KR20110117011A - 현상제 층 두께 규제 디바이스, 화상 담지 부재 클리닝 디바이스, 현상 디바이스, 클리닝 디바이스, 프로세스 카트리지 및 화상 형성 장치 - Google Patents

현상제 층 두께 규제 디바이스, 화상 담지 부재 클리닝 디바이스, 현상 디바이스, 클리닝 디바이스, 프로세스 카트리지 및 화상 형성 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명의 현상제 층 두께 규제 디바이스는 현상제를 수용하는 현상 용기에 의해 회전 가능하게 지지된 현상 롤러의 표면상의 현상제의 층 두께를 규제하는 블레이드 부재와, 상기 블레이드 부재를 지지하는 지지 부재를 포함한다. 상기 지지 부재는 체결 수단에 의해 현상 용기의 일부에 체결될 수 있고, 지지 부재가 체결 수단에 의해 현상 용기에 체결될 때, 현상 용기의 일부에 대한 지지 부재의 위치는 블레이드 부재의 폭방향에 대해 조정 가능하여, 블레이드 부재를 현상 용기에 대해 소정의 위치에 체결시킨다. 상기 지지 부재가 체결 수단에 의해 체결될 때, 지지 부재는 현상 용기의 일부 내로 파고들어갈 수 있는 바이팅부를 갖는다.

Description

현상제 층 두께 규제 디바이스, 화상 담지 부재 클리닝 디바이스, 현상 디바이스, 클리닝 디바이스, 프로세스 카트리지 및 화상 형성 장치{DEVELOPER LAYER THICKNESS REGULATING DEVICE, IMAGE BEARING MEMBER CLEANING DEVICE, DEVELOPING DEVICE, CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS}
본 발명은, 현상제를 사용해서 화상 담지 부재(image bearing member) 상에 현상 화상(developer image)을 형성하고, 그 후에 현상 화상을 종이 등의 기록 시트에 전사시켜 화상을 형성하는 화상 형성 장치에 관한 것이다. 예를 들어 화상 담지 부재로서 전자 사진 감광 드럼이 사용되고, 선택적인 노광을 행해서 정전 잠상을 형성하며, 현상 디바이스에 의해 정전 잠상에 현상제를 부착시켜서 현상 화상으로서 정전 잠상이 현상되는 전자 사진 방식의 화상 형성 장치가 있다. 그 외에, 화상 담지 부재로서 정전 기록 유전 재료가 사용되는 정전 기록 방식의 화상 형성 장치와, 화상 담지 부재로서 자기 기록 자성 재료가 사용되는 자기 기록 방식의 화상 형성 장치가 있다.
종래, 전자 사진 방식의 전자 사진 화상 형성 장치에서는, 대전 디바이스에 의해 균일하게 대전된 전자 사진 감광 드럼에 선택적인 노광을 행해서 정전 잠상을 형성하고, 현상 디바이스에 의해 정전 잠상에 현상제를 부착시켜서 현상 화상으로서 정전 잠상이 현상된다. 그 후, 이 현상 화상을 종이 등의 기록 시트에 전사해서 화상을 형성한다. 그리고, 현상 화상의 전사 후의 전자 사진 감광 드럼은, 표면에 남아있는 잔류 현상제가 클리닝 디바이스에 의해 제거되어서, 다음 화상 형성에 제공된다. 프로세스 수단으로서의 대전 디바이스, 현상 디바이스 또는 클리닝 디바이스와, 전자 사진 감광 드럼(부재)을 일체적으로 카트리지화함으로써, 프로세스 카트리지를 구성한다. 프로세스 카트리지는 전자 사진 화상 형성 장치 본체에 대해 착탈 가능하도록 구성되어, 유저의 유지 보수 작업이 경감된다.
이러한 현상 디바이스는, 현상 롤러와, 현상 롤러 상에 코팅되는 현상제의 두께를 규제하는 현상 블레이드와, 현상제를 현상 롤러 상에 도포하는 도포 롤러 등의 현상 부재를 지지하는 현상 디바이스 프레임과, 현상제를 수용한 현상 용기를 결합해서 구성되어 있다. 그리고, 현상 블레이드의 양단부를, 현상 블레이드가 현상 용기에 대해 움직이지 않도록 작은 나사로 고정하고 있는 것이 일반적이다.
