KR20040000342A - 조핵제 및 상기 조핵제를 함유하여 이루어지는 결정성고분자 조성물 - Google Patents

조핵제 및 상기 조핵제를 함유하여 이루어지는 결정성고분자 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR20040000342A
KR20040000342A KR1020030040644A KR20030040644A KR20040000342A KR 20040000342 A KR20040000342 A KR 20040000342A KR 1020030040644 A KR1020030040644 A KR 1020030040644A KR 20030040644 A KR20030040644 A KR 20030040644A KR 20040000342 A KR20040000342 A KR 20040000342A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
nucleating agent
acid
crystalline polymer
polymer composition
crystalline
Prior art date
Application number
KR1020030040644A
Other languages
English (en)
Inventor
가와모토나오시
도비타에츠오
우루시하라츠요시
Original Assignee
아사히 덴카 고교 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아사히 덴카 고교 가부시키가이샤 filed Critical 아사히 덴카 고교 가부시키가이샤
Publication of KR20040000342A publication Critical patent/KR20040000342A/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01—Ink jet
    • B41J2/17—Ink jet characterised by ink handling
    • B41J2/175—Ink supply systems ; Circuit parts therefor
    • B41J2/17503—Ink cartridges
    • B41J2/17533—Storage or packaging of ink cartridges
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/52—Phosphorus bound to oxygen only
    • C08K5/527—Cyclic esters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01—Ink jet
    • B41J2/17—Ink jet characterised by ink handling
    • B41J2/175—Ink supply systems ; Circuit parts therefor
    • B41J2/17503—Ink cartridges
    • B41J2/17553—Outer structure
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/447—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using arrays of radiation sources
    • B41J2/45—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using arrays of radiation sources using light-emitting diode [LED] or laser arrays
    • B41J2/451—Special optical means therefor, e.g. lenses, mirrors, focusing means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J29/00—Details of, or accessories for, typewriters or selective printing mechanisms not otherwise provided for
    • B41J29/12—Guards, shields or dust excluders
    • B41J29/13—Cases or covers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

본 발명은 하기 화학식 1로 표현되는 화합물로 이루어지며, 평균 입자 직경이 10㎛ 이하이고 X선 회절 분석에서 결정성 피크를 실질적으로 갖지 않는 조핵제를 제공하는 것을 목적으로 한다.
(식 중, R1및 R2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼9의 알킬기를 나타내고, R3는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타내며, M은 알칼리 금속을 나타낸다.)

Description

조핵제 및 상기 조핵제를 함유하여 이루어지는 결정성 고분자 조성물 {Nucleating agent and crystalline polymer composition containing the same}
본 발명은 결정성 고분자에의 분산성이 우수하고, 결정성 고분자의 투명성 및 기계 강도의 향상 효과가 우수한 인산에스테르금속염계 조핵제에 관한 것으로,보다 상세하게는 특정한 구조를 갖는 화합물로 이루어지며, 특정한 평균 입자 직경이고 X선 회절 분석에 있어서 결정성 피크를 실질적으로 갖지 않는 조핵제, 및 상기 조핵제를 함유하여 이루어지는 결정성 고분자 조성물에 관한 것이다.
폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부텐-1 등의 폴리올레핀계 고분자, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 고분자, 폴리아미드계 고분자 등의 결정성 고분자는 가열 성형 후의 결정화 속도가 느리기 때문에, 가공 시의 성형 사이클이 길다는 등의 문제가 있고, 게다가 성형 후에도 진행되는 결정화에 의해 성형물이 변형되어 버리는 경우가 있었다. 또한, 이들의 결정성 고분자는 가열 성형하면 큰 결정을 생성하기 때문에, 성형물의 강도가 불충분하거나 투명성이 떨어지는 결점이 있었다.
이들 결점은 결정성 고분자의 결정성에서 유래하는 것이고, 미세한 결정을 급속하게 생성시킴으로써 해소할 수 있다는 것이 알려져 있다. 현재, 미세한 결정을 급속하게 생성시키기 위하여, 결정화 온도를 높이는 것 외에 조핵제, 결정화 촉진제 등을 첨가하는 등의 방법이 이용되고 있다.
상기 조핵제 혹은 결정화 촉진제로서, 예를 들면 나트륨벤조에이트, 4-제3부틸안식향산알루미늄염, 아디핀산나트륨 등의 카르복실산금속염, 나트륨비스(4-제3부틸페닐)포스페이트, 나트륨-2,2'-메틸렌비스(4,6-디제3부틸페닐)포스페이트 등의 인산에스테르금속염, 디벤질리덴소르비톨, 비스(메틸벤질리덴)소르비톨, 비스(디메틸벤질리덴)소르비톨 등의 다가 알코올 유도체 등의 화합물이 사용되고 있고, 예를 들면 일본 특허공개 소58-1736호 공보, 일본 특허공개 소59-184252호 공보, 일본특허공개 평6-340786호 공보, 일본 특허공개 평7-11075호 공보, 일본 특허공개 평7-48473호 공보, 일본 특허공개 평8-3364호 공보, 일본 특허공개 평9-118776호 공보, 일본 특허공개 평10-25295호 공보, 국제공개 제99/18108호 팜플렛에 보고되어 있다. 또한, 특허 제3046428호 공보, 특허 제3058487호 공보, 일본 특허공개 평5-43746호 공보, 일본 특허공개 평8-134260호 공보, 일본 특허공개 평8-120116호 공보 등에는, 인산에스테르금속염으로 이루어지는 조핵제와 지방족 유기산 금속염과의 병용이 보고되어 있다. 그러나, 상기 조핵제는 결정성 고분자와의 상용성(相溶性)이나 결정성 고분자에의 분산성이 충분하지 않기 때문에, 기대되는 첨가 효과를 나타내지 않는다고 하는 문제점이 있다. 또한, 일본 특허공개 2001-59040호 공보에는 장축의 평균 입자 직경이 10㎛ 이하이고, 평균 애스펙트비가 10 이하이며, 부피 비중이 0.1 이상인 인산에스테르금속염으로 이루어지는 조핵제가 보고되어 있다. 상기 조핵제는 결정성 고분자에 첨가하였을 때, 투명성이나 기계 강도를 향상시키지만 아직 만족할만한 것은 아니었다.
본 발명의 목적은 결정성 고분자에의 분산성이 우수하고, 결정성 고분자의 투명성 및 기계 강도의 향상 효과가 우수한 조핵제, 및 상기 조핵제를 함유하여 이루어지는 결정성 고분자 조성물을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은 검토를 거듭한 결과, 특정한 평균 입자 직경이고 X선 회절 분석에서 결정성 피크를 실질적으로 갖지 않는 조핵제가 상기 과제를 해결할 수 있다는 것을 발견하여 본 발명에 도달하였다.
즉, 본 발명은 하기 화학식 1로 표현되는 화합물로 이루어지며, 평균 입자 직경이 10㎛ 이하이고 X선 회절 분석에서 결정성 피크를 실질적으로 갖지 않는 조핵제, 상기 조핵제 및 지방족 유기산 금속염으로 이루어지는 조핵제 조성물, 및 상기 조핵제 또는 상기 조핵제 조성물을 함유하여 이루어지는 결정성 고분자 조성물을 제공하는 것이다.
