KR20140068802A - 화상 형성 방법, 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합 - Google Patents

화상 형성 방법, 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합 Download PDF

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유사쿠 아키야마
무네노리 이에시게
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다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 인화 품질이 높은 화상을 형성할 수 있는 화상 형성 방법이나, 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합을 제공하는 것이다. 기재의 한쪽 면에, 염료층이 형성되고, 기재의 다른 쪽 면에 배면층이 형성된 열전사 시트와, 다른 기재의 한쪽 면에 염료 수용층이 형성된 열전사 수상 시트를 조합시켜 화상을 형성하는 화상 형성 방법으로서, 상기 열전사 시트의 상기 염료층이, 승화성 염료와, 바인더 수지와, (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하고 있고, 상기 열전사 수상 시트의 상기 염료 수용층이 수계의 염료 수용층이다.

Description

화상 형성 방법, 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합{IMAGE FORMING METHOD, AND COMBINATION OF THERMAL TRANSFER SHEET AND THERMAL TRANSFER IMAGE RECEIVING SHEET}
본 발명은, 화상 형성 방법, 열전사(熱轉寫) 시트와 열전사 수상(受像) 시트와의 조합에 관한 것이다.
열전사를 이용한 화상의 형성 방법으로서, 기록재로서의 승화형(昇華型) 염료를 플라스틱 필름 등의 기재(基材) 상에 담지(擔持)시킨 열전사 시트와, 종이나 플라스틱 필름 등의 다른 기재 상에 염료 수용층을 형성한 열전사 수상 시트를 서로 중첩시켜 풀 컬러 화상을 형성하는 승화형 열전사 방식이 알려져 있다. 이 방법은 승화성 염료를 색재로 하고 있으므로, 중간색의 재현성이나 계조성(階調性)이 우수하므로, 원고대로의 풀 컬러 화상을 수상 시트 상에 선명하게 표현할 수 있으므로, 디지털 카메라, 비디오, 컴퓨터 등의 컬러 화상 형성에 응용되고 있다. 그 화상은, 은염 사진에 필적하는 고품질의 것이다.
승화형 열전사 방식에 사용되는 열전사 수상 시트로서는, 용제계(溶劑系)의 염료 수용층을 구비한 용제계의 열전사 수상 시트나, 수계(水系)의 염료 수용층을 구비하는 수계의 열전사 수상 시트가 알려져 있다. 용제계의 열전사 수상 시트는, 수계의 열전사 수상 시트와 비교하여 열전사 시트와의 이형성(離型性)의 점에서 우수하지만, 수계의 열전사 수상 시트 상에 형성되는 화상과 비교하면 광택도가 낮으므로, 형성되는 화상에 높은 광택도가 요구되는 분야에서는, 수계의 열전사 수상 시트가 선호되는 경향에 있다. 또한 폐액(廢液) 등의 처리에 의한 환경에 대한 영향 등의 문제 등으로부터, 수계의 열전사 수상 시트의 사용이 증가 경향에 있다.
수계의 열전사 수상 시트는, 인체나 환경에 대한 영향도 없고, 용제계의 열전사 수상 시트와 비교하여 형성된 화상에 높은 광택감을 부여할 수 있는 장점을 가진다. 한편, 수계의 수용층은 염료층과의 이형성이 나쁘고, 인화 시에 염료층과 수계의 수용층이 융착을 일으키는 경우나, 수용층으로부터 염료층을 잡아뗄 때 인화물에 박리(剝離) 자국을 생기게 하여 인화 품질을 저하시키는 문제가 있었다.
이와 같은 상황 하에서, 열전사 수상 시트와의 이형성이 우수한 열전사 시트에 대한 각종 시도가 이루어져 왔고, 예를 들면, 특허 문헌 1에는, 염료층이 실리콘 오일을 함유하는 염료층을 구비한 열전사 시트가 개시되어 있다. 또한, 특허 문헌 2에는 염료층이 실리콘 변성 아크릴 수지를 함유하는 열전사 시트가 개시되어 있다.
그러나, 특허 문헌 1, 2에 개시가 되어 있는 열전사 시트, 또한 현재까지 알려져 있는 각종 열전사 시트에서는, 고온 고습 환경에 있어서 Y, M, C와 3차원 인화를 최고 계조로 행했을 때의 이형성을 만족시키기까지는 도달하지 않아, 인화물에 박리 자국이 남는 경우가 많이 생긴다. 특히, 수계의 열전사 수상 시트를 사용한 경우에는 박리 자국의 발생이 일어나기 쉽다.
일본공개특허 평7―179064호 공보 일본공개특허 평9―234963호 공보
본 발명은 이와 같은 상황에 있어서 이루어진 것이며, 고온 고습 환경 하에서 인화를 행하는 경우나, 고에너지 인화를 행하는 경우에도, 인화물에 박리 자국이 생기는 것을 방지할 수 있어, 인화 품질이 높은 화상을 형성할 수 있는 화상 형성 방법이나, 이 화상을 형성할 수 있는 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합을 제공하는 것을 주된 과제로 한다.
상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명은, 기재의 한쪽 면에, 염료층이 형성되고, 기재의 다른 쪽 면에 배면층이 형성된 열전사 시트와, 다른 기재의 한쪽 면에 염료 수용층이 형성된 열전사 수상 시트를 조합시켜 화상을 형성하는 화상 형성 방법으로서, 상기 열전사 시트의 상기 염료층이, 승화성 염료와, 바인더 수지와, (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하고 있고, 상기 열전사 수상 시트의 상기 염료 수용층이 수계의 염료 수용층인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 염료층에 함유되는 바인더 수지가, 폴리비닐 아세탈 수지, 또는 폴리비닐 부티랄 수지라도 된다.
또한, 상기 (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및 상기 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중, 상기 염료층에, 상기 (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘이 단독으로 함유되는 경우에는, 상기 (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘은, 상기 염료층의 바인더 수지 고형분에 대하여, 0.5 질량% 이상 5 질량% 이하의 범위 내로 함유되어 있고, 상기 염료층에, 상기 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산이 단독으로 함유되는 경우에는, 상기 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산은, 상기 염료층의 바인더 수지 고형분에 대하여, 0.3 질량% 이상 8 질량% 이하의 범위 내로 함유되어 있고, 상기 염료층에, 상기 (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘 및 상기 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산의 양쪽이 함유되는 경우에는, 상기 (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘과, (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산이, 상기 염료층의 바인더 수지 고형분에 대하여, 그 합계 질량이 0.5 질량% 이상 5 질량% 이하의 범위 내로 함유되어 있어도 된다.
또한, 상기 수계의 염료 수용층이, 수용성 수지 또는 수용성 고분자를 함유하는 염료 수용층, 또는 수계 수지를 포함하는 도공액(塗工液)을 사용하여 형성된 염료 수용층이라도 된다.
또한, 상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명은, 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합으로서, 상기 열전사 시트는, 기재의 한쪽 면에, 승화성 염료와, 바인더 수지와, (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하는 염료층이 형성되고, 상기 기재의 다른 쪽 면에 배면층이 형성된 열전사 시트이며, 상기 열전사 수상 시트는, 다른 기재의 한쪽 면에 수계의 염료 수용층이 형성된 열전사 수상 시트인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 화상 형성 방법이나, 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합에 의하면, 고온 고습 환경 하에서 인화를 행하는 경우나, 고에너지 인화를 행하는 경우에도, 인화물에 박리 자국이 생기는 것을 방지할 수 있어, 인화 품질이 높은 화상을 형성할 수 있다. 또한, 본 발명의 화상 형성 방법에서는, 수계의 염료 수용층 상에 화상이 형성되므로, 광택감이 높은 화상을 형성할 수 있다.
도 1은 본 발명의 화상 형성 방법, 및 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합에 사용되는 열전사 시트의 일례를 나타낸 개략 단면도(斷面圖)이다.
도 2는 본 발명의 화상 형성 방법, 및 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합에 사용되는 열전사 수상 시트의 일례를 나타낸 개략 단면도이다.
이하에, 본 발명의 화상 형성 방법, 및 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합에 대하여 상세하게 설명한다. 본 발명의 화상 형성 방법은, 도 1에 나타내는 기재(1)의 한쪽 면에, 염료층(2)이 형성되고, 기재(1)의 다른 쪽 면에 배면층(4)이 형성된 열전사 시트(10)와, 도 2에 나타내는 다른 기재(21)의 한쪽 면에 염료 수용층(22)이 형성된 열전사 수상 시트(30)를 조합시켜 화상을 형성하는 화상 형성 방법으로서, 열전사 시트(10)의 염료층(2)이, 승화성 염료와, 바인더 수지와, (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하고 있고, 열전사 수상 시트(30)의 염료 수용층(22)이 수계의 염료 수용층인 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 조합은, 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합으로서, 열전사 시트(10)는, 기재(1)의 한쪽 면에, 승화성 염료와, 바인더 수지와, (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하는 염료층(2)이 형성되고, 기재(1)의 다른 쪽 면에 배면층(4)이 형성된 열전사 시트이며, 열전사 수상 시트(30)는, 다른 기재(21)의 한쪽 면에 수계의 염료 수용층(22)이 형성된 열전사 수상 시트인 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명의 화상 형성 방법이나, 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합에 사용되는 열전사 시트(10), 및 열전사 수상 시트(30)에 대하여 구체적으로 설명한다. 그리고, 도 1은, 본 발명의 화상 형성 방법이나, 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합에 사용되는 열전사 시트의 일례를 나타낸 개략 단면도이며, 도 2는, 본 발명의 화상 형성 방법이나, 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합에 사용되는 열전사 수상 시트의 일례를 나타낸 개략 단면도이다.
< < 열전사 시트> >
도 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 화상 형성 방법, 및 열전사 수상 시트와의 조합에 사용되는 열전사 시트(10)는, 기재(1)의 한쪽 면 상에 염료층(2)이 형성되고, 기재(1)의 다른 쪽 면 상에 배면층(4)이 형성된 구성을 취한다. 그리고, 본 발명에서는, 염료층(2)이, 승화성 염료와, 바인더 수지와, (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하고 있다. 그리고, 도 1에서는, 기재(1)와 염료층(2)과의 사이에 언더코팅층(3)이 형성되어 있지만, 언더코팅층(3)은 본 발명의 화상 형성 방법, 및 조합에서 사용되는 열전사 시트(10)에서의 임의의 구성이다.
