KR19990088529A

KR19990088529A - 에폭시광학시트및이의제조방법

Info

Publication number: KR19990088529A
Application number: KR1019990018778A
Authority: KR
Inventors: 스가와히로시; 다하라가즈히코; 후지와라슈조; 야기노부요시; 사카타요시마사; 우메하라도시유키
Original assignee: 가마이 고로; 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 1998-05-26
Filing date: 1999-05-25
Publication date: 1999-12-27
Also published as: US20030012957A1; DE19920319A1; JPH11333866A; KR100390596B1; JP3386370B2; TW476779B; US6500518B2; US6740266B2; US20020119298A1

Abstract

두께가 500㎛ 이하이고 두께 정확도가 우수하며 지연값이 작고 내열성이 우수한 에폭시 광학 시트 및 광학 시트를 효율적으로 생산하는 방법.

에폭시 광학 시트(8)는 에폭시 수지를 포함하는 경화된 시트(62)와 당해 시트의 한쪽 면 위에 형성된 또 다른 수지 층(31)을 포함하고(여기서, 시트는 지연값이 5nm 이하이고 평균 두께가 500㎛ 이하이며 두께 정확도가 ±10% 이하이고 유리전이온도가 170℃ 이상이며 표면이 평탄하다), 에폭시 광학 시트의 연속적인 제조방법은 박리 가능한 수지 층(31)을 표면이 평탄한 지지체(1) 위에 연속적으로 형성시키고, 에폭시 수지, 경화제, 경화 촉진제 및 균전재를 포함하는 에폭시 수지 피복 용액(6)을 시트 형태로 수지 층 위에 연속적으로 도포한 다음, 경화처리하여, 수지 층에 점착된 경화 시트를 형성시키는 동시에, 경화된 시트를 수지 층과 함께 지지체로부터 회수하는 단계를 포함한다.

Description

에폭시 광학 시트 및 이의 제조방법{Epoxy optical sheet and process for producing the same}

본 발명은 광학 특성과 내열성이 우수한 에폭시 광학 시트 및 에폭시 광학 시트를 대량 생산하는 방법에 관한 것이다.

에폭시 수지로 제조한 통상적인 광학 시트는 에폭시 수지를 주형용 금형의 공간 속으로 부어 넣고, 이어서 경화시켜 수득한다[참조: 일본 공개특허공보 제6- 337408호, 제7-28043호 및 제7-120741호]. 그러나, 이러한 주형 방법으로는 두께가 500㎛ 이하이고 광학 스트레인(optical strain)이 없는 시트를 수득하는 것은 어렵다.

에폭시 수지로 제조한 경화 판을 시트로 절단하는 방법에서, 광학 스트레인은 두께가 500㎛ 이하인 경우에 절단 단계에서 발생한다. 결과적으로, 이러한 방법으로 광학 스트레인이 없는 시트를 수득하는 것도 어렵다. 따라서, 500㎛ 이하의 두께에서의 두께 정확도가 우수하고 지연값이 작으며 내열성이 우수한 에폭시 광학 시트는, 이에 대한 요구에도 불구하고 아직 제공되지 않았다.

게다가, 위에서 언급한 방법은 주형 및 성형 개방과 같은 복잡한 단계가 필요하다는 단점이 있으며, 이로 인하여 에폭시 광학 시트의 생산 효율이 불량해진다. 따라서, 통상적인 수지 시트 제조법에 따라, 예를 들면, 롤링 롤을 사용하는 칼렌더법, T-다이 등을 사용하는 용융 압출법 또는 수지 용액을 지지체 위로 필름 유연시키는 방법으로 에폭시 광학 시트를 연속적으로 제조하는 방법이 고려되고 있다.