[화학식 1]
(식 중, R1및 R2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼9의 알킬기를 나타내고, R3는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타내며, M은 알칼리 금속을 나타낸다.)
도 1은 실시예 1-1에서 얻어진 조핵제의 X선 회절도.
도 2는 실시예 1-2에서 얻어진 조핵제의 X선 회절도.
도 3은 실시예 1-3에서 얻어진 조핵제의 X선 회절도.
도 4는 실시예 1-4에서 얻어진 조핵제 조성물의 X선 회절도.
도 5는 비교예 1-1에서 얻어진 조핵제의 X선 회절도.
도 6은 비교예 1-2에서 얻어진 조핵제의 X선 회절도.
도 7은 비교예 1-3에서 얻어진 조핵제의 X선 회절도.
도 8은 비교예 1-4에서 얻어진 조핵제의 X선 회절도.
도 9는 비교예 1-5에서 얻어진 조핵제의 X선 회절도.
도 10은 비교예 1-6에서 얻어진 조핵제의 X선 회절도.
이하, 본 발명에 대하여 바람직한 실시형태를 상세하게 설명한다.
본 발명의 조핵제는 상기 화학식 1로 표현되는 화합물로 이루어진다. 상기 화학식 1에 있어서, R1및 R2로 표현되는 탄소 원자수 1∼9의 알킬기로서는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 제2부틸, 제3부틸, 이소부틸, 아밀, 제3아밀, 헥실, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 2-에틸헥실, 제3옥틸, 노닐, 제3노닐 등을 들 수 있고, R3로 표현되는 탄소 원자수 1∼4의 알킬기로서는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 제2부틸, 제3부틸, 이소부틸을 들 수 있다.
또한, 상기 화학식 1에 있어서, M으로 표현되는 알칼리 금속으로서는, 나트륨, 칼륨, 리튬 등을 들 수 있다.
상기 화학식 1로 표현되는 화합물 중에서 R1이 제3부틸, 제3아밀 등의 제3알킬기, R2가 탄소 원자수 1∼4의 알킬기, R3가 수소 원자 또는 메틸기인 화합물이 바람직하고, 하기 화합물 No.1∼No.6이 특히 바람직하다.
상기 화학식 1로 표현되는 화합물의 제조방법은, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면 3염화인(또는 옥시염화인)과 2,2'-알킬리덴페놀을 반응시킨 후, 필요에 따라 가수 분해하여 고리형상 산성인산에스테르로 하고, 이어서 상기 고리형상 산성인산에스테르와 수산화나트륨, 수산화리튬 등의 알칼리 금속 수산화물을 반응시킴으로써 상기 화합물이 얻어진다. 얻어진 화합물을 여과, 건조함으로써, 본 발명의 조핵제의 원료 분말이 얻어진다. 예를 들면, 상기 화합물 No.1은 옥시염화인과 2,2'-메틸렌비스(4,6-t-부틸페놀)를 반응시켜서 고리형상 산성인산에스테르로 하고, 이어서 상기 고리형상 산성인산에스테르와 수산화나트륨을 반응시킴으로써 얻어지며, 얻어진 화합물 No.1을 여과, 건조함으로써, 통상 평균 입자 직경 50∼80㎛인 원료 분말이 얻어진다. 또한, 화합물 No.2는 상기 화합물 No.1의 제조방법에 있어서, 수산화나트륨을 수산화리튬으로 치환하는 것 이외에는 화합물 No.1과 동일한 제조방법에 의해 얻어지고, 얻어진 화합물 No.2를 여과, 건조함으로써, 통상 평균 입자 직경 10∼30㎛인 원료 분말이 얻어진다.
종래부터 조핵제의 원료 분말은, 수지에 섞을 때의 분산성을 향상시키기 위하여, 10㎛ 이하로 미분화되는 경우가 많다. 본 발명의 조핵제도 종래와 마찬가지로 상기 원료 분말을 미분화하여 얻어진다.
본 발명의 조핵제의 평균 입자 직경은 10㎛ 이하, 바람직하게는 5㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 0.5㎛ 이하이다. 또한, 본 발명의 조핵제의 평균 입자 직경의 하한값은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상적으로 0.01㎛이다. 단, 본 발명에 있어서의 평균 입자 직경이란, D50(질량 평균; 질량 기준으로 적산값 50%에 대응하는 입자 직경)을 나타낸다.
본 발명에 있어서 "X선 회절 분석에서 결정성 피크를 실질적으로 갖지 않는다"란, 강도 50kV, 100mA에 있어서의 X선 회절 분석에서 측정된 패턴에 있어서, 결정질에 특유의 날카로운 피크가 실질적으로 확인되지 않고, 할로(halo)라 불리는 완만한 피크만이 확인되는 상태를 나타낸다.
본 발명의 조핵제의 제조방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 상기 원료분말을 특정 처리 방법(특정 분쇄 처리 방법 또는 특정한 고온도 조건하로부터의 급냉 처리 방법)에 의해 처리함으로써 얻는 것이 바람직하다.
상기의 특정 분쇄 처리 방법을 이하에 설명한다.
본 발명의 조핵제는 상기 원료 분말에 기계 화학적인 작용을 주기 때문에, 될 수 있는 한 강력한 전단력을 부여하면서 상기 원료 분말을 분쇄함으로써 얻어진다.
분쇄에 이용되는 분쇄기로서는, 예를 들면 유발(乳鉢), 볼밀, 로드밀, 튜브밀, 원뿔형밀, 진동볼밀, 하이스윙볼밀(high-swing ball mills), 롤러밀, 핀형밀, 햄머밀, 마멸분쇄기, 제트밀, 제트마이저(jetomizers), 마이크로나이저, 나노마이저, 마이크로 애토마이저, 콜로이드밀(colloid mills), 프리미어 콜로이드밀, 미크론밀, 샤로테 콜로이드 밀(Charlotte colloid mills), 회전 절단기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 초미분쇄기가 사용된다. 이들 분쇄기는 단독 또는 2종 이상 조합시켜서 사용할 수 있으며, 분쇄하는 원료 분말의 종류 등에 따라 적절하게 선택된다.
상기 분쇄기로서는, 구체적으로는 미츠이마이닝사 제품인 "애토라이터(Attritor)", "파인밀(Fine Mill)", 세이신기교사 제품인 "유성볼밀", 호소카와미크론사 제품인 "수퍼 미크론밀", "이노마이저", "카운터 제트밀", "스파이럴 제트밀", "메카노퓨전(Mechanofusion)", 마키노산교사 제품인 "콜로플렉스(Colloplex)", "엑시드밀(Exceed Mill)", HEIKO SEISAKUSHO사 제품인 "TI-500ET(HEIKO SAMPLE MILL)" 등을 들 수 있다. 이들 분쇄기 중에서도, 특히 미츠이마이닝사 제품인 "애토라이터"가 바람직하다.
분쇄 시간은 사용하는 분쇄기의 형식, 분쇄 강도, 원료 분말의 종류 등에 따라 적절하게 선택되고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상적으로 5분∼50시간, 바람직하게는 10분∼20시간 정도이다.
