JP2003006950A - 光情報記録媒体製造装置及び光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 反射膜の剥離防止及び反射膜の経時変化によ
る劣化(酸化)を確実に防止できる光情報記録媒体を提供
する。 【解決手段】 ピット列を螺旋状に形成した基板表面３
ａに反射膜５、保護膜６を順次積層し、反射膜５の厚さは
基板３の外周縁端部３ｂに近づくにつれて徐々に薄くな
り、外周縁端部３ｂに至ると反射膜５の厚さが略ゼロと
なり、また基板３の外周部３ｃ上には直接、保護膜６を形
成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はカード、ディスク等
の光情報記録媒体に関して、その基板上に反射膜及び保
護膜を形成する光情報記録媒体製造装置及びその装置を
用いて製造した光情報記録媒体に関する発明である。

【０００２】

【従来の技術】従来光情報記録媒体の製造には、基板上
に再生専用記録媒体ではピットを、追加記録及び記録消
去タイプでは有機又は無機の各種記録膜を形成し、その
上に各種金属からなる反射膜をスパッタにより形成し、
さらにその上に紫外線硬化型樹脂よりなる保護膜をコー
トし、その上に紫外線硬化型インキによる印刷層を印刷
して完成させる。

【０００３】従来反射膜の形成については基板の内外周
縁部を除いて中周部に設けたディスクが特開平４−１４
６３４号公報に開示されている。その手段として内外周
縁部をカバー（マスクと称する）で覆うことがなされて
いる。前記反射膜の上に基板端部まで保護膜をコートす
ることにより、反射膜の基板表面からの剥離の問題及び
反射膜の変質劣化の問題を解決している。しかしこの方
法によれば特に反射膜のない外周縁部は記録再生が不可
能な部分となり、記憶容量の減少をきたす。また再生面
側からみたとき外周縁部に反射膜がないため商品価値が
低下する問題があった。

【０００４】これを解決する方法として特開平４−１９
８３８号公報に反射膜を記録膜上から外周縁まで連続し
て設けその上に保護膜を外周端面まで設けた情報記録媒
体が開示されている。そのため基板への金属スパッタに
は外周マスクを使用せず基板の外径より０．０１〜０．
５ｍｍ程度大きく、深さが基板の厚さ以上で厚さの３倍
以下の皿型の載置台を用い、基板を載置台の凹部にはめ
込んだ状態でスパッタを行う方法が開示されている。し
かしこの方法によれば基板の外径と載置台の内径の隙間
が小さい場合は連続スパッタした金属が少しずつ堆積し
間隙を埋めて、基板をはめ込むことができなくなる問題
がある。又間隔が大きい場合は基板の側面にまで金属が
付着し、反射膜の剥離及び変質を防ぐためには特開平７
−９３８１６号公報に開示されている如く、保護膜を基
板の裏面まで回り込ませてコートする必要がある。

