다. 근적외 흡수 화합물의 함유량을 1.0질량% 이상으로 함으로써, 평판 인쇄판 원판을 레이저 조사했을 때에 레이저광에 대한 감도를 보다 향상시킬 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 근적외 흡수 화합물이 그 주위에 존재하는 다른 성분의 분해에 영향을 준다고 생각되기 때문에, 감열층 유래의 기체 발생에도 기여할 수 있으므로 바람직하다. 근적외 흡수 화합물의 함유량은, 보다 바람직하게는 감열층 중 5.0질량% 이상이다. 한편, 근적외 흡수 화합물의 함유량을 감열층 중 40질량% 이하로 함으로써, 감열층의 내용제성과 내감열층 박리를 보다 높은 상태로 유지할 수 있기 때문에 바람직하다. 근적외 흡수 화합물의 함유량은, 보다 바람직하게는 감열층 중 30질량% 이하이다.
본 발명에 있어서, 감열층에 바람직하게 사용되는 (3) 가교제로서는, 후술하는 (4) 열분해 용이성 화합물을 제외하고, 금속과 유기 화합물로 이루어지는 유기 착화합물이 바람직하다. 이것은, (1) 활성수소를 갖는 폴리머에의 가교제로서의 기능에 추가해, 가교 반응시에 열분해성 화합물로서 행동하여 기체 발생에 기여하기 때문이다. 이러한 유기 착화합물로서는, 금속에 유기 배위자가 배위한 유기 착염, 금속에 유기 배위자 및 무기 배위자가 배위한 유기 무기 착염, 금속과 유기 분자가 산소를 개재해서 공유결합하고 있는 금속 알콕시드류 등을 들 수 있다. 이들 유기 착화합물 중에서도, 배위자가 2개 이상의 도너 원자를 갖고, 금속 원자를 포함하는 환을 형성하는 금속 킬레이트가, 유기 착화합물 자신의 안정성이나 감열층 조성물의 용액의 안정성 등의 면으로부터 바람직하게 사용된다.
유기 착화합물을 형성하는 주된 금속으로서는, Al(III), Ti(IV), Mn(II), Mn(III), Fe(II), Fe(III), Zn(II), Zr(IV)이 바람직하다. Al(III)은 감도 향상 효과가 얻어지기 쉬운 점으로부터 특히 바람직하고, Ti(IV)는 인쇄 잉크나 잉크 세정제에 대한 내성이 발현되기 쉬운 점으로부터 특히 바람직하다.
또한, 배위자로서는 산소, 질소, 황 등을 도너 원자로서 갖는 배위기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 배위기의 구체예로서는, 산소를 도너 원자로 하는 것으로서는, -OH(알콜, 에놀 및 페놀), -COOH(카르복실산), >C=O(알데히드, 케톤, 퀴논), -O-(에테르), -COOR(에스테르, R: 지방족 또는 방향족 탄화수소를 나타낸다), -N=O(니트로소 화합물) 등, 질소를 도너 원자로 하는 것으로서는, -NH2(1급 아민, 히드라진), >NH(2급 아민), >N-(3급 아민), -N=N-(아조 화합물, 복소환 화합물), =N-OH(옥심) 등, 황을 도너 원자로 하는 것으로서는, -SH(티올), -S-(티오에테르), >C=S(티오케톤, 티오아미드, =S-(복소환 화합물) 등을 들 수 있다.
상기와 같은 금속과 배위자로 형성되는 유기 착화합물 중, 바람직하게 사용되는 화합물로서는, Al(III), Ti(IV), Fe(II), Fe(III), Zn(II), Zr(IV) 등의 금속의 β-디케톤류, 아민류, 알콜류, 카르복실산류와의 착화합물을 들 수 있고, 또한 Al(III), Fe(II), Fe(III), Ti(IV), Zr(IV)의 아세틸아세톤 착체, 아세토아세트산 에스테르 착체 등이 특히 바람직한 착화합물로서 들 수 있다.
이러한 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 이하와 같은 화합물을 들 수 있다.
알루미늄트리스(아세틸아세토네이트), 알루미늄트리스(에틸아세토아세테이트), 알루미늄트리스(프로필아세토아세테이트), 알루미늄비스(에틸아세토아세테이트) 모노(아세틸아세토네이트), 알루미늄비스(아세틸아세토네이트) 모노(에틸아세토아세테이트), 알루미늄비스(프로필아세토아세테이트) 모노(아세틸아세토네이트), 알루미늄비스(부틸아세토아세테이트) 모노(아세틸아세토네이트), 알루미늄비스(프로필아세토아세테이트) 모노(에틸아세토아세테이트), 알루미늄디부톡시드 모노(아세틸아세토네이트), 알루미늄디이소프로폭시드 모노(아세틸아세토네이트), 알루미늄디이소프로폭시드 모노(에틸아세토아세테이트), 알루미늄-s-부톡시드비스(에틸아세토아세테이트), 알루미늄디-s-부톡시드 모노(에틸아세토아세테이트), 티타늄트리이소프로폭시드 모노(알릴아세토아세테이트), 티타늄디이소프로폭시드비스(트리에탄올아민), 티타늄디-n-부톡시드비스(트리에탄올아민), 티타늄디이소프로폭시드비스(아세틸아세토네이트), 티타늄디-n-부톡시드비스(아세틸아세토네이트), 티타늄디이소프로폭시드비스(에틸아세토아세테이트), 티타늄디-n-부톡시드비스(에틸아세토아세테이트), 티타늄트리-n-부톡시드 모노(에틸아세토아세테이트), 티타늄트리이소프로폭시드 모노(메타크릴옥시에틸아세토아세테이트), 티타늄디히드록시비스(락테이트), 지르코늄디-n-부톡시드비스(아세틸아세토네이트), 지르코늄트리-n-프로폭시드 모노(메타크릴옥시에틸아세토아세테이트), 지르코늄테트라키스(아세틸아세토네이트), 철(III)아세틸아세토네이트, 철(III)벤조일아세토네이트. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
이러한 유기 착화합물의 함유량은 폴리머의 가교제로서 작용하기 때문에, 감열층의 내용제성과 내감열층 박리를 보나 높이는 점에서 감열층 중 1질량% 이상이 바람직하다. 또한, 평판 인쇄판 원판의 고정세 화상 재현성을 유지하는 동시에 충분한 양의 감열층으로부터의 기체를 발생시킬 수 있는 점에서 감열층 중 40질량% 이하가 바람직하다.
또한, 감열층의 조성물에 포함되는 폴리머로서 노볼락 수지를 사용할 경우, 노볼락 수지의 가교 구조가 지나치게 빽빽하게 되지 않고, 평판 인쇄판 원판의 화상재현성이 높아지는 점에서, 노볼락 수지/유기 착화합물의 질량비는 2.0 이상이 바람직하고, 2.5 이상이 보다 바람직하고, 3.0 이상이 더욱 바람직하다. 또한, 내용제성과 내감열층 박리를 보다 높게 할 수 있는 점에서, 노볼락 수지/유기 착화합물의 질량비는 6.0 이하가 바람직하고, 5.5 이하가 보다 바람직하고, 5.0 이하가 더욱 바람직하다.
본 발명에 있어서, 감열층에 바람직하게 사용되는 (4) 열분해 용이성 화합물로서는, 450℃ 이하에서 열분해가 개시되는 화합물이며, 시차열 열중량 동시 측정 장치를 사용해서 측정한 화합물의 TG/DTA 커브에 있어서, 450℃ 이하에서 중량 감소가 관측되는 화합물이다. 그러한 화합물은, 유기계에는 아조디카르복실아미드, 디아조아미노벤젠 등의 아조 화합물, 히드라조디카르복실아미드, 4,4'-옥시비스(벤젠술포닐히드라지드), p-톨루엔술포닐히드라지드 등의 히드라진 유도체, N,N'-디니트로소펜타메틸렌테트라민 등의 니트로소 화합물, 톨루엔술포닐세미카르바지드 등의 세미카르바지드 화합물, 시아닌계, 프탈로시아닌계, 트리페닐메탄계, 티아진계, 아조계, 플루오레세인류 등의 염료, 아스코르브산, 리보플라빈 등의 수용성 비타민, 레티놀, β-카로틴 등의 지용성 비타민, 무기계에는 탄산수소나트륨 등의 탄산수소염을 들 수 있다.
또한, (4) 열분해 용이성 화합물로서는, 융해를 거치지 않고 열분해되는 성질을 갖는 화합물이 보다 바람직하다. 이 성질의 유무는, 평판 인쇄판 원판의 감열층으로부터 양용매를 사용해서 화합물을 추출하고, 얻어진 화합물에 대하여 시차열 열중량 동시 측정 장치를 사용해서 TG/DTA 측정을 행함으로써 판단할 수 있다. 상세한 측정 방법은 실시예의 란에서 설명한다.