(기재)
열전사 시트(10)에 사용되는 기재(1)로서는, 어느 정도의 내열성과 강도에 더하여, 투명성을 가지는 것이면 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 재료를 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 이와 같은 기재(1)로서, 예를 들면, 0.5∼50㎛, 바람직하게는 1∼10㎛ 정도 두께의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름, 1, 4―폴리시클로헥실렌디메틸렌 테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름, 폴리페닐렌 설파이드 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리술폰 필름, 아라미드 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리비닐알코올 필름, 셀로판, 아세트산 셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리에틸렌 필름, 폴리염화비닐 필름, 나일론 필름, 폴리이미드 필름, 아이오노머 필름 등을 들 수 있다. 또한, 이들 재료는 각각 단독으로도 사용할 수 있지만, 다른 재료와 조합한 적층체로서 사용해도 된다.
(염료층)
도 1에 나타낸 바와 같이 기재(1) 상에는 염료층(2)이 형성되어 있다. 염료층(2)에는, 승화성 염료, 바인더 수지와 함께, (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중 어느 한쪽 또는 양쪽이 함유되어 있다.
< 폴리에테르 변성 실리콘>
염료층(2)에 함유되는 폴리에테르 변성 실리콘은, 하기 일반식(1)에 나타낸 바와 같이, 폴리에테르기를 폴리실록산의 측쇄(側鎖)에 도입한 것이다.
Figure pct00001
(식 중 R은 H, 또는 아릴기, 또는시클로알킬기로 치환되어도 되는 직쇄 또는 분지의 알킬기를 나타내고, R1은 알킬기, 또는 에폭시기, 아미노기의 유기 변성기(變性基). a, b는 100 이하의 정수(整數), m, x, y는 정수이며 특별히 한정은 없다.)
상기 일반식(1)에서 나타내는 폴리에테르 변성 실리콘은, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상으로 규정되어 있다. 본 발명에서는, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘을 염료층(2)에 함유시킴으로써, 염료층(2)에, 열전사 수상 시트의 염료 수용층과의 우수한 이형성이 부여된다. 따라서, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘을 함유하는 염료층(2)을 구비하는 열전사 시트를 사용하여 화상을 형성하는 본 발명의 화상 형성 방법에 의하면, 수계의 염료 수용층과의 이형성이 양호한 것으로부터, 박리 자국의 발생을 효과적으로 방지할 수 있어, 고품질의 화상을 형성할 수 있다. 또한, 수계의 염료 수용층 상에 화상이 형성되므로, 얻어지는 화상의 광택감을 향상시킬 수 있다.
그리고, 폴리에테르 변성 실리콘의 25℃에서의 점도는, JIS Z 8803(2011)에 준거하는 측정 방법에 의해 측정된 점도를 의미한다.
그리고, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 미만의 폴리에테르 변성 실리콘을 염료층(2)에 함유한 경우나, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상이라도, 폴리에스테르 변성 폴리실록산을 제외하고 폴리에테르 변성 이외의 변성 실리콘 수지를 염료층(2)에 함유한 경우에는, 이형성을 충분히 향상시킬 수 없어, 수계의 염료 수용층을 사용하여 화상을 형성했을 때 박리 자국이 생긴다.
상기 일반식(1)에 나타내는 m, x, y의 수치에 대하여 특별히 한정되지 않고, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상으로 되도록 적절히 설정할 수 있다.
염료층(2) 중에서의 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘의 함유량에 대해서도 특별히 한정은 없지만, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘과, 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중, 염료층(2)에, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘이 단독으로 함유되는 경우에는, 상기 폴리에테르 변성 실리콘은, 염료층(2)의 바인더 수지 고형분에 대하여, 0.5 질량% 이상 5 질량% 이하의 범위 내로 함유되어 있는 것이 바람직하다. 그리고, 염료층(2)의 바인더 수지 고형분에 대하여 0.5 질량% 미만인 경우에는, 이형성의 향상 효과가 저하되는 경향이 있다. 한편, 5 질량%보다 많은 경우에는, 염료층의 도공면(塗工面)에 핀홀(pinhole) 등의 불량이나, 염료층의 염료가 석출(析出)하는 등의 보존 안정성이 저하되는 경우가 있다.
폴리에테르 변성 실리콘은, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상이면 되고, 그 상한에 대하여 특별히 한정은 없지만, 25℃에서의 점도가 100000㎟/s를 넘으면, 염료층 형성 시에서의 도공(塗工) 적성이 악화되는 경향이 있다. 따라서, 이 점을 고려하면, 폴리에테르 변성 실리콘은, 25℃에서의 점도가 100000㎟/s 이하인 것이 바람직하다.
< 폴리에스테르 변성 폴리실록산>
폴리에스테르 변성 폴리실록산으로서는, 하기 일반식(2)에 나타낸 바와 같이, 폴리에스테르기를 폴리실록산의 측쇄에 도입한 것이다.
Figure pct00002
(식 중 R은 알킬기를 나타내고, R1, R2는 알킬렌기 또는 아릴기를 나타내고, R3는 알킬기를 나타낸다. 또한, m, n 또한, x, y는 수치를 나타내고 특별히 한정은 없다)
이와 같은 폴리에스테르 변성 폴리실록산으로서는, 폴리에스테르 변성 폴리 디메틸실록산, 폴리에스테르 변성 폴리메틸알킬 실록산, 폴리에스테르 변성 메틸알킬 폴리실록산, 폴리에스테르 변성 수산기 함유 폴리 디메틸실록산이나, 이에 준하는 구성을 가지는 것을 들 수 있다.
본 발명에서는, 염료층(2)에 폴리에스테르 변성 폴리실록산을 함유시킴으로써, 염료층(2)에, 열전사 수상 시트의 수계의 염료 수용층과의 우수한 이형성이 부여된다. 따라서, 폴리에스테르 변성 폴리실록산을 함유하는 염료층(2)을 구비하는 열전사 시트를 사용하여 화상을 형성하는 본 발명의 화상 형성 방법에 의하면, 수계의 염료 수용층과의 이형성이 양호한 것으로부터, 박리 자국의 발생을 효과적으로 방지할 수 있어, 고품질의 화상을 형성할 수 있다. 또한, 수계의 염료 수용층 상에 화상이 형성되므로, 얻어지는 화상의 광택감을 향상시킬 수 있다. 또한, 고온 고습 환경 하에서 고에너지의 인화를 행하는 경우라도, 수계의 염료 수용층과의 이형성이 양호하여, 박리 자국의 발생을 효과적으로 방지할 수 있다.
염료층(2) 중에서의 폴리에스테르 변성 폴리실록산의 함유량에 대해서도 특별히 한정은 없지만, 전술한 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘과, 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중, 염료층(2)에, 폴리에스테르 변성 폴리실록산이 단독으로 함유되는 경우에는, 상기 폴리에스테르 변성 폴리실록산은, 염료층(2)의 바인더 수지 고형분에 대하여, 0.3 질량% 이상 8 질량% 이하의 범위 내로 함유되어 있는 것이 바람직하다. 그리고, 폴리에스테르 변성 폴리실록산의 함유량이, 염료층(2)의 바인더 수지 고형분에 대하여 0.3 질량% 미만인 경우에는, 이형성의 향상 효과가 저하되는 경향에 있다. 한편, 8 질량%보다 많은 경우에는, 염료층의 도공면에 핀홀 등의 불량이나, 염료층의 염료가 석출하는 등의 보존 안정성이 저하되는 경우가 있다.
또한, 염료층(2)에, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘과, 폴리에스테르 변성 폴리실록산의 양쪽이 함유되는 경우에는, 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘과, 폴리에스테르 변성 폴리실록산이, 상기 염료층의 바인더 수지 고형분에 대하여, 그 합계 질량이 0.5 질량% 이상 5 질량% 이하의 범위 내로 함유되어 있는 것이 바람직하다. 이 범위 내에서 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘과, 폴리 에스테르 변성 폴리실록산의 양쪽을 함유시킴으로써, 수계의 염료 수용층과의 이형성을 향상시키면서, 보존 안정성을 향상시킬 수 있다.
또한, 염료층(2)에, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘과, 폴리에스테르 변성 폴리실록산의 양쪽이, 상기 바람직한 범위 내로 함유되는 경우에서의, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘과, 폴리에스테르 변성 폴리실록산과의 배합비에 대해서도 특별히 한정은 없지만, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘과, 폴리에스테르 변성 폴리실록산과의 합계 질량에 대하여, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘은 1 질량% 이상 99 질량% 이하의 범위 내로 함유되어 있는 것이 바람직하다.
그리고, 본 발명은, 염료층(2)에, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 미만의 폴리에테르 변성 실리콘이나, 폴리에스테르 변성 폴리실록산 이외의 폴리실록산이 함유되는 것을 금지하는 것이 아니고, 본 발명의 취지를 방해하지 않는 범위 내에서, 각종 변성 실리콘을 함유시킬 수도 있다. 또한, 폴리에테르 변성 실리콘은, 폴리에테르기와 다른 유기 변성기에 의해 공변성(共變性)된 실리콘이라도 된다. 또한, 폴리에스테르 변성 폴리실록산은, 폴리에스테르기와 다른 유기 변성기에 의해 공변성된 폴리실록산이라도 된다.
< 바인더 수지>
염료층(2)에 함유되는 바인더 수지에 대하여 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 바인더 수지를 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 바람직한 바인더 수지로서는, 에틸 셀룰로오스, 셀룰로오스 아세테이트프로피오네이트, 셀룰로오스 아세테이트부틸레이트, 메틸셀룰로오스, 아세트산 셀룰로오스, 부티르산 셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아세트산 비닐, 폴리비닐 부티랄, 폴리비닐 아세탈, 폴리아크릴 아미드 등의 비닐계 수지, 폴리에스테르계 수지, 페녹시 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 내열성, 염료의 이행성 등의 관점에서, 폴리비닐 아세탈 수지나, 폴리비닐 부티랄 수지를 특히 바람직하게 사용할 수 있다.