그러나, 에폭시 수지는 접착제로서의 사용을 수반한다. 따라서, 에폭시 수지를 이러한 방법으로 시트로 성형하는 경우, 에폭시 수지는 롤, 다이, 지지체 등에 점착된다. 그 결과, 성형된 시트를 쉽게 분리하고 회수하는 것은 불가능해져서, 시트를 분리하는 경우, 시트가 파괴된다. 게다가, 이렇게 하여 수득한 시트는 표면이 평탄하지 않아서 광학 시트에 필요한 평탄한 표면을 수득하는 데 실패한다는 또 다른 문제가 발생한다.

따라서, 본 발명의 한 가지 목적은, 두께가 500㎛ 이하이고 두께 정확도가 우수하며 지연값이 작고 내열성이 높은 에폭시 광학 시트를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 에폭시 광학 시트를 고효율로 제조하는 방법을 제공하는 것이다.

본 발명은 에폭시 수지를 함유하는 경화 시트와 당해 시트의 한쪽 면 위에 형성된 또 다른 수지 층을 포함하는 에폭시 광학 시트를 제공하는데, 여기서 에폭시 광학 시트는 지연값이 5nm 이하이고 평균 두께가 500㎛ 이하이며 평균 정확도가 ±10% 이하이고 유리전이온도가 170℃ 이상이며 표면이 평탄하다.

추가로, 본 발명은 박리 가능한 수지 층을 표면이 평탄한 지지체 위에 연속적으로 형성시키고, 에폭시 수지, 경화제, 경화 촉진제 및 균전재(均展材)를 포함하는 에폭시 수지 피복 용액을 시트 형태로 수지 층 위에 연속적으로 도포한 다음, 경화처리하여, 수지 층에 점착된 경화 시트를 형성시키는 동시에, 경화된 시트를 수지 층과 함께 지지체로부터 회수함을 포함하여, 에폭시 광학 시트를 연속적으로 제조하는 방법을 제공한다.

도 1은 본 발명에 따르는 제조방법을 나타내는 도면인데, 여기서 1은 무한 벨트(지지체)이고, 31은 수지 층이며, 61은 에폭시 수지 피복 용액의 도포층이고, 7은 경화 장치이고, 62는 경화 시트이며, 8은 에폭시 광학 시트이다.

본 발명의 제조방법에 따라, 박리 가능한 수지 층을 갖는 에폭시 광학 시트를 지지체로부터 분리하여 회수할 수 있다. 따라서, 지지체의 표면 상태는 수지 층을 통해 적절하게 전사되어 반영될 수 있다. 그 결과, 거울 표면과 같은 광학 특성이 우수한 시트는 일련의 편리한 과정으로 연속적으로 효율좋게 제조할 수 있다. 또한, 대량 생산 속도는 지지체에 의해 중재된 도포층의 이동 속도를 조절하여 용이하게 조절할 수 있다. 게다가, 시트의 두께는 피복 용액의 이동 속도와 도포층을 조절하여 용이하게 조절할 수 있다. 따라서, 평균 두께가 500㎛ 이하이고 두께 정확도가 우수하며 지연값이 작고 내열성이 우수한 에폭시 광학 시트를 수득하는 것이 가능하다.

본 발명의 에폭시 광학 시트는 에폭시 수지를 포함하는 경화 시트와 당해 시트의 한쪽 면 위에 형성된 또 다른 수지 층을 포함하는데, 여기서 에폭시 광학 시트는 지연값이 5nm 이하이고 평균 두께가 500㎛ 이하이며 두께 정확도가 ±10% 이하이고 유리전이온도가 170℃ 이상이며 표면이 평탄하다. 도 1은 시트의 제조공정의 예를 나타내는데, 여기서 8은 에폭시 광학 시트이고 31은 수지 층이며 62는 에폭시 수지의 경화된 시트이다.

본 발명에 따르는 에폭시 광학 시트의 제조방법은, 예를 들면, 박리 가능한 수지 층을 표면이 평탄한 지지체 위에 연속적으로 형성시키고, 에폭시 수지, 경화제, 경화 촉진제 및 균전재를 포함하는 에폭시 수지 피복 용액을 시트 형태로 수지 층 위에 연속적으로 도포하고, 경화처리하여, 수지 층에 점착된 경화 시트를 형성하는 동시에, 경화된 시트를 수지 층과 함께 지지체로부터 회수함을 포함한다. 이러한 방법에 따라, 에폭시 광학 시트는 연속적으로 대랑 생산될 수 있다.