본 발명에서는, 융해를 거치지 않고 열분해되는 성질을 갖는 열분해 용이성 화합물을 감열층 중에 함유시킴으로써, 기체 발생량을 효율적으로 증가시킬 수 있고, 감열층의 고감도화에 기여할 수 있다. 이것은 근적외 흡수 화합물에서 발생한 열을 (4) 열분해 용이성 화합물이 흡수하여, 융해라고 하는 상태 변화에 사용하지 않고, 열분해에 효율적으로 이용할 수 있기 때문이라고 생각된다.
상기 성질을 갖는 (4) 열분해 용이성 화합물 중에서도, 700∼1,200㎚의 파장역에 최대 흡수 파장(λmax)을 갖지 않는 화합물이 더욱 바람직하다. 700∼1,200㎚의 파장역에 λmax의 흡수를 가지지 않는 화합물의 경우, 레이저광을 흡수하기 어렵기 때문에 노광부가 과잉하게 열을 발생할 일이 없다고 생각된다. 그 때문에, 노광부에 인접하는 미노광부에의 열의 전파가 발생하기 어려워지기 때문에, 노광부에 인접하는 미노광부에서의 감열층 파괴가 일어나기 어려워, 인쇄판 원판의 내용제성의 저하를 억제할 수 있다고 생각된다.
이들 (4) 열분해 용이성 화합물의 함유량은, 감열층 중 0.1질량%∼40질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.0질량%∼30질량%, 더욱 바람직하게는 3.0질량%∼20질량%이다. (4) 열분해 용이성 화합물의 함유량을 0.1질량% 이상으로 함으로써, 감열층의 기체 발생량 증가에 기여하고, 레이저광에 대한 감도를 보다 향상시킬 수 있다. 한편, 40질량% 이하로 함으로써, 감열층의 내용제성과 내감열층 박리를 보다 높은 상태로 유지할 수 있다.
또한, 이들 (4) 열분해 용이성 화합물의 열분해 온도는 100℃∼450℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 130℃∼400℃, 더욱 바람직하게는 140℃∼350℃, 더욱 보다 바람직하게는 150℃∼350℃, 가장 바람직하게는 150℃∼300℃이다. 열분해 온도가 100℃ 이상인 (4) 열분해 용이성 화합물을 사용하면, 평판 인쇄판 원판 제작 후라도 (4) 열분해 용이성 화합물이 일정량 분해되지 않고 존재하기 때문에, 감열층의 내용제성을 보다 높은 상태로 유지할 수 있다. 한편, 450℃ 이하의 (4) 열분해 용이성 화합물을 사용하면, 감열층의 감도를 보다 향상할 수 있다. (4) 열분해 용이성 화합물의 열분해 온도는 시차열 열중량 동시 측정 장치를 사용해서 TG/DTA 측정을 행함으로써 판단할 수 있다. 상세한 측정 방법은 실시예의 란에서 설명한다.
(4) 열분해 용이성 화합물의 구체예로서는, 융해를 거쳐서 열분해하는 화합물로서, 페놀프탈레인, 메틸 바이올렛, 에틸 바이올렛, 크리스탈 바이올렛 락톤, 티몰프탈레인 등의 트리페닐메탄계 염료, 페노티아진, 벤조일로이코메틸렌 블루 등의 티아진계 염료, p-페닐아조페놀, 메틸 레드, 메틸 오렌지, 오일 오렌지 SS, 오일 레드 등의 아조계 염료, 카르복시플루오레세인, 우라닌 등의 플루오레세인류, 4부티르산 리보플라빈 등의 비타민류를 들 수 있다. 또한, 융해를 거치지 않고 열분해하는 화합물로서, 카테킨 수화물 등의 플라보노이드, 염기성 푹신, 라이트 그린 SF 옐로, 베이식 레드 9, 크레졸 레드, 말라카이트 그린 옥살산염, 브릴리언트 그린, 빅토리아 블루 B, 크리스탈 바이올렛, 브로모크레졸 퍼플, 브로모크레졸 그린 나트륨, 티몰 블루, 브로모크레졸 그린, 브로모티몰 블루 나트륨, 테트라브로모페놀 블루, 브로모티몰 블루 등의 트리페닐메탄계 염료, 메틸렌블루 등의 티아진계 염료, 콩고 레드, 오일 레드 5B, 메틸 옐로 등의 아조계 염료, 로다민 B, 로다민 6G, 플루오레세인, 플루오레세인이소티오시아네이트, 플루오레세인-5-말레이미드, 디요오드플루오레세인, 디클로로플루오레세인 등의 크산텐계 염료, 리보플라빈, 아스코르브산 등의 비타민류를 들 수 있다. 이것들 중에서도, 티몰 블루, 브로모크레졸 그린, 브로모티몰 블루 나트륨, 테트라브로모페놀 블루, 브로모티몰 블루, 염기성 푹신, (L+)-아스코르브산, 말라카이트 그린 옥살산염이 보다 바람직하다.
또한, 본 발명의 평판 인쇄판 원판에 있어서, 감열층은 필요에 따라서 각종의 첨가제를 함유해도 좋다. 예를 들면, 도포성을 개량하기 위해서 실리콘계 계면활성제나 불소계 계면활성제 등을 함유해도 좋다. 또한, 잉크 반발층과의 접착성을 강화하기 위해서 실란 커플링제, 티타늄 커플링제 등을 함유해도 좋다. 이들 첨가제의 함유량은 그 사용 목적에 따라 다르지만, 일반적으로는 감열층의 전체 고형분 중 0.1질량%∼30질량%이면 좋다.
본 발명의 평판 인쇄판 원판에 있어서, 감열층의 평균 막두께는 평판 인쇄판 원판의 고정세 화상 재현성을 유지하면서 충분한 양의 기체를 발생시킬 수 있는 점에서, 0.2㎛ 이상이 바람직하고, 0.5㎛ 이상이 보다 바람직하고, 0.7㎛ 이상이 더욱 바람직하다. 또한, 감열층의 내용제성과 내감열층 박리를 높은 상태로 유지하는 점에서, 10.0㎛ 이하가 바람직하고, 5.0㎛ 이하가 보다 바람직하고, 3.0㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 여기에서, 감열층의 평균 막두께는 단면 SEM 관찰에 의해 구할 수 있다. 보다 상세하게는, 평판 인쇄판 원판의 절편을 수지 포매 후, 이온 밀링법(BIB법)에 의해 단면을 제작하고, 전계방사형 주사전자현미경(FE-SEM) "SU8020((주)히타치 하이테크놀로지즈제)"을 사용해 단면 SEM 관찰을 행함으로써 막두께를 측정할 수 있다. SEM 관찰 범위의 감열층으로부터 랜덤으로 선택한 10개소에 대해서 막두께를 계측하고, 그 수 평균값을 산출함으로써, 평균 막두께를 구할 수 있다.
본 발명의 평판 인쇄판 원판에 있어서의 잉크 반발층으로서는, 폴리오르가노실록산의 가교물인 실리콘 고무층을 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 실리콘 고무층을 조성하는 실리콘 고무는, (a) SiH기 함유 화합물과, (b) 비닐기 함유 폴리실록산에 유래하는 구조를 갖는 것이 바람직하다.
실리콘 고무층으로서는, 부가 반응형 실리콘 고무층 조성물 또는 축합 반응형 실리콘 고무층 조성물을 도포해서 얻어지는 층, 이들 조성물의 용액을 도포, (가열)건조해서 얻어지는 층을 들 수 있다.
부가 반응형의 실리콘 고무층 조성물은, 적어도 (b) 비닐기 함유 폴리실록산, 복수의 히드로실릴기를 갖는 (a) SiH기 함유 화합물(부가 반응형 가교제) 및 경화 촉매를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 반응 억제제를 함유해도 좋다. 또한, (b) 비닐기 함유 폴리실록산이 비닐기 함유 오르가노폴리실록산이면 좋다.
부가 반응형의 실리콘 고무는, (a) SiH기 함유 화합물과, (b) 비닐기 함유 폴리실록산의 반응에 의해, 실리콘 고무의 가교점으로서 새롭게 하기 일반식 (II)로 나타내어지는 실록산 단위가 생긴다. 실리콘 고무의 베이스 성분인 하기 일반식 (I)로 나타내어지는 디메틸실록산 단위에 대한, 하기 일반식 (II)로 나타내어지는 실록산 단위의 몰비율((II)/(I)의 몰비)에 의해, 실리콘 고무의 가교 밀도를 어림잡을 수 있다. 또한, 실록산 단위의 몰비 (II)/(I)은, 실리콘 고무의 고체 29Si NMR 스펙트럼에 있어서 관측되는, 하기 일반식 (I)로 나타내어지는 디메틸실록산 단위의 Si*에 귀속되는 피크 면적에 대한, 하기 일반식 (II)로 나타내어지는 실록산 단위의 Si**에 귀속되는 피크의 면적의 비, 즉 피크 면적비[(II) Si**에 귀속되는 피크 면적/(I) Si*에 귀속되는 피크 면적]가, 실록산 단위의 몰비 (II)/(I)로서 구해진다. 상세한 측정 방법은 실시예의 란에서 설명한다.