【０００５】また特開２０００−１２３４３０号公報に
は、スパッタ成膜中にはディスクの内周部の非有効領域
のみで基板を保持し、該ディスク基板の保持領域よりも
外周の部位が、他の部材と接触せずかつ拘束を受けない
構造としたことを特長とするスパッタ装置が開示されて
おり、近接する部材との隙間を０．５ｍｍ以上とすると
も開示されている。この方法によれば反射膜が外周縁部
まで形成されるため反射膜の剥離の問題に対処する必要
があり、反射膜を形成後外周の非有効領域にリング状の
溝を形成して反射膜を除く方法、外周の非有効領域にス
パッタする以前にあらかじめリング状の突起を設けた基
板を用いてスパッタしたのち突起を削って反射膜を除去
する方法、外周にリング状の凹みを設けた基板に反射膜
を形成した後基板の外周縁部を端面の一部まで除去する
方法により反射膜を部分的に除いた後に保護膜を形成す
ることが開示されている。しかしこれらの方法はいずれ
も加工工程が増え生産性低下と歩留まり悪化をもたらす
問題がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は上記
した問題に鑑みて創案されたものであり、特に、スパッタ
リング用ターゲットと基板ホルダとの間に配置しかつ開
口部とマスク部とを有することにより、前記スパッタリ
ング用ターゲットから飛来するスパッタ粒子を用いて前
記基板表面又は前記記録膜上にのみ前記反射膜を成膜す
るためのマスクとを備え、前記開口部は前記基板ホルダ
上に保持した前記基板表面又は前記記録膜上を露出する
開口であり、前記マスク部は前記開口部に近接して設け
られかつ前記基板の外周縁に当接する部分を面取りした
テーパ面を備えており前記テーパ面を前記基板の外周縁
全体に接触して前記基板の外側面全体を前記開口部側か
ら覆うことにより、前記基板の内周から外周へ向かうに
従って前記反射膜の厚さを徐徐に薄くして基板の外周縁
でその厚さを無(ゼロ)にするように反射膜を成膜するこ
とができ、しかも前記基板の外側面上にこの反射膜を形
成することはないから、この結果、基板表面又は記録膜上
に成膜してある反射膜の終端が基板の外側面上まで延在
せず、これに加えて基板表面又は記録膜上に成膜された
反射膜全体及び基板の外側面上が保護膜で完全に覆われ
ることになるので、これにより、前記したように成膜した
反射膜の剥離防止及び反射膜の経時変化による劣化(酸
化)を確実に防止することができ、また、基板の外周縁ま
で反射膜が形成され、側面上には反射膜が形成されない
ので、見栄えが良い等の効果を有する光情報記録媒体を
製造する光情報記録媒体製造装置を提供することを目的
とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は下記する構成の光情報記録媒体製造装置及
び光情報記録媒体を提供する。 (１) 図１〜図３に示すように、ピット列を螺旋状に形
成した基板表面３ａに反射膜５、保護膜６を順次積層し
てなる再生専用型の光情報記録媒体を製造するか、又は、
グルーブを螺旋状に形成した前記基板表面３ａに記録膜
(例えば追記型では有機又は無機の色素膜。図示せず)、前
記反射膜５、前記保護膜６を順次積層してなる記録型の
光情報記録媒体を製造するか、又は、前記ピット列を螺旋
状に形成した前記基板表面３ａに前記反射膜５と前記保
護膜６とを順次積層してなる再生専用領域(例えば半径
方向にデータ領域を２分するとその内周領域)と、前記グ
ルーブを螺旋状に形成した前記基板表面３ａに前記記録
膜と前記反射膜５と前記保護膜６とを順次積層してなる
記録領域(例えば半径方向にデータ領域を２分するとそ
の外周領域)とを、半径方向に領域分割してなる再生専用
記録複合型の光情報記録媒体を製造する光情報記録媒体
製造装置Ａにおいて、真空中で行なうスパッタリングに
より前記反射膜５を前記基板表面３ａ又は前記記録膜上
に成膜する成膜手段(図１、図２)は、スパッタリング用
