KR20020005968A - 액티브 매트릭스 기판, 표시 장치 및 액티브 매트릭스기판의 제조 방법 - Google Patents
액티브 매트릭스 기판, 표시 장치 및 액티브 매트릭스기판의 제조 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (17)
- 절연 기판상에 소정의 간격으로 서로 이격되어 배치되는 소스 전극 및 드레인 전극과;상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극상에 도포(depositing)되는 반도체층과;상기 반도체층상에 도포되는 게이트 절연막과;상기 게이트 절연막상에 도포되는 게이트 전극과;상기 게이트 전극의 패턴과 실질적으로 동일한 패턴이 되도록 상기 게이트 전극상에 도포되는 제1 부분과, 상기 소스 전극 또는 상기 드레인 전극 중 어느 한 쪽 전극의 일부상에 도포되는 부분을 포함하는 제2 부분을 갖는 투명 도전층을 포함하는 액티브 매트릭스 기판.
- 제1항에 있어서, 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극 중 어느 한 쪽 전극에 연결되는 데이터선을 더 포함하고, 상기 게이트 절연막의 또 다른 부분은 상기 데이터선상에 도포되는 것인 액티브 매트릭스 기판.
- 제1항에 있어서, 상기 투명 도전층의 제2 부분은 상기 소스 전극 또는 상기 드레인 전극 중 어느 한 쪽 전극과 연결되도록 화소 전극을 형성하는 것인 액티브 매트릭스 기판.
- 절연 기판상에 도포되는 게이트 전극과;상기 게이트 전극상에 도포되는 게이트 절연막과;상기 게이트 절연막상에 도포되는 반도체층과;상기 반도체층상에 도포되는 소스 전극 및 드레인 전극과;상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극의 패턴과 실질적으로 동일한 패턴을 취하도록 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극상에 도포되는 부분을 구비하고, 상기 소스 전극 또는 상기 드레인 전극 중 어느 한 쪽 전극에 연결되어 화소 전극을 형성하는 투명 도전층을 포함하는 액티브 매트릭스 기판.
- 제4항에 있어서, 상기 게이트 전극에 연결되는 게이트선을 더 포함하고, 상기 게이트 절연막의 또 다른 부분은 상기 게이트선상에 도포되는 것인 액티브 매트릭스 기판.
- 제4항에 있어서, 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극 중 어느 한 쪽 전극에 연결되는 데이터선을 더 포함하고, 상기 투명 도전층은 상기 데이터선의 패턴과 실질적으로 동일한 패턴으로 상기 데이터선상에 도포되는 부분을 포함하도록 구성되는 것인 액티브 매트릭스 기판.
- 절연 기판상에 도포되는 게이트 전극과;상기 게이트 전극상에 도포되는 게이트 절연막과;상기 게이트 절연막상에 도포되는 반도체층과;상기 반도체층상에 도포되는 소스 전극 및 드레인 전극과;상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극의 패턴과 실질적으로 동일한 패턴을 갖는 부분을 포함하도록 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극상에 도포되는 ITO막을 포함하는 액티브 매트릭스 기판.
- 절연 기판상에 형성되는 박막 트랜지스터 구조와;상기 박막 트랜지스터 구조의 소스 전극 또는 드레인 전극 중 어느 한 쪽 전극에 연결되도록 형성되는 화소 전극과;상기 박막 트랜지스터 구조의 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극 중 어느 한 쪽 전극에 연결되도록 형성되는 데이터선과;상기 박막 트랜지스터 구조의 상기 게이트 전극에 연결되도록 형성되는 게이트선을 포함하고,상기 박막 트랜지스터 구조의 상기 소스 전극, 드레인 전극 및 게이트 전극 중에서 상부 전극의 상면은 ITO막으로 피복되고, 상기 데이터선 또는 상기 게이트선 중 어느 한 쪽선의 상면은 게이트 절연막으로 피복되어 있는 것인 표시 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 ITO막은 상기 화소 전극을 형성하는 ITO막을 형성하는 단계와 동일한 단계에서 형성되는 것인 표시 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 절연 기판을 이용하여 충전되는 액정층을 더 포함하고, 상기 상부 전극, 상기 데이터선 및 상기 게이트선의 상기 액정층과 접하는 상면은 상기 ITO막 또는 상기 게이트 절연막 중 어느 하나의 막으로 피복되어 있는 것인 표시 장치.
- 절연 기판상에 직접 또는 간접적으로 소스 전극, 드레인 전극, 반도체층, 게이트 절연막 및 게이트 전극이 순차적으로 도포되는 액티브 매트릭스 기판의 제조 방법에 있어서,레지스트 마스크를 이용하여 상기 게이트 절연막상에 도포되는 게이트 금속을 패터닝하는 단계와;상기 패터닝된 게이트 금속을 마스크로서 사용하여 상기 게이트 절연막 및 상기 반도체층을 패터닝하는 단계와;ITO막을 형성하고, 상기 ITO막을 레지스트 마스크를 사용하여 패터닝하는 단계와;상기 패터닝된 ITO막을 마스크로서 사용하여 상기 게이트 전극을 패터닝하는 단계를 포함하는 액티브 매트릭스 기판의 제조 방법.
- 제11항에 있어서, 상기 ITO막을 패터닝하는 단계는 화소 전극의 패턴을 형성하는 것뿐만 아니라 상기 게이트 전극의 패턴을 고려하여, 상기 ITO막을 패터닝하는 단계를 포함하는 것인 액티브 매트릭스 기판의 제조 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 ITO막을 패터닝하는 단계는 상기 게이트 전극에 연결되는 게이트선의 패턴을 고려하여 상기 ITO막을 패터닝하는 단계를 포함하는 것인 액티브 매트릭스 기판의 제조 방법.
- 절연 기판상에 게이트 전극의 패턴을 형성하는 단계와;상기 게이트 전극상에 게이트 절연막 및 반도체층을 순차적으로 도포한 후 금속막을 형성하는 단계와;패터닝될 상기 금속막의 패턴 및 화소 전극의 패턴을 고려하여 ITO막을 도포하는 단계와;상기 도포된 ITO막을 마스크로서 사용하여 상기 금속막을 패터닝하여 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계를 포함하는 액티브 매트릭스 기판의 제조 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 소스 전극과 상기 드레인 전극 사이에 상기 ITO막을 개재시키기 위해 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극상에 보호막을 제공하고, 상기 보호막을 사용하여 상기 반도체층을 패터닝하는 것인 액티브 매트릭스 기판의 제조 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극을 형성하는 상기 단계에서 상기 ITO막을 마스크로서 사용하여 데이터선의 패턴을 형성하는 액티브 매트릭스 기판의 제조 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 금속막을 형성하는 단계는 상기 패터닝된 게이트 절연막의 패턴과 동일한 패턴으로 상기 금속막을 형성하기 위한 것인 액티브 매트릭스 기판의 제조 방법.
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