-Si*(CH3)2-O- (I)
-Si(CH3)2-CH2-CH2-Si**(CH3)2-O- (II)
상기 실록산 단위의 몰비 (II)/(I), 즉 피크 면적비[(II) Si**에 귀속되는 피크 면적/(I) Si*에 귀속되는 피크 면적]는, 화상 재현성을 유지할 수 있는 점에서 0.00240 이상이 바람직하고, 0.00245 이상이 보다 바람직하다. 한편으로, 실리콘 고무의 가교 구조가 지나치게 빽빽해지지 않고 현상성 저하를 억제할 수 있는 점에서, 0.00900 이하가 바람직하고, 0.00880 이하가 보다 바람직하고, 0.00500 이하가 더욱 바람직하다.
(b) 비닐기 함유 폴리실록산은 하기 일반식 (b1)로 나타내어지는 구조를 갖고, 주쇄말단에, 또는 규소원자에 결합하는 탄화수소기의 치환기로서 비닐기를 갖는 것이다. 그 중에서도 주쇄말단에 비닐기를 갖는 것이 바람직하다. 이것들을 2종이상 함유해도 좋다.
-(SiR1R2-O-)n- (b1)
식 중, n은 2 이상의 정수를 나타내고, R1 및 R2는 같아도 달라도 좋고, 탄소수 1∼50의 포화 또는 불포화의 탄화수소기를 나타낸다. 탄화수소기는 직쇄상이어도 분기상이어도 환상이어도 좋고, 방향환을 포함하고 있어도 좋다. 일반식 (b1)의 폴리실록산에 복수 존재하는 R1은 서로 같아도 달라도 좋다. 또 일반식 (b1)의 폴리실록산에 복수 존재하는 R2는 서로 같아도 달라도 좋다.
(a) SiH기 함유 화합물로서는, 예를 들면, 오르가노하이드로겐 폴리실록산, 디오르가노하이드로겐실릴기를 갖는 유기 폴리머를 들 수 있고, 바람직하게는 오르가노하이드로겐 폴리실록산이다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
오르가노하이드로겐 폴리실록산은 직쇄상, 환상, 분기상, 망상의 분자구조를 가질 수 있다. 예를 들면, 분자쇄 양 말단이 트리메틸실록시기로 봉쇄된 폴리메틸하이드로겐실록산, 분자쇄 양 말단이 트리메틸실록시기로 봉쇄된 디메틸실록산·메틸하이드로겐실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단이 디메틸하이드로겐실록시기로 봉쇄된 디메틸폴리실록산 등이 예시된다.
(a) SiH기 함유 화합물의 함유량은, 실리콘 고무층의 경화성의 관점에서 실리콘 고무층 조성물 중 0.5질량% 이상이 바람직하고, 1질량% 이상이 보다 바람직하다. 또한, 20질량% 이하가 바람직하고, 15질량% 이하가 보다 바람직하다.
부가 반응형의 실리콘 고무층 조성물이 함유할 수 있는 반응 억제제로서는, 함질소 화합물, 인계 화합물, 불포화 알콜 등을 들 수 있고, 아세틸렌기 함유 알콜이 바람직하게 사용된다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다. 부가 반응형의 실리콘 고무층 조성물에 있어서, 경화 촉매는 통상의 것으로부터 선택할 수 있다. 바람직하게는 백금계 화합물이며, 구체적으로는 백금 단체, 염화백금, 염화백금산, 올레핀 배위 백금, 백금의 알콜 변성 착체, 백금의 메틸비닐폴리실록산 착체 등을 들 수 있다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
또한, 부가 반응형의 실리콘 고무층 조성물은, 이들 성분의 이외에 수산기 함유 오르가노폴리실록산이나 가수분해성 관능기 함유 실란 또는 이 관능기를 함유하는 실록산, 고무 강도를 향상시킬 목적으로 실리카 등의 통상의 충전제, 접착성을 향상시킬 목적으로 통상의 실란 커플링제를 함유해도 좋다. 실란 커플링제로서는, 알콕시실란류, 아세톡시실란류, 케톡시이미노실란류 등이 바람직하고, 또 비닐기나 알릴기가 규소원자에 직결된 것이 바람직하다.
축합 반응형의 실리콘 고무층 조성물은, 적어도 수산기 함유 오르가노폴리실록산, 가교제 및 경화 촉매를 원료로 하는 것이 바람직하다.
수산기 함유 오르가노폴리실록산은, 상기 일반식 (b1)로 나타내어지는 구조를 갖고, 주쇄말단에, 또는 규소원자에 결합하는 탄화수소기의 치환기로서 수산기를 갖는 것이다. 그 중에서도 주쇄말단에 수산기를 갖는 것이 바람직하다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
축합 반응형의 실리콘 고무층 조성물에 포함되는 가교제로서는, 하기 일반식 (III)으로 나타내어지는, 탈아세트산형, 탈옥심형, 탈알콜형, 탈아세톤형, 탈아미드형, 탈히드록실아민형 등의 규소 화합물을 들 수 있다.
(R3)4-mSiXm (III)
식 중, m은 2∼4의 정수를 나타내고, R3은 동일해도 달라도 좋고, 탄소수 1 이상의 치환 또는 비치환의 알킬기, 알케닐기, 아릴기, 또는 이것들이 조합된 기를 나타낸다. X는 동일해도 달라도 좋고, 가수분해성기를 나타낸다. 가수분해성기로서는, 아세톡시기 등의 아실옥시기, 메틸에틸케톡심기 등의 케톡심기, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기 등의 알콕시기 등을 들 수 있다. 상기 식에 있어서, 가수분해성기의 수 m은 3 또는 4인 것이 바람직하다.
축합 반응형의 실리콘 고무층 조성물에 있어서의 가교제의 첨가량은, 실리콘 고무층 조성물이나 그 용액의 안정성의 관점에서, 실리콘 고무층 조성물 중 0.5질량% 이상이 바람직하고, 1질량% 이상이 보다 바람직하다. 또한, 실리콘 고무층의 강도나 평판 인쇄판 원판에 있어서의 내상성의 관점에서, 실리콘 고무층 조성물 중 20질량% 이하가 바람직하고, 15질량% 이하가 보다 바람직하다.
축합 반응형의 실리콘 고무층 조성물에 포함되는 경화 촉매로서, 디부틸 주석 디아세테이트, 디부틸 주석 디옥테이트, 디부틸 주석 디라울레이트, 옥틸산 아연, 옥틸산 철 등을 들 수 있다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다.
본 발명에 있어서의 평판 인쇄판 원판의 잉크 반발층 중에는, 화상 재현성을 향상시키거나, 또는 잉크 반발성을 향상시킬 목적으로, 잉크 반발성의 액체를 함유할 수 있다. 이 잉크 반발성의 액체는 1기압에 있어서의 비점이 150℃ 이상인 것이 바람직하다. 원판 제작시에 잉크 반발층의 가교 구조가 약해지기 때문에, 현상시에 잉크 반발층의 제거가 용이해져 화상 재현성이 향상된다. 또한, 인쇄시에 판면이 가압되었을 때, 잉크 반발층 표면에 상기 잉크 반발성의 액체가 표출되고, 잉크의 박리를 도움으로써 잉크 반발성도 향상시킨다. 비점이 150℃ 이상이면, 평판 인쇄판 원판을 제조시에 휘발하는 일이 적고, 이 잉크 반발성의 액체의 첨가에 의해 얻어지는 잉크 반발성의 효과를 잃어버리는 일이이 적다.
잉크 반발층 중에 상기 액체를 포함함으로써 화상 재현성과 잉크 반발성은 향상하지만, 실리콘 고무층 중으로의 첨가량은 10질량% 이상 35질량% 이하가 바람직하다. 10질량% 이상이면 화상 재현성과 잉크 반발성이 현저하게 향상하고, 35질량% 이하이면 실리콘 고무층의 강도는 충분히 확보할 수 있기 때문에, 내쇄성을 유지할 수 있다.
상기 잉크 반발성의 액체는 실리콘 화합물인 것이 바람직하고, 실리콘 오일이 보다 바람직하다. 본 발명에서 말하는 실리콘 오일이란, 잉크 반발층의 가교에 종사하지 않는 폴리실록산 성분을 가리킨다. 따라서, 말단 디메틸폴리디메틸실록산, 환상 폴리디메틸실록산, 말단 디메틸-폴리디메틸-폴리메틸페닐실록산 코폴리머, 등의 디메틸실리콘 오일류, 또 알킬 변성 실리콘 오일, 불소 변성 실리콘 오일, 폴리에테르 변성 실리콘 오일 등의 분자 중의 메틸기의 일부에 각종 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일류를 들 수 있다.
이들 실리콘 오일의 분자량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직하게는 표품에 폴리스티렌을 사용한 겔 침투 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정했을 때, 중량 평균 분자량(Mw)이 1000∼100000인 것이 바람직하다.