상기 구성의 현상 디바이스에 있어서는, 현상 블레이드가 현상 롤러에 대해 고정밀도로 위치되는 것이 요구되고 있다. 현상 블레이드의 위치가 불안정해서, 현상 롤러 상의 현상제의 층 두께가 지나치게 두꺼우면, 전사재 상의 현상제가 위치되지 않아야 하는 부분에 현상제가 위치되는 현상이 발생한다. 현상 롤러 상의 현상제의 층 두께가 지나치게 얇으면, 충분한 화상 농도가 얻어질 수 없다고 하는 등의 문제가 발생한다. 현상 롤러 상의 현상제의 층 두께를 균일화시켜 상기 문제를 해소하기 위해서, 현상 롤러에 대해 현상 블레이드의 단부(에지)를 고정밀도로 위치설정하도록, 현상 용기에 대한 현상 블레이드 장착 위치를 조정하여 조립이 수행되고 있다(예를 들어, 미국 특허 제6,298,203호).
또한, 클리닝 디바이스에 있어서는, 감광 드럼이 클리닝 프레임에 회전 가능하게 장착되며, 전사 후에 감광 드럼 상에 남은 현상제(미전사된 토너)를 제거하기 위한 클리닝 블레이드와, 가요성 시트 부재가 배치되어 있다.
그리고, 클리닝 블레이드에 의해 감광 드럼 표면으로부터 제거된 미전사된 토너(잔류 토너)는 클리닝 프레임의 후방에 설치된 잔류 토너 용기에 수납된다.
클리닝 블레이드와 그 주변부의 구성을 결정할 때 중요한 것은, 클리닝 블레이드의 감광 드럼에 대한 침입량을 안정화시키는 것과, 토너 누설을 방지하는 것이다. 이로 인해, 현상 블레이드의 경우와 같이, 클리닝 프레임에 대해 클리닝 블레이드의 단부를 고정밀도로 위치설정하도록, 클리닝 블레이드는 그 위치를 조정함으로써 클리닝 프레임에 조립되고, 작은 나사로 고정된다.
화상 형성 장치에 있어서, 고정밀도로 장착된 현상 블레이드 및 클리닝 블레이드의 위치는 시간 경과나 이송 등의 영향에 의해 변하지 않는 것이 중요하다. 그 때문에, 각각의 블레이드의 조립시, 작은 나사의 체결 토크나 부품의 치수 공차를 엄격하게 관리하는 것이 필요했다.
본 발명의 목적은, 현상제 담지체에 대하여 고정밀도로 위치설정된 현상 블레이드의 단부의 위치를 유지할 수 있는 현상 블레이드를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 현상 블레이드, 클리닝 블레이드 및, 클리닝 블레이드를 구비하는 클리닝 디바이스를 포함하는 현상 디바이스와, 프로세스 카트리지와, 화상 형성 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 양태에 따르면, 현상제 층 두께 규제 디바이스가 제공되며, 상기 현상제 층 두께 규제 디바이스는,
현상제를 수용하는 현상 용기에 의해 회전 가능하게 지지된 현상 롤러의 표면상의 현상제의 층 두께를 규제하는 블레이드 부재와,
블레이드 부재를 지지하는 지지 부재를 포함하며,
상기 지지 부재는 체결 수단에 의해 현상 용기의 일부에 체결될 수 있고, 지지 부재가 체결 수단에 의해 현상 용기에 체결될 때, 현상 용기의 일부에 대한 지지 부재의 위치는 블레이드 부재의 폭방향에 대해 조정 가능하여, 블레이드 부재를 현상 용기에 대해 소정의 위치에 체결시키며,
상기 지지 부재가 체결 수단에 의해 체결될 때, 지지 부재가 현상 용기의 일부 내로 파고들어갈 수 있는 바이팅부(biting portion)를 갖는다.
본 발명에 따르면, 용기와 접촉하는 블레이드 지지 부재의 표면은, 용기에 파고들어가는 형상을 갖는다. 이에 의해, 블레이드가 용기에 조립되고, 지지 부재를 체결 수단에 의해 용기에 체결했을 때에 블레이드 지지 부재가 (현상) 용기에 파고들어가도록 구성되어서, 시간 경과 및 충격의 영향에 대해 블레이드의 위치를 유지할 수 있다.
본 발명의 이러한 목적, 특징 및 장점과, 다른 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조하여 하기의 본 발명의 바람직한 실시 형태의 설명을 고려하여 보다 명백해질 것이다.
도 1은 본 발명의 실시 형태에 따른 화상 형성 장치의 전체 구성도.
도 2는 본 발명의 실시 형태에 따른 프로세스 카트리지의 단면도.
도 3은 본 발명의 실시 형태의 현상 유닛의 현상 디바이스 프레임의 전체도.
도 4는 본 발명의 실시 형태의 현상 유닛의 현상 디바이스 프레임과 현상 블레이드의 분해도.
도 5는 본 발명의 실시 형태의 현상 유닛의 전체도.