본 발명의 조핵제는, 평균 입자 직경이 10㎛ 이하이고 X선 회절 분석에서 결정성 피크를 실질적으로 갖지 않는 조핵제가 되도록, 분쇄하는 원료 분말에 따라 상기 분쇄기 및 상기 분쇄 시간을 적절하게 선택하여 제조된다.
또한, 본 발명의 조핵제는 이와 같은 분쇄 방법 이외에 특정한 고온도 조건 하로부터의 급냉 처리 방법에 의해 제조할 수도 있다. 즉, 화학식 1로 표현되는 화합물을 400℃ 이상의 고온으로 가열하고, 그 후 액체 질소 중에서 급냉하고, 필요에 따라 분쇄함으로써 얻을 수도 있다.
본 발명의 조핵제를 결정성 고분자에 함유시킨 본 발명의 결정성 고분자 조성물은 투명성 및 기계 강도가 개선된 것이다.
상기 결정성 고분자로서는, 예를 들면 저밀도 폴리에틸렌, 직쇄형상 저밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 아이소택틱폴리프로필렌, 신디오택틱폴리프로필렌, 헤미아이소택틱폴리프로필렌, 스테레오블록폴리프로필렌, 폴리부텐-1, 폴리-3-메틸-1-부텐, 폴리-3-메틸-1-펜텐, 폴리-4-메틸-1-펜텐 등의 α-올레핀 중합체, 에틸렌/프로필렌블록 또는 랜덤공중합체 등의 α-올레핀 공중합체 등의 폴리올레핀계 고분자; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리헥사메틸렌테레프탈레이트 등의 열가소성 직쇄 폴리에스테르계 고분자; 폴리페닐렌설파이드 등의 폴리설파이드계 고분자; 폴리카프로락톤(polycaprolactone) 등의 폴리유산계 고분자; 폴리헥사메틸렌아디파미드 등의 직쇄 폴리아미드계 고분자; 신디오택틱폴리스티렌 등의 결정성 폴리스티렌계 고분자를 들 수 있다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물에 이용되는 결정성 고분자로서는, 이들의 결정성 고분자 중에서도 본 발명의 조핵제의 사용 효과가 현저하게 나타나는 폴리올레핀계 고분자가 바람직하고, 폴리프로필렌, 에틸렌/프로필렌블록 또는 랜덤공중합체, 에틸렌 이외의 α-올레핀/프로필렌블록 또는 랜덤공중합체, 이들의 프로필렌계 중합체와 다른 α-올레핀중합체와의 혼합물 등의 폴리프로필렌계 수지가 특히 바람직하다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물 중에 있어서의 본 발명의 조핵제의 함유량은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 결정성 고분자 100질량부에 대하여, 0.005∼10질량부가 바람직하고, 0.01∼2.5질량부가 보다 바람직하다. 0.005질량부보다 적으면, 충분한 첨가 효과를 발휘하지 않는 경우가 있고, 10질량부를 초과하면, 첨가 효과의 향상을 얻지 못하고 비용이 비싸질 뿐만 아니라, 결정성 고분자 조성물로부터 얻어지는 성형품의 물성에 영향을 미치는 경우가 있다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물은, 필요에 따라서 본 발명의 조핵제 이외의 조핵제나 첨가제를 함유하여도 된다.
본 발명의 조핵제 이외의 조핵제로서는, 예를 들면 리튬벤조에이트, 나트륨벤조에이트, 알루미늄벤조에이트, 4-제3부틸안식향산알루미늄염, 아디핀산나트륨 등의 카르복실산금속염; 나트륨비스(4-제3부틸페닐)포스페이트, 상기 화학식 1로표현되는 화합물 이외의 산성인산에스테르금속염; 디벤질리덴소르비톨, 비스(메틸벤질리덴)소르비톨, 비스(디메틸벤질리덴)소르비톨 등의 다가알코올유도체 등을 들 수 있다. 본 발명의 조핵제 이외의 이들 조핵제는 본 발명의 결정성 고분자 조성물 중에 있어서, 결정성 고분자 100질량부에 대하여 0.05∼10질량부로 이용하는 것이 바람직하다.
또한, 필요에 따라서 이용되는 첨가제로서는 힌더드아민계 광안정제(HALS), 자외선 흡수제, 인계 항산화제, 페놀계 항산화제, 유황계 항산화제, 지방족 유기산 금속염 등의 일반적으로 사용되고 있는 주지의 첨가제를 들 수 있다.
상기 HALS로서는, 하기 화학식 2로 표현되는 화합물, 염화시아누르 축합형 HALS, 고분자량형 HALS 등을 들 수 있다.
(식 중, m은 1∼6의 정수를 나타내고, A는 수소 원자, 탄소수 1∼18의 m가의 탄화수소기, m가의 아실기 또는 m가의 카르바모일기를 나타내며, B는 산소 원자, -NH- 또는 탄소수 1∼8의 알킬기 Re를 갖는 -NRe-를 나타내고, Y는 수소 원자, 옥시라디칼(·O), 탄소수 1∼18의 알콕시기, 탄소수 1∼8의 알킬기 또는 히드록실기를 나타내며, Z는 메틴 또는 탄소수 1∼8의 알킬기 Rf를 갖는 하기 화학식 3으로 표현되는 기를 나타낸다.)
상기 화학식 2에 있어서, A로 표현되는 m가의 탄소수 1∼18의 탄화수소기로서는, 메탄, 에탄, 프로판, 부탄, 제2부탄, 제3부탄, 이소부탄, 펜탄, 이소펜탄, 제3펜탄, 헥산, 시클로헥산, 헵탄, 이소헵탄, 제3헵탄, n-옥탄, 이소옥탄, 제3옥탄, 2-에틸헥산, 노난, 이소노난, 데칸, 도데칸, 트리데칸, 테트라데칸, 펜타데칸, 헥사데칸, 펩타데칸, 옥타데칸 등의 탄화수소 화합물로부터 유도되는 기(알킬기, 알칸디 내지 헥사일기)를 들 수 있다.
상기 화학식 2에 있어서, A로 표현되는 m가의 아실기는 카르복실산으로부터 유도되는 기, m가 카르복실산으로부터 유도되는 기, 또는 n가 카르복실산으로부터 유도되고 또한 카르복실기가 m개 잔존하고 있는 (n-m)개의 에스테르기를 함유하는 알킬에스테르로부터 유도되는 기이다(카르복실산, m가 카르복실산 및 상기 알킬에스테르를 아실유도체 화합물이라 한다).