< 승화성 염료>
염료층(2)에는 승화성 염료가 함유되어 있다. 승화성 염료로서는 종래 공지의 것을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 승화성 염료로서는, 예를 들면, 디아릴메탄계, 트리아릴메탄계, 티아졸계, 메로시아닌, 피라조론메틴 등의 메틴계, 인도아닐린, 아세트페논아조메틴, 피라졸로아조메틴, 이미다졸아조메틴, 이미다조아조메틴, 피리돈아조메틴으로 대표되는 아조메틴계, 키산텐계, 옥사진계, 디시아노스티렌, 트리시아노스티렌으로 대표되는 시아노메틸렌계, 티아진계, 아진계, 아크리딘계, 벤젠아조계, 피리돈아조, 티오펜아조, 이소티아졸아조, 피롤아조, 피랄아조, 이미다졸아조, 티아디아졸아조, 트리아졸아조, 디즈아조 등의 아조계, 스피로피란계, 인돌리노스피로피란계, 플루오란계, 로다민락탐계, 나프토퀴논계, 안트라퀴논계, 키노후타론계 등의 것을 들 수 있다.
승화성 염료는, 염료층(2)의 바인더 수지 고형분에 대하여, 50 질량% 이상 350 질량%, 바람직하게는 80 질량% 이상 300 질량%인 것이 바람직하다. 승화성 염료의 함유량이, 상기 범위 미만이면 인자 농도가 낮아지는 경우가 있고, 상기 범위를 초과하면 보존성 등이 저하되는 경우가 있다.
염료층(2)에는, 무기 미립자, 유기 미립자 등의 첨가제가 함유되어 있어도 된다. 무기 미립자로서는, 카본 블랙, 실리카, 2 황화 몰리브덴 등을 들 수 있고, 유기 미립자로서는, 폴리에틸렌 왁스 등을 들 수 있다. 또한, 염료층(2)에는, 본 발명의 취지를 방해하지 않는 범위 내에서, 상기 폴리에테르 변성 실리콘, 및/또는 폴리에스테르 변성 폴리실록산과 함께, 다른 이형제(離型劑)가 함유되어 있어도 된다. 다른 이형제로서는, 인산 에스테르 등을 들 수 있다.
염료층(2)의 형성 방법에 대해서도 특별히 한정되지 않고, 염료층에 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및/또는 폴리에스테르 변성 폴리실록산, 바인더 수지, 승화성 염료, 또한 필요에 따라 첨가제, 예를 들면, 이형제나 무기 미립자 등을 부가하여, 톨루엔, 메틸에틸케톤, 이소프로필 알코올, 에탄올, 시클로헥사논, DMF 등의 적당한 유기용제에 용하여, 또는 유기용제나 물에 분산한 도공액을 그라비아 인쇄, 다이 코트 인쇄, 바 코트 인쇄, 스크린 인쇄, 또는 그라비아판을 사용한 리버스 롤 코팅 인쇄 등의 수단에 의해 도포, 및 건조하여 형성할 수 있다. 염료층(2)의 도공량(塗工量)은, 건조 고형 기준으로 0.2∼4.0 g/㎡, 바람직하게는 0.2∼3.0 g/㎡ 정도이다.
그리고, 도 1에 나타낸 형태에서는, 기재(1) 상에 단일의 염료층(2)이 형성된 구성을 가지고 있지만, 상이한 염료를 포함하는 염료층을 동일 기재의 동일면에 면 순차적으로 반복 형성하는 것도 가능하다. 또한, 동일면 상에 전사성 보호층을 형성하는 것이라도 된다.
상이한 염료를 포함하는 염료층을 동일 기재의 동일면에 면 순차적으로 반복 형성하는 경우에 있어서, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및/또는 폴리에스테르 변성 폴리실록산은, 어느 하나의 염료층에 함유되어 있으면 되지만, 모든 염료층에 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및/또는 폴리에스테르 변성 폴리실록산이 함유되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 모든 염료층에 상기에서 설명한 바람직한 함유량으로, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및/또는 폴리에스테르 변성 폴리실록산이 함유되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 후술하는 바와 같이 염료 수용층(22)에 실리콘 오일 등의 이형제를 함유시킴으로써, 더욱 이형성의 향상을 도모하는 것이 가능해진다. 그러나, 면 순차적으로 형성된 각 염료층을 사용하여 1차색, 2차색으로 순차적으로 화상 형성을 행한 경우에는, 염료 수용층(22)에 포함되는 이형제는, 단계적으로 염료층(2)에 있어져가 염료 수용층(22)에 포함되는 이형제의 절대량은 감소하여 간다. 예를 들면, 1차색의 화상 형성 시에, 염료 수용층(22)에 포함되는 이형제는, 상기 1차색의 화상 형성에 사용한 염료층 측에 있어져 2차색의 화상 형성 시에서의 염료 수용층(22) 중의 이형제의 함유량은, 1차색의 화상 형성 시에서의 염료 수용층(22) 중의 이형제의 함유량보다 적어진다. 따라서, 1개의 염료층(2)을 사용하여 1차색의 화상을 형성한 후에, 다른 염료층을 사용하여 2차색, 3차색으로 순차적으로 화상 형성을 행하는 경우에는, 염료 수용층(22)으로부터 이형제가 단계적으로 감소하여 감으로써 생기는 이형성의 손실분을, 다른 염료층 측에서 보충하는 것을 필요로 한다.
이 점을 고려하면, 염료층을 면 순차적으로 형성하는 구성으로 하는 경우에는, 각 염료층에 포함되는 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및/또는 폴리에스테르 변성 폴리실록산의 함유량을, 상기에서 설명한 바람직한 함유량의 범위 내에서 동일하게 하거나, 또는 각 염료층에 포함되는 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및/또는 폴리에스테르 변성 폴리실록산의 함유량을, 상기에서 설명한 바람직한 함유량의 범위 내에서, 화상 형성 순서에 따라 단계적으로 증가시키는 것이 바람직하다.
그리고, 이것은, 염료 수용층(22)에 이형제가 함유되는 것을 필수적인 조건 으로 하는 것이 아니고, 염료 수용층(22)에 이형제가 함유되어 있지 않은 경우라도, 25℃에서의 점도가 1000㎟/s 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및/또는 폴리에스테르 변성 폴리실록산을 함유하는 염료층(2)을 구비하는 열전사 시트를 이용하면, 충분한 이형성을 도모할 수 있다.
(언더코팅층)
본 발명에 있어서는, 기재(1)와 염료층(2)과의 사이에 언더코팅층(3)이 형성되어 있는 것이 바람직하다. 언더코팅층(3)을 형성함으로써 기재(1)와 염료층(2)과의 밀착성을 향상시키고, 열전사 시에 열전사 수상 시트로의 염료층(2)의 이상(異常) 전사를 방지할 수 있다.
언더코팅층(3)을 구성하는 수지로서는, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐 피롤리돈 수지, 폴리비닐알코올 수지, 하이드록시 에틸 셀룰로오스, 폴리아크릴산 에스테르계 수지, 폴리아세트산 비닐계 수지, 폴리우레탄계 수지, 스티렌 아크릴레이트계 수지, 폴리아크릴 아미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리비닐 아세트아세탈이나 폴리비닐 부티랄 등의 폴리비닐 아세탈계 수지 등을 들 수 있다.
또한, 언더코팅층(3)을 콜로이드형 무기 안료 초미립자로 구성할 수도 있다. 이로써, 열전사 시의 열전사 수상 시트에 염료층(2)의 이상 전사를 방지할 수 있을뿐 아니라, 인화 시의 염료층(2)으로부터 언더코팅층(3)으로의 염료의 이행을 방지하고, 열전사 수상 시트의 염료 수용층 측으로의 염료 확산을 유효하게 행할 수 있어 인화 농도를 높일 수 있다.
콜로이드형 무기 안료 초미립자로서, 종래 공지의 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들면, 실리카(콜로이달 실리카), 알루미나 혹은 알루미나 수화물(알루미나 콜로이드 용액, 콜로이달 알루미나, 카티온성 알루미늄 산화물 또는 그 수화물, 유사 베마이트 등), 규산알루미늄, 규산마그네슘, 탄산마그네슘, 산화마그네슘, 산화티탄 등을 들 수 있다. 특히, 콜로이달 실리카, 알루미나 콜로이드 용액이 바람직하게 사용된다. 이들 콜로이드형 무기 안료 초미립자의 크기는, 1차 평균 입경으로 100㎚ 이하, 바람직하게는 50㎚ 이하로 사용하는 것이 바람직하다.
언더코팅층(3)은, 상기에서 예시한 수지나, 콜로이드형 무기 안료 초미립자를 적당한 용매에 용해 또는 분산한 언더코팅층용 도공액을 그라비아 코팅법, 롤 코팅법, 스크린 인쇄법, 그라비아판을 사용한 리버스 롤 코팅법 등의 종래부터 공지의 형성 수단에 의해, 도포·건조하여 형성할 수 있다. 언더코팅층용 도공액의 도공량은, 0.02∼1.0 g/㎡ 정도인 것이 바람직하다.
(배면층)
도 1에 나타낸 바와 같이, 기재(1)의 다른 쪽 면에, 내열성, 및 인화 시에서의 서멀 헤드의 주행성 등을 향상시키기 위한 배면층(4)을 형성해도 된다. 그리고, 배면층(4)은 본 발명의 화상 형성 방법, 및 조합에서 사용되는 열전사 시트에서의 임의의 구성이다.
배면층(4)은, 종래 공지의 열가소성 수지 등을 적절히 선택하여 형성할 수 있다. 이와 같은, 열가소성 수지로서, 예를 들면, 폴리에스테르계 수지, 폴리아크릴산 에스테르계 수지, 폴리아세트산 비닐계 수지, 스티렌아크릴레이트계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리 아크릴 아미드 수지, 폴리비닐 염화물 수지, 폴리비닐 부티랄 수지, 폴리비닐 아세트 아세탈 수지 등의 폴리비닐 아세탈 수지 등의 열가소성 수지, 이들의 실리콘 변성물 등을 들 수 있다.