도면에는 위의 공정에 의한 제조 단계의 예가 도시되어 있다. 당해 공정에서, 연속 생산은 필름 유연법(flow casting method)으로 수행된다. 표면이 평탄한 무한 벨트(1)를 포함하는 지지체는 구동 드럼(11)과 쌍을 이룬 구동 드럼(12)을 통해 한정된 속도(예: 0.1 내지 10m/분, 바람직하게는 0.2 내지 5m/분)로 구동된다. 이러한 작동 동안에, 수지 용액(3)은 다이(2)를 통해 지지체 위에 연속적으로 도포되고, 임의로 가열하에 건조, 경화시키거나, 광을 조사하여 필름(31)을 수득한다. 당해 도면에서, 자외선 라디에이터(4)가 배치되어 있다.

위에서 언급한 바와 같이, 수지 층(31)을 지지체 위에 연속적으로 형성시키는 동안, 에폭시 수지 피복물 용액(6)은 다이(5)를 통해 수지 층 위에 연속적으로 적용되어, 시트 형태로 도포된다. 이어서, 도포층(61)을 가열형 또는 조사형의 적합한 경화 장치(7)를 사용하여 경화시킨다. 따라서, 수지 층(31)에 점착된 경화 시트(62)가 연속적으로 형성되는 동시에, 수지 층(31)과 함께 지지체(1)로부터 분리되어, 에폭시 광학 시트(8)가 연속적으로 생성된다.

균열 등을 방지하는 관점에서, 유리전이온도를 초과하는 고온 대기 속에서 에폭시 광학 시트를 지지체로부터 회수하는 것이 바람직하다. 따라서, 에폭시 그룹을 통해 에폭시 수지를 경화시킨 후, 약 70% 이상의 정도로 회수하고 고온 대기(즉, 열 경화의 경우, 경화 온도에서, 또는 유리전이온도 부근에서) 속에서조차도 소성 변형되지 않도록 수지를 경화시켜 위에서 언급한 바와 같은 균열 또는 변형을 방지하는 것이 바람직하다.

에폭시 광학 시트를 지지체로부터 회수하는 데 있어서, 경우에 따라, 적합한 박리수단을 사용할 수 있다. 이와 같이 형성된 연속 에폭시 광학 시트는, 경우에 따라, 레이저 빔, 초음파 절단기, 다이서(dicer) 또는 워터 제트(water jet)를 사용하여 적절한 크기로 절단할 수 있다.

위에서 언급한 방법에서, 적합한 지지체, 예를 들면, 벨트(예: 무한 벨트), 판 또는 드럼은, 에폭시 수지 피복 용액을 지지체 위에 계속적이고도 연속적으로 도포하고 도포층을 이로 지지시켜 시트 형태로 유지시킬 수 있는 한, 사용할 수 있다. 지지체는, 지지체가 에폭시 수지를 경화시키는 처리를 견딜 수 있는 한, 특정 재료로 제조할 수 있다. 따라서, 바람직한 예는, 예를 들면, 스테인레스 강, 구리 및 알루미늄 등의 금속과 유리 및 플라스틱이다. 이들 중에서, 스테인레스 강이 내구성 등의 관점에서 바람직하다.

지지체의 표면은 두께 정확도 등을 향상시키는 관점에서 가능한 한 평탄한 것이 바람직하다. 예를 들면, 거울 표면을 갖는 에폭시 광학 시트는 표면 거칠기(surface roughness; Ra)가 0.02㎛ 이하인 지지체를 사용하여 수득할 수 있다. 따라서, 수지 층 또는 경화된 시트를 형성하는 과정에서, 지지체의 표면을 가능한 한 수평으로 유지하는 것이 바람직하다. 따라서, 두께 정확도가 ±10% 이하인 에폭시 광학 시트를 용이하게 수득할 수 있다.