도 6의 (a)는 지지 부재의 요철부가 평행한 널링(knurling) 형상을 갖는, 본 발명의 실시 형태에 따른 현상 블레이드의 지지 부재의 구성을 도시한 개략도이고, 도 6의 (b)는 본 발명의 실시 형태에 따른 현상 블레이드 또는 클리닝 블레이드의 지지 부재의 요철부가 평행한 널링 형상을 갖는 예의 확대도.
도 7의 (a)는 지지 부재의 요철부가 평행한 요철 형상을 갖는, 본 발명의 실시 형태에 따른 현상 블레이드의 지지 부재의 구성을 도시한 개략도이고, 도 7의 (b)는 본 발명의 실시 형태에 따른 현상 블레이드 또는 클리닝 블레이드의 지지 부재의 요철부가 평행한 요철 형상을 갖는 예의 확대도.
도 8의 (a)는 지지 부재의 요철부가 더블-컷(double-cut) 널링 형상을 갖는, 본 발명의 실시 형태에 따른 현상 블레이드의 지지 부재의 구성을 도시한 개략도이고, 도 8의 (b)는 본 발명의 실시 형태에 따른 현상 블레이드 또는 클리닝 블레이드의 지지 부재의 요철부가 더블-컷 널링 형상을 갖는 예의 확대도.
도 9의 (a)는 지지 부재의 요철부가 더블-컷 요철 형상을 갖는, 본 발명의 실시 형태에 따른 현상 블레이드의 지지 부재의 구성을 도시한 개략도이고, 도 9의 (b)는 본 발명의 실시 형태에 따른 현상 블레이드 또는 클리닝 블레이드의 지지 부재의 요철부가 더블-컷 요철 형상을 갖는 예의 확대도.
도 10은 본 발명의 실시 형태의 클리닝 유닛의 전체도.
도 11은 도 10의 클리닝 유닛을 A-A선을 따라 절단했을 때의 단면도.
도 12는 본 발명의 실시 형태의 클리닝 프레임의 전체도.
도 13은 본 발명의 실시 형태에 따른 클리닝 블레이드의 전체도.
이하에, 본 발명의 실시 형태가 도면을 참조하여 설명될 것이다.
우선, 화상 형성 장치 전체의 개략 구성에 대해서 간단하게 설명한다. 또한, 하기의 실시 형태에서는, 전자 사진 방식의 복사기, 프린터 등의 화상 형성 장치와, 화상 형성 장치 본체에 대하여 착탈 가능한 프로세스 카트리지에 사용되는 현상 디바이스를 예로서 설명한다.
(전자 사진 화상 형성 장치의 전체 구성)
장치 본체(100)에서, 도 1에 도시된 바와 같이, 화상 신호에 기초한 레이저광(7)이 레이저 스캐너(6)로부터 각각의 프로세스 카트리지(12y, 12m, 12c, 12k)에 보내진다. 이들 프로세스 카트리지(12y, 12m, 12c, 12k)에 의해, 각 색의 토너상이 전사 벨트(9) 상에 순차적으로 1차 전사된다. 그 후, 전사 벨트(9) 상에 형성된 토너상은, (시트) 급송 롤러(1)에 의해 반송된 기록재(기록 매체)(P) 상에, 전사 롤러(2)에 의해 2차 전사된다. 그 후, 기록재(P)는 정착 유닛(3)에 반송되어, 기록재(P) 상에 전사된 토너상이 정착된다. 그 후, 토너상이 정착된 기록재(P)는 배출 롤러 쌍(4)에 의해 배출부에 배출된다.
(프로세스 카트리지의 전체 구성)
다음에 본 실시 형태의 프로세스 카트리지(12y, 12m, 12c, 12k)에 대해서, 도 2를 참조하여 설명한다. 여기서, 프로세스 카트리지(12y, 12m, 12c, 12k)는 색이 다른 토너를 수용하는 것 이외에는 같은 구성을 가지므로, 이하에서는 프로세스 카트리지(12y)를 사용하여 설명한다. 또한, 첨자 y, m, c, k는 각각 옐로우, 마젠타, 시안, 블랙을 나타낸다.
도 2에 도시된 바와 같이, 프로세스 카트리지(12y)는 감광 드럼(화상 담지 부재)(42)과, 감광 드럼(42)에 작용하는 프로세스 수단을 구비하고 있다. 여기서, 프로세스 수단은 감광 드럼(42)을 대전시키는 대전 롤러(44), 감광 드럼(42)에 형성된 잠상을 현상하는 현상 롤러(25), 감광 드럼(42)의 표면에 남아있는 잔류 토너를 제거하기 위한 화상 담지 부재 클리닝 디바이스(이하, 클리닝 블레이드로 지칭됨)(45) 등이 있다. 그리고, 프로세스 카트리지(12y)는 클리닝 유닛(클리닝 디바이스)(43)과, 현상 유닛(현상 디바이스)(24)으로 나누어져 있다.