본 발명의 평판 인쇄판 원판에 있어서, 잉크 반발층인 실리콘 고무층의 평균 막두께는 0.5∼20㎛가 바람직하고, 3∼20㎛가 보다 바람직하고, 3.5∼10㎛가 더욱 바람직하다. 실리콘 고무층의 평균 막두께를 0.5㎛ 이상으로 함으로써 인쇄판의 잉크 반발성이나 내상성, 내쇄성이 충분히하게 되고, 20㎛ 이하로 함으로써 경제적 견지로부터 불리하게는 되지 않고, 화상 현상성, 잉크 마일리지의 저하가 일어나기 어렵다. 여기에서, 실리콘 고무층의 평균 막두께는, TEM 관찰에 의해 구할 수 있다. 보다 상세하게는, 평판 인쇄판 원판으로부터 초박 절편법에 의해 시료를 제작하고, 가속 전압 100kV, 직접 배율 2000배의 조건으로 TEM 관찰을 행함으로써 막두께를 측정할 수 있다. 실리콘 고무층으로부터 랜덤으로 선택한 10개소에 대해서 막두께를 계측하고, 그 수 평균값을 산출함으로써 평균 막두께를 구할 수 있다.
본 발명의 평판 인쇄판 원판은, 잉크 반발층을 보호할 목적으로 잉크 반발층의 표면에 보호 필름 및/또는 합지를 가져도 좋다.
보호 필름으로서는, 노광 광원 파장의 광을 양호에 투과하는 두께 100㎛ 이하의 필름이 바람직하다. 필름의 소재의 대표예로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 셀로판 등을 들 수 있다. 또한, 노광에 의한 원판의 감광을 방지할 목적으로, 여러 가지 광흡수제, 광발색 물질, 일본국 특허 제2938886호 공보에 기재된 것 같은 광퇴색성 물질을 보호 필름 상에 가져도 좋다.
합지로서는 칭량 30∼120g/㎡의 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30∼90g/㎡이 것이다. 칭량 30g/㎡ 이상의 합지이면 기계적 강도가 충분하고, 120g/㎡ 이하이면 경제적으로 유리할 뿐만 아니라 평판 인쇄판 원판과 종이의 적층체가 얇아져서 작업성이 유리해진다. 바람직하게 사용되는 합지의 예로서, 예를 들면, 정보 기록 원지 40g/㎡(나고야 펄프(주) 제품), 금속 합지 30g/㎡(나고야 펄프(주) 제품), 미표백 크라프트지 50g/㎡(츄에츠 펄프 고교(주) 제품), NIP 용지 52g/㎡(츄에츠 펄프 고교(주) 제품), 순백 롤지 45g/㎡(오지 세이지(주) 제품), 쿨팩 73g/㎡(오지 세이지(주) 제품) 등을 들 수 있지만 이것들에 한정되는 것은 아니다.
다음에, 본 발명의 평판 인쇄판 원판으로부터 평판 인쇄판을 제조하는 방법에 대해서 설명한다. 평판 인쇄판의 제조 방법은 상기 평판 인쇄판 원판에 대하여, 하기 공정 (1) 또는 하기 공정 (2)의 어느 하나를 포함하는 방법에 의해 얻어진다.
공정 (1) (A) 상에 따라서 노광하는 공정(노광 공정)
공정 (2) (A) 노광 공정 후에, (B) 노광한 평판 인쇄판 원판에 물리적 마찰을 가해 노광부의 잉크 반발층을 제거하는 공정(현상 공정)
얻어진 평판 인쇄판은 평판 인쇄판 원판의 표면에 있어서, 노광상에 상당하는 잉크 반발층이 제거되어 이루어진다.
우선, (A) 노광 공정에 대해서 설명한다. (A) 노광 공정에서는 본 발명의 평판 인쇄판 원판을 상에 따라서 노광한다. 평판 인쇄판 원판이 보호 필름을 가질 경우, 보호 필름 상으로부터 노광해도 좋고, 보호 필름을 박리해서 노광해도 좋다. (A) 노광 공정에서 사용되는 광원으로서는, 발광 파장 영역이 300㎚∼1500㎚의 범위에 있는 것을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 감열층의 흡수 파장으로서 널리 사용되는 것으로부터, 근적외 영역 부근에 발광 파장 영역이 존재하는 반도체 레이저나 YAG 레이저가 바람직하게 사용된다. 구체적으로는, 열로의 변환 효율의 관점에서 780㎚, 808㎚, 830㎚, 1064㎚의 파장의 레이저광이 노광에 바람직하게 사용된다.
다음에, (B) 현상 공정에 대해서 설명한다. (B) 현상 공정에서는 노광 후의 평판 인쇄판 원판에 물리적 마찰을 주는 것에 의해, 노광부의 잉크 반발층을 제거한다. 물리적 마찰을 주는 방법으로서는, 예를 들면, (i) 현상액을 함침한 부직포, 탈지면, 천, 스펀지 등으로 판면을 닦아내는 방법, (ii) 현상액으로 판면을 전처리한 후에 수돗물 등을 샤워하면서 회전 브러시로 문지르는 방법, (iii) 고압의 물이나 온수, 또는 수증기를 판면에 분사하는 방법 등을 들 수 있다.
현상에 앞서, 전처리액 중에 일정 시간, 평판 인쇄판 원판을 침지하는 전처리를 행해도 좋다. 전처리액으로서는, 예를 들면, 물이나, 물에 알콜, 케톤, 에스테르, 카르복실산 등의 극성용매를 첨가한 것, 지방족 탄화수소류, 방향족 탄화수소류 등의 적어도 1종을 함유하는 용매에 극성용매를 첨가한 것, 또는 극성용매가 사용된다. 또한, 전처리액으로서는, 예를 들면 일본국 특허 제4839987호 공보에 기재되는 바와 같은, 폴리에틸렌에테르디올 및 1급 아미노기를 2개 이상 갖는 디아민 화합물을 함유하는 전처리액을 사용할 수 있다. 전처리액의 구체예로서는, PP-1, PP-3, PP-F, PP-FII, PTS-1, CP-1, CP-Y, NP-1, DP-1(모두 도레이(주) 제품) 등을 들 수 있다.
현상액으로서는, 예를 들면 물, 용액 전체의 50질량% 이상이 물인 수용액, 알콜이나 파라핀계 탄화수소를 사용할 수 있다. 또한, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜에의 알킬렌옥사이드 부가물 등의 프로필렌글리콜 유도체와, 물의 혼합물도 사용할 수 있다. 현상액의 구체예로서는, HP-7N, WH-3(모두 도레이(주) 제품) 등을 들 수 있다. 상기 현상액의 조성에는, 통상의 계면활성제를 첨가할 수도 있다. 계면활성제로서는, 안전성, 폐기할 때의 비용 등의 점으로부터, 수용액으로 했을 때에 pH가 5∼8로 되는 것이 바람직하다. 계면활성제의 함유량은 현상액의 10질량% 이하인 것이 바람직하다. 이러한 현상액은 안전성이 높고, 폐기 비용 등의 경제성의 점에서도 바람직하다.
또한, 화선부의 시인성이나 망점의 계측 정밀도를 향상시킬 목적으로, 전처리액 또는 현상액에 크리스탈 바이올렛, 빅토리아 퓨어 블루, 아스트라존 레드 등의 염료를 첨가해서 현상과 동시에 화선부의 잉크 수용층의 염색을 행할 수도 있다. 또한, 현상의 뒤에 상기 염료를 첨가한 액에 의해 염색할 수도 있다.
상기 현상 공정의 일부 또는 전부는 자동현상기에 의해 자동적으로 행할 수도 있다. 자동현상기로서는 이하의 장치를 사용할 수 있다. 현상부만의 장치, 전처리부 및 현상부가 이 순서대로 설치된 장치, 전처리부, 현상부, 후처리부가 이 순서대로 설치된 장치, 전처리부, 현상부, 후처리부, 수세부가 이 순서대로 설치된 장치 등. 이러한 자동현상기의 구체예로서는, TWL-650 시리즈, TWL-860 시리즈, TWL-1160 시리즈(모두 도레이(주) 제품) 등이나, 일본국 특허공개 평 5-6000호 공보에 기재되는 바와 같은 판의 이면의 상처 발생을 억제하기 위해서 받침대를 곡면 형상으로 패이게 하고 있는 자동현상기 등을 들 수 있다. 이것들을 조합시켜서 사용해도 좋다.
현상 처리된 평판 인쇄판을 겹쳐 쌓아 보관할 경우에 비하여, 판면 보호의 목적으로 판과 판의 사이에 합지를 끼워 두는 것이 바람직하다.