수지 층을 지지체 위에 연속적으로 형성시키기 위해, 수지가 지지체에 전혀 점착되지 않거나 거의 점착되지 않고 이로부터 용이하게 박리시킬 수 있는 한, 특정의 박리 가능한 적합한 투명 수지를 제한없이 사용할 수 있다. 이러한 수지의 예는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리비닐 알콜 수지(예: 폴리비닐 알콜/에틸렌 비닐 알콜 공중합체), 염화비닐 수지 및 염화비닐리덴 수지이다.

수지 층을 형성하기 위해, 폴리아릴레이트 수지, 설폰 수지, 아미드 수지, 이미드 수지, 폴리에테르 설폰 수지, 폴리에테르 이미드 수지, 폴리카보네이트 수지, 실리콘 수지, 플루오로 수지, 폴리올레핀 수지, 스티렌 수지, 비닐피롤리돈 수지, 셀룰로스 수지, 아크릴로니트릴 수지 등을 사용하는 것도 가능하다. 또한, 수지 층의 형성에서, 두 가지 이상의 적합한 투명 수지의 블렌드를 사용할 수도 있다.

위에서 형성된 시트와 함께 박리되어, 에폭시 광학 시트의 한쪽 면에서 표면 층으로서의 역할을 하는 수지 층은 투명성과 같은 우수한 광학 특성을 갖는 수지 층이 바람직하다. 이러한 광학 특성, 특히 스테인레스 지지체 등에 대한 박리성 등을 고려하여 수지 층의 형성에 우레탄 수지를 사용하는 것이 바람직하다.

위에서 기술한 바와 같이, 수지 층은 에폭시 광학 시트의 표면 피복 층으로서 작용한다. 이러한 관점에서, 수지 층의 재료는 각종 기능, 예를 들면, 내화학약품성, 표면 경도, 광학 이방성, 낮은 흡수성, 낮은 수분 투과성 및 가스 차단 특성(예: 낮은 산소 투과성)을 시트에 부여하기 위해 선택할 수 있다. 따라서, 수지 층은 단층 구조물 또는 적층 구조(예를 들면, 가스 차단 특성을 부여하는 것을 목적으로 하는 폴리비닐 알콜 수지 층이 박리성을 부여하는 것을 목적으로 하는 우레탄 수지 층 위에 형성되어 있다)일 수 있다.

수지 층은, 예를 들면, 수지를 적합한 용매(유기 용매, 물 등)에 임의로 용해시키고, 생성된 용액을 적합한 방법(롤 피복, 와이어 바 피복, 압출 피복, 커튼 피복, 분무 피복 등)으로 지지체의 한정된 면 위에 적용한 다음, 경우에 따라, 건조시키고, 이어서 수지에 따라 적합한 방법으로 이를 경화(가열, 광 조사 등)시켜 형성시킬 수 있다.

위의 피복 방법이 사용되는 경우, 수지 용액의 점도는 균일한 피복물을 수득하기 위해 1 내지 100cPs로 조절하는 것이 바람직하다. 수지 용액을 위에서 언급한 바와 같은 필름 유연법으로 무한 벨트에 적용하는 경우, 피복 효율 등의 관점에서 압출 피복법이 바람직하다. 이러한 경우, 수지 용액의 점도는 1 내지 10cPs로 조절하는 것이 바람직하다. 우레탄 수지 등의 피복 층이 광 조사로 경화되는 경우, 효율적인 처리를 수행하기 위해 중심 파장이 365nm이거나 254nm인 고압 UV 램프 또는 저압 UV 램프를 사용하는 것이 바람직하다.