ターゲット(反射膜形成用ターゲット)１と、所定間隔を
もって前記スパッタリング用ターゲット１に対向し、か
つ前記基板３を保持する基板ホルダ４と、前記スパッタ
リング用ターゲット１と前記基板ホルダ４との間に配置
しかつ開口部２ａとマスク部２ｂとを有することによ
り、前記スパッタリング用ターゲット１から飛来するス
パッタ粒子を用いて前記基板３表面３ａ又は前記記録膜
上にのみ前記反射膜５を成膜するためのマスク２とを備
え、前記開口部２ａは、前記基板ホルダ４上に保持した前
記基板表面３ａ又は前記記録膜上を露出する開口であ
り、前記マスク部２ｂは、前記開口部２ａに近接して設け
られかつ前記基板３の外周縁３ｂに当接する部分を面取
りしたテーパ面２ｂ１を備えており、前記テーパ面２ｂ
１を前記基板３の外周縁３ｂ全体に接触して前記基板３
の外側面３ｃ全体を前記開口部２ａ側から覆うことによ
り前記開口部２ａ側から前記基板３の外側面３ｃ側へ飛
来する前記スパッタ粒子(飛来の方向は図２矢印ｆ)の進
入を阻止することを特徴とする光情報記録媒体製造装
置。 （２） 請求項１記載の光情報記録媒体製造装置により
製造した再生専用型の光情報記録媒体であって、ピット
列を螺旋状に形成した基板表面３ａに反射膜５、保護膜
６を順次積層してなり、前記反射膜５の厚さは前記基板
３の外周縁３ｂに近づくにつれて徐々に薄くなりかつ前
記外周縁３ｂに至ると前記反射膜５の厚さが略ゼロとな
り、前記基板３の外側面３ｃ上には直接、前記保護膜６を
形成したことを特徴とする光情報記録媒体。 (３) 請求項１記載の光情報記録媒体製造装置により製
造した記録型の光情報記録媒体であって、グルーブを螺
旋状に形成した基板表面３ａに記録膜、反射膜５、保護膜
６を順次積層してなり、前記反射膜５の厚さは前記基板
３の外周縁３ｂに近づくにつれて徐々に薄くなりかつ前
記外周縁３ｂに至ると前記反射膜５の厚さが略ゼロとな
り、前記基板３の外側面３ｃ上には直接、前記保護膜６を
形成したことを特徴とする光情報記録媒体。 （４） 請求項１記載の光情報記録媒体製造装置により
製造された再生専用記録型の光情報記録媒体であって、
前記ピット列を螺旋状に形成した基板表面３ａに反射膜
５と保護膜６とを順次積層してなる再生専用領域(内周
側領域)と、前記グルーブを螺旋状に形成した前記基板表
面に記録膜と前記反射膜と前記保護膜とを順次積層して
なる記録領域(外周側領域)とが、半径方向に領域分割し
てなり、前記反射膜５の厚さは前記基板３の外周縁３ｂ
に近づくにつれて徐々に薄くなりかつ前記外周縁３ｂに
至ると前記反射膜５の厚さが略ゼロとなり、前記基板の
外周側面上には直接、前記保護膜を形成したことを特徴
とする光情報記録媒体。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につき、
その好ましい実施例を用いて説明する。 図１は本発明の光情報記録媒体製造装置を用いてスパッ
タリングによる反射膜を基板表面に成膜することを説明
するための図、図２は図１に示すマスクと基板との接触
を説明するための図、図３は本発明の光情報記録媒体製
造装置を用いて基板上に反射膜、保護膜を形成した状態
を説明するための図、図４は本発明の光情報記録媒体の
実施例１になる光カード情報記録媒体の印刷面側の平面
図、図５は本発明の光情報記録媒体の実施例２になる光
ディスク情報記録媒体の印刷面側の平面図である。 図１〜図５中、１は反射膜形成用ターゲット(スパッタリ
ング用ターゲット)、２はマスク、２ａは開口部、２ｂは
外周マスク（マスク部）、２ｂ１はテーパ面、２ｃは内周
マスク、３は基板、３ａは表面(基板表面)、３ｂは外周縁
端部（外周縁）、３ｃは外周部（外側面）、３ｄは中心
孔、３ｅは裏面、３ｆは内周部、３ｇは記録範囲部分(デー
タ領域)、４は基板ホルダ、５は反射膜、６は保護膜、７は
印刷面、Ａは光情報記録媒体製造装置、Ｂは光カード情報
記録媒体、Ｃは光ディスク情報記録媒体、ｆは飛来方向を
それぞれ示す。