다음에, 본 발명의 평판 인쇄판으로부터 인쇄물을 제조하는 방법으로서, 평판 인쇄판 표면에 잉크를 부착시키는 공정과, 잉크를 직접 또는 블랭킷을 개재해서 피인쇄체에 전사하는 공정을 포함하는 인쇄물의 제조 방법을 예시할 수 있다. 본 발명의 평판 인쇄판은, 습수 인쇄와 수습수 인쇄의 어느 것에도 사용할 수 있지만, 인쇄물의 품질의 점으로부터, 축임물을 사용하지 않는 무습수 인쇄가 보다 바람직하다. 잉크 반발층이 제거된 감열층 유래의 층이 잉크 수용층이 되고, 그것이 화선부가 된다. 잉크 반발층은 비화선부가 된다. 잉크 수용층과 잉크 반발층은 미크론 오더의 단차가 있을 뿐이며 거의 동일 평면에 있다고 해도 좋다. 그리고 잉크 부착성의 차이를 이용해서 화선부에만 잉크를 착육시킨 후, 피인쇄체에 잉크를 전사해서 인쇄한다. 피인쇄체로서는 아트지, 코트지, 캐스트지, 합성지, 크로스지, 신문용지, 알루미늄 증착지, 금속, 플라스틱 필름 등을 들 수 있다. 상기 플라스틱 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리스티렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리비닐아세탈 등의 플라스틱 필름, 상기 플라스틱 필름이 종이 상에 라미네이트된 플라스틱 필름 라미네이트지, 알루미늄, 아연, 구리 등의 금속이 플라스틱 상에 증착된 금속 증착 플라스틱 필름 등을 들 수 있다. 본 발명의 평판 인쇄판으로부터 인쇄물을 제조할 경우, 특히 합성지, 크로스지, 금속, 플라스틱 필름 등의 비흡수 원반이 바람직하게 사용된다.
또한, 잉크의 전사는 평판 인쇄판으로부터 직접 피인쇄체에 행해도 좋고, 블랭킷을 개재해 행해도 좋다.
본 발명의 평판 인쇄판을 사용한 인쇄에서는, 피인쇄체에 전사된 잉크에 활성 에너지선을 조사하는 공정을 포함할 수도 있다. 여기에서는 활성 에너지선에 의해 경화할 수 있는 잉크를 사용할 수 있다. 자외선 조사에 의해 경화하는 잉크(이하, UV 잉크)이면, 통상은 반응성 모노머 또는 반응성 올리고머, 광중합 개시제 및 필요에 따라서 증감제 등의 자외선에 의해 중합반응 가능한 감광성 성분이 포함된다. 평판 인쇄판을 사용한 UV 인쇄에서는, 잉크 중의 감광성 성분은 10질량% 이상 50질량% 이하 포함되는 것이 바람직하다. 감광성 성분이 10질량%보다 적으면 경화 속도가 느려지고, UV 잉크가 경화 불량의 상태로 피인쇄체가 적층되기 때문에, 오프셋되기 쉬워진다. 한편으로, 감광성 성분의 비율이 증가함에 따라서 잉크 반발성은 저하하고, 감광성 성분이 50질량%보다 많으면 비화선부에 잉크의 잔사가 남기 쉬워진다.
또한, 잉크 반발성을 향상시킬 목적으로, 직쇄 알킬기를 갖는 아크릴산 에스테르 또는 메타크릴산 에스테르를 함유하는 UV 잉크를 사용해도 좋다. 직쇄 알킬기로서는 탄소수 9 이상의 것이 바람직하다. 직쇄 알킬기를 갖는 아크릴산 에스테르의 구체적인 예로서는, 노닐아크릴레이트, 데실아크릴레이트, 운데실아크릴레이트, 도데실아크릴레이트, 트리데실아크릴레이트, 테트라데실아크릴레이트, 펜타데실아크릴레이트, 헥사데실아크릴레이트, 헵타데실아크릴레이트, 옥타데실아크릴레이트, 이소옥타데실아크릴레이트 등을 들 수 있다. 직쇄 알킬기를 갖는 메타크릴산 에스테르의 구체적인 예로서는, 노닐메타크릴레이트, 데실메타크릴레이트, 운데실메타크릴레이트, 도데실메타크릴레이트, 트리데실메타크릴레이트, 테트라데실메타크릴레이트, 펜타데실메타크릴레이트, 헥사데실메타크릴레이트, 헵타데실메타크릴레이트, 옥타데실메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
직쇄 알킬기를 갖는 아크릴산 에스테르 또는 메타크릴산 에스테르의 함유량은, 잉크 반발성을 향상시키는 점에서 UV 잉크 전량에 대하여 0.5질량% 이상이 바람직하고, 1질량% 이상이 보다 바람직하다. 또한, UV 잉크의 경화성을 촉진하는 점에서, 15질량% 이하가 바람직하고, 10질량% 이하가 보다 바람직하다.
UV 잉크를 조사하는 활성 에너지선으로서는, 경화 반응에 필요한 여기 에너지를 갖는 것이면 모두 사용할 수 있지만, 예를 들면 자외선이나 전자선 등이 바람직하게 사용된다. 전자선에 의해 경화시킬 경우는, 100∼500eV의 전자선을 방출할 수 있는 전자선 조사 장치가 바람직하게 사용된다. 자외선에 의해 경화시킬 경우는, 고압 수은등, 크세논 램프, 메탈할라이드 램프, LED 등의 자외선 조사 장치를 이용할 수 있지만, 특별히 한정되지 않는다.
이하, 본 발명을 실시예에 의거하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
(실시예)
(1) 열분해 용이성 화합물에 대하여, 융해를 거치지 않고 열분해되는 성질의 유무의 평가
열분해 용이성 화합물에 대하여, 시차열 열중량 동시 측정 장치 "TG/DTA6200"(세이코 인스트루먼츠(주) 제품)을 사용하고, 80mL/분의 질소분위기 하에서, 30℃부터 500℃까지 10℃/분으로 승온해서 TG/DTA 측정했다. 얻어진 TG/DTA 커브로부터 열분해된다고 판단한 화합물 중, 100℃ 이상에 있어서 중량감소가 일어나기 전에, 융해 피크(중량감소를 수반하지 않는 흡열 피크)가 관찰되지 않는 화합물은, 융해를 거치지 않고 열분해되는 성질을 갖는다고 판단하고, 후술하는 표 1에 있어서 「열분해 전의 융해」가 「무」라고 기재했다. 한편, 100℃ 이상에 있어서 중량감소가 일어나기 전에 융해 피크가 관찰된 화합물은, 융해를 거치지 않고 열분해되는 성질을 갖지 않는다고 판단하고, 표 1에 있어서 「열분해 전의 융해」가 「유」라고 기재했다.
(2) 열분해 용이성 화합물의 열분해 온도의 측정
열분해 용이성 화합물에 대하여, 시차열 열중량 동시 측정 장치 "TG/DTA6200"(세이코 인스트루먼츠(주) 제품)을 사용하고, 80mL/분의 질소분위기 하에서 30℃부터 500℃까지 10℃/분으로 승온해서 TG/DTA 측정했다. 얻어진 TG/DTA 커브로부터, 100℃ 이상에 있어서 중량감소가 시작되는 온도를 열분해 온도라고 했다.
(3) 감열층의 막두께의 측정
평판 인쇄판 원판의 절편을 수지 포매 후, 이온 밀링법(BIB법)에 의해 단면을 제작했다. 전계방사형 주사전자현미경(FE-SEM) "SU8020((주)히타치 하이테크놀로지즈 제품)"을 사용하여, 가속 전압 3.0kV, 배율 10.0k배의 조건으로 측정을 행했다. 측정한 3개소의 SEM 관찰 범위의 감열층으로부터, 랜덤으로 선택한 합계 10개소에 대해서 막두께를 계측하고, 그 수 평균값을 산출함으로써 평균 막두께 Z(㎛)를 구했다.
(4) 기체 발생량의 측정
기체 발생량의 측정은 열 탈리 장치 "TD-100"(Markes) 및 GC-MS 장치 "7890A+5975C"(Agilent)를 사용해 행하였다. 10㎜×10㎜의 사이즈로 잘라낸 본 발명의 평판 인쇄판 원판을 유리 용기에 채취하고, 450℃, 유량: N2 100mL/분으로 설정된 가열로에 투입하고, 발생하는 기체 성분을 흡착관에 포집했다(포집시간 5분). 이 포집한 흡착관 및 희석한 표준품(톨루엔)을 주입한 흡착관을 컬럼에 연결시켜 260℃에서 가열해서 기체 성분을 컬럼(0.25㎜ 내경×30m)에 도입했다. 다음에, 컬럼을 40℃(4분 유지)로부터 280℃(22분 유지)까지 10℃/분으로 승온하고, 유량: He 1.5mL/분, 스캔 범위: m/z 29∼600으로 측정을 행했다. 표준품의 절대량과 얻어진 피크 면적값으로부터 검량선을 작성하고, 정성·정량을 행하였다. 발생한 기체 성분은 주로 감열층에 유래하는 성분과 잉크 반발층에 유래하는 성분이며, 감열층에 유래하는 폴리머의 분해물, 가교제의 분해물, 근적외 흡수 화합물의 분해물 및 열분해 용이성 화합물의 분해물을 서로 더한 양 Y(μg), 감열층의 평균 막두께 Z(㎛)를, 이하의 식 (III)에 대입한 값을 기체 발생량으로 했다.