이와 같이 형성된 수지 층의 두께는 적절하게 측정할 수 있다. 박리단계에서 균열을 예방하고 높은 박리성을 성취하기 위해, 각각의 단위 층의 두께는 일반적으로 1 내지 10㎛이고, 8㎛ 이하가 바람직하며, 2 내지 5㎛가 보다 바람직하다.

수지 층 위로 도포될 에폭시 수지 피복 용액을 제조하기 위해, 하나 이상의 에폭시 수지, 경화제, 경화 촉진제 및 균전재가 사용된다. 에폭시 수지는 특정하게 제한되지 않고, 예를 들면, 제조되는 에폭시 광학 시트의 사용 목적에 따라 적합하게 선택된다.

에폭시 수지의 예는 비스페놀 수지(비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S 등, 각각은 임의로 수소화됨), 노볼락 수지(페놀 노볼락, 크레졸 노볼락 등), 질소 함유 환형 수지(트리글리시딜 이소시아누레이트, 하이단토인 등), 지환족 수지, 지방족 수지, 방향족 수지(나프탈렌 등), 글리시딜 에테르 수지, 저흡수성 수지(비페닐 등), 디사이클로 수지, 에스테르 수지, 에테르 에스테르 수지 및 이의 변성물이다.

투명성 등의 광학 특성의 관점에서, 에폭시 수지로서, 예를 들면, 벤젠 환에서처럼 공액 이중결합을 함유하지 않고 색 변화가 거의 일어나지 않는 지환족 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 일반적으로, 수득한 광학 시트의 기계적 특성(가요성, 강도 등)의 관점에서, 에폭시 당량이 100 내지 1,000이고 연화점이 120℃ 이하인 에폭시 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 게다가, 피복 가능성과 시트로의 도포 특성이 우수한 에폭시 수지 피복 용액을 수득하기 위해, 피복 온도 이하, 특히 상온에서 액체 형태인 투-파트 액체 시스템을 사용하는 것이 바람직하다. 에폭시 수지는 단독으로 또는 이의 두 가지 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다.

또한, 경화제도 특별하게 제한되지 않는다. 하나의 경화제 또는 이의 두 가지 이상의 혼합물이 에폭시 수지에 따라 사용될 수 있다. 경화제의 예는 유기 산 화합물(테트라하이드로프탈산, 메틸테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 메틸헥사하이드로프탈산 등)과 아민 화합물(에틸렌디아민, 프로필렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민, 이의 아민 부가물, 메타페닐렌디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐설폰 등)이다.

경화제의 추가 예는 아미드 화합물(디시안디아민, 폴리아미드 등), 하이드라지드 화합물(디하이드라지드 등) 및 이미다졸 화합물(메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 에틸이미다졸, 이소프로필이미다졸, 2,4-디메틸이미다졸, 페닐이미다졸, 운데실이미다졸, 헵타데실이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸 등)이다.

경화제의 또 다른 추가 예는 이미다졸린 화합물(메틸이미다졸린, 2-에틸-4-메틸이미다졸린, 에틸이미다졸린, 이소프로필이미다졸린, 2,4-디메틸-이미다졸린, 페닐이미다졸린, 운데실이미다졸린, 헵타데실이미다졸린, 2-페닐-4-메틸이미다졸린 등), 페놀 화합물, 우레아 화합물 및 폴리설파이드 화합물이다.

또한, 산 무수물 등은 경화제로서 사용할 수 있다. 낮은 자극성, 내열성의 향상에 기인하는 수득된 시트의 고온에서의 내구성, 변색 방지 등에 기인하는 작업 환경의 관점에서, 이들 산 무수물을 사용하는 것이 바람직하다. 이들 산 무수물의 예는 프탈산 무수물, 말레산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 피로멜리트산 무수물, 나드산 무수물, 글루타르산 무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물, 메틸테트라하이드로프탈산 무수물, 헥사하이드로프탈산 무수물, 메틸헥사하이드로프탈산 무수물, 메틸나드산 무수물, 도데세닐석신산 무수물, 디클로로석신산 무수물, 벤조페논테트라카복실산 무수물 및 클로로렌드산 무수물이다.