【０００９】カード形状またはディスク形状など各種の
外観形状を有する光情報記録媒体(例えば図４、図５)の
最初の製造工程としては、基板３を成形する基板成形工
程がある。 この基板成形工程は、射出成形機(図示せず)を用いて行
なう。即ち、この成形機の固定側と移動側とに一対の金型
半体をそれぞれ取り付ける。一方の金型半体には基板表
面３ａを成形するためのスタンパを取り付け、他方の金
型半体には基板裏面３ｅを成形するためのその表面が鏡
面状のキャビティを形成する。この一対の金型を締め付
けて嵌め合わせた後、キャビティ内に溶融したプラスチ
ックを射出し、これを冷却後、嵌め合わせている一対の
金型を分離することにより、成形した基板３を取り出す。
こうして、光情報記録媒体の基板を製造することができ
る。 後述するように、この基板表面３ａ上に(記録膜、)反射膜
５、保護膜６、印刷層７を順次積層することにより、所望
のタイプの光情報記録媒体(図４、図５)を得ることがで
きる。

【００１０】前記した光情報記録媒体が再生専用記録媒
体(ＲＯＭ)の場合のときの基板を製造するには、次のよ
うに行う。 即ち、その表面３ａに (螺旋状に形成されたピット列を
成形する雄型形状である)各ピットに対応する各凸を形
成したスタンパを、前記したスタンパとして用いる。この
スタンパに対向するのは鏡面を有するキャビティであ
る。こうして、締め付けた一対の金型の中心部分から溶融
した光透過性に優れたポリカーボネート樹脂、アクリル
樹脂などのプラスチックスを射出して、射出圧縮冷却す
る。こうして、再生専用記録媒体の基板を製造すること
ができる。

【００１１】また、前記した光情報記録媒体が追加記録
媒体(ＷＯ)の場合のときの基板を製造するには、次のよ
うに行う。 即ち、その表面３ａに螺旋状のグルーブ (トラック溝)を
凸状に形成したスタンパを、前記したスタンパとして用
いる。このスタンパに対向するのは鏡面を有するキャビ
ティである。こうして、締め付けた一対の金型の中心部分
から溶融した光透過性に優れたポリカーボネート樹脂、
アクリル樹脂などのプラスチックスを射出して、射出圧
縮冷却する。こうして、追加記録媒体専用の基板を製造
することができる。この後、成形したこの基板表面(グル
ーブが形成されている面上)３ａに有機色素系の記録媒
体をスピンコート法により塗布し、記録膜を形成する。

【００１２】さらに、前記した光情報記録媒体が再生専
用部分と追加記録部分とが混在するハイブリッド記録媒
体(ＲＯＭ＋ＷＯ)の場合のときの基板を製造するには、
次のように行う。 即ち、その表面３ａに螺旋状のピット列とグルーブとに
それぞれ対応した雄型形状(凸列)を順次連続して形成し
たスタンパを、前記したスタンパとして用いる。このスタ
ンパに対向するのは鏡面を有するキャビティである。こ
うして、締め付けた一対の金型の中心部分から溶融した
光透過性に優れたポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂
などのプラスチックスを射出して、射出圧縮冷却する。こ
うして、ハイブリッド記録媒体専用の基板を製造するこ
とができる。この後、成形したこの基板表面(グルーブが
形成されている前記追加記録部分上のみ)に有機色素系
の記録媒体をスピンコート法により塗布し記録膜を形成
する。

【００１３】さらにまた、前記した光情報記録媒体が繰
り返し記録消去可能記録媒体(ＲＷ，ＲＡＭ)の場合のと
きの基板を製造するには、次のようにして行う。 即ち、その表面に螺旋状のグルーブを凸状に形成したス
タンパを、前記したスタンパとして用いる。このスタンパ
に対向するのは鏡面を有するキャビティである。こうし
て、締め付けた一対の金型の中心部分から溶融した光透
過性に優れたポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂など
のプラスチックスを射出して、射出圧縮冷却する。こうし
て、記録消去可能記録媒体専用の基板を製造することが
できる。この後、成形したこの基板表面(グルーブが形成
されている面上)３ａに磁気記録媒体又は相変化記録媒
体をサンドイッチ状に挟み込む誘電体膜などを適宜スパ
ッタにより成膜することにより、誘電体膜に両側が挟ま
れた形状の記録膜を形成する。

【００１４】次に、前述した如くの、ピットが形成された
基板３の表面３ａと前記した再生専用部分の表面、ある
いは、グルーブが形成された基板３の表面３ａと前記し
た追加記録部分の表面にそれぞれ形成した記録膜上に、
反射膜５をスパッタにより形成する方法について説明す
る。

【００１５】反射膜５の形成は、次のようにして行う。 即ち、基板３の中心孔３ｄ周辺の内周部３ｆをマスキン
グすると共に、基板３の裏面３ｅを基板ホルダ４に固定
する内周マスク２ｃと、基板３の外周縁端部３ｂをマス
キング保持し同時に基板３の外周部３ｃをマスキングす
る外周マスク２ｂとを、一体に形成したマスク２を含む
基板ホルダユニットを、Ａｌ，Ａｕ等の金属製の反射膜
形成用ターゲット１と対面して配置する。これら基板ホ
ルダユニット全体を真空脱気できる真空室内に設け、真
空度を上げた後にスパッタガスを導入した後、反射膜形
成用ターゲット１に電位を印加しスパッタを行って反射
膜５を形成する。