기체 발생량(g/㎥)=(Y/Z)×104 (III)
(5) 화상 재현율의 평가
실시예의 평판 인쇄판 원판에 대하여, CTP용 노광기 "PlateRite 8800E"(다이니폰스크린 세이조(주) 제품)를 사용하고, 조사 에너지: 214mJ/㎠(드럼 회전수: 140rpm)의 조건으로 노광을 행하였다. 세로 550㎜×가로 650㎜의 평판 인쇄판 원판의 중앙에, 2400dpi의 175lpi로 1∼99%의 망점을 설치했다. 전처리액을 사용하지 않고, 수돗물을 현상액으로 해서, 노광한 원판을 자동현상기 "TWL-1160F"(도레이(주) 제품)에 속도 60cm/분으로 통과시키고, 케미컬프리 현상으로 평판 인쇄판을 제조했다. 얻어진 평판 인쇄판의 1%, 2% 망점을 광학현미경 "ECLIPSE L200N"((주)니콘제)으로 관찰하고, 재현되어 있는 비율을 화상 재현율로 했다. 2% 망점이 70% 이상이면 실용상 문제 없이 사용할 수 있고, 2% 망점이 80% 이상이면 보다 바람직하고, 2% 망점이 100%이면 더욱 바람직하고, 2% 망점이 100% 또한 1% 망점이 30% 이상이면 더욱 보다 바람직하다.
(6) 내용제성의 평가
실시예의 평판 인쇄판 원판에 대하여, CTP용 노광기 "PlateRite 8800E"(다이니폰스크린 세이조(주) 제품)를 사용하여, 조사 에너지: 125mJ/㎠(드럼 회전수: 240rpm)의 조건으로 노광을 행하였다. 세로 550㎜×가로 650㎜의 평판 인쇄판 원판의 중앙에 세로 20㎜×가로 650㎜의 띠 형상의 솔리드 화상을 형성했다. DP-1(도레이(주) 제품)(37℃)을 전처리액으로 하고, 수돗물을 현상액으로 해서, 자동현상기 "TWL-1160F"(도레이(주) 제품)에 속도 80cm/분으로 통과시키고, 평판 인쇄판을 제조했다. 얻어진 평판 인쇄판을 육안으로 관찰하고, 미노광부의 실리콘 고무가 박리한 면적이 0%, 0%를 초과하고 5% 미만, 5% 이상 10% 미만, 10% 이상 20% 미만, 20% 이상 50% 미만의 것을, 각각 5, 4, 3, 2, 1점으로서 평가했다. 점수가 높을수록 내용제성은 양호하고, 3점 이상이면 실용상 문제 없이 사용할 수 있다.
(7) 감열층 박리의 평가
실시예의 평판 인쇄판 원판에 대하여, CTP용 노광기 "PlateRite 8800E"(다이니폰스크린 세이조(주) 제품)를 사용하고, 조사 에너지: 214mJ/㎠(드럼 회전수: 140rpm)의 조건으로 노광을 행하였다. 세로 550㎜×가로 650㎜의 평판 인쇄판 원판의 중앙에 세로 20㎜×가로 650㎜의 띠 형상의 솔리드 화상을 형성했다. 전처리액을 사용하지 않고, 수돗물을 현상액으로 해서, 노광한 원판을 자동현상기 "TWL-1160F"(도레이(주) 제품)에 속도 60cm/분으로 통과시키고, 평판 인쇄판을 제조했다. 얻어진 평판 인쇄판의 솔리드 화상의 경계부를 초심도 컬러 3D 형상 측정 현미경 "VK-9510"((주)기엔스 제품)으로 관찰하고, 노광부 감열층의 표면조도(Ra)가 0㎛ 이상 0.20㎛ 미만, 0.20㎛ 이상 0.30㎛ 미만, 0.30㎛ 이상 0.40㎛ 미만, 0.40㎛ 이상 0.50㎛ 미만, 0.50㎛ 이상 1.0㎛ 미만의 것을, 각각 5, 4, 3, 2, 1점으로서 평가했다. 점수가 높을수록 내감열층 박리는 양호하고, 3점 이상이면 실용상 문제 없이 사용할 수 있다.
(8) 실리콘 고무의 가교밀도 정량
실리콘 고무의 가교밀도는 고체 29Si NMR 분석에 의해 정량할 수 있다. 평판 인쇄판 원판으로부터 실리콘 고무를 깎아내고, AVANCE400(Bruker사 제품)을 사용한 DD/MAS법에 의해, 측정핵: 29Si, 스펙트럼폭: 40kHz, 펄스폭: 4.2μsec, 펄스 반복시간: ACQTM 0.02049sec, PD 140sec, 관측 포인트: 8192, 기준물질: 헥사메틸시클로트리실록산(외부기준: -9.66ppm), 온도: 22℃, 시료 회전수: 4kHz의 조건 하에서 고체 29Si NMR 측정을 행하였다.
얻어진 29Si DD/MAS NMR 스펙트럼의 화학 시프트 -22ppm 부근의 피크를, 실리콘 고무의 베이스 성분인 하기 일반식 (I)로 나타내어지는 디메틸실록산 단위에 귀속하고, 7-8ppm 부근의 피크를, 가교점인 하기 일반식 (II)로 나타내어지는 실록산 단위에 귀속했다.
-Si*(CH3)2-O- (I)
-Si(CH3)2-CH2-CH2-Si**(CH3)2-O- (II)
상기에 의해 귀속된 (II) Si**의 피크 면적/(I) Si*의 피크 면적의 비율((II)/(I)의 몰비)을 산출해 가교 밀도로 했다.
(9) 인쇄 시험
실시예에 기재의 평판 인쇄판 원판-3, 20 및 22를 노광·현상해서 얻은 각 쇄판을, 오프셋 윤전 인쇄기(MHL13A, 미야코시 세이미츠키(주) 제품)에 장착하고, 평판 인쇄용 잉크를 사용하여 OPP 필름("파이렌"(등록상표) P2111, 막두께 20㎛, 코로나 처리, 도요보(주))에 인쇄 속도 50m/분으로 2000m 인쇄했다. 또, 평판 인쇄용 잉크는 일본국 특허공개 2019- 052319호 공보 기재의 실시예 43을 참조하고, 이하에 나타내는 잉크 조성을 칭량하여, 쓰리롤밀 "EXAKT"(등록상표) M-80S(EXAKT사 제품)를 사용하여, 갭 1로 3회 통과시킴으로써 조제했다. "리오놀 블루 FG7330"(도요 컬러(주) 제품) 18.0질량부
"미크로 에이스"(등록상표) P-3(니폰 탤크(주) 제품) 1.0질량부
"Miraｍer"(등록상표) M340(MIWON사 제품) 21.3질량부
"NK 에스테르"(등록상표) A-DCP(신나카무라 카가쿠(주) 제품) 21.3질량부
"반빔"(등록상표) UV-22A(하리마 카세이(주) 제품) 10.0질량부
25질량%의 메타크릴산 메틸, 25질량%의 스티렌, 50질량%의 메타크릴산으로 이루어지는 공중합체에, 그 카르복실기에 대하여 0.6당량의 글리시딜메타크릴레이트를 부가 반응시킨 수지 11.9질량부
2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드 "루시린"(등록상표) TPO(BASF사제) 4.0질량부
2-[4-(메틸티오)벤조일]-2-(4-모르폴리닐)프로판 "일가큐어"(등록상표) 907(BASF사제) 2.0질량부
2,4-디에틸티옥산텐-9-온 "카야큐어"(등록상표) DETX-S(니폰 카야쿠(주) 제품) 3.0질량부
p-메톡시페놀(와코 준야쿠 고교(주) 제품) 0.1질량부
"Disperbyk"(등록상표) 111(빅케미사 제품) 2.0질량부
라우릴아크릴레이트(와코 준야쿠 고교(주) 제품) 4.0질량부
순수(와코 준야쿠 고교(주)사 제품) 0.4질량부
"KTL"(등록상표) 4N(키타무라(주) 제품) 1.0질량부
[실시예 1]
평판 인쇄판 원판을 이하의 방법으로 제작했다.
두께 0.27㎜의 알루미늄 기판(노르스크 하이드로 제품) 상에 하기의 유기층 조성물을 도포하고, 세이프티오븐 "SPH-200"(에스펙(주) 제품)을 사용해 210℃에서 86초간 건조하여, 두께 7.4㎛의 유기층을 형성했다. 한편, 유기층 조성물은 하기 성분을 실온에서 교반 혼합함으로써 얻었다.