상기 아실유도체 화합물로서는, 아세트산, 안식향산, 4-트리플루오로메틸안식향산, 살리실산, 아크릴산, 메타크릴산, 수산(oxalic acid), 말론산(malonic acid), 숙신산, 글루타르산, 아디핀산, 피멜산(pimelic acid), 수베린산(suberic acid), 아젤라산(azelaic acid), 세바신산, 도데칸2산, 2-메틸호박산, 2-메틸아디핀산, 3-메틸아디핀산, 3-메틸펜탄2산, 2-메틸옥탄2산, 3,8-디메틸데칸2산, 3,7-디메틸데칸2산, 수첨다이머산, 다이머산, 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 나프탈렌디카르복실산, 시클로헥산디카르복실산, 트리멜리트산, 트리메신산, 프로판-1,2,3-트리카르복실산, 프로판-1,2,3-트리카르복실산모노 또는 디알킬에스테르, 펜탄-1,3,5-트리카르복실산, 펜탄-1,3,5-트리카르복실산모노 또는 디알킬에스테르, 부탄-1,2,3,4-테트라카르복실산, 부탄-1,2,3,4-테트라카르복실산모노 내지 트리알킬에스테르, 펜탄-1,2,3,4,5-펜타카르복실산, 펜탄-1,2,3,4,5-펜타카르복실산모노 내지 테트라알킬에스테르, 헥산-1,2,3,4,5,6-헥사카르복실산, 헥산-1,2,3,4,5,6-헥사카르복실산모노 내지 펜타알킬에스테르 등을 들 수 있다.
상기 화학식 2에 있어서, A로 표현되는 m가의 카르바모일기는 이소시아네이트 화합물로부터 유도되는 모노알킬카르바모일기 또는 디알킬카르바모일기이다.
모노알킬카르바모일기를 유도하는 이소시아네이트 화합물로서는, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 1,5-나프틸렌디이소시아네이트, 3,3'-디메틸디페닐-4,4'-디이소시아네이트, 디아니시딘디이소시아네이트, 테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트, 트랜스-1,4-시클로헥실디이소시아네이트, 노르보넨디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 1-메틸벤졸-2,4,6-트리이소시아네이트, 디메틸트리페닐메탄테트라이소시아네이트 등을 들 수 있다.
디알킬카르바모일기로서는, 디에틸카르바모일기, 디부틸카르바모일기, 디헥실카르바모일기, 디옥틸카르바모일기 등을 들 수 있다.
상기의 탄소수 1∼18의 m가 탄화수소기, 상기의 m가 아실기 및 상기의 m가 카르바모일기는 할로겐 원자, 수산기, 알킬기, 알콕시기, 니트로기, 시아노기 등으로 치환되어도 된다.
상기 화학식 2에 있어서, B로 표현되는 기가 갖는, Re로 표현되는 탄소수 1∼8의 알킬기로서는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 제2부틸, 제3부틸, 이소부틸, 아밀, 이소아밀, 제3아밀, 헥실, 시클로헥실, 헵틸, 이소헵틸, 제3헵틸, 1-에틸펜틸, n-옥틸, 이소옥틸, 제3옥틸, 2-에틸헥실 등을 들 수 있다.
상기 화학식 2에 있어서, Y로 표현되는 탄소수 1∼18의 알콕시기로서는, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, 제2부틸옥시, 제3부틸옥시, 이소부틸옥시, 아밀옥시, 이소아밀옥시, 헥실옥시, 헵틸옥시, 옥틸옥시, 2-에틸헥실옥시, 노닐옥시, 이소노닐옥시, 데실옥시, 도데실옥시, 트리데실옥시, 테트라데실옥시, 펜타데실옥시, 헥사데실옥시, 펩타데실옥시, 옥타데실옥시 등을 들 수 있다. Y로 표현되는 탄소수 1∼8의 알킬기로서는, 상기 Re와 동일한 기를 들 수 있다.
상기 화학식 2에 있어서의 Z를 나타내는 상기 화학식 3 중의 Rf로 표현되는 탄소수 1∼8의 알킬기로서는, 상기 Re와 동일한 기를 들 수 있다.
상기 화학식 2로 표현되는 화합물의 구체적인 예로서는, 예를 들면 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜스테아레이트, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜스테아레이트, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜벤조에이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥톡시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜메타크릴레이트, 2,2,6,6-테트라메틸-피페리딜메타크릴레이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)·비스(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)·비스(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-2-부틸-2-(3,5-디제3-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, 3,9-비스〔1,1-디메틸-2-[트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜옥시카르보닐옥시)부틸카르보닐옥시]에틸〕-2,4,8,10-테트라옥사스피로〔5.5〕운데칸, 3,9-비스〔1,1-디메틸-2-[트리스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카르보닐옥시)부틸카르보닐옥시]에틸〕-2,4,8,10-테트라옥사스피로〔5.5〕운데칸 등을 들 수 있다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물에 있어서 이용할 수 있는 상기 염화시아누르 축합형 HALS로서는, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-모르폴리노-s-트리아진중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-제3옥틸아미노-s-트리아진중축합물, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]1,5,8,12-테트라아자도데칸, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일아미노]운데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일아미노]운데칸 등을 들 수 있다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물에 있어서 이용할 수 있는 상기 고분자량형 HALS로서는, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀/호박산디에틸 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/디브로모에탄 중축합물 등을 들 수 있다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물에 있어서 이용할 수 있는 상기 자외선 흡수제로서는, 예를 들면 2,4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-옥톡시벤조페논, 5,5'-메틸렌비스(2-히드록시-4-메톡시벤조페논) 등의 2-히드록시벤조페논류; 2-(2-히드록시-5-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-5-제3옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-3,5-디제3부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-3-제3부틸-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-3,5-디쿠밀페닐(dicumylphenyl))벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스(4-제3옥틸-6-벤조트리아졸릴페놀), 2-(2-히드록시-3-제3부틸-5-카르복시페닐)벤조트리아졸의 폴리에틸렌글리콜에스테르, 2-〔2-히드록시-3-(2-아크릴로일옥시에틸)-5-메틸페닐〕벤조트리아졸, 2-〔2-히드록시-3-(2-메타크릴로일옥시에틸)-5-제3부틸페닐〕벤조트리아졸, 2-〔2-히드록시-3-(2-메타크릴로일옥시에틸)-5-제3옥틸페닐〕벤조트리아졸, 2-〔2-히드록시-3-(2-메타크릴로일옥시에틸)-5-제3부틸페닐〕-5-클로로벤조트리아졸, 2-〔2-히드록시-5-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐〕벤조트리아졸, 2-〔2-히드록시-3-제3부틸-5-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐〕벤조트리아졸, 2-〔2-히드록시-3-제3아밀-5-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐〕벤조트리아졸, 2-〔2-히드록시-3-제3부틸-5-(3-메타크릴로일옥시프로필)페닐〕-5-클로로벤조트리아졸, 2-〔2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시메틸)페닐〕벤조트리아졸, 2-〔2-히드록시-4-(3-메타크릴로일옥시-2-히드록시프로필)페닐〕벤조트리아졸, 