【００１６】前記の方法によって形成した反射膜５は、
内周マスク２ｃでマスキングした基板内周部３ｆを除
き、記録範囲部分３ｇには均一に形成される。また、記録
範囲部分３ｇの外周の有効記録範囲の外側にあり、外周
マスク２ｂで覆った範囲から外周縁端部３ｂにかけて、
徐徐に厚みが減少し、基板３とマスク２とがテーパ面２
ｂ１にて接触する外周縁端部３ｂから外周部（側面）３
ｃには反射膜５は形成されない。

【００１７】次に、前記方法により反射膜５を形成した
上に保護膜６を形成する。紫外線硬化樹脂をスピンコー
ターを用いて基板３を高速回転させながら内周部のノズ
ルから反射膜５上に紫外線硬化樹脂を滴下し、遠心力で
広げて均一に塗布する。このとき外周縁端部３ｂに達し
た余分な紫外線硬化樹脂は液滴となって飛び散るが、回
転を停止した段階で外周縁端部３ｂのコート材は流動性
を持っているため、基板３の外周縁端部３ｂを完全に覆
ってさらに基板３の外周部３ｃの上部まで流下して覆
う。その後紫外線を照射してコート材を硬化し保護膜６
を形成する。

【００１８】次に前記した保護膜６上に、光情報記録媒
体の内容を表示するような印刷(印刷層７)を施す。印刷
(印刷層７)は保護コート材(保護膜５)と同様なアクリル
樹脂系の紫外線硬化型インキを用い、スクリーン印刷や
オフセット印刷などの方法により行う。

【００１９】以上の製造工程により、反射膜５を完全に
保護膜６で覆った剥離および変質をきたすことのない光
情報記録媒体を製造することができる。

【００２０】以下に、本発明の光情報記録媒体の具体的
な実施例について、詳細に説明する。前述したものと同
一構成部分には同一符号を付し、その説明を省略する。 ［実施例１］図４に示す光カード情報記録媒体(以下光
カードと記す)Ｂを製造する方法である。光カード基板３
の構成は、その寸法を長辺が８３ｍｍ、短辺が５６ｍ
ｍ、対角線の交点を中心とする直径１５ｍｍの中心孔３
ｄを設け、厚みを光入射面(裏面３ｅ。図４の紙面裏)側
の直径８０ｍｍの範囲は１．２ｍとし、その外延部は
０．８ｍｍの厚みに形成する。この光入射面に対向する
面の直径５０ｍｍから５５ｍｍの範囲に記録部分を設け
てある。前記したカードＢの寸法は一例であって本発明
はこの寸法に拘束されるものではない。

【００２１】光カード基板３の成形はカード基板形状の
キャビティを形成する一対の金型を取り付けた射出成形
機を用いる。カード形状の光入射面(裏面３ｅ)を形成す
る形状を彫り込んで表面３ａを鏡面加工を施した金型の
半体を成形機の固定側または移動側に取り付け、記録部
分を設けたスタンパを取り付けた他の金型半体を成形機
の前記金型と対向する移動側または固定側に取り付け
る.。金型の温度を８０℃〜９０℃に保ち、成形機を閉
じて一対の金型が僅かに開いた状態で溶融したポリカー
ボネート樹脂をキャビティの中心に設けたゲートから射
出し、射出完了の直前に金型を完全に閉じて冷却し、冷
却が完了する以前に金型に設置したセンター孔ポンチを
突き出して中心孔３ｄを形成し、ポリカーボネート樹脂
を冷却固化した後金型を開いて取出し光カード基板３を
得る。