(클리닝 유닛)
클리닝 유닛(43)은 감광 드럼(42)이 클리닝 프레임(클리닝 용기)(46)에 회전 가능하게 장착되어 있다. 또한, 감광 드럼(42)의 외주면에 설치된 감광층을 균일하게 대전시키는 대전 롤러(44), 전사 후에 감광 드럼(42) 상에 남은 현상제를 제거하기 위한 클리닝 블레이드(45), 가요성 시트 부재(49)가 배치되어 있다. 클리닝 블레이드(45)에 의해 감광 드럼(42)의 표면으로부터 제거된 잔류 토너는, 클리닝 프레임(46)의 후방에 설치된 잔류 토너 챔버(47)에 수납된다. 또한, 감광 드럼(42) 상의 미전사 토너는, 가요성 시트 부재(49)의 드럼 접촉부를 통해서 클리닝 블레이드(45)의 위치까지 도달한다. 클리닝 블레이드(45)에 의해 감광 드럼(42)으로부터 제거된 잔류 토너가 클리닝 프레임(46)의 외부로 누출되지 않도록 가요성 시트 부재(49)의 접촉 조건이 설정되어 있다.
(현상 유닛)
현상 유닛(24)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 현상 롤러(25), 현상제 층 두께 규제 디바이스(이하, 현상 블레이드로 지칭됨)(26), 토너 공급 롤러(27), 현상 디바이스 프레임(29), 베어링 유닛으로 구성된다. 현상 디바이스 프레임(29)은, 현상 롤러(25)에 공급되는 토너를 수용하는 토너 수용부를 포함하며, 현상 롤러(25)의 주위면에는, 현상 롤러(25)와 접촉해서 회전되는 토너 공급 롤러(27)와, 현상 블레이드(26)가 배치되어 있다.
(현상 방법)
현상시, 현상 디바이스 프레임(29) 내에 수용된 토너는 토너 공급 롤러(27)에 반송되고, 토너 공급 롤러(27)는 그 토너를 현상 롤러(25)의 미끄러짐에 의해 현상 롤러(25)에 공급하여, 현상 롤러(25) 상에 담지시킨다. 현상 롤러(25) 상에 담지된 토너는 현상 롤러(25)의 회전에 의해 현상 블레이드(26)의 위치에 도달하고, 현상 블레이드(26)에 의해 규제되어 소정의 얇은 토너층을 형성하여, 원하는 대전 전하량이 부여된다. 현상 롤러(25) 상에 얇은 층으로 형성된 토너는, 현상 롤러(25)의 회전에 의해, 감광 드럼(42)과 현상 롤러(25)가 서로 접촉한 현상부로 반송된다. 그리고, 현상부에서, 도시하지 않은 전원으로부터 현상 롤러(25)에 인가된 현상 바이어스에 의해, 토너가 감광 드럼(42)의 표면상에 형성된 정전 잠상에 부착되어 잠상을 현상화한다. 정전 잠상의 현상화에 기여하지 않고 현상 롤러(25)의 표면에 남아있는 토너는, 현상 롤러(25)의 회전에 의해 현상 디바이스의 내부로 복귀되고, 그 후에 현상 롤러(25)와 토너 공급 롤러(27) 사이의 미끄럼부에서 현상 롤러(25)로부터 분리되어, 회수된다. 회수된 토너는, 나머지 토너와 혼합된다.
(현상 블레이드)
도 3, 도 4 및 도 5를 참조하여, 현상 유닛(24)이 보다 상세하게 설명된다.
현상 블레이드(26)는 현상 디바이스 프레임(29)에 회전 가능하게 지지된 현상 롤러(25) 상의 토너를 규제하며, 현상 롤러(25) 상의 토너의 층 두께를 규제하는 규제 부재(22)와, 규제 부재(22)를 현상 디바이스 프레임(29)에 지지(유지)하는 지지 부재(23)에 의해 구성되어 있다. 또한, 지지 부재(23)는 규제 부재(22)의 길이방향의 휘어짐을 경감시키기 위해 강도가 요구되므로, 지지 부재(23)의 재질은 일반적으로 금속이다.
규제 부재(22)는 몰딩(molding) 또는 압연에 의해 제조될 수 있다. 규제 부재(22)의 재질은 금속 또는 수지일 수 있다. 또한, 규제 부재(22)는 지지 부재(23)에 고정되어 있고, 그 고정 방법은 용접일 수 있으며, 접착제에 의한 접착일 수도 있다. 또한, 본 실시 형태에서, L자 형상으로 굽혀진 지지 부재(23)가 사용되지만, 현상 블레이드(26) 전체의 형상에 대해서는 특별히 한정되지 않는다.