2-〔2-히드록시-4-(3-메타크릴로일옥시프로필)페닐〕벤조트리아졸 등의 2-(2-히드록시페닐)벤조트리아졸류; 2-(2-히드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-헥실옥시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥톡시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-〔2-히드록시-4-(3-C12∼13혼합알콕시-2-히드록시프로폭시)페닐〕-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-〔2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐〕-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디히드록시-3-아릴페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-히드록시-3-메틸-4-헥실옥시페닐)-1,3,5-트리아진 등의 2-(2-히드록시페닐)-4,6-디아릴-1,3,5-트리아진류; 페닐살리실레이트, 레조르시놀모노벤조에이트, 2,4-디제3부틸페닐-3,5-디제3부틸-4-히드록시벤조에이트, 옥틸(3,5-디제3부틸-4-히드록시)벤조에이트, 도데실(3,5-디제3부틸-4-히드록시)벤조에이트, 테트라데실(3,5-디제3부틸-4-히드록시)벤조에이트, 헥사데실(3,5-디제3부틸-4-히드록시)벤조에이트, 옥타데실(3,5-디제3부틸-4-히드록시)벤조에이트, 베헤닐(3,5-디제3부틸-4-히드록시)벤조에이트 등의 벤조에이트류; 2-에틸-2'-에톡시옥자닐리드, 2-에톡시-4'-도데실옥자닐리드 등의 치환 옥자닐리드류; 에틸-α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸-2-시아노-3-메틸-3-(p-메톡시페닐)아크릴레이트 등의 시아노아크릴레이트류;니켈, 크롬 등의 각종 금속의 금속염 또는 금속 킬레이트 등을 들 수 있다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물에 있어서 이용할 수 있는 상기 인계 항산화제로서는, 예를 들면 트리페닐포스파이트, 트리스(2,4-디제3부틸페닐)포스파이트, 트리스(2,5-디제3부틸페닐)포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리스(디노닐페닐)포스파이트, 트리스(모노, 디혼합노닐페닐)포스파이트, 디페닐애시드포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디제3부틸페닐)옥틸포스파이트, 디페닐데실포스파이트, 디페닐옥틸포스파이트, 디(노닐페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 페닐디이소데실포스파이트, 트리부틸포스파이트, 트리스(2-에틸헥실)포스파이트, 트리데실포스파이트, 트리라우릴포스파이트, 디부틸애시드포스파이트, 디라우릴애시드포스파이트, 트리라우릴트리티오포스파이트, 비스(네오펜틸글리콜)·1,4-시클로헥산디메틸디포스파이트, 비스(2,4-디제3부틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,5-디제3부틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,6-디제3부틸-4-메틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4-디쿠밀페닐)펜타에이스리톨디포스파이트, 디스테아릴펜타에리스리톨디포스파이트, 테트라(C12-15혼합알킬)-4,4'-이소프로필리덴디페닐포스파이트, 비스[2,2'-메틸렌비스(4,6-디아밀페닐)]·이소프로필리덴디페닐포스파이트, 테트라트리데실·4,4'-부틸리덴비스(2-제3부틸-5-메틸페놀)디포스파이트, 헥사(트리데실)·1,1,3-트리스(2-메틸-5-제3부틸-4-히드록시페닐)부탄·트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디제3부틸페닐)비페닐렌디포스포나이트, 트리스(2-〔(2,4,7,9-테트라키스제3부틸디벤조〔d,f〕〔1,3,2〕디옥사포스페핀-6-일)옥시〕에틸)아민, 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난스렌-10-옥사이드, 2-부틸-2-에틸프로판디올 ·2,4,6-트리제3부틸페놀모노포스파이트 등을 들 수 있다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물에 있어서 이용할 수 있는 상기 페놀계 항산화제로서는, 예를 들면 2,6-디제3부틸-p-크레졸, 2,6-디페닐-4-옥타데실록시페놀, 스테아릴(3,5-디제3부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 디스테아릴(3,5-디제3부틸-4-히드록시벤질)포스포네이트, 트리데실·3,5-디제3부틸-4-히드록시벤질티오아세테이트, 티오디에틸렌비스[(3,5-디제3부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 4,4'-티오비스(6-제3부틸-m-크레졸), 2-옥틸티오-4,6-디(3,5-디제3부틸-4-히드록시페녹시)-s-트리아진, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-제3부틸페놀), 비스[3,3-비스(4-히드록시-3-제3부틸페닐)부틸릭애시드]글리콜에스테르, 4,4'-부틸리덴비스(2,6-디제3부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(6-제3부틸-3-메틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디제3부틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-제3부틸페닐)부탄, 비스[2-제3부틸-4-메틸-6-(2-히드록시-3-제3부틸-5-메틸벤질)페닐]테레프탈레이트, 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-3-히드록시-4-제3부틸벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디제3부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디제3부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,3,5-트리스[(3,5-디제3부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐옥시에틸]이소시아누레이트, 테트라키스[메틸렌-3-(3',5'-디제3부틸-4'-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 2-제3부틸-4-메틸-6-(2-아크로일옥시-3-제3부틸-5-메틸벤질)페놀, 3,9-비스[2-(3-제3부틸-4-히드록시-5-메틸히드로신남오일옥시)-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸], 트리에틸렌글리콜비스[β-(3-제3부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트] 등을 들 수 있다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물에 있어서 이용할 수 있는 상기 유황계 항산화제로서는, 예를 들면 티오디프로피온산의 디라우릴에스테르, 디미리스틸에스테르, 미리스틸스테아릴에스테르, 디스테아릴에스테르 등의 디알킬티오디프로피오네이트류, 펜타에리스리톨테트라(β-도데실메르캅토프로피오네이트) 등의 폴리올의 β-알킬메르캅토프로피온산에스테르류를 들 수 있다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물에 있어서 이용할 수 있는 상기 지방족 유기산 금속염으로서는, 아세트산, 프로피온산, 낙산, 이소낙산, 길초산, 카프론산, 카프릴산, 2-에틸헥산산, 펠라곤산(pelargonic acid), 카프린산, 네오데칸산, 운데칸산, 라우린산, 트리데칸산, 미리스틴산, 펜타데칸산, 팔미틴산, 마르가린산(margaric acid), 스테아린산, 노나데칸산, 아라키딘산(arachic acid), 베헨산, 리그노세린산, 세로틴산, 몬탄산, 멜리신산, 옵투실산(obtusilic acid), 린데르산(linderic acid), 츠즈산(tsuzuic acid), 팔미톨레인산, 페트라세린산(petroselinic acid), 올레인산, 엘라이딘산(elaidic acid), 박센산(vaccenic acid), 리놀산, 리노엘라이딘산, γ-리놀렌산, 리놀렌산, 리시놀산, 12-히드록시스테아린산, 나프텐산, 아비에틴산(abietic acid) 등의 지방족 유기산과, 리튬, 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨, 아연, 알루미늄 등의 금속으로부터 얻어지는 것을 들 수 있다. 이들의 지방족 유기산과 금속으로부터 얻어지는 지방족 유기산 금속염 중에서도, 스테아린산마그네슘, 스테아린산칼슘, 스테아린산아연이 바람직하다.