또한, 상기한 수지에 경화제를 첨가해도 된다. 경화제로서 기능하는 폴리이소시아네이트 수지로서는, 특히 제한없이 종래 공지의 것을 사용할 수 있지만, 이들 그 중에서도, 방향족계 이소시아네이트의 어덕트체를 사용하는 것이 바람직하다. 방향족계 폴리이소시아네이트로서는, 2, 4―톨루엔 디이소시아네이트, 2, 6―톨루엔 디이소시아네이트, 또는 2, 4―톨루엔 디이소시아네이트와 2, 6―톨루엔 디이소시아네이트의 혼합물, 1, 5―나프탈렌 디이소시아네이트, 톨리딘 디이소시아네이트, p―페닐렌 디이소시아네이트, tran―시클로헥산―1, 4―디이소시아네이트, 크실렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트를 들 수 있고, 특히 2, 4―톨루엔 디이소시아네이트, 2, 6―톨루엔 디이소시아네이트, 또는 2, 4―톨루엔 디이소시아네이트와 2, 6―톨루엔 디이소시아네이트의 혼합물이 바람직하다. 이와 같은 폴리이소시아네이트 수지는, 상기한 수산기 함유 열가소성 수지를 그 수산기를 이용하여 가교시켜, 배면층의 도막 강도나 내열성을 향상시킨다.
또한, 배면층(4)에는, 상기 열가소성 수지에 더하여, 슬립성을 향상시킬 목적으로, 왁스, 고급 지방산 아미드, 인산 에스테르 화합물, 금속 비누, 실리콘 오일, 계면활성제 등의 이형제, 불소 수지 등의 유기 분말, 실리카, 진흙, 탈크, 탄산칼슘 등의 무기 입자 등의 각종 첨가제가 함유되어 있는 것이 바람직하고, 인산 에스테르 또는 금속 비누 중 적어도 1종이 함유되어 있는 것이 특히 바람직하다.
배면층(4)은, 예를 들면, 상기 열가소성 수지, 필요에 따라 첨가되는 각종 첨가재를 적당한 용매에 분산 또는 용해시킨 도공액을, 기재(1)의 염료층(2)의 반대측의 면 상에, 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법, 그라비아판을 사용한 리버스 롤 코팅 인쇄법 등의 공지의 수단에 의해, 도포하고, 건조함으로써 형성할 수 있다. 배면층(4)의 도공량은, 내열성 등의 향상 등의 점으로부터, 건조 후 도공량이 3g/㎡ 이하인 것이 바람직하고, 0.1∼2 g/㎡로 하는 것이 더욱 바람직하다.
< < 열전사 수상 시트> >
다음에, 본 발명의 화상 형성 방법, 및 열전사 시트와의 조합에 사용되는 열전사 수상 시트에 대하여 설명한다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명에서 사용되는 열전사 수상 시트(30)는, 다른 기재(21)의 한쪽 면에 염료 수용층(22)이 형성된 구성을 취한다. 그리고, 도 2에서는, 다른 기재(21) 상과 염료 수용층(22)과의 사이에, 단열층(25)이 형성되어 있지만 단열층(25)은, 본 발명에 사용되는 열전사 수상 시트(30)에서의 임의의 구성이다. 이하, 열전사 수상 시트(30)의 각각의 구성에 대하여 구체적으로 설명한다.
(다른 기재)
다른 기재(21)는 본 발명에서 사용되는 열전사 수상 시트(30)에서의 필수적인 구성이며, 염료 수용층(22), 또는 임의의 구성인 단열층(25) 등을 유지하기 위해 형성된다. 다른 기재(21)에 대하여 특별히 한정하지 않고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트 등의 내열성이 높은 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 아세트산 셀룰로오스, 폴리에틸렌 유도체, 폴리아미드, 폴리메틸펜텐 등의 플라스틱의 연신(延伸) 또는 미연신(未延伸) 필름이나, 이들 합성 수지에 백색 안료나 충전제를 부가하여 성막한 백색 불투명 필름도 사용할 수 있다. 이외에도, 상질지(上質紙), 코트지, 아트지, 캐스트 코트지, 판지 등의 재료도 사용할 수 있다. 또한, 이들 재료를 2종 이상 적층한 복합 필름도 사용할 수 있다. 대표적인 적층체의 예로서, 셀룰로오스 섬유지(纖維紙)와 합성지(合成紙) 또는 셀룰로오스 합성지와 플라스틱 필름과 합성지를 들 수 있다. 본 발명에 있어서는, 시판 중인 기재를 사용할 수도 있고, 예를 들면, RC지 페이퍼[미츠비시 제지(주) 제조, 상품명: STF―150] 등이 바람직하다. 그리고, 본원 명세서에서는 열전사 시트를 구성하는 기재(1)와 구별하기 위해 열전사 수상 시트(30)를 구성하는 기재를 다른 기재(21)라고 하고 있지만, 열전사 시트(10)를 구성하는 기재(1)와, 열전사 수상 시트(30)를 구성하는 다른 기재(21)는 동일한 것이라도 되고, 상이한 것이라도 된다.
다른 기재(21)의 두께는, 그 강도 및 내열성 등이 적절하게 되도록 재료에 따라, 적절히 선택할 수 있지만, 통상 50㎛∼1000㎛, 바람직하게는 60㎛∼300㎛ 정도이다.
(염료 수용층)
다른 기재(21) 상에는 염료 수용층(22)이 형성되어 있다. 염료 수용층(22)은 본 발명에서 사용되는 열전사 수상 시트(30)에서의 필수적인 구성이다.
본 발명에서는 염료 수용층(22)이 수계의 염료 수용층(22)인 것을 특징으로 한다. 수계의 염료 수용층(22)을 가지는 열전사 수상 시트를 사용하여 화상을 형성함으로써 광택감이 높은 화상을 형성할 수 있다. 수계의 염료 수용층(22)은, 염료층(2)과의 이형성이 낮은 염료 수용층이지만, 본 발명의 화상 형성 방법에서는 상기에서 설명한 열전사 시트(10)와 조합시켜 화상이 형성되므로, 박리 자국의 발생이나, 수계의 염료 수용층(22)의 장점인 광택감의 저하가 생기게 하지 않고 화상을 형성할 수 있다.
본 발명에 있어서, 수계의 염료 수용층이란, 수계 용매에 용해 또는 분산 가능한 수지, 예를 들면, 수용성 수지, 수용성 고분자, 또는 수계 수지 등을, 수계 용매에 용해 또는 분산시킨 수계 도공액을 사용하여 형성된 염료 수용층을 말한다. 수용성 수지, 수용성 고분자로서는 폴리비닐 피롤리돈, 폴리비닐 알코올, 하이드로 에틸 셀룰로오스, 카르복시메틸 셀룰로오스, 페놀 수지, 폴리아크릴산, 폴리아크릴산 에스테르, 폴리아크릴산 에스테르 공중합체, 폴리메타크릴산 등의 수용성의 아크릴 수지, 젤라틴, 전분, 가제인 및 이들 변성물 등을 들 수 있다. 수계 수지로서는 염화 비닐 수지 에멀젼, 염화 비닐―아세트산 비닐 수지 에멀젼, 염화 비닐―아크릴 수지 에멀젼 등의 염화비닐계 수지 에멀젼, 아크릴계 수지 에멀젼, 우레탄계 수지 에멀젼, 염화비닐계 수지 디스퍼전, 아크릴계 수지 디스퍼전, 우레탄계 수지 디스퍼전 등 용매의 일부가 물로 구성되어 있는 것을 들 수 있다. 그리고, 상기 수계 수지는, 예를 들면, 용제계 수지를 포함하는 용액을 호모지나이저 등에 의해 분산하고 조제함으로써 형성할 수 있다.
수용성 수지, 수용성 고분자, 또는 수계 수지는, 염료 수용층(22)의 고형분 총량에 대하여, 50 질량% 이상 95 질량% 이하의 범위 내로 함유되어 있는 것이 바람직하다. 상기 범위에서 수성 수지가 함유된 염료 수용층(22)으로 함으로써, 형성되는 화상에 의해 높은 광택감을 부여할 수 있다.
염료 수용층(22)에는, 열전사 시트(10)의 염료층(2)과의 이형성을 높이기 위한 이형제가 첨가되어 있는 것이 바람직하다.
수용성 수지, 수용성 고분자, 또는 수계 수지와 병용하는 이형제로서는, 실리콘 오일(실리콘 수지라는 것도 포함함); 폴리에틸렌 왁스, 아미드 왁스, 테플론(등록상표) 파우더 등의 고형 왁스 종류; 불소계, 인산 에스테르계의 계면활성제 등을 들 수 있고, 그 중에서도 실리콘 오일이 바람직하다. 염료 수용층(22) 측에도, 실리콘 오일을 함유시킴으로써, 상기에서 설명한 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및/또는 폴리에스테르 변성 폴리실록산을 함유하는 염료층(2)을 구비한 열전사 시트(10)와의 상승 효과에 의해, 더욱 이형성을 향상시킬 수 있어, 높은 광택도를 가지는 화상 형성이 가능해진다.
염료 수용층에 포함되는 실리콘 오일로서, 각종 변성 실리콘을 사용할 수도 있다. 변성 실리콘 오일은, 아미노 변성, 에폭시 변성, 카르복실 변성, 카르비놀 변성, 메타크릴 변성, 메르캅토 변성, 페놀 변성, 폴리에테르 변성, 메틸스티릴 변성, 알킬 변성, 아랄킬 변성, 고급 지방산 에스테르 변성, 친수성 특수 변성, 고급 알콕시 변성, 고급 지방산 변성, 불소 변성 등이 행해진 실리콘 오일을 들 수 있다. 이들 각종 변성 실리콘은 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병행하여 사용할 수도 있다.