【００２２】前記スタンパを連続する螺旋状のピットト
ラックを設けたスタンパを使用すれば成形したカード基
板３上に反射膜５、保護膜６、印刷層７の順で設け再生
専用光カード記録媒体を得ることができる。また前記ス
タンパを連続する螺旋状のグルーブを設けたスタンパを
使用すれば、成形したカード基板３上に有機色素系の記
録媒体を塗布し、反射膜５、保護膜６、印刷層８の順で
設け追加記録型光カード記録媒体を得ることができる。
また前記スタンパを連続する螺旋状のピットトラックと
ピットに連続するグルーブとを交互に設けたスタンパを
使用すれば、成形したカード基板３上に有機色素系の記
録媒体を塗布し、反射膜５、保護膜６、印刷層７の順で
設け再生専用追加記録ハイブリッド型光カード記録媒体
を得ることができる。さらに前記スタンパを連続する螺
旋状のグルーブ設けたスタンパを使用すれば成形したカ
ード基板３上に磁気記録膜または相変化記録膜を設け、
しかる後に反射膜５、保護膜６、印刷層７の順で設け記
録消去型光カード記録媒体を得ることができる。

【００２３】記録するフォーマットはＣＤ(コンパクト
ディスク)フォーマットでもＤＶＤ(デジタル多用途ディ
スク)フォーマットでも他のフォーマットでも良い。

【００２４】次にピットまたは記録媒体を設けた各タイ
プの光カード基板３の上に反射膜を形成する。図１にス
パッタ装置の主要構成部分である本発明の要部であるマ
スク２と基板３の断面を示す。図示はしないが前記構成
部分全体は真空チャンバー内に収められている。真空チ
ャンバーを開き、基板ホルダ４を引き下げ、マスク２と
間隙を有する状態で基板３を表面（記録面側）３ａを上
側にして反射膜形成用ターゲット１に対向するようにし
て基板ホルダ４上に載置する。

【００２５】次に真空チャンバーを閉じて真空引きす
る。同時に基板ホルダ４を上昇し基板３をマスク２の下
側に押し当てる。この時、図２に示すように、マスク２
の外周端部を、基板ホルダ４に載置してある基板３の表
面３ａに対して、ほぼ４５°に面取りしてテーパ面２ｂ
１を形成してあるために、基板３の外周縁端部３ｂの角
がマスク２の面取り部(テーパ面２ｂ１)と接する。マス
ク２の端部(テーパ面２ｂ１)はほぼ１ｍｍ、基板３の外
周縁端部３ｂから入り込んだ位置で角取りしてある。

【００２６】次にＡｌガスを注入し、反射膜形成用ター
ゲット１に４００Ｖ〜７００Ｖの電圧を印加して１〜４
秒間スパッタし、基板表面３ａに反射膜５を形成する。
反射膜５は基板３の内周部３ｆの外側から有効記録範囲
に２０ｎｍ〜７０ｎｍの均一の厚みに形成され、外周縁
端部３ｂでは、図２に示した如く、反射膜５はマスク２
の下部部分が基板３の端部(外周縁端部３ｂ)に近づくに
つれて厚みが減少し、角部(外周縁端部３ｂ)で無くなる
ように形成される。本実施例では、反射膜形成用ターゲ
ット１の材質はアルミ合金を使用しているが、材質はこ
れに限定されるものでなく、Ａｕ、Ａｇ、Ｔｉなどでも
これらの合金を用いても良い。

【００２７】次に反射膜５の上に保護膜６を形成する。
図示はしないがアクリル樹脂系の紫外線硬化樹脂のコー
ト材をスピンコーターを用いて基板２を高速回転させな
がら反射膜５を形成した端部(外周縁端部３ｂ)よりも内
周部にノズルから前記紫外線硬化樹脂を滴下し、遠心力
で均一に広げて全面に塗布する。このとき端部に達した
余分な樹脂は液滴となって外に飛び散るが、回転を停止
した段階で外周縁端部３ｂのコート材が流動性を有して
いるため、反射膜５の外周縁端部３ｂを完全に覆ってさ
らに基板３の側面(外周部３ｃ)の上部に流下し覆う。

【００２８】次に紫外線を照射してコート材を硬化し保
護膜６を形成する。外周縁端部３ｂにおける基板３上に
形成した反射膜５と保護膜６との形成状態を図３に拡大
して示した。基板３の外周縁端部３ｂで反射膜５の厚み
が減少し、角で無くなっている。保護膜６は反射膜５を
完全に覆い、外周部３ｃの上部までを覆っている。