<유기층 조성물>
(a) 활성수소를 갖는 폴리머: 에폭시 수지: "에피코트"(등록상표) 1010(재팬 에폭시레진(주) 제품): 30.4질량부
(b) 활성수소를 갖는 폴리머: 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1331D(산요 카세이 고교(주) 제품, 고형분 농도: 20질량%): 57.3질량부
(c) 알루미늄킬레이트: 알루미늄킬레이트 ALCH-TR(카와켄 파인 케미컬(주) 제품): 6.2질량부
(d) 레벨링제: "디스파론"(등록상표) LC951(쿠스모토 카세이(주) 제품, 고형분: 10질량%): 0.1질량부
(e) 산화티타늄: "타이페크"(등록상표) CR-50(이시하라 산교(주) 제품)의 N,N-디메틸포름아미드 분산액(산화티타늄 50질량%): 6.0질량부
(f) N,N-디메틸포름아미드: 450질량부
(g) 메틸에틸케톤: 150질량부
한편, 상기 유기층 조성물의 각 성분의 배합량은 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
이어서, 하기의 감열층 조성물-1을 상기 유기층 상에 도포하고, 140℃에서 80초간 가열 건조하여 두께 1.2㎛의 감열층을 형성했다. 또, 감열층 조성물-1은, 하기 성분을 실온에서 교반 혼합함으로써 얻었다.
<감열층 조성물-1>
(a) 메타파라크레졸노볼락 수지: "LF-120"(리그나이트(주) 제품): 51.4질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 8.6질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(λmax=750∼850㎚, 야마모토 카세이(주) 제품): 40.0질량부
(d) 테트라히드로푸란: 614질량부
(e) t-부탄올: 207질량부
(f) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(g) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(c)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
이어서, 도포 직전에 조제한 하기의 잉크 반발층(실리콘 고무층) 조성물을 상기 감열층 상에 도포하고, 140℃에서 70초간 가열하여 평균 막두께 3.0㎛의 잉크 반발층을 형성함으로써 평판 인쇄판 원판-1을 얻었다. 또, 잉크 반발층 조성물은 하기 성분을 실온에서 교반 혼합함으로써 얻었다.
<잉크 반발층 조성물>
(a) α,ω-디비닐폴리디메틸실록산: DMS-V35(중량 평균 분자량 49,500, GELEST Inc．제품): 86.95질량부
(b) 메틸하이드로겐실록산 RD-1(도레이 다우코닝(주) 제품): 4.24질량부
(c) 비닐트리스(메틸에틸케토옥시이미노)실란: 2.64질량부
(d) 백금 촉매 SRX212(도레이 다우코닝(주) 제품, 백금 촉매가 6.0질량%): 6.17질량부
(e) "아이소퍼" E(엣소 카가쿠(주) 제품): 900질량부
또 잉크 반발층 조성물-1의 성분 (a)∼(d)의 배합량의 합계가 100질량부이다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-1을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 8.721×105g/㎥이었다. 이 원판의 잉크 반발층인 실리콘 고무의 가교 밀도를 상기 방법으로 평가한 결과, ((II)/(I) 몰비)는 0.00250이었다. 또한, 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 9%, 내용제성은 3점, 내감열층 박리는 4점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 2]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-2로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-2를 얻었다.
<감열층 조성물-2>
(a) 메타파라크레졸노볼락 수지: "LF-120"(리그나이트(주) 제품): 47.1질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 7.9질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 45.0질량부
(d) 테트라히드로푸란: 614질량부
(e) t-부탄올: 207질량부
(f) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(g) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(c)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-2를 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 9.460×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 23%, 내용제성은 3점, 내감열층 박리는 3점으로 되어 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 3]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-3으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-3을 얻었다.
<감열층 조성물-3>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 62.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 10.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 테트라히드로푸란: 614질량부
(f) t-부탄올: 207질량부
(g) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(h) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(d)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-3을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 6.504×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 76%, 1% 망점의 재현율은 0%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다. 또한, 얻어진 평판 인쇄판을 사용해서 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 문제 없이 인쇄 완료되었다.
[실시예 4]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-4로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-4를 얻었다.
<감열층 조성물-4>
(a) 메타파라크레졸노볼락 수지: "LF-120"(리그나이트(주) 제품): 66.9질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 11.1질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 열분해 용이성 화합물: 플루오레세인(λmax=450∼550㎚, 열분해 온도: 320℃, 플루오레세인류)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 7.0질량부
(e) 테트라히드로푸란: 614질량부
(f) t-부탄올: 207질량부
(g) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(h) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(d)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-4를 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 6.947×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 84%, 1% 망점의 재현율은 0%, 내용제성은 3점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 5]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-5로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-5를 얻었다.
<감열층 조성물-5>
(a) 메타파라크레졸노볼락 수지: "LF-120"(리그나이트(주) 제품): 66.9질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 11.1질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 열분해 용이성 화합물: 리보플라빈(λmax=200∼300㎚, 열분해 온도: 282℃, 비타민류)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 7.0질량부
(e) 테트라히드로푸란: 614질량부
(f) t-부탄올: 207질량부
(g) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(h) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(d)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-5을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 7.539×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 95%, 1% 망점의 재현율은 0%, 내용제성은 3점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 6]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-6으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-6을 얻었다.
<감열층 조성물-6>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 메틸 레드(λmax=400∼600㎚, 열분해 온도: 210℃, 아조계 염료)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-6을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 6.800×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 81%, 1% 망점의 재현율은 0%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 7]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-7로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-7을 얻었다.
<감열층 조성물-7>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 61.9질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 10.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 콩고 레드(λmax=450∼550㎚, 열분해 온도: 360℃, 아조계 염료)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 0.1질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-7을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 6.947×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 84%, 1% 망점의 재현율은 0%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 8]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-8로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-8을 얻었다.
<감열층 조성물-8>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 콩고 레드(λmax=450∼550㎚, 열분해 온도: 360℃, 아조계 염료)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-8을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 8.721×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 9%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 9]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-9로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-9를 얻었다.
<감열층 조성물-9>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 44.8질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 7.5질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 콩고 레드(λmax=450∼550㎚, 열분해 온도: 360℃, 아조계 염료)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 20.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-9를 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 10.643×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 44%, 내용제성은 4점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 10]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-10으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-10을 얻었다.
<감열층 조성물-10>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 27.7질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 4.6질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 콩고 레드(λmax=450∼550㎚, 열분해 온도: 360℃, 아조계 염료)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 40.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-10을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 11.678×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 63%, 내용제성은 4점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 11]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-11로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-11을 얻었다.
<감열층 조성물-11>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 23.4질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 3.9질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 콩고 레드(λmax=450∼550㎚, 열분해 온도: 360℃, 아조계 염료)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 45.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-11을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 12.417×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 76%, 내용제성은 3점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 12]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-12로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-12을 얻었다.
<감열층 조성물-12>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 플루오레세인(λmax=450∼550㎚, 열분해 온도: 320℃, 플루오레세인류)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-12를 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 9.608×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 25%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 13]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-13으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-13을 얻었다.
<감열층 조성물-13>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 리보플라빈(λmax=200∼300㎚, 열분해 온도: 282℃, 비타민류)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-13을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 10.199×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 36%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 14]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-14로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-14를 얻었다.
<감열층 조성물-14>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 브로모크레졸 퍼플(λmax=400∼600㎚), 열분해 온도: 240℃, 트리페닐메탄계 염료)(도쿄 카세이 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-14를 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 10.791×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 47%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 15]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-15로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-15를 얻었다.
<감열층 조성물-15>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 브로모크레졸 그린 나트륨(λmax=400∼650㎚, 열분해 온도: 230℃, 트리페닐메탄계 염료)(도쿄 카세이 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-15를 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 10.938×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 49%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 16]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-16으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-16을 얻었다.
<감열층 조성물-16>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 티몰 블루(λmax=350∼600㎚, 열분해 온도: 220℃, 트리페닐메탄계 염료)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-16을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 11.086×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 52%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 17]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-17로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-17을 얻었다.
<감열층 조성물-17>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 브로모크레졸 그린(λmax=400∼650, 열분해 온도: 218℃, 트리페닐메탄계 염료)(시그마 알드리치 재팬 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-17을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 11.136×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 53%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 18]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-18로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-18을 얻었다.
<감열층 조성물-18>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 브로모티몰 블루 나트륨(λmax=350∼650㎚, 열분해 온도: 205℃, 트리페닐메탄계 염료)(도쿄 카세이 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-18을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 11.456×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 59%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 19]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-19로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-19를 얻었다.
<감열층 조성물-19>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 테트라브로모페놀 블루(λmax=350∼650㎚, 열분해 온도: 204℃, 트리페닐메탄계 염료)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-19를 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 11.480×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 59%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 20]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-20으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-20을 얻었다.
<감열층 조성물-20>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 브로모티몰 블루(λmax=400∼650㎚, 열분해 온도: 202℃, 트리페닐메탄계 염료)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-20을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 11.530×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 60%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 매우 양호한 결과가 얻어졌다. 또한, 얻어진 평판 인쇄판을 사용해서 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 문제 없이 인쇄 완료되었다.
[실시예 21]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-21로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-21을 얻었다.
<감열층 조성물-21>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 염기성 푹신(λmax=450∼600㎚, 열분해 온도: 200℃, 트리페닐메탄계 염료)(쇼와 카가쿠(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-21을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 11.678×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 63%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 매우 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 22]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-22로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-22를 얻었다.