염료 수용층(22)에 함유되는 실리콘 오일의 함유량에 대하여 특별히 한정은 없지만, 바인더 수지로서의 수용성 수지, 수용성 고분자를 함유하는 염료 수용층, 수계 수지의 고형분 총량에 대하여, 0.05 질량% 이상 15 질량% 이하의 범위 내로 함유되어 있는 것이 바람직하다. 15 질량% 이상을 넘으면, 염료 수용층(22)에 스며듦이 생기는 경우가 있고, 0.05 질량% 미만인 경우에는, 열전사 시트와의 상승 효과를 충분히 얻을 수 없는 경우가 있다.
또한, 염료층(2)에 포함되는 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및/또는 폴리에스테르 변성 폴리실록산과, 염료 수용층(22)에 포함되는 실리콘 오일과의 합계 질량은, 열전사 시트(10)의 염료층(2)에 포함되는 바인더 수지와, 열전사 수상 시트(30)에 포함되는 바인더 수지로서의 수용성 수지, 및/또는 수용성 고분자, 및/또는 수계 수지의 합계의 고형분 총량에 대하여, 0.5 질량% 이상 15 질량% 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 염료층(2)에 포함되는 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및/또는 폴리에스테르 변성 폴리실록산과, 염료 수용층(22)에 포함되는 실리콘 오일과의 함유량을 이와 같은 범위로 함으로써, 더욱 이형성의 향상이 도모된다.
염료 수용층(22)은 수용성 수지, 수용성 고분자, 또는 수계 수지, 그 외에 필요에 따라 첨가하는 첨가제를 물 또는 수용액에 분산 또는 용해하여 수계 도공액을 다른 기재(21) 상에 와이어 바 코트, 그라비아 코트, 슬라이딩 코트, 롤 도포법 등을 이용하여 도공·건조함으로써 형성된다. 수계 도공액을 조제하는 경우에는, 상기 수성 수지의 물에 대한 용해성 또는 분산성에 따라, 수지를 물에 용해 또는 분산시키는 것이 바람직하다. 염료 수용층(22)의 두께에 대하여 특별히 한정은 없지만, 0.5∼10㎛의 범위가 일반적이다.
(실링층)
염료 수용층(22)은 수계 도공액을 사용하여 형성되므로, 다른 기재(21)로서, 예를 들면, 코트지를 사용한 경우에는, 코트지가 물을 흡수하고, 그 결과, 열전사 수상 시트(30)에 컬이 발생할 우려가 생긴다. 따라서, 다른 기재(21)가 흡수성이 높은 기재인 경우에는, 다른 기재(21)와 염료 수용층(22)과의 사이에 실링층(도시하지 않음)을 형성하는 것이 바람직하다. 그리고, 다른 기재(21)와 염료 수용층(22)과의 사이에 다른 임의의 층을 형성하고, 상기 층이 수계의 도공액을 사용하지 않고 형성되는 경우에는 실링층은 불필요하다. 한편, 다른 임의의 층, 예를 들면, 후술하는 단열층(25)을 수계의 도공액을 사용하여 다른 기재(21) 상에 직접적으로 형성하는 경우에는, 상기한 동일한 이유에 의해 실링층을 형성하는 것이 바람직하다.
실링층은, 방수성을 가지는 기능을 얻으려면, 그 재료 등에 대하여 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 폴리에스테르 수지, 아크릴계 수지, 아크릴―우레탄계 수지, 염화 비닐계 수지 등으로 이루어지는 것이나, (메타)아크릴산 알킬 에스테르 단독 중합체계 에멀젼, (메타)아크릴산 알킬 에스테르―스티렌 공중합체계 에멀젼, (메타)아크릴산 알킬 에스테르―아세트산 비닐 공중합체계 에멀젼, 시멘트 필러 에멀젼 등의 에멀젼으로 이루어지는 것을 들 수 있다.
실링층의 두께에 대해서도 특별히 한정은 없지만, 0.2 g/㎡∼10.0 g/㎡ 정도가 바람직하다.
(단열층)
다른 기재(21)와 염료 수용층(22)과의 사이에 단열층(25)이 형성되어 있어도 된다. 단열층(25)을 형성함으로써, 서멀 헤드로부터 염료 수용층(22)에 가해진 열이 다른 기재(21) 등에 전열됨으로써 손실되어 인화 농도가 저하되는 것을 방지할 수 있다. 이하, 단열층의 일례에 대하여 설명하지만, 이외에도 「단열층」, 「중공(입자)층」, 「단열층」이라고 하는 종래 공지의 모든 것을 적절히 선택하여 사용할 수 있다.
단열층(25)에는 일반적으로 단열성이나 쿠션성을 부여하는 기능을 가지는 중공 입자가 함유되어 있다. 중공 입자는 발포 입자라도 되고, 또는 비발포 입자라도 된다. 또한, 발포 입자는, 독립 발포 입자라도 되고, 또는 연속 발포 입자라도 된다. 또한, 중공 입자는, 수지 등으로 구성되는 유기계 중공 입자라도 되고, 유리 등으로 구성되는 무기계 중공 입자라도 된다. 또한, 중공 입자는, 가교 중공 입자라도 된다.
중공 입자를 구성하는 수지로서는, 예를 들면, 가교 스티렌―아크릴 수지 등의 스티렌계 수지, 아크릴로니트릴―아크릴 수지 등의 (메타)아크릴계 수지, 페놀계 수지, 불소계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에테르계 수지 등을 들 수 있다. 중공 입자의 평균 입경은, 중공 입자를 구성하는 수지의 종류 등에 따라, 단열층에 원하는 단열성 및 쿠션성을 부여할 수 있는 범위이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 0.1㎛∼15㎛의 범위 내인 것이 바람직하고, 특히 0.1㎛∼10㎛의 범위 내인 것이 바람직하다. 평균 입경이 너무 작으면, 중공 입자의 사용량이 증가하여 비용이 높아지고, 평균 입경이 너무 크면, 평활한 단열층을 형성하는 것이 곤란하게 되기 때문이다.
본 발명에 있어서, 단열층(25)에 포함되는 중공 입자의 양으로서는, 원하는 단열성 및 쿠션성을 가지는 단열층을 얻을 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 30 질량%∼90 질량%의 범위 내인 것이 바람직하고, 그 중에서도 50 질량%∼80 질량%의 범위 내인 것이 바람직하다. 함유량이 너무 적으면, 단열층에서의 공극(空隙)이 적어지게 되고, 충분한 단열성 및 쿠션성을 얻을 수 없는 경우가 있고, 함유량이 너무 많으면, 접착성이 뒤떨어지기 때문이다.
열전사 수상 시트(30)는, 각종 기능층을 가지고 있어도 된다. 각종 기능층으로서는, 예를 들면, 다른 기재(21)와 염료 수용층(22), 또는 단열층(25)과의 밀착성을 향상시키기 위한 프라이머층이나, 내용제성을 부여하기 위한 배리어층 등을 들 수 있다. 또한, 다른 기재(21)의 염료 수용층(22)이 형성되어 있는 면과는 상이한 면에, 열전사 수상 시트의 반송성(搬送性) 향상 기능이나, 컬 방지 기능을 가지는 이면층(裏面層)을 형성할 수도 있다. 본 발명에 사용되는 열전사 수상 시트(30)는, 상기에서 설명한 바와 같이, 수계의 염료 수용층(22)을 필수적인 구성으로서 가지고 있으면 되고, 그 이외의 각종 기능층에 대하여 어떠한 한정도 되지 않는다.
(화상의 형성)
본 발명에서는, 상기에서 설명한 열전사 시트(10)의 염료층(2)과, 열전사 수상 시트(30)의 염료 수용층(22)을 중첩시키고, 서멀 헤드 등의 가열 수단에 의해 열전사 시트(10)의 배면측으로부터 열을 인가하여, 염료층(2)에 포함되는 염료를 염료 수용층(22)으로 이행시킴으로써 화상을 형성할 수 있다.
[실시예]
이하에 실시예와 비교예를 들어 본 발명을 설명한다. 그리고, 실시예 중의 「부(部)」는 특히 한정하지 않는 한 질량 기준이다.
[열전사 시트 1의 제작]
기재로서의 두께 5㎛의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 사용하고, 이 위에, 하기 조성(組成)의 배면층용 도공액을 건조 시 1.0 g/㎡로 되도록 도포하고, 배면층을 형성하였다. 이어서, 상기 기재의 배면층을 형성한 측과는 반대의 면에, 하기의 언더코팅층용 도공액을 건조시 0.10 g/㎡로 되도록 도포하고, 언더코팅층을 형성하고, 그 위에 하기 조성의 옐로우 염료층용 도공액 1을 건조시 0.8 g/㎡로 되도록 도포하여 옐로우 열전사 시트를 제작하였다. 동일하게 하여 옐로우 염료층용 도공액 1을 마젠타 염료층용 도공액 1, 시안 염료층용 도공액 1로 변경하여 마젠타 열전사 시트, 시안 열전사 시트를 제작하였다. 이어서, 상기에서 제작한 옐로우 열전사 시트, 마젠타 열전사 시트, 시안 열전사 시트를 시티즌·시스템(주) 제 CW―01용 순정 리본(CW―MS46)의 옐로우부, 마젠타부, 시안부에 잘라 붙여, 열전사 시트 1을 제작하였다.