현상 블레이드(26)의 현상 디바이스 프레임(29)으로의 장착은, 현상 디바이스 프레임(29)의 현상 블레이드 시트면(32)에 지지 부재(23)를 접촉시킴으로써 수행된다. 도 4는 현상 블레이드(26)가 장착되기 전의 현상 디바이스 프레임(29)과 현상 블레이드(26)의 상태를 도시한다.
본 실시 형태에서는, 현상 블레이드 시트면(32)과의 지지 부재(23)의 접촉 표면(바이팅부)에, 단속적 또는 연속적인 요철 형상[이하, 지지 부재 요철부(21)로 지칭됨]이 설치되어 있다. 이로 인해, 지지 부재(23)가 현상 블레이드 시트면(32)과 접촉했을 때, 지지 부재(23)의 접촉 표면이 현상 블레이드 시트면(32)에 파고들어가도록 구성된다. 이 때, 지지 부재 요철부(21)의 형상으로서, 예를 들어 현상 블레이드(26)의 길이방향에 평행한 방향으로 연장되는 복수의 에지(e)를 갖는 입체 형상인 평행한 널링 형상[도 6의 (a) 및 도 6의 (b)]이 사용된다. 현상 블레이드(26)의 길이방향에 평행한 방향으로 복수의 에지(e)가 설치되어, 지지 부재 요철부(21)가 현상 디바이스 프레임(29)에 파고들어갔을 때 현상 블레이드(26)가 폭방향에 대해 위치 어긋나기 어렵다. 또한, 현상 블레이드(26)의 길이방향에 평행한 방향으로 연장되는 복수의 에지(e)를 갖는 입체 형상의 예로서는, 도 7의 (a) 및 도 7의 (b)에 도시된 현상 블레이드(26)를 들 수 있다. 또한, 서로 교차하는 2개의 방향으로 연장되는 단속적 또는 연속적인 요철 형상을 갖는 더블-컷 널링[도 8의 (a) 및 도 8의 (b)]의 형상이 사용될 수 있다. 이렇게 함으로써, 1 방향뿐만 아니라 복수의 방향에 대해 위치 어긋남을 방지할 수 있다. 또한, 이러한 형상의 다른 예로서는, 도 9의 (a) 및 도 9의 (b)에 도시된 형상이 있다. 또한, 이 지지 부재의 시트면의 형상은, 요철 형상을 갖는 시트면이 현상 용기에 파고들어가는 요철 형상이면, 상술된 형상과 다른 임의의 형상일 수도 있다. 또한, 후술하는 바와 같이, 현상 블레이드(26)는, 폭방향(현상 블레이드의 길이방향과 수직인 방향)에 대해 위치 조정가능하게 되어 있다. 이로 인해, 요철 형상은 폭방향과 교차하는 방향에 대해 설치될 수 있는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 요철 형상의 에지가 현상 디바이스 프레임(29)에 파고들어감으로써, 현상 블레이드(26)가 폭방향으로 어긋나는 것을 억제할 수 있기 때문이다.
또한, 고화질의 화상 형성을 행하기 위해서, 현상 블레이드(26)의 위치는 현상 블레이드 시트면(32)의 수직 방향에 대해서도 현상 블레이드 시트면(32)과 고정밀도로 정렬되는 것이 필요하다. 따라서, 현상 블레이드(26)가 현상 블레이드 시트면(32)에 대해 고정밀도로 위치설정되기 위해서, 지지 부재 요철부(21)의 볼록부는 가능한 한 넓은 면적에서 고정밀도로 형성 가능할 수 있는 것이 바람직하다.
(현상 블레이드의 현상 디바이스로의 조립 방법)
도 3, 도 4 및 도 5를 참조하여, 현상 블레이드(26)의 조립 방법에 대해서 설명한다.