<감열층 조성물-22>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: L(+)-아스코르브산(λmax=<300㎚, 열분해 온도: 190℃, 비타민류)(와코 준야쿠 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-22를 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 11.973×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 68%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되고, 매우 양호한 결과가 얻어졌다. 또한, 얻어진 평판 인쇄판을 사용해서 상기 방법에 의해 인쇄 시험을 행한 결과, 문제 없이 인쇄 완료되었다.
[실시예 23]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-23으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-23을 얻었다.
<감열층 조성물-23>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 말라카이트 그린 옥살산염(λmax=550∼650㎚, 열분해 온도: 164℃, 트리페닐메탄계 염료)(도쿄 카세이 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-23을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 12.195×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 72%, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되고, 매우 양호한 결과가 얻어졌다.
[실시예 24]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-24로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-24을 얻었다.
<감열층 조성물-24>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 56.0질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 9.3질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "YKR2016"(야마모토 카세이(주) 제품): 15.0질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 12.7질량부
(e) 열분해 용이성 화합물: 메틸 옐로(λmax=250∼550㎚, 열분해 온도: 111℃, 아조계 염료)(도쿄 카세이 고교(주) 제품): 7.0질량부
(f) 테트라히드로푸란: 614질량부
(g) t-부탄올: 207질량부
(h) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
(i) 에탄올: 61질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(e)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-24를 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 8.573×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 7%, 내용제성은 3점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 양호한 결과가 얻어졌다.
[비교예 1]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-25로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-25를 얻었다.
<감열층 조성물-25>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR53195(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 100질량부
(b) 테트라히드로푸란: 675질량부
(c) t-부탄올: 207질량부
(d) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)의 배합량 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-25를 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 0.667×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 0%, 1% 망점의 재현율은 0%로 되었다. 기체 발생량이 적기 때문에 감열층의 구조 파괴가 충분히 일어나지 않았다고 생각된다. 또한, 내용제성은 1점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 화상 재현성, 내용제성의 점으로부터 실용 불가의 결과로 되었다.
[비교예 2]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-26으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-26을 얻었다.
<감열층 조성물-26>
(a) 레졸 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR-51904(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 100질량부
(b) 테트라히드로푸란: 675질량부
(c) t-부탄올: 207질량부
(d) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)의 배합량 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-26을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 0.583×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 0%, 1% 망점의 재현율은 0%로 되었다. 기체 발생량이 적기 때문에 감열층의 구조 파괴가 충분히 일어나지 않았다고 생각된다. 또한, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 화상 재현성의 점으로부터 실용 불가의 결과로 되었다.
[비교예 3]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-27로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-27을 얻었다.
<감열층 조성물-27>
(a) 아크릴 수지:폴리(메타크릴산 메틸)(도쿄 카세이 고교(주) 제품): 100질량부
(b) 테트라히드로푸란: 675질량부
(c) t-부탄올: 207질량부
(d) N,N-디메틸포름아미드: 18질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)의 배합량 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-27을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 13.043×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 100%, 1% 망점의 재현율은 87%로 되었다. 또한, 내용제성은 1점, 내감열층 박리는 1점으로 되었다. 기체 발생량이 매우 많기 때문에 감열층의 구조 파괴가 과잉으로 진행되기 때문이라고 생각된다. 내용제성, 내감열층 박리의 점으로부터 실용 불가의 결과로 되었다.
[비교예 4]
감열층 조성물-1을 이하의 감열층 조성물-28로 변경하고, 150℃에서 80초간 가열 건조하여 두께 2.0㎛의 감열층을 형성한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 평판 인쇄판 원판-28을 얻었다.
<감열층 조성물-28>
(a) 페놀포름알데히드노볼락 수지: "스미라이트 레진"(등록상표) PR54652(스미토모 베이크라이트(주) 제품): 62.7질량부
(b) 폴리우레탄: "산프렌"(등록상표) LQ-T1333(산요 카세이(주) 제품): 10.4질량부
(c) 근적외 흡수 염료: "PROＪET" 825LDI((주)Avecia 제품): 10.4질량부
(d) 티타늄킬레이트: "나셈"(등록상표) 티타늄(니혼 카가쿠 산교(주) 제품): 16.5질량부
(f) 테트라히드로푸란: 631질량부
(g) 에탄올: 38질량부
또, 상기 감열층 조성물의 각 성분의 배합량은, 성분 (a)∼(d)의 배합량의 합계 100질량부에 대한 질량부로서 나타냈다.
얻어진 평판 인쇄판 원판-28을 상기 방법으로 평가한 결과, 기체 발생량은 6.061×105g/㎥이었다. 이 원판을 상기 방법으로 노광·현상한 결과, 2% 망점의 재현율은 66%, 1% 망점의 재현율은 0%로 되었다. 기체 발생량이 적기 때문에 감열층의 구조 파괴가 충분히 일어나지 않았다고 생각된다. 또한, 내용제성은 5점, 내감열층 박리는 5점으로 되어, 화상 재현성의 점으로부터 실용 불가의 결과로 되었다.
이상의 평가 결과를 정리한 것을 표 1, 표 2에 나타낸다.
Figure pct00001
Figure pct00002

Claims (18)

  1. 기판 상에 적어도 감열층과, 잉크 반발층을 갖는 평판 인쇄판 원판으로서, 상기 감열층 중에 700∼1,200㎚의 파장역에 최대 흡수 파장을 갖는 근적외 흡수 화합물과, 700∼1,200㎚의 파장역에 최대 흡수 파장을 갖지 않는 450℃ 이하에서 열분해되는 열분해 용이성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판 원판.
  2. 기판 상에 적어도 감열층과, 잉크 반발층을 갖는 평판 인쇄판 원판으로서, 상기 평판 인쇄판 원판을 질소기류 하에서 450℃, 5분간 가열했을 때의 GC-MS 측정에 있어서의 감열층 1㎥당의 기체 발생량이 6.5×105g/㎥∼12.5×105g/㎥인 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판 원판.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 감열층이 700∼1,200㎚의 파장역에 최대 흡수 파장을 갖는 근적외 흡수 화합물을 함유하는 평판 인쇄판 원판.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 감열층이 700∼1,200㎚의 파장역에 최대 흡수 파장을 갖지 않는 450℃ 이하에서 열분해되는 열분해 용이성 화합물을 함유하는 평판 인쇄판 원판.
  5. 제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,
    상기 열분해 용이성 화합물이 융해를 거치지 않고 열분해되는 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판 원판.
  6. 제 1 항, 제 4 항 또는 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 열분해 용이성 화합물의 감열층 중의 함유율이 0.1∼40.0질량%인 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판 원판.
  7. 제 1 항 및 제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 열분해 용이성 화합물의 열분해 온도가 140℃∼350℃인 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판 원판.
  8. 제 1 항 및 제 4 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 열분해 용이성 화합물이 트리페닐메탄계 염료, 티아진계 염료, 아조계 염료, 크산텐계 염료, 비타민류에서 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판 원판.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 감열층 중에 금속 킬레이트를 함유하는 평판 인쇄판 원판.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 잉크 반발층이 실리콘 고무층이며, (a) SiH기 함유 화합물과, (b) 비닐기 함유 폴리실록산으로부터 유래되는 구조를 갖는 실리콘 고무로 이루어지는 평판 인쇄판 원판.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 실리콘 고무가 하기 일반식 (I)로 나타내어지는 디메틸실록산 단위 및 하기 일반식 (II)로 나타내어지는 실록산 단위를 포함하고, (II) Si**에 귀속되는 피크 면적/(I) Si*에 귀속되는 피크 면적으로 나타내어지는 피크 면적비가 0.00240∼0.00900인 평판 인쇄판 원판.
    -Si*(CH3)2-O- (I)
    -Si(CH3)2-CH2-CH2-Si**(CH3)2-O- (II)
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 잉크 반발층 중에 잉크 반발성의 액체를 함유하고, 상기 잉크 반발성의 액체의 1기압에 있어서의 비점이 150℃ 이상인 평판 인쇄판 원판.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 잉크 반발성의 액체가 실리콘 오일인 평판 인쇄판 원판.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 잉크 반발층의 막두께가 3∼20㎛인 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판 원판.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 기재된 평판 인쇄판 원판에 대하여, 하기 공정 (1) 또는 하기 공정 (2) 중 어느 하나를 포함하는 평판 인쇄판의 제조 방법.
    공정 (1) (A) 상에 따라서 노광하는 공정
    공정 (2) (A)의 공정 후에, (B) 현상액으로서 물 또는 수용액의 존재 하에서 노광된 원판에 물리적 마찰을 가하여, 잉크 반발층을 제거하는 공정
  16. 제 15 항에 기재된 평판 인쇄판 제조 방법으로 얻어진 평판 인쇄판 표면에 잉크를 부착시키는 공정과, 상기 잉크를 직접 또는 블랭킷을 개재해서 피인쇄체에 전사하는 공정을 포함하는 인쇄물의 제조 방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 피인쇄체가 비흡수 원반인 인쇄물의 제조 방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 비흡수 원반이 합성지, 크로스지, 플라스틱 필름, 및 금속 중 어느 하나인 인쇄물의 제조 방법.
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