< 배면층용 도공액>
·폴리비닐 부티랄 수지 6.0부
[에스렉 BX―1, 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리이소시아네이트 경화제 22.0부
[바녹 D750―45, 고형분 45%, DIC(주) 제조]
·인산 에스테르 3.0부
[프라이서후 A―208 N, 제일공업 제약(주) 제조]
·탈크 1.0부
[마이크로에이스 P―3, 일본탈크 공업(주) 제조]
·메틸에틸케톤 60.0부
·톨루엔 60.0부
< 언더코팅층용 도공액>
·콜로이달 실리카(입자 직경 4∼6 ㎚, 고형분 10%) 30부
[스노우텍 OXS, 닛산 화학공업(주) 제조]
·폴리비닐 피롤리돈 수지 3부
(K―90, ISP사 제조)
·물 50부
·이소프로필 알코올 17부
< 옐로우 염료층용 도공액 1>
·하기 (Y―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·하기 (Y―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 부티랄 수지 3.5부
[에스렉 BX―1 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃]) 0.105부
[FZ2164 도레이·다우코닝(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
Figure pct00003
< 마젠타 염료층용 도공액 1>
·하기 (M―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·하기 (M―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 부티랄 수지 3.5부
[에스렉 BX―1 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃]) 0.105부
[FZ2164 도레이·다우코닝(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
Figure pct00004
< 시안 염료층용 도공액 1>
·하기 (C―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·하기 (C―2)에 나타내는 화합물 1.0부
·하기 (C―3)에 나타내는 화합물 1.0부
·폴리비닐 부티랄 수지 3.5부
[에스렉 BX―1 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃]) 0.105부
[FZ2164 도레이·다우코닝(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
Figure pct00005
[열전사 시트 2의 제작]
열전사 시트 1과 마찬가지로 하여, 배면층, 언더코팅층을 형성한 후, 언더코팅층 상에 하기 조성의 옐로우 염료층용 도공액 2, 마젠타 염료층용 도공액 2, 시안 염료층용 도공액 2를 도포하고, 실시예 1의 열전사 시트와 마찬가지로 잘라붙여 열전사 시트 2를 제작하였다.
< 옐로우 염료층용 도공액 2>
·상기 (Y―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (Y―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃]) 0.105부
[FZ2164 도레이·다우코닝(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 마젠타 염료층용 도공액 2>
·상기 (M―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (M―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃]) 0.105부
[FZ2164 도레이·다우코닝(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 시안 염료층용 도공액 2>
·상기 (C―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (C―2)에 나타내는 화합물 1.0부
·상기 (C―3)에 나타내는 화합물 1.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃]) 0.105부
[FZ2164 도레이·다우코닝(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
[열전사 시트 3의 제작]
열전사 시트 2의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 2의 배합 중, 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[FZ2164, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부에서 0.0105부로 변경한 것 이외에는 열전사 시트 2의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 3를 제작하였다.
[열전사 시트 4의 제작]
열전사 시트 2의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 2의 배합 중, 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[FZ2164, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부에서 0.0175부로 변경한 것 이외에는 열전사 시트 2의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 4를 제작하였다.
[열전사 시트 5의 제작]
열전사 시트 2의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 2의 배합 중, 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[FZ2164, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부에서 0.175부로 변경한 것 이외에는 열전사 시트 2의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 5를 제작하였다.
[열전사 시트 6의 제작]
열전사 시트 2의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 2의 배합 중, 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[FZ2164, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부에서 0.245부로 변경한 것 이외에는 열전사 시트 2의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 6를 제작하였다.
[열전사 시트 7의 제작]
열전사 시트 2의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 2의 배합 중, 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[FZ2164, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부 배합했던 것에 바꾸어, 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 4,500㎟/s[25℃])[X―22―4515, 신에츠 화학공업(주) 제조]을 0.105부 배합한 것 이외에는 열전사 시트 2의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 7을 제작하였다.
[열전사 시트 8의 제작]
열전사 시트 2의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 2의 배합 중, 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[FZ2164, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부 배합했던 것에 바꾸어, 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 1,500㎟/s[25℃])[KF―6012, 신에츠 화학공업(주) 제조]을 0.105부 배합한 것 이외에는 열전사 시트 2의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 8를 제작하였다.
[열전사 시트 9의 제작]
열전사 시트 1과 마찬가지로 하여, 배면층, 언더코팅층을 형성한 후, 언더코팅층 상에하기 조성의 옐로우 염료층용 도공액 3, 마젠타 염료층용 도공액 3, 시안 염료층용 도공액 3을 도포하고, 실시예 1의 열전사 시트와 마찬가지로 잘라붙여 열전사 시트 9를 제작하였다.
< 옐로우 염료층용 도공액 3>
·상기 (Y―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (Y―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 부티랄 수지 3.5부
[에스렉 BX―1 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.42부
(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 마젠타 염료층용 도공액 3>
·상기 (M―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (M―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 부티랄 수지 3.5부
[에스렉 BX―1 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.42부
(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 시안 염료층용 도공액 3>
·상기 (C―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (C―2)에 나타내는 화합물 1.0부
·상기 (C―3)에 나타내는 화합물 1.0부
·폴리비닐 부티랄 수지 3.5부
[에스렉 BX―1 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.42부
(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
[열전사 시트 10의 제작]
열전사 시트 1과 마찬가지로 하여, 배면층, 언더코팅층을 형성한 후, 언더코팅층 상에하기 조성의 옐로우 염료층용 도공액 4, 마젠타 염료층용 도공액 4, 시안 염료층용 도공액 4을 도포하고, 실시예 1의 열전사 시트와 마찬가지로 잘라붙여 열전사 시트 10를 제작하였다.
< 옐로우 염료층용 도공액 4>
·상기 (Y―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (Y―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.42부
(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 마젠타 염료층용 도공액 4>
·상기 (M―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (M―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.42부
(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 시안 염료층용 도공액 4>
·상기 (C―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (C―2)에 나타내는 화합물 1.0부
·상기 (C―3)에 나타내는 화합물 1.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.42부
(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
[열전사 시트 11의 제작]
열전사 시트 1과 마찬가지로 하여, 배면층, 언더코팅층을 형성한 후, 언더코팅층 상에하기 조성의 옐로우 염료층용 도공액 5, 마젠타 염료층용 도공액 5, 시안 염료층용 도공액 5을 도포하고, 실시예 1의 열전사 시트와 마찬가지로 잘라붙여 열전사 시트 11를 제작하였다.
< 옐로우 염료층용 도공액 5>
·상기 (Y―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (Y―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분15%) 0.70부
(BYK313, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 마젠타 염료층용 도공액 5>
·상기 (M―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (M―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분15%) 0.70부
(BYK313, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 시안 염료층용 도공액 5>
·상기 (C―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (C―2)에 나타내는 화합물 1.0부
·상기 (C―3)에 나타내는 화합물 1.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분15%) 0.70부
(BYK313, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
[열전사 시트 12의 제작]
열전사 시트 1과 마찬가지로 하여, 배면층, 언더코팅층을 형성한 후, 언더코팅층 상에하기 조성의 옐로우 염료층용 도공액 6, 마젠타 염료층용 도공액 6, 시안 염료층용 도공액 6을 도포하고, 실시예 1의 열전사 시트와 마찬가지로 잘라붙여 열전사 시트 12를 제작하였다.
< 옐로우 염료층용 도공액 6>
·상기 (Y―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (Y―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.07부
(BYK315, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 마젠타 염료층용 도공액 6>
·상기 (M―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (M―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.07부
(BYK315, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 시안 염료층용 도공액 6>
·상기 (C―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (C―2)에 나타내는 화합물 1.0부
·상기 (C―3)에 나타내는 화합물 1.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.07부
(BYK315, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
[열전사 시트 13의 제작]
열전사 시트 12의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 6의 배합 중, 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물을 0.07부에서 0.42부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 12의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 13를 제작하였다.
[열전사 시트 14의 제작]
열전사 시트 12의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 6의 배합 중, 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물을 0.07부에서 0.70부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 12의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 14를 제작하였다.
[열전사 시트 15의 제작]
열전사 시트 12의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 6의 배합 중, 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물을 0.07부에서 1.12부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 12의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 15를 제작하였다.
[열전사 시트 16의 제작]
열전사 시트 12의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 6의 배합 중, 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물을 0.07부에서 0.042부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 12의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 16를 제작하였다.
[열전사 시트 17의 제작]
열전사 시트 12의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 6의 배합 중, 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물을 0.07부에서 1.40부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 12의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 17를 제작하였다.
[열전사 시트 18의 제작]
열전사 시트 1과 마찬가지로 하여, 배면층, 언더코팅층을 형성한 후, 언더코팅층 상에하기 조성의 옐로우 염료층용 도공액 7, 마젠타 염료층용 도공액 7, 시안 염료층용 도공액 7을 도포하고, 실시예 1의 열전사 시트와 마찬가지로 잘라붙여 열전사 시트 18를 제작하였다.
< 옐로우 염료층용 도공액 7>
·상기 (Y―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (Y―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.21부
(BYK315, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃]) 0.0525부
[FZ2164 도레이·다우코닝(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 마젠타 염료층용 도공액 7>
·상기 (M―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (M―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.21부
(BYK315, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃]) 0.0525부
[FZ2164 도레이·다우코닝(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 시안 염료층용 도공액 7>
·상기 (C―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (C―2)에 나타내는 화합물 1.0부
·상기 (C―3)에 나타내는 화합물 1.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.21부
(BYK315, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃]) 0.0525부
[FZ2164 도레이·다우코닝(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
[열전사 시트 19의 제작]
열전사 시트 1과 마찬가지로 하여, 배면층, 언더코팅층을 형성한 후, 언더코팅층 상에하기 조성의 옐로우 염료층용 도공액 8, 마젠타 염료층용 도공액 8, 시안 염료층용 도공액 8을 도포하고, 실시예 1의 열전사 시트와 마찬가지로 잘라붙여 열전사 시트 19를 제작하였다.
< 옐로우 염료층용 도공액 8>
·상기 (Y―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (Y―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.21부
(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 4,500㎟/s[25℃]) 0.0525부
[X―22―4515, 신에츠 화학공업(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 마젠타 염료층용 도공액 8>
·상기 (M―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (M―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.21부
(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 4,500㎟/s[25℃]) 0.0525부
[X―22―4515, 신에츠 화학공업(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 시안 염료층용 도공액 8>
·상기 (C―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (C―2)에 나타내는 화합물 1.0부
·상기 (C―3)에 나타내는 화합물 1.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.21부
(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 4,500㎟/s[25℃]) 0.0525부
[X―22―4515, 신에츠 화학공업(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
[열전사 시트 20의 제작]
열전사 시트 1과 마찬가지로 하여, 배면층, 언더코팅층을 형성한 후, 언더코팅층 상에하기 조성의 옐로우 염료층용 도공액 9, 마젠타 염료층용 도공액 9, 시안 염료층용 도공액 9을 도포하고, 실시예 1의 열전사 시트와 마찬가지로 잘라붙여 열전사 시트 20를 제작하였다.