이들 중에서, 분자량이 약 140 내지 약 200인 무색 또는 담황색 산 무수물 경화제(예: 프탈산 무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물, 헥사하이드로프탈산 무수물 또는 메틸헥사하이드로프탈산 무수물)를 사용하는 것이 바람직하다.

첨가되는 경화제의 양은 이의 유형, 에폭시 수지의 에폭시 당량 등에 따라 적절하게 결정한다. 즉, 양은 에폭시 수지의 통상적인 경화의 경우에 따라 결정한다. 산 물수물 경화제의 경우, 수득된 시트의 색상 틴트와 내습윤성의 저하 방지의 관점에서, 산 무수물 경화제는, 예를 들면, 에폭시 그룹 1당량당 0.5 내지 1.5당량, 바람직하게는 0.6 내지 1.4당량, 보다 바람직하게는 0.7 내지 1.2당량의 비율로 사용한다. 경화제가 단독으로 또는 이의 두 가지 이상으로 사용되는 경우, 양은 위의 당량 비율에 따른다.

유사하게, 경화 촉진제는 특별하게 제한되지 않는다. 사용하는 에폭시 수지와 경화제에 따라, 예를 들면, 3차 아민, 이미다졸, 4차 암모늄 염, 유기 금속 염, 인 화합물 및 우레아 화합물로부터 선택된 하나 이상의 적합한 경화 촉진제를 사용한다. 경화 촉진제를 사용하여 경화 속도를 촉진시킬 수 있으므로, 경화 시간이 단축된다. 그 결과, 지지체의 길이는 경화 촉진제가 사용되지 않은 경우와 비교하여 몇분의 1로 줄일 수 있다. 따라서, 첨가되는 경화 촉진제의 양은 촉진 효과 등에 따라 결정한다. 일반적으로, 경화 촉진제는 탈색 등의 예방 관점에서 에폭시 수지 100중량부당 0.05 내지 7중량부, 바람직하게는 0.1 내지 5중량부, 보다 바람직하게는 0.2 내지 3중량부의 양으로 첨가한다.

균전재를 첨가하여, 공기와 접촉시키면서 에폭시 수지 피복물의 도포층을 경화시키는 단계에서 경화제 등의 산란에 기인하는 불균일한 표면장력으로 인해 표면이 무광택화되는 것을 예방함으로써 평탄한 표면을 형성시킨다. 표면 장력을 저하시킬수 있는 하나 이상의 적합한 물질[예를 들면, 각종 계면활성제(예: 실리콘, 아크릴산 및 불소화 계면활성제)]이 사용된다.

에폭시 수지 피복 용액을 제조하는 데 있어서, 경우에 따라, 에폭시 수지 경화 생성물에 종종 사용되는 적합한 성분[예: 산화방지제(페놀, 아민, 유기 황 화합물, 포스핀 등), 개질제(글리콜, 실리콘, 알콜 등), 소포제, 하이드록시 함유 화합물, 염료, 변색 억제제 및 UV 흡수제]을 첨가할 수도 있다. 소포제를 첨가하여, 수득한 시트의 광학 특성을 악화시키는 기포의 혼입을 예방한다. 이를 위해, 글리세롤 등의 다가 알콜을 사용하는 것이 바람직할 수 있다.

에폭시 수지 피복 용액은, 임의로 용매를 사용하여 성분이 유동 가능해지거나 도포 가능해지도록 하여 제조할 수 있다. 따라서, 에폭시 수지 피복 용액은, 에폭시 수지 피복 용액이 도포되어 시트로 성형되는, 위에서 설명한 바와 같은 수지 층을 형성하기에 적합한 방법(예: 커튼 피복, 롤 피복)으로 도포될 수 있다. 필름 유연법의 경우, 피복 효율 등의 관점에서, 압출 피복법을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따르는 에폭시 광학 시트는 에폭시 수지를 포함하는 경화 시트를 포함하고, 유리전이온도가 170℃ 이상인 높은 내열성을 나타낸다. 따라서, 이는 액정 셀의 제조공정에서 발생하는 고온 대기를 견딜 수 있는 액정 셀 기판 등으로서 사용할 수 있다. 이러한 유리전이온도는 2℃/분의 속도에서 승온하에 인장 모드의 열기계적 분석법(TMA)으로 측정한 값이다.