현상 롤러(25) 상의 현상제의 층 두께를 균일화시켜 현상 롤러(25)에 대한 현상 블레이드(26)의 에지를 고정밀도로 위치설정할 수 있도록, 현상 블레이드(26)는 그 위치를 조정함으로써 현상 디바이스 프레임(29)에 조립된다. 도 4에 도시된 바와 같이, 우선, 현상 블레이드(26)는 현상 디바이스 프레임(29)에 접촉하여 임시로 위치설정된다. 고정 위치에서의 위치설정의 조정 방법으로서, 화상 처리에 의해 현상 블레이드(26)의 에지 위치를 조정하는 방법 등이 있다. 이 때, 현상 디바이스 프레임(29)에 현상 블레이드(26)를 고정시키는 고정 방법에 있어서, 현상 블레이드(26)의 양단부를 현상 디바이스 프레임(29)에 작은 나사(체결 수단)(31)로 고정시키는 것이 일반적이다. 현상 블레이드(26)의 양단부에서 작은 나사(31)가 삽입되는 구멍은 작은 나사(31)의 직경보다 큰 직경을 갖도록 구성된다. 또한, 현상 블레이드(26)의 양단부에 제공된 구멍은, 현상 블레이드(26)가 폭방향[현상 블레이드(26)의 길이방향과 수직인 방향]에 대해 위치조정 가능하도록, 폭방향으로 연장되는 긴 구멍으로 되어 있다. 현상 블레이드(26)를 작은 나사(31)로 현상 디바이스 프레임(29)에 완전하게 체결할 때까지는, 현상 블레이드(26)의 지지 부재 요철부(21)는 현상 블레이드 시트면(32)에 파고들어가지 않는다. 이로 인해, 지지 부재 요철부(21)의 볼록부가 현상 블레이드 시트면(32) 상을 미끄러질 수 있어서, 현상 블레이드(26)의 위치를 미세 조정할 수 있는 구성으로 되어 있다.
여기서, 작은 나사(31)로 현상 블레이드(26)를 현상 디바이스 프레임(29)에 체결했을 때, 지지 부재 요철부(21)가 현상 블레이드 시트면(32)에 파고들어가서, 고정된다. 상술된 바와 같이, 현상 블레이드(26)의 양단부의 구멍은 폭방향에 대해 조정 가능해서, 현상 블레이드(26)의 에지 위치는 화상 처리 등에 의해 고정밀도로 조정된다. 또한, 지지 부재 요철부(21)의 에지부가 현상 블레이드 시트면(32)에 파고들어감으로써 조립되어, 시간 경과에 의해 작은 나사(31)의 체결력이 느슨해지는 경우 및 충격이 가해지는 경우에도 현상 블레이드(26)의 에지 위치는 유지될 수 있다.
여기서, 현상 블레이드(26)와, 현상 디바이스 프레임(29)의 현상 블레이드 시트면(32)의 위치 어긋남을 방지하는 구성으로서, 현상 블레이드(26)와 현상 블레이드 시트면(32) 사이에 미끄럼을 방지하는 부재(이하, 미끄럼 방지 부재로 지칭됨)를 끼우는 구성도 고려된다. 예를 들어, 미끄럼 방지 부재로서, 내측 클립 와셔(inner clip washer)나 실리콘 코팅을 현상 블레이드(26)와 현상 블레이드 시트면(32) 사이에 개재하는 구성이 고려된다. 그러나, 이들 미끄럼 방지 부재를 끼워 넣는 구성이 채용되면, 현상 블레이드 시트면(32)의 수직 방향에 대해, 미끄럼 방지 부재의 두께의 공차에 해당하는 크기 내에서 현상 블레이드(26)의 위치가 변동되어 버린다. 그 결과, 고화질의 화상 형성이 곤란해진다. 또한, 부품 개수도 증가되므로, 부품 비용 및 조립 비용도 증가된다. 한편, 본 발명의 구성은 현상 블레이드(26)에 직접 요철 형상을 설치함으로써, 부품 비용 및 조립 비용을 증가시키지 않고 현상 블레이드 시트면(32)의 수직 방향에 대해, 종래의 현상 블레이드의 위치 정밀도와 동등한 위치 정밀도를 유지하면서, 현상 블레이드(26)의 에지 위치를 유지할 수 있다.
또한, 여기서, 현상 디바이스 프레임(29)은 비용 및 대량 생산의 관점으로부터 몰드 재질로 형성되는 것이 일반적이며, 현상 블레이드(26)의 지지 금속판(23)은 상술된 바와 같은 금속으로 형성되는 것이 일반적이다. 따라서, 현상 블레이드 시트면(32)의 재질의 탄성 계수는 지지 부재 요철부(21)의 재질의 탄성 계수보다 작다. 즉, 블레이드 시트면(32)의 재질은 요철부(21)의 재질보다 연하므로, 요철부(21)가 블레이드 시트면에 파고들어가서, 현상 블레이드(26)가 확실히 고정된다. 또한, 탄성 계수의 측정 방법은 ISO 527과 같은 ISO 규격에 따른다.
(클리닝 블레이드)
도 10, 도 11, 도 12 및 도 13을 참조하여, 클리닝 블레이드(45)의 구성을 설명한다.