< 옐로우 염료층용 도공액 9>
·상기 (Y―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (Y―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.35부
(BYK315, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃]) 0.0175부
[FZ2164 도레이·다우코닝(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 마젠타 염료층용 도공액 9>
·상기 (M―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (M―2)에 나타내는 화합물 2.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.35부
(BYK315, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃]) 0.0175부
[FZ2164 도레이·다우코닝(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
< 시안 염료층용 도공액 9>
·상기 (C―1)에 나타내는 화합물 2.0부
·상기 (C―2)에 나타내는 화합물 1.0부
·상기 (C―3)에 나타내는 화합물 1.0부
·폴리비닐 아세탈 수지 3.5부
[에스렉 KS―5 세키스이 화학공업(주) 제조]
·폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(고형분 25%) 0.35부
(BYK315, BYK―Chemie GmbH사 제조)
·폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃]) 0.0175부
[FZ2164 도레이·다우코닝(주) 제조]
·메틸에틸케톤 45.0부
·톨루엔 45.0부
[열전사 시트 A의 제작]
열전사 시트 2의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 2 중 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[FZ2164, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부 배합했던 것에 바꾸어, 아미노 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[KF861, 신에츠 화학공업(주) 제조]을 0.105부 배합한 것 이외에는 열전사 시트 2의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 A를 제작하였다.
[열전사 시트 B의 제작]
열전사 시트 2의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 2 중 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[FZ2164, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부 배합했던 것에 바꾸어, 에폭시 변성 실리콘(점도; 6,000㎟/s[25℃])[BY―16―839, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부 배합한 것 이외에는 열전사 시트 2의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 B를 제작하였다.
[열전사 시트 C의 제작]
열전사 시트 2의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 2 중 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[FZ2164, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부 배합했던 것에 바꾸어, 알킬·아랄킬 변성 실리콘(점도; 1,400㎟/s[25℃])[SH230, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부 배합한 것 이외에는 열전사 시트 2의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 C를 제작하였다.
[열전사 시트 D의 제작]
열전사 시트 2의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 2 중 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[FZ2164, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부 배합했던 것에 바꾸어, 알킬·아랄킬 변성 실리콘(점도; 1,400㎟/s[25℃])[SH230, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.175부 배합한 것 이외에는 열전사 시트 2의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 D를 제작하였다.
[열전사 시트 E의 제작]
열전사 시트 2의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 2 중 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[FZ2164, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부 배합했던 것에 바꾸어, 카르복실 변성 실리콘(점도; 2,000㎟/s[25℃])[S―22―3701 E, 신에츠 화학공업(주) 제조]을 0.105부 배합한 것 이외에는 열전사 시트 2의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 E를 제작하였다.
[열전사 시트 F의 제작]
열전사 시트 2의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 2 중 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 3,500㎟/s[25℃])[FZ2164, 도레이·다우코닝(주) 제조]을 0.105부 배합했던 것에 바꾸어, 폴리에테르 변성 실리콘(점도; 50㎟/s[25℃])[KF―642, 신에츠 화학공업(주) 제조]을 0.105부 배합한 것 이외에는 열전사 시트 2의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 F를 제작하였다.
[열전사 시트 G의 제작]
열전사 시트 10의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 4 중 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조 고형분 25%) 0.42부를, 아랄킬 변성 폴리실록산 화합물(BYK322, BYK―Chemie GmbH사 제조 고형분98%) 0.11부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 10의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 G를 제작하였다.
[열전사 시트 H의 제작]
열전사 시트 10의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 4 중 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조 고형분 25%) 0.42부를, 아크릴 변성 폴리실록산 화합물[샤리누 RS―170, 닛신화학공업(주) 제조 고형분15%] 0.70부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 10의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 H를 제작하였다.
[열전사 시트 I의 제작]
열전사 시트 10의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 4 중 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조 고형분 25%) 0.42부를, 실리콘 변성 아크릴[사이맥 US―380, 동아 합성(주) 제조 고형분 30%) 0.35부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 10의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 I를 제작하였다.
[열전사 시트 J의 제작]
열전사 시트 10의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 4 중 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조 고형분 25%) 0.42부를, 실리콘 변성 아크릴[사이맥 US―380, 동아 합성(주) 제조 고형분 30%]) 0.93부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 10의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 J를 제작하였다.
[열전사 시트 K의 제작]
열전사 시트 10의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 4 중 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조 고형분 25%) 0.42부를, 실리콘 변성 우레탄[다이아로마―SP2105, 다이이치세이카공업(주) 제조 고형분 20%] 0.53부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 10의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 K를 제작하였다.
[열전사 시트 L의 제작]
열전사 시트 10의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 4 중 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조 고형분 25%) 0.42부를, 실리콘 변성 우레탄[다이아로마―SP2105, 다이이치세이카공업(주) 제조 고형분 20%] 1.40부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 10의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 L을 제작하였다.
[열전사 시트 M의 제작]
열전사 시트 10의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 4 중 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조 고형분 25%) 0.42부를, 실리콘 변성 아세탈[다이아로마―SP755, 다이이치세이카공업(주) 제조 고형분 12.5%] 0.84부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 10의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 M을 제작하였다.
[열전사 시트 N의 제작]
열전사 시트 10의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 4 중 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조 고형분 25%) 0.42부를, 카르비놀 변성 실리콘 오일[X―22―4015, 신에츠 화학공업(주) 제조 고형분 100%] 0.105부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 10의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 N을 제작하였다.
[열전사 시트 O의 제작]
열전사 시트 10의 제작에 사용한 옐로우, 마젠타, 시안의 각 염료층용 도공액 4 중 폴리에스테르 변성 폴리실록산 화합물(BYK310, BYK―Chemie GmbH사 제조 고형분 25%) 0.42부를, 카르비놀 변성 실리콘 오일[X―22―4015, 신에츠 화학공업(주) 제조 고형분 100%] 0.28부로 변경한 점 이외에는 열전사 시트 10의 제작과 마찬가지로 하여 열전사 시트 O를 제작하였다.
[열전사 수상 시트 1의 제작]
기재 시트로서 RC페이퍼[미츠비시 제지(주) 제조]를 사용하고, 하기 조성의 단열층용 도공액, 및 염료 수용층용 도공액 1을 40℃로 각각 가열하고, 슬라이딩 코팅을 사용하여, 건조시의 두께가 각각 12㎛, 3㎛으로 되도록 도포하고, 5℃에 의해 30초 냉각한 후, 50℃에 의해 2분간 건조시키고 열전사 수상 시트 1을 얻었다. 그리고, 하기 조성의 도공액은, 모두 전체 고형분이 15∼30%로 되도록 순수(純水)를 사용하여 희석한 것이다.
< 단열층용 도공액>
·중공 입자(체적 평균 입경; 0.5㎛) 70부
[MH5055 일본 제온(주) 제조]
·젤라틴 25부
[RR 닛타 제라틴(주) 제조]
·수성 폴리우레탄 수지 5부
[AP40 DIC(주) 제조]
< 염료 수용층용 도공액 1>
·염화아세트산비닐계 에멀젼(염화비닐/아세트산비닐= 97.5/2.5 고형분 36%) 411부
·이형제의 수분산체(水分散體)(고형분: 17%) 20부
·에폭시 가교제 7.6부
[나가세켐텍스(주) 제조, 상품명 EX―512: 고형분 100%]
·순수[에폭시 가교제 분산용(分散用)으로서] 11.4부
·증점재(增粘材)(고형분 30%) 45부
[아데카놀 UH―526 (주) ADEKA 제조]
·순수(증점재 분산용으로서) 230부
·계면활성제(디옥틸 술포 숙신산 나트륨 수용액 고형분 20%) 23부
그리고, 상기한 염화비닐계 에멀젼, 및 이형제의 수분산체는 하기와 같이 하여 조제하였다.
(염화아세트산비닐계 에멀젼의 합성)
2.5L 오토클레이브 중에 탈 이온수 600g, 염화 비닐 단량체 438.8g(전체 준비 단량체에 대하여 97.5 중량%)과 아세트산 비닐 11.2g(전체 준비 단량체에 대하여 2.5 중량%)으로 이루어지는 단량 혼합체, 과황산칼륨 2.25g을 준비하였다. 이 반응 혼합물을 교반날개로 회전수 120 rpm을 유지하도록 교반하고, 반응 혼합물의 온도를 60℃로 올려 중합을 개시하였다. 5 중량%의 도데실 벤젠 술폰산 나트륨 수용액 180g(전체 준비 단량체에 대하여 2 중량%)를 중합 개시∼4hr 후까지 연속 첨가하고, 중합압이 60℃에서의 염화 비닐 단량체의 포화 증기압으로부터 0.6 MPa 하강했을 때 중합을 정지한 후, 잔존의 단량체를 회수하여, 염화아세트산비닐계 에멀젼을 얻었다.
(이형제의 수분산체의 작성)
에틸아세테이트 85g에 에폭시 변성 실리콘[신에츠 화학공업(주) 제조, 상품명 X―22―3000T] 16g과 아랄킬 변성 실리콘[신에츠 화학공업(주) 제조, 상품명 X―24―510] 8g을 용해하였다. 다음에, 트리이소프로필 나프탈렌술폰산 나트륨염(고형분 10%) 14g을 순수 110g에 용해하였다. 상기 2액을 혼합·교반한 후, 호모지나이저를 사용하여 분산을 행하고, 분산체를 조제하였다. 그 후, 분산체를 30∼60 ℃로 가온하면서 감압 하에서 에틸아세테이트를 제거하고, 실리콘의 수분산체를 얻었다.
[열전사 수상 시트 2의 제작]
염료 수용층용 도공액 1을 하기 조성의 염료 수용층용 도공액 2로 변경한 것 이외에는 모두 열전사 수상 시트 1과 마찬가지로 하여 열전사 수상 시트 2를 얻었다.