【００２９】次に保護膜６の上に光記録媒体の内容を表
示するような印刷(印刷層７)を施す。印刷層７はコート
材(保護膜６)と同様なアクリル樹脂系の紫外線硬化型イ
ンキを用い、スクリーン印刷やオフセット印刷などの方
法により行う。図４に印刷を施した光カードＢを示す。
レーベル印刷面部である印刷層７の外周縁に反射膜５が
透明な保護膜６を透過して見えている。

【００３０】以上の製造工程により、反射膜５の剥離お
よび変質をきたすことのない光カード情報記録媒体Ｂを
得ることができた。

【００３１】［実施例２］図５に示した光ディスク情報
記録媒体Ｃを製造する方法であり、情報トラックを形成
するスタンパの形状、基板３を成形する金型キャビティ
の形状、保護膜６を形成するスパッタのマスク形状を直
径１２ｃｍ、厚み１．２ｍｍのディスク形状に合わせて
制作したものを使用する以外は、前述した［実施例１］
と同様の方法で光ディスク情報記録媒体Ｃを得ることが
できた。

【００３２】前述したように本発明の実施例によれば、
基板３の上に形成する反射膜５を前記基板３の表面の内
周から外周に向かって反射膜５の厚みを徐徐に薄く、そ
して外周縁端部３ｂで無くなるように形成し、また、反
射膜５の上に保護膜６を反射膜５の全面に完全に覆って
形成し、さらに、基板３の外周縁端部３ｂは角から基板側
面である外周部３ｃの一部にまで保護膜６を形成して反
射膜５を完全に覆うことができるため、この反射膜５の
剥離および時間経過後の劣化が無い良好な光情報記録媒
体を得ることができる。

【００３３】

【発明の効果】以上説明したことから明らかなように本
発明によれば、特に、真空中で行なうスパッタリングに
より反射膜を基板表面又は記録膜上に成膜する成膜手段
は、スパッタリング用ターゲットと、所定間隔をもって前
記スパッタリング用ターゲットに対向しかつ前記基板を
保持する基板ホルダと、前記スパッタリング用ターゲッ
トと前記基板ホルダとの間に配置しかつ開口部とマスク
部とを有することにより、前記スパッタリング用ターゲ
ットから飛来するスパッタ粒子を用いて前記基板表面又
は前記記録膜上にのみ前記反射膜を成膜するためのマス
クとを備え、前記開口部は前記基板ホルダ上に保持した
前記基板表面又は前記記録膜上を露出する開口であり、
前記マスク部は前記開口部に近接して設けられかつ前記
基板の外周縁に当接する部分を面取りしたテーパ面を備
えており前記テーパ面を前記基板の外周縁全体に接触し
て前記基板の外側面全体を前記開口部側から覆うことに
より、前記基板の内周から外周へ向かうに従って前記反
射膜の厚さを徐徐に薄くして基板の外周縁でその厚さを
無(ゼロ)にするように反射膜を成膜することができ、し
かも前記基板の外側面上にこの反射膜を形成することは
ないから、この結果、基板表面又は記録膜上に成膜してあ
る反射膜の終端が基板の外側面上まで延在せず、これに
加えて基板表面又は記録膜上に成膜された反射膜全体及
び基板の外側面上が保護膜で完全に覆われることになる
ので、これにより、前記したように成膜した反射膜の剥離
防止及び反射膜の経時変化による劣化(酸化)を確実に防
止することができ、また、基板の外周縁まで反射膜が形成
され、外側面上には反射膜が形成されないので、見栄え
が良い等の効果を有する光情報記録媒体及びこの光情報
記録媒体を製造する光情報記録媒体製造装置を提供する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の光情報記録媒体製造装置を用いてス
パッタリングによる反射膜を基板表面に成膜することを
説明するための図

【図２】 図１に示すマスクと基板との接触を説明する
ための図

【図３】 本発明の光情報記録媒体製造装置を用いて基
板上に反射膜、保護膜を形成した状態を説明するための
図

【図４】 本発明の光情報記録媒体の実施例１になる光
カード情報記録媒体の印刷面側の平面図

【図５】 本発明の光情報記録媒体の実施例２になる光
ディスク情報記録媒体の印刷面側の平面図

【符号の説明】

１ 反射膜形成用ターゲット(スパッタリング用ターゲ
ット) ２ マスク ２ａ 開口部 ２ｂ 外周マスク（マスク部） ２ｂ１ テーパ面 ３ 基板 ３ａ 表面(基板表面) ３ｂ 外周縁端部（外周縁） ３ｃ 外周部（外側面） ４ 基板ホルダ ５ 反射膜 ６ 保護膜 Ａ 光情報記録媒体製造装置 Ｂ 光カード情報記録媒体 Ｃ 光ディスク情報記録媒体