에폭시 광학 시트는, 강성(예: 굴곡 강도), 표면 평탄성, 낮은 지연값, 얇고 경량의 특성 등의 관점에서, 두께가 500㎛ 이하, 바람직하게는 100 내지 400㎛, 보다 바람직하게는 200 내지 300㎛이다. 또한, 에폭시 광학 시트는 광학 목적의 사용 등을 고려하여 두께 정확도가 ±10% 이하이다. 두께 정확도는 폭 방향에서 규칙적인 간격의 10개 지점과 길이 방향에서 60mm의 간격에서 시트의 두께를 측정하여, 평균 두께의 최대 값과 평균 두께의 최소 값과의 차이를 근거로 하여 측정한다.

에폭시 광학 시트는, 액정 셀 등에 적용하는 경우, 복굴절에 기인하는 착색을 예방하는 관점에서, 5nm 이하의 지연값을 나타낸다. 지연값은 복굴절 측정 장치로 측정할 수 있다.

본 발명에 따르는 에폭시 광학 시트는 각종 광학 목적, 예를 들면, 액정 셀 기판과 반사 방지 시트에 바람직하게 사용할 수 있다. 광학 특성, 내열성 및 표면 평탄성이 우수하기 때문에, 에폭시 광학 시트는 고열 내구성, 높은 굴곡강도, 낮은 지연값 및 경량이 요구되는 광학 목적, 예를 들면, 액정 셀에서 특히 바람직하게 사용할 수 있다.

다음 실시예를 참고하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하였지만, 본 발명이 이에 제한되지 않음을 이해해야 할 것이다. 달리 나타내지 않는 한, 모든 부, 퍼센트, 비율 등은 중량부, 중량%, 중량비율이다.

실시예 1

3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산 카복실레이트 100부, 메틸헥사하이드로프탈산 무수물 125부, 테트라-n-부틸포스포늄 o,o-디에틸포스포로디티오에이트 3.75부, 글리세롤 2.25부 및 실리콘 계면활성제[균전재, 디스파론(Disparon) LS-009, 제조원: 구스모토카세이가부시키가이샤] 0.07부를 교반하에 혼합하고, 생성된 혼합물을 49℃에서 90분 동안 숙성시켜 에폭시 수지 피복 용액을 제조한다.

톨루엔 중의 우레탄 UV 경화성 수지[엔케이 올리고(NK Oligo) UN-01, 제조원: 신-나카무라카가쿠가부시키가이샤] 17중량% 용액을 도 1에 나타낸 필름 유연법으로 다이로부터 배출시켜, 일정한 속도(0.2m/분)에서 회전, 구동하는 무한 벨트 위에 도포한다. 톨루엔을 증발시킨 후, 수지를 UV 조사(중심 파장:254nm, 광의 축적량: 2,000mJ/cm²)로 경화시켜, 폭이 500mm이고 두께가 2㎛인 우레탄 수지 층을 형성시킨다.

이어서, 위의 과정을 지속하면서 위의 에폭시 수지 피복 용액을 100g/분의 양으로 경화된 우레탄 수지 층 위로 연속적으로 배출시킨 다음, 시트로 도포한다. 도포층을 120℃에서 30분 동안 가열기를 통해 가열하여 경화시킨다. 경화된 시트를, 여기에 점착된 우레탄 수지 층과 함께, 150℃로 조절된 쌍을 이룬 구동 드럼 위의 무한 벨트로부터 분리하고 회수한다. 이와 같이 회수한 시트를 유동 방향으로 490mm의 간격으로 조각으로 절단하여, 폭이 490mm이고 평균 두께가 400㎛이며 두께 정확도가 ±40㎛ 이하이고 지연값이 5nm 이하이며 유리전이온도가 170℃ 이상인 에폭시 광학 시트를 연속적으로 수득한다.