< 염료 수용층용 도공액 2>
·염화 비닐계 수지 100)부
[비니브란 900 닛신화학공업(주) 제조]
·폴리에테르 변성 실리콘 1부
[KF615A 신에츠 화학공업(주) 제조]
·젤라틴 10부
[RR 닛타 제라틴(주) 제조]
·계면활성제 0.5부
[사피놀 440 닛신화학공업(주) 제조]
·물 250부
[열전사 수상 시트 3의 제작]
염료 수용층용 도공액 1을 하기 조성의 염료 수용층용 도공액 3으로 변경한 것 이외에는 모두 열전사 수상 시트 1과 마찬가지로 하여 열전사 수상 시트 3를 얻었다.
< 염료 수용층용 도공액 3>
·에멀젼(고형분으로서) 90부
·젤라틴(고형분으로서) 10부
[RR 닛타 제라틴(주) 제조]
·폴리에테르 변성 실리콘 2부
[KF615A 신에츠 화학공업(주) 제조]
·계면활성제 1부
[사피놀 440 닛신화학공업(주) 제조]
·물 333부
그리고, 상기한 에멀젼은 하기와 같이 하여 조제하였다.
[에멀젼의 합성]
500mL(리터) 삼각 플라스크에, 공중합체 형성 모노머로서, 스티렌 121g, 에틸 아크릴레이트 77g, 및 아크릴산 2g과, 유화제로서 아쿠아 론 HS―10(제일공업 제약사 제조) 1.9g을 넣어 교반하여 혼합하였다(이것을 이하 모노머 A라고 함). 1 L 3구 플라스크에, 증류수 200g을 넣어 80℃까지 가열하고, 상기 모노머 A 전량의 약 20% 정도를 더하여, 10분간 교반하였다. 그 후, 순수 20g에 용해시킨 과황산암모늄 0.4g을 부가하여 10분간 교반한 후, 나머지 80%의 모노머 A를 적하 로트에 의해 3시간 걸쳐 적하하고, 다시 3시간 교반하였다. 그 후 실온까지 냉각시키고, #150메쉬(일본 직물)에 의해 여과하고, 에멀젼을 얻었다(분자량 240000, Tg 50℃). 또한, 스티렌 및 에틸 아크릴레이트의 분자량과 반응에 사용한 양으로부터, 각각의 mol비는 60% 및 40%로 된다.
(실시예, 비교예에서의 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합)
인화 품질 평가, 보존성 평가에 있어서, 아래 표 1에 나타낸 열전사 시트와 열전사 수상 시트의 조합을 각각 실시예 1∼28, 비교예 1∼23의 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합으로 하였다.
Figure pct00006
(인화 품질 평가)
상기 표 1에 기재된 열전사 시트와 열전사 수상 시트의 조합에 기초하여, 승화형 열전사 프린터[ALTECH ADS(주) 제조, 형식: CW―01]와, 기록 속도 6.5cm/초(실측)에 세로 스트라이프 화상(흑베타 화상 255/255 계조), 그레이 화상(180/255계조)의 2cm 폭을 인화하고, 실시예 1∼28, 비교예 1∼23의 인화물을 얻었다. 얻어진 인화물에 박리 자국이 있는지를 육안에 의해 확인하고, 하기의 평가 기준으로 기초하여 인화 품질의 평가를 행하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다. 그리고, 기록 속도란, 우편 엽서 사이즈의 인화물에 옐로우 인화를 행할 때, 인화 개시로부터 종료까지 필요로 한 시간을 계측하고, 1초당으로 환산한 것을 의미한다.
< 평가 기준>
○: 인화물에 박리 자국이 없다.
△: 인화물에 희미하게 박리 자국이 보인다.
×: 인화물에 박리 자국이 있다.
(보존성 평가)
실시예 1∼28, 비교예 1∼23의 조합에서 사용한 열전사 시트의 마젠타 염료층과 배면층을 대향시켜, 20 kg/㎠의 하중을 걸고, 40℃, 습도 90% 환경 하에서 96시간 보관하고, 배면층 측에 염료층의 염료를 이행[킥(kick)]시켰다. 이 배면층과 전사성 보호층의 보호층면을 대향시켜, 20 kg/㎠의 하중을 걸쳐, 50℃, 습도 20% 환경 하에서 24시간 보관한 것이다. 그 후, 배면층의 염료가 이행[백(back)]한 전사성 보호층과 수상지[컬러 잉크/페이퍼 세트 KP―36 IP, 캐논(주) 제조]의 수상면을 중첩시키고, 라미네이트 시험기[라미팍카 LPD2305PRO, 후지 플라스틱(주) 제조]를 사용하여, 110℃, 4㎜/sec에 의해 전사를 행하였다. 또한, 수상지로부터 기재 시트를 벗겨, 전사부의 색상을, 그레타그사 제조 GRETAGSpectrolino(D65 광원, 시야각 2°)를 사용하여 측정하고, 색차(ΔE*)를 하기 식에 의해 산출하여 하기 평가 기준으로 기초하여 평가했다. 여기서 사용한 전사성 보호층은 이하의 수순으로 제작하였다. 평가 결과를 표 2에 병행하여 나타낸다.
ΔE*= [(대향 전후의 L*값의 차)2＋(대향 전후의 a*값의 차)2＋(대향 전후의 b*값의 차)2]1/2.
기재의, 배면층을 형성한 측과는 반대의 면의 일부에, 하기 조성의 박리층용 도공액을, 고형분 환산으로 1.0 g/㎡의 비율로 도포, 건조하여 박리층을 형성한 후, 박리층 상에, 하기 조성의 프라이머층용 도공액을, 건조 도포량이 0.10 g/㎡로 되도록 도포, 건조하여 프라이머층을 형성하고, 또한 그 프라이머층 상에, 하기 조성의 보호층용 도공액을, 고형분 환산으로 1.5 g/㎡의 비율로 도포, 건조하여 전사성 보호층을 형성하였다.
< 박리층용 도공액>
·아크릴 수지 20부
[다이어날 BR―87, 미츠비시 레이욘(주) 제조]
·톨루엔 40부
·메틸에틸케톤 40부
< 프라이머층용 도공액>
·콜로이달 실리카(입자 직경 4∼6 ㎚, 고형분 10%) 30부
[스노우텍 OXS, 닛산 화학공업(주) 제조]
·폴리비닐 피롤리돈 수지 3부
(K―90, ISP사 제조)
·물 50부
·이소프로필 알코올 17부
< 보호층용 도공액>
·아크릴 수지 69.6부
[다이어날 BR―83, 미츠비시 레이욘(주) 제조]
·반응성 자외선 흡수제를 반응 결합한 아크릴 공중합체 17.4부
(UVA635L, BASF 쟈팬제)
·실리카 25부
[사이리시아 310, 후지 시리시아(주) 제조]
·메틸에틸케톤 100부
·톨루엔 100부
< 평가 기준>
○: 미보존의 보호층을 전사(轉寫)한 전사물(轉寫物)과, 백(back)된 보호층 전사체(轉寫體)를 전사한 전사물의 색차 ΔE*가 2.0 미만.
△: 미보존의 보호층을 전사한 전사물과, 백된 보호층 전사체를 전사한 전사물의 색차 ΔE*가 2.0 이상 3.0 미만.
×: 미보존의 보호층을 전사한 전사물과, 백된 보호층 전사체를 전사한 전사물의 색차 ΔE*가 3.0 이상.
Figure pct00007
10…열전사 시트
30…열전사 수상 시트
1…기재
2…염료층
3…언더코팅층
4…배면층
21…다른 기재
22…염료 수용층

Claims (5)

  1. 기재(基材)의 한쪽 면에 염료층이 형성되고, 상기 기재의 다른 쪽 면에 배면층이 형성된 열전사(熱轉寫) 시트와, 다른 기재의 한쪽 면에 염료 수용층이 형성된 열전사 수상(受像) 시트를 조합시켜 화상을 형성하는 화상 형성 방법으로서,
    상기 열전사 시트의 상기 염료층이, 승화성(昇華性) 염료와, 바인더 수지와, (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하고 있고,
    상기 열전사 수상 시트의 상기 염료 수용층이 수계(水系)의 염료 수용층인,
    화상 형성 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 염료층에 함유되는 바인더 수지가, 폴리비닐 아세탈 수지, 또는 폴리비닐 부티랄 수지인, 화상 형성 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및 상기 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중,
    상기 염료층에, 상기 (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘이 단독으로 함유되는 경우에는, 상기 (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘은, 상기 염료층의 바인더 수지 고형분에 대하여, 0.5 질량% 이상∼5 질량% 이하의 범위 내로 함유되어 있고,
    상기 염료층에, 상기 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산이 단독으로 함유되는 경우에는, 상기 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산은, 상기 염료층의 바인더 수지 고형분에 대하여, 0.3 질량% 이상∼8 질량% 이하의 범위 내로 함유되어 있고,
    상기 염료층에, 상기 (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및 상기 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산의 양쪽이 함유되는 경우에는, 상기 (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘과, (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산이, 상기 염료층의 바인더 수지 고형분에 대하여, 그 합계 질량이 0.5 질량% 이상∼5 질량% 이하의 범위 내로 함유되어 있는, 화상 형성 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 수계의 염료 수용층이, 수용성 수지 또는 수용성 고분자를 함유하는 염료 수용층, 또는 수계 수지를 포함하는 도공액(塗工液)을 사용하여 형성된 염료 수용층인, 화상 형성 방법.
  5. 열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합으로서,
    상기 열전사 시트는,
    기재의 한쪽 면에, 승화성 염료와, 바인더 수지와, (A) 25℃에서의 점도가 1000㎟/S 이상의 폴리에테르 변성 실리콘, 및 (B) 폴리에스테르 변성 폴리실록산 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하는 염료층이 형성되고,
    상기 기재의 다른 쪽 면에 배면층이 형성된 열전사 시트이며,
    상기 열전사 수상 시트는, 다른 기재의 한쪽 면에 수계의 염료 수용층이 형성된 열전사 수상 시트인,
    열전사 시트와 열전사 수상 시트와의 조합.
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