본 발명의 조핵제 이외의 조핵제나 첨가제 중에서도, 상기 지방족 유기산 금속염은 조핵제의 사용 효과인 결정성 고분자 조성물의 투명성 개선 효과를 더욱 증강하므로 바람직하다. 또한, 상기 지방족 유기산 금속염의 사용량은 본 발명의 조핵제에 대하여 0.01∼10질량배가 바람직하고, 0.01∼5질량배가 보다 바람직하다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물에는, 필요에 따라 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 비이온계 계면활성제, 양성 계면활성제 등으로 이루어지는 대전방지제; 할로겐계 화합물, 인산에스테르계 화합물, 인산아미드계 화합물, 멜라민계 화합물, 폴리인산의 멜라민염 화합물, 불소수지 또는 금속산화물 등의 난연제; 탄화수소계, 지방산계, 지방족 알코올계, 지방족 에스테르계, 지방족 아마이드계, 금속비누계 등의 활제; 중금속 불활성제; 하이드로탈사이트; 유기카르복실산; 염료안료 등의 착색제; 폴리올레핀파우더 등의 가공조제; 건식 실리카(fumed silica), 미립자 실리카, 규석, 규조토류, 진흙, 카오린, 실리카겔, 규산칼슘, 세리사이트(sericite), 카오리나이트(kaolinite), 플린트, 장석분, 질석, 아타풀자이트(attapulgite), 탈크, 마이카, 미네소타이트(minnesotite), 파이로필라이트(pyrophyllite) 등의 규산계 첨가제; 탄산칼슘 등의 충전제 등의 첨가제를 사용할 수 있다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물에 있어서는, 이들의 첨가제를 필요에 따라 1종 또는 2종 이상 사용할 수 있고, 각각의 첨가제의 사용량은 결정성 고분자 100질량부에 대하여 0.001∼10질량부가 바람직하다. 0.001질량부 미만에서는 효과가 얻어지지 않는 경우가 있고, 또한 10중량부를 초과하면 첨가 효과의 향상이 얻어지지 않을뿐만 아니라 비용이 비싸진다.
또한, 필요에 따라서 이용되는 이들의 첨가제의 결정성 고분자에의 첨가 방법으로서는, 본 발명의 조핵제와는 별도로 결정성 고분자에 첨가하는 방법, 미리 본 발명의 조핵제와 혼합하여 혼합물로 하고, 상기 혼합물을 결정성 고분자에 첨가하는 방법, 본 발명의 조핵제를 필요에 따라 이용되는 바인더, 왁스, 용제, 실리카 등의 조립(造粒)조제 등과 함께 미리 원하는 비율로 혼합한 후, 조립하여 원팩(one-pack) 복합 첨가제로 하고, 상기 원팩 복합 첨가제를 결정성 고분자에 첨가하는 방법 등을 들 수 있다.
또한, 상기 지방족 유기산 금속염에 대해서는 상술한 화학식 1로 표현되는 화합물을, 평균 입자 직경이 10㎛ 이하이고 X선 회절 분석에서 결정성 피크를 실질적으로 갖지 않는 조핵제가 되도록 미분화하는 처리 공정에 있어서, 상기 화학식 1로 표현되는 화합물과 함께 미분화 처리를 행하는 것이 바람직하다. 이 경우 얻어지는 상기 화학식 1로 표현되는 화합물 및 상기 지방족 유기산 금속염으로 이루어지는 조핵제 조성물의 X선 회절에 있어서는, 상기 지방족 유기산 금속염의 피크가 나타나는 경우가 있다.
본 발명의 결정성 고분자 조성물의 용도로서는, 범퍼, 대쉬보드, 인스트루먼트 패널 등의 자동차용 수지 부품; 냉장고, 세탁기, 청소기 등의 가전 제품용 수지 부품; 식기, 버킷, 입욕 용품 등의 가정 용품; 커넥터 등의 접속용 수지 부품; 완구 등의 잡화품; 의료용팩, 주사기, 카테터, 의료용 튜브 등의 의료용 성형품; 벽재, 마루재, 창틀, 벽지 등의 건재; 전선 피복재; 하우스, 터널 등의 농업용 자재; 랩, 트레이 등의 식품 포장재 등의 필름 및 시트를 포함하는 성형품; 섬유 등을 들수 있다.
이하, 실시예 및 비교예로 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명은 이하의 실시예에 의해 어떠한 제한을 받는 것은 아니다.
[실시예 1-1∼1-4 및 비교예 1-1∼1-6] 조핵제 및 조핵제 조성물의 조제
표 1에 기재된 시료 화합물에 대하여, 표 1에 기재된 분쇄기 및 분쇄 시간에 의해 분쇄 처리를 행하여, 조핵제(실시예 1-1∼1-3 및 비교예 1-1∼1-6) 및 조핵제 조성물(실시예 1-4)을 각각 얻었다. 얻어진 조핵제 및 조핵제 조성물 각각에 대하여, 평균 입자 직경(D50) 측정 및 X선 회절(Cu-Kα, 강도 50kV, 100mA) 측정을 행하였다. 이들의 측정 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 얻어진 조핵제 및 조핵제 조성물 각각의 X선 회절도를 도 1∼도 10에 나타낸다.
단, 평균 입자 직경(D50)은 물 및 계면활성제(아사히덴카고교 가부시키가이샤 제품; 아데카콜(Adekacol) EC-4500)를 혼합하여 분산 용매로서 이용하고, 레이저 회절식 입자도 분포 측정 장치(시마즈 세이사쿠쇼 제품; SALD-2100)에 의해 측정하였다.
No. 시료화합물 분쇄 처리 방법 평균입자직경(㎛) X선 회절 피크
분쇄기 명 분쇄시간
실시예1-1 화합물 No.1*1 볼밀:미츠이코잔사 제품애토라이터 MA1D 8시간 0.2 할로만 확인되었다.
실시예1-2 화합물 No.2*2 롤러밀:HEIKO SEISAKUSHO사 제품TI-500ET(HEIKO SAMPLE MILL) 15분 2.1 할로만 확인되었다.
실시예1-3 화합물 No.2*2 볼밀:미츠이코잔사 제품애토라이터 MA1D 4시간 0.1 할로만 확인되었다.
실시예1-4 화합물 No.2와 스테아린산 마그네슘과의 혼합물*3 볼밀:미츠이코잔사 제품애토라이터 MA1D 4시간 0.1 할로만 확인되었다.
비교예1-1 화합물 No.1*1 유발 10분 30.0 결정성 피크가 확인되었다.
비교예1-2 화합물 No.2*2 유발 10분 12.0 결정성 피크가 확인되었다.
비교예1-3 화합물 No.1*1 롤러밀:HEIKO SEISAKUSHO사 제품TI-500ET(HEIKO SAMPLE MILL) 8시간 6.2 결정성 피크가 확인되었다.
비교예1-4 화합물 No.1*1 볼밀:마키노산교사 제품마키노 회전식 BM-350형 45분 4.8 결정성 피크가 확인되었다.
비교예1-5 화합물 No.1*1 제트밀:세이신기교사 제품코제트시스템α-mkII 1시간 1.8 결정성 피크가 확인되었다.
볼밀:마키노산교사 제품마키노 BM-100형 1시간
비교예1-6 화합물 No.1*1 볼밀:마키노산교사 제품마키노 회전식 BM-350형 4시간 1.3 결정성 피크가 확인되었다.