실시예 2

실리콘 계면활성제 대신에 불소 계면활성제[디펜서(Defenser) MCF-323, 제조원: 다이닛폰 잉크 앤드 케미칼스 코포레이션(Dainippon Ink and Chemicals Corp.)]를 사용하는 것을 제외하고는, 실시예 1을 수행하여, 두께 정확도가 ±40㎛ 이하이고 지연값이 5nm 이하이며 유리전이온도가 170℃ 이상인 평균 두께 400㎛의 에폭시 광학 시트를 연속적으로 수득한다.

실시예 3

실리콘 계면활성제 대신에 아크릴계 계면활성제[디스파론 L-1980, 제조원: 구스모토카세이가부시키가이샤]를 사용하는 것을 제외하고는, 실시예 1을 수행하여, 두께 정확도가 ±40㎛ 이하이고 지연값이 5nm 이하이며 유리전이온도가 170℃ 이상인 평균 두께 400㎛의 에폭시 광학 시트를 연속적으로 수득한다.

실시예 4

에폭시 수지 피복 용액을 75g/분의 양으로 배출하는 것을 제외하고는, 실시예 1을 수행하여, 두께 정확도가 ±30㎛ 이하이고 지연값이 5nm 이하이며 유리전이온도가 170℃ 이상인 평균 두께 300㎛의 에폭시 광학 시트를 연속적으로 수득한다.

비교실시예 1

실리콘 계면활성제를 첨가하지 않는 것을 제외하고는, 실시예 1을 수행한다. 수득한 시트는 광학 시트로서 사용할 수 없는 무광택 표면을 나타낸다.

비교실시예 2

에폭시 수지 피복 용액의 도포층을 120℃에서 15분 동안 경화시키는 것을 제외하고는, 실시예 1을 수행한다. 수득한 에폭시 광학 시트는 유리전이온도가 170℃ 이하이다. 시트가 액정 셀 디스플레이 장치의 제조에서 셀 기판으로서 사용되는 경우, 이의 부족한 내열성 때문에 휘어진다.

특정 실시예를 참고하여 본 발명을 상세히 설명하였지만, 당해 기술분야의 숙련가들에게는 각종 변화와 변형이 본 발명의 정신과 범주에서 벗어나지 않으면서 이루어질 수 있음이 명백해질 것이다.

본 발명의 제조방법으로 수득한 에폭시 광학 시트는 광학 특성과 내열성이 우수하다.

Claims

에폭시 수지를 포함하는 경화된 시트와 당해 시트의 한쪽 면 위에 형성된 또 다른 수지 층을 포함하는 에폭시 광학 시트로서, 지연값이 5nm 이하이고 평균 두께가 500㎛ 이하이며 두께 정확도가 ±10% 이하이고 유리전이온도가 170℃ 이상이며 표면이 평탄한 에폭시 광학 시트.
제1항에 있어서, 당해 에폭시 수지가 지환족 형태인 에폭시 광학 시트.
박리 가능한 수지 층을 표면이 평탄한 지지체 위에 연속적으로 형성시키고, 에폭시 수지, 경화제, 경화 촉진제 및 균전재를 포함하는 에폭시 수지 피복 용액을 시트 형태로 수지 층 위에 연속적으로 도포한 다음, 경화처리하여 수지 층에 점착된 경화 시트를 형성시키는 동시에, 경화된 시트를 수지 층과 함께 지지체로부터 회수함을 포함하는, 에폭시 광학 시트의 연속적인 제조방법.
제3항에 있어서, 경화제가 산 무수물 화합물인 제조방법.
제3항에 있어서, 에폭시 수지 피복 용액이 소포제를 함유하는 제조방법.