도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 클리닝 블레이드(45)는 감광 드럼(42)에 접촉하여 감광 드럼(42)의 표면으로부터 잔류 토너를 제거하고, 잔류 토너를 클리닝 프레임(46)에 회수하는 기능을 갖고 있다. 클리닝 블레이드(45)는 클리닝을 수행하는 탄성 부재(50)와, 탄성 부재(50)를 클리닝 프레임(46)에 지지(유지)하는 지지 부재(51)로 구성된다. 탄성 부재(50)는 캐스트 몰딩에 의해 지지 부재(51) 상에 형성되어 있다.
클리닝 블레이드(45)와 그 주변부의 구성을 결정할 때 중요한 것은, 클리닝 블레이드(45)의 감광 드럼(42)에 대한 침입량을 안정화시키는 것과, 토너 누설을 방지하는 것이다. 이로 인해, 현상 블레이드(26)의 경우와 같이, 클리닝 프레임(46)에 대해 클리닝 블레이드(45)의 에지를 고정밀도로 위치설정하도록, 클리닝 블레이드(45)는 그 위치를 조정함으로써 클리닝 프레임에 조립되는 것이 필요하다. 구체적으로는, 클리닝 블레이드(45)의 클리닝 프레임(46)으로의 장착(조립)은, 클리닝 프레임(46)의 클리닝 블레이드 시트면(48)에 지지 부재(51)를 접촉시켜, 작은 나사(체결 수단)(31)로 체결함으로써 수행되는 것이 일반적이다.
클리닝 블레이드(45)의 양단부에서 작은 나사(31)가 삽입되는 구멍은 작은 나사(31)의 직경보다 큰 직경을 갖도록 구성된다. 또한, 클리닝 블레이드(45)의 양단부에 제공된 구멍은, 폭방향[클리닝 블레이드(45)의 길이방향과 수직인 방향]으로 클리닝 블레이드(45)를 위치 조정 가능하도록, 폭방향으로 연장되는 긴 구멍으로 되어 있다.
도 12 및 도 13에 클리닝 블레이드(45)를 장착하기 전의 클리닝 프레임(46)과 클리닝 블레이드(45)의 상태를 각각 도시한다. 클리닝 블레이드(45)에 대해서도, 현상 블레이드(26)의 구성과 유사한 구성이 채용되어서, 감광 드럼(42)에 대한 클리닝 블레이드(45)의 위치가 고정밀도로 조립될 수 있어서, 그 상태가 유지될 수 있다.
즉, 지지 부재(51)가 클리닝 블레이드 시트면(48)과 접촉하는 부분에서, 단속적 또는 연속적인 요철 형상[이하, 지지 부재 요철부(41)로 지칭됨]이 형성된다.
그리고, 작은 나사(31)로 지지 부재(51)를 클리닝 블레이드 시트면(48)에 체결시켰을 때, 지지 부재 요철부(41)가 클리닝 블레이드 시트면(48)에 파고들어가서, 고정된다. 이 때, 지지 부재 요철부(41)의 형상으로서, 현상 블레이드(26)의 형상의 경우와 같이, 평행한 널링 형상[도 6의 (b)], 더블-컷 널링 형상[도 8의 (b)], 기타 요철 형상[도 7의 (b) 및 도 9의 (b)]이 채용되는 것이 고려된다. 조립 방법, 그 효과 등은 상술된 현상 블레이드(26)의 것과 유사하다. 상술된 실시 형태와 유사하게, 요철 형상은, 클리닝 블레이드(45)의 폭방향과 교차하는 방향에 대해 설치될 수 있는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 요철부(41)의 에지가 클리닝 블레이드 시트면(48)에 파고들어감으로써, 클리닝 블레이드(45)가 폭방향으로 어긋나는 것을 억제할 수 있기 때문이다.
또한, 클리닝 블레이드로서, 감광 드럼(42)에 접촉해서 감광 드럼(42)의 표면으로부터 잔류 토너를 제거하는 클리닝 블레이드를 설명했지만, 클리닝 블레이드가 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 감광 드럼(42)으로부터 중간 전사 벨트 상에 현상 화상을 전사하고, 그 후 중간 전사 벨트로부터 기록재 상에 현상 화상을 전사하는 화상 형성 장치에 있어서, 중간 전사 벨트의 표면으로부터 잔류 토너를 제거하기 위한 클리닝 블레이드를 적용하는 것도 가능하다.
본 발명은 본원에 기술된 구성을 참조하여 기술되었지만, 상기 상세한 설명에 한정되지 않으며, 본 출원은 개선의 목적 또는 하기의 특허청구범위의 범위 내에서 있을 수 있는 수정 또는 변경을 커버하는 것으로 의도된다.