*1: 평균 입자 직경 70㎛*2: 평균 입자 직경 18㎛*3: 혼합비(질량기준) ; 화합물 No.2 / 스테아린산 마그네슘=2/1
[실시예 2-1∼2-4 및 비교예 2-1∼2-6] 결정성 고분자 조성물의 조제
중량 평균 분자량 456000의 폴리프로필렌 100질량부, 스테아린산 칼슘 0.05질량부, 테트라키스〔3-(3,5-디제3부틸-4-히드록시페닐)프로피온산메틸〕메탄 0.1질량부, 및 조핵제 또는 조핵제 조성물(표 2 참조) 0.1질량부를 헨셀믹서(Henschel mixer)로 고르게 섞어, 결정성 고분자 조성물(실시예 2-1∼2-4 및 비교예 2-1∼2-6)을 각각 얻었다. 얻어진 결정성 고분자 조성물 각각을 250℃에서 압출하여, 펠렛(pellet)으로 하였다. 각각의 펠렛을 230℃에서 사출 성형하여 시트형상의 시험편을 작성하였다. 얻어진 시험편에 대하여, ASTM D-1003-61에 기초하여 헤이즈를 측정하고, ASTM D-790에 기초하여 굽힘 탄성율(MPa)을 측정하였다. 이들의 측정 결과를 표 2에 나타낸다.
조핵제 또는 조핵제 조성물 헤이즈 굽힘 탄성율(MPa)
실시예 2-1 실시예 1-1 14 1920
실시예 2-2 실시예 1-2 12 1840
실시예 2-3 실시예 1-3 11 1870
실시예 2-4 실시예 1-4 9.4 1880
비교예 2-1 비교예 1-1 24 1700
비교예 2-2 비교예 1-2 18 1650
비교예 2-3 비교예 1-3 22 1710
비교예 2-4 비교예 1-4 22 1730
비교예 2-5 비교예 1-5 20 1780
비교예 2-6 비교예 1-6 19 1790
표 2에 기재된 결과로부터 알 수 있듯이, 본 발명의 조핵제 또는 조핵제 조성물을 함유하는 결정성 고분자 조성물(실시예 2-1∼2-4)은, 헤이즈가 낮고 투명성이 우수하며, 굽힘 탄성율이 높고 기계 강도가 우수한 것이었다. 지방족 유기산 금속염을 포함하는 조핵제 조성물을 함유하는 결정성 고분자 조성물(실시예 2-4)은 특히 하도가 양호하였다. 평균 입자 직경이 10㎛ 이상이고 X선 회절 분석에 있어서 결정성 피크가 확인된 조핵제를 함유하는 결정성 고분자 조성물(비교예 2-1∼2-2)은, 실시예 2-1∼2-4의 결정성 고분자 조성물에 비하여 투명성 및 기계 강도가 열화되어 있었다. 또한, 평균 입자 직경이 10㎛ 이하이지만, X선 회절 분석에 있어서 결정성 피크가 확인된 조핵제를 함유하는 결정성 고분자 조성물(비교예 2-3∼2-6)은, 기계 강도가 비교예 2-1∼2-2의 결정성 고분자 조성물에 비하여 개선되어 있었지만, 실시예 2-1∼2-4의 결정성 고분자 조성물에 비하면 열화되어 있었다.
본 발명의 조핵제 또는 조핵제 조성물을 결정성 고분자에 함유시킴으로써, 투명성 및 기계 강도가 우수한 결정성 고분자 조성물을 제공할 수 있다.

Claims (7)

  1. 하기 화학식 1로 표현되는 화합물로 이루어지며, 평균 입자 직경이 10㎛ 이하이고 X선 회절 분석에서 결정성 피크를 실질적으로 갖지 않는 것을 특징으로 하는 조핵제:
    [화학식 1]
    식 중, R1및 R2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼9의 알킬기를 나타내고, R3는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타내며, M은 알칼리 금속을 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 평균 입자 직경이 5㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 조핵제.
  3. 제1항에 있어서, 상기 평균 입자 직경이 0.5㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 조핵제.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 조핵제 및 상기 조핵제에 대하여 0.01∼10질량배의 지방족 유기산 금속염으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 조핵제 조성물.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 조핵제 또는 제4항에 기재된 조핵제 조성물을 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 결정성 고분자 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 결정성 고분자가 폴리올레핀계 고분자인 것을 특징으로 하는 결정성 고분자 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 상기 폴리올레핀계 고분자가 폴리프로필렌계 수지인 것을 특징으로 하는 결정성 고분자 조성물.
KR1020030040644A 2002-06-24 2003-06-23 조핵제 및 상기 조핵제를 함유하여 이루어지는 결정성고분자 조성물 KR20040000342A (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002182454 2002-06-24
JPJP-P-2002-00182454 2002-06-24
JP2003130274A JP2004083852A (ja) 2002-06-24 2003-05-08 造核剤及び該造核剤を含有してなる結晶性高分子組成物
JPJP-P-2003-00130274 2003-05-08

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20040000342A true KR20040000342A (ko) 2004-01-03

Family

ID=29718424

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030040644A KR20040000342A (ko) 2002-06-24 2003-06-23 조핵제 및 상기 조핵제를 함유하여 이루어지는 결정성고분자 조성물

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20030236329A1 (ko)
EP (1) EP1375582A3 (ko)
JP (1) JP2004083852A (ko)
KR (1) KR20040000342A (ko)
CN (1) CN1276013C (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102290390B1 (ko) 2020-12-10 2021-08-17 김후배 빙축열용 금속이온 축열재 제조방법

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG123780A1 (en) 2005-01-07 2006-07-26 Sumitomo Chemical Co Polypropylene resin composition and formed article
JP4887785B2 (ja) * 2005-01-07 2012-02-29 住友化学株式会社 ポリプロピレン系樹脂組成物および成形体
ATE533811T1 (de) * 2005-01-25 2011-12-15 Jsp Corp Geschäumte teilchen aus einem polymilchsäureharz
EP1930370B1 (en) 2005-09-30 2010-10-06 Adeka Corporation Process for producing crystal nucleator composition and crystalline polymer composition
JP5388263B2 (ja) * 2007-09-04 2014-01-15 株式会社Ａｄｅｋａ ポリオレフィン樹脂用造核剤マスターバッチ
EP2297239A1 (en) * 2008-07-02 2011-03-23 Basf Se Blends of stabilizers for aliphatic polyesters
JP5679154B2 (ja) 2010-03-31 2015-03-04 株式会社Adeka 顆粒状ポリオレフィン系樹脂添加剤組成物
CN101845171A (zh) * 2010-04-20 2010-09-29 广州呈和科技有限公司 聚丙烯增刚成核剂组合物
WO2011096596A2 (ja) 2010-04-27 2011-08-11 三菱レイヨン株式会社 ポリオレフィン系樹脂用添加剤のための分散剤、ポリオレフィン系樹脂組成物及び成形体
US20120009420A1 (en) 2010-07-07 2012-01-12 Lifoam Industries Compostable or Biobased Foams
US8962706B2 (en) 2010-09-10 2015-02-24 Lifoam Industries, Llc Process for enabling secondary expansion of expandable beads