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ピット列を螺旋状に形成した基板表面に
   反射膜、保護膜を順次積層してなる再生専用型の光情報
   記録媒体を製造するか、又は、グルーブを螺旋状に形成し
   た前記基板表面に記録膜、前記反射膜、前記保護膜を順次
   積層してなる記録型の光情報記録媒体を製造するか、又
   は、前記ピット列を螺旋状に形成した前記基板表面に前
   記反射膜と前記保護膜とを順次積層してなる再生専用領
   域と、前記グルーブを螺旋状に形成した前記基板表面に
   前記記録膜と前記反射膜と前記保護膜とを順次積層して
   なる記録領域とを、半径方向に領域分割してなる再生専
   用記録複合型の光情報記録媒体を製造する光情報記録媒
   体製造装置において、真空中で行なうスパッタリングに
   より前記反射膜を前記基板表面又は前記記録膜上に成膜
   する成膜手段は、スパッタリング用ターゲットと、所定間
   隔をもって前記スパッタリング用ターゲットに対向し、
   かつ前記基板を保持する基板ホルダと、前記スパッタリ
   ング用ターゲットと前記基板ホルダとの間に配置しかつ
   開口部とマスク部とを有することにより、前記スパッタ
   リング用ターゲットから飛来するスパッタ粒子を用いて
   前記基板表面又は前記記録膜上にのみ前記反射膜を成膜
   するためのマスクとを備え、前記開口部は、前記基板ホル
   ダ上に保持した前記基板表面又は前記記録膜上を露出す
   る開口であり、前記マスク部は、前記開口部に近接して設
   けられかつ前記基板の外周縁に当接する部分を面取りし
   たテーパ面を備えており、前記テーパ面を前記基板の外
   周縁全体に接触して前記基板の外側面全体を前記開口部
   側から覆うことにより前記開口部側から前記基板の外側
   面側へ飛来する前記スパッタ粒子の進入を阻止すること
   を特徴とする光情報記録媒体製造装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の光情報記録媒体製造装置
   により製造した再生専用型の光情報記録媒体であって、
   ピット列を螺旋状に形成した基板表面に反射膜、保護膜
   を順次積層してなり、前記反射膜の厚さは前記基板の外
   周縁に近づくにつれて徐々に薄くなりかつ前記外周縁に
   至ると前記反射膜の厚さが略ゼロとなり、前記基板の外
   側面上には直接、前記保護膜を形成したことを特徴とす
   る光情報記録媒体。
3. 【請求項３】 請求項１記載の光情報記録媒体製造装置
   により製造した記録型の光情報記録媒体であって、グル
   ーブを螺旋状に形成した基板表面に記録膜、反射膜、保護
   膜を順次積層してなり、前記反射膜の厚さは前記基板の
   外周縁に近づくにつれて徐々に薄くなりかつ前記外周縁
   に至ると前記反射膜の厚さが略ゼロとなり、前記基板の
   外側面上には直接、前記保護膜を形成したことを特徴と
   する光情報記録媒体。
4. 【請求項４】 請求項１記載の光情報記録媒体製造装置
   により製造された再生専用記録複合型の光情報記録媒体
   であって、前記ピット列を螺旋状に形成した基板表面に
   反射膜と保護膜とを順次積層してなる再生専用領域と、
   前記グルーブを螺旋状に形成した前記基板表面に記録膜
   と前記反射膜と前記保護膜とを順次積層してなる記録領
   域とが、半径方向に領域分割してなり、前記反射膜の厚さ
   は前記基板の外周縁に近づくにつれて徐々に薄くなりか
   つ前記外周縁に至ると前記反射膜の厚さが略ゼロとな
   り、前記基板の外周側面上には直接、前記保護膜を形成し
   たことを特徴とする光情報記録媒体。