Claims (16)

  1. 현상제 층 두께 규제 디바이스이며,
    현상제를 수용하는 현상 용기에 의해 회전 가능하게 지지된 현상 롤러의 표면상의 현상제의 층 두께를 규제하는 블레이드 부재와,
    상기 블레이드 부재를 지지하는 지지 부재를 포함하며,
    상기 지지 부재는 체결 수단에 의해 상기 현상 용기의 일부에 체결될 수 있고, 상기 지지 부재가 상기 체결 수단에 의해 상기 현상 용기에 체결될 때, 상기 현상 용기의 일부에 대한 상기 지지 부재의 위치는 상기 블레이드 부재의 폭방향에 대해 조정 가능하여, 상기 블레이드 부재를 상기 현상 용기에 대해 소정의 위치에 체결시키며,
    상기 지지 부재가 상기 체결 수단에 의해 체결될 때, 상기 지지 부재는 상기 현상 용기의 일부 내로 파고들어갈 수 있는 바이팅부(biting portion)를 갖는
    현상제 층 두께 규제 디바이스.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 바이팅부는 상기 폭방향과 교차하는 방향에 대해 단속적 또는 연속적인 요철 형상을 갖는
    현상제 층 두께 규제 디바이스.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 바이팅부는 상기 현상제 층 두께 규제 디바이스의 종방향에 평행한 복수의 에지를 갖는 입체 형상인
    현상제 층 두께 규제 디바이스.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 바이팅부는 서로 교차하는 2개의 방향에 대해 단속적 또는 연속적인 요철 형상을 갖는
    현상제 층 두께 규제 디바이스.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 현상 용기의 재질의 탄성 계수는 상기 지지 부재의 재질의 탄성 계수보다 작은
    현상제 층 두께 규제 디바이스.
  6. 현상 디바이스이며,
    제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 현상제 층 두께 규제 디바이스와,
    상기 현상 용기와,
    상기 체결 수단을 포함하는
    현상 디바이스.
  7. 화상 형성 장치의 본체에 착탈 가능한 프로세스 카트리지이며,
    제6항에 기재된 현상 디바이스를 포함하는
    프로세스 카트리지.
  8. 화상 담지 부재(image bearing member) 상에 형성된 현상제의 화상을 전사시킴으로써 화상을 형성하는 화상 형성 장치이며,
    적어도 제6항에 기재된 현상 디바이스를 포함하는
    화상 형성 장치.
  9. 화상 담지 부재 클리닝 디바이스이며,
    현상제의 화상을 담지하는 화상 담지 부재와 접촉하여 상기 화상 담지 부재의 표면으로부터 현상제를 제거하는 블레이드 부재와,
    상기 블레이드 부재를 지지하는 지지 부재를 포함하며,
    상기 지지 부재는 체결 수단에 의해 클리닝 용기의 일부에 체결될 수 있고, 상기 지지 부재가 상기 체결 수단에 의해 상기 클리닝 용기에 체결될 때, 상기 클리닝 용기의 일부에 대한 상기 지지 부재의 위치는 상기 블레이드 부재의 폭방향에 대해 조정 가능하여, 상기 블레이드 부재를 상기 클리닝 용기에 대해 소정의 위치에 체결시키며,
    상기 지지 부재가 상기 체결 수단에 의해 체결될 때, 상기 지지 부재가 상기 클리닝 용기의 일부 내로 파고들어갈 수 있는 바이팅부를 갖는
    화상 담지 부재 클리닝 디바이스.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 바이팅부는 상기 폭방향과 교차하는 방향에 대해 단속적 또는 연속적인 요철 형상을 갖는
    화상 담지 부재 클리닝 디바이스.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 바이팅부는 상기 화상 담지 부재 클리닝 디바이스의 종방향에 평행한 복수의 에지를 갖는 입체 형상인
    화상 담지 부재 클리닝 디바이스.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 바이팅부는 서로 교차하는 2개의 방향에 대해 단속적 또는 연속적인 요철 형상을 갖는
    화상 담지 부재 클리닝 디바이스.
  13. 제9항에 있어서,
    상기 클리닝 용기의 재질의 탄성 계수는 상기 지지 부재의 재질의 탄성 계수보다 작은
    화상 담지 부재 클리닝 디바이스.
  14. 클리닝 디바이스이며,
    제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 화상 담지 부재 클리닝 디바이스와,
    상기 클리닝 용기와,
    상기 체결 수단을 포함하는
    클리닝 디바이스.
  15. 화상 형성 장치 본체에 착탈 가능한 프로세스 카트리지이며,
    제14항에 기재된 클리닝 디바이스를 포함하는
    프로세스 카트리지.
  16. 화상 담지 부재 상에 형성된 현상제의 화상을 전사시킴으로써 화상을 형성하는 화상 형성 장치이며,
    제14항에 기재된 클리닝 디바이스를 포함하는
    화상 형성 장치.
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