CN102408626A (zh) * 2010-09-25 2012-04-11 中国石油化工股份有限公司 一种聚丙烯增透成核剂及其制备方法
CN102408444B (zh) * 2010-09-25 2015-03-11 中国石油化工股份有限公司 一种细微透明成核剂的超声制备方法
US20120190780A1 (en) 2011-01-25 2012-07-26 Danielson Todd D Additive compositions and thermoplastic polymer compositions comprising the same
CN102226059B (zh) * 2011-05-10 2013-02-27 天津市天宁树脂有限公司 胶印油墨用无酚树脂及制备方法
CN102850577A (zh) * 2011-06-29 2013-01-02 中国石油化工股份有限公司 成核剂组合物及其制备方法和聚丙烯材料
CN102432996A (zh) * 2011-10-11 2012-05-02 上海路久橡塑新材料有限公司 一种尼龙成核剂及其制备方法和应用
CN108384053A (zh) 2018-02-13 2018-08-10 株式会社Adeka 成核剂、使用其的聚烯烃系树脂组合物及其成型品
CN111727216B (zh) * 2018-02-15 2021-09-03 株式会社艾迪科 颗粒状成核剂、树脂组合物、成型品及其制造方法
KR102031524B1 (ko) * 2018-05-18 2019-10-11 가부시키가이샤 아데카 입상 핵제, 수지 조성물, 성형품 및 그 제조 방법
JP6397153B1 (ja) * 2018-05-18 2018-09-26 株式会社Adeka 粒状核剤、樹脂組成物、成形品およびその製造方法
JP6423982B1 (ja) * 2018-07-04 2018-11-14 株式会社Adeka 粒状核剤、樹脂組成物、成形品およびその製造方法
EP3898811A1 (en) 2018-12-21 2021-10-27 Milliken & Company Additive compositions and thermoplastic polymer compositions comprising the same
CN109942889B (zh) * 2019-03-27 2021-01-15 呈和科技股份有限公司 一种包含磷酸盐的组合物及其用途
CN111286128B (zh) * 2020-03-26 2023-02-10 青岛科技大学 一种快速成型的聚丁烯树脂及其制备方法
JPWO2021193813A1 (ko) * 2020-03-27 2021-09-30

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989003857A1 (en) * 1987-10-20 1989-05-05 Idemitsu Kosan Company Limited Styrenic resin composition and process for producing resin molding
JPH0273837A (ja) * 1988-09-09 1990-03-13 Adeka Argus Chem Co Ltd 結晶性高分子材料組成物
JP3195434B2 (ja) * 1991-09-10 2001-08-06 第一製薬株式会社 薬液充填シリンジ製剤
JP3083605B2 (ja) * 1991-11-18 2000-09-04 旭電化工業株式会社 結晶性合成樹脂組成物
JP3046428B2 (ja) * 1991-12-05 2000-05-29 旭電化工業株式会社 結晶性合成樹脂組成物
JP3313836B2 (ja) * 1993-08-06 2002-08-12 旭電化工業株式会社 結晶性合成樹脂組成物
JPH0881592A (ja) * 1994-09-14 1996-03-26 Dainippon Ink & Chem Inc 着色されたポリプロピレン組成物
JP3445672B2 (ja) * 1994-11-07 2003-09-08 旭電化工業株式会社 結晶性合成樹脂組成物
JPH0959443A (ja) * 1995-08-23 1997-03-04 Tonen Chem Corp ポリプロピレン樹脂組成物
JPH0959458A (ja) * 1995-08-23 1997-03-04 Tonen Chem Corp プロピレン／エチレンランダム共重合体樹脂組成物
JPH0959453A (ja) * 1995-08-23 1997-03-04 Tonen Chem Corp ポリプロピレン樹脂組成物
JPH0971710A (ja) * 1995-09-06 1997-03-18 Tonen Chem Corp ポリプロピレン樹脂組成物
JPH0971709A (ja) * 1995-09-06 1997-03-18 Tonen Chem Corp ポリプロピレン樹脂組成物
JPH0971692A (ja) * 1995-09-06 1997-03-18 Tonen Chem Corp ポリプロピレン樹脂組成物
JPH09124886A (ja) * 1995-10-30 1997-05-13 Tonen Chem Corp ポリプロピレン樹脂組成物
JPH11178888A (ja) * 1997-12-22 1999-07-06 Asahi Denka Kogyo Kk 薬液充填製剤
JP3989098B2 (ja) * 1998-08-21 2007-10-10 株式会社Ａｄｅｋａ 結晶性高分子材料組成物
KR100607559B1 (ko) * 1999-06-15 2006-07-31 가부시키가이샤 아데카 조핵제
JP4722330B2 (ja) * 2001-03-09 2011-07-13 株式会社プライムポリマー ポリオレフィン系樹脂組成物
JP3921410B2 (ja) * 2002-04-19 2007-05-30 株式会社Ａｄｅｋａ 粒子状結晶核剤組成物及びこれを含有してなる結晶性高分子組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102290390B1 (ko) 2020-12-10 2021-08-17 김후배 빙축열용 금속이온 축열재 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004083852A (ja) 2004-03-18
EP1375582A2 (en) 2004-01-02
CN1521203A (zh) 2004-08-18
CN1276013C (zh) 2006-09-20
US20030236329A1 (en) 2003-12-25
EP1375582A3 (en) 2004-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20040000342A (ko) 조핵제 및 상기 조핵제를 함유하여 이루어지는 결정성고분자 조성물
KR100791193B1 (ko) 폴리올레핀의 가공성 개선을 위한 과립상 복합첨가제, 그 제조방법 및 그것을 포함하는 폴리올레핀조성물
KR101272744B1 (ko) 결정핵제 조성물의 제조방법 및 결정성 고분자 조성물
KR101102108B1 (ko) 결정핵제 조성물 및 이것을 함유하여 이루어지는 결정성고분자 조성물
EP2810976B1 (en) Resin additive masterbatch
JP3921410B2 (ja) 粒子状結晶核剤組成物及びこれを含有してなる結晶性高分子組成物
EP3747944B1 (en) Nucleating agent, polyolefin-based resin composition containing same, and molded article thereof
JP2017039858A (ja) 樹脂添加剤組成物およびこれを用いた合成樹脂組成物
EP2980129A1 (en) Resin additive masterbatch and polyolefin resin composition to which said resin additive masterbatch has been admixed
JP4338134B2 (ja) 結晶核剤組成物の製造方法
KR20170132279A (ko) 광안정제 마스터 배치 및 그의 제조 방법
JP4014202B2 (ja) 結晶核剤組成物及びこれを含有してなる結晶性高分子組成物
JP4338132B2 (ja) 結晶核剤組成物及びこれを含有してなる結晶性高分子組成物
EP2258774A1 (en) Polyester resin composition
EP1384749A1 (en) Ultraviolet absorber for synthetic resin and synthetic resin composition containing the same
JP4497866B2 (ja) 磁場配向した結晶性高分子組成物の製造方法
JP4789649B2 (ja) 造核剤
JP5465457B2 (ja) ポリオレフィン系樹脂組成物
KR102706473B1 (ko) 수지 첨가제 조성물 및 이것을 사용한 합성 수지 조성물
JP4662218B2 (ja) ポリオレフィン用顆粒状複合添加剤及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application