TW476779B - Epoxy optical sheet and process for producing the same - Google Patents

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五、發明說明（1) 本七明係關於一種光學性質與抗埶 月’以及一絲斗四 、/、 '、、、注4異的環#與4c 發明背j種该環氧光學板片之高量產製法h…板 模*門中裒氧树脂所製之光學板片為將環氧杓t 28〇"；ir"1 #^-^r4〇i 代表"未審查之ί告日A此處所用之_' JP-r -詞 法很難製得―具有1 ^ ^ 。然而，此鑄造方 板片。 心或更小厚度且無任何光學應變之 在將環氧樹脂所萝 、 為5 00微米或更小時、 刀成片之方法中，當厚度 人又小k，會在切割击 田汁/又 果，亦很難藉此方法製得益 _中產生光學應變。結 具有500微米或更小厚声于^，:^光^應^之板片。因此儘管對 異抗熱性之環氧更光】學厚二之二^ 而且’上述方法受一缺點所工：有供應。 ，根據傳統樹Ϊ片:片之生產效率不佳。因此 筒之壓製方法、以τ模具或類似物種方—法如藉由使用滚 或樹脂溶液流至一支撐物上 土進仃之熔融擠製方法、 氧光學板片。 牙 之杰動鑄造方法，連續製造環 然而，該環氧樹脂涉及用作 脂以這些方法模製成片時，广^蜊。因此，當該環氧樹 或支樓物等上。結果，益法=2 =樹脂會黏在滚筒、模具 #、 ^二易7刀離與回收模製後的板片 476779 發明說明（2) ，導致板片在分離時破裂。此外，產生另一個問題，即如 此製得之板片报可能具有不均勻的表面，因而無法達到光 學板片要求之所需表面平滑度。 發明概述 因此，本發明之一 厚度、優異厚度準確 片0 目的為提供一種具有5 〇 〇微米或更小 性、小阻滯與高抗熱性之環氧光學板 本么月之另 目的為提供一種以面效率製造該環氧光學 板片之方法。 本發明提供一種環氧光學板片，包括一含環氧樹脂之硬-化板片，及形成於其一側上之另一樹脂層，其中該板片具 有5奈米或更小之阻滯、500微米或更小之平均厚度、土、 10%或更小之厚度準確性、170。C或以上之玻璃轉&化溢— 度、以及一平滑表面。 本發明進一步提供一種用以連續製造一環氧光學板片之 方法，包括在一具有平滑表面之支撐物上不中斷地形成一， 可剝除之樹脂層；在該樹脂層上不中斷地拓開一包含環 樹脂、硬化劑、硬化加速劑與均化劑之環氧樹脂塗I ’使成板片形式’接著進行硬化處理，藉以形成一魏 該樹脂層之硬化板片；以及同時，自該支撐物處將該、 瞻 板片與該樹脂層一起回收。 簡單圖式說明 此圖1為一顯示本發明製法之視圖，其中丨為—無 皮帶（支撐物），31為一樹脂層，61為一拓開後之^氧樹脂

五、發明說明（3) __ 塗佈液層，7為一硬化褽置 氧光學板片。 Z為一硬化板片，而8為—環 ^發明之詳細jgj 根據本發明之製法，該且 片可與該支撐物分離而加：：剝：樹脂層之環氧光學板 條件可透過該樹脂層適當地 盥，=，該支撐物之表面 面等優異光學性質之板片可二二二=°，果，具有如鏡 的步驟加以生產。同時，旦^ :'地藉由一系列方便 支樓物為媒介之拓展層之移可藉由調節以該 板片之厚度可藉由調節該塗佈、容、夜】^控制。而且’該 而輕易控制。S此，可得到Ϊ 之移動速率與拓展情形 ίίΓ:ΐ阻滯與優異抗熱性之環氧光學板片 本^月之J衣氧光學板片包括一含環氣抖g/ 米側上之另一樹脂層，…板片具有5奈 小之厚产準、5 0 0微米或更小之平均厚度、土1()%或更 及17(^或以上之玻璃轉化溫度，且 平滑的表面。圖1顯示該板片製法之一實例， ”甲8為一環氧光學板片，3 1 Α 一 脂之硬化板片。 樹知層，62為一裱氧樹 勹=據本發明用以製造一環氧光學板片之方法，舉例而言 匕士 t一具有平滑表面之支撐物上不中斷地形成一可剝除 =树2層；在該樹脂層上不中斷地拓開一包含環氧樹脂、 硬化劑、硬化加速劑與均化劑之環氧樹脂塗佈液，使之呈 幵y式 接者進行硬化處理，藉以形成一黏著至該樹脂

476779 五、發明說明（4) 1之硬化板片；同時，自該支撐物處將該硬化板片與該樹 2 ί = 2回收。根據此方法，可以高速大量生產連續製造 ，氧光學板片。該圖顯示以上述方法所進行生產步驟之一 實例。在此方法中，以流動鑄造法進行連續生產。透過一 驅動鼓輪1 1與一偶合之驅動鼓輪〗2以一特定之速度（例如 〇· 1、至10公尺/分鐘，較佳〇· 2至5公尺/分鐘）驅動包括一具 有光⑺表面之無端點皮帶1之支撐物。在此操作期間，透 過一模具2將一樹脂溶液3連續供應至該支撐物，經乾燥並 視情況加熱或照光使其硬化，以得到一膜31。纟此圖中設 置一紫外光輻射器4。 士在如上述般使該樹脂層不中斷地形成於該支撐物上的同 盼，透過一模具5將一環氧樹脂塗佈液6連續加至該樹脂層 上，並拓展成板片狀形式。然後利用加熱或照光型式之^ ，硬化裝置7使該拓展層6 1硬化。如此連續形成黏著至該 祕脂層3 1上之硬化板片62，同時與該樹脂層3〗一起盥 物1分開，而連續製得環氧光學板片8。 〃 ^ ^從預防破裂等的觀點看來，較佳在超過玻璃轉化溫户 兩溫氣氛下自該支撐物處回收該環氧光學板片。因此^ 佳於該環氧樹脂之硬化已進行約7 〇 %或以上之程度且乂 脂已經硬化之後進行回收，如此不致於在高溫氣又氛中7二 在熱硬化之例中之硬化溫度下或在玻璃轉化溫度附 致塑性形變，而可避免如上述之破裂或變形。 導 在自該支撐物處回收該環氧光學板片中，若 用-適當之剝除裝置。若有需要，可利用雷射光：、超$ m 第10頁 五、發明說明（5) 波切割器、 學板片切割 在上述方 帶之皮帶類 不中斷地連 板片形式即 受該環氧樹 5有如不銹 從耐久性等 從厚度準 可能平滑。 下之支撐物 形成該樹脂 表面儘可能 小厚度準確 小塊切割器 成適當大小 法中，可使 、一板子或 續於其上拓 可。該支撐 脂之硬化處 鋼、銅及鋁 等觀點而言 確性之改良 例如，可利 製得具有鏡 層或該硬化 維持水平。 性之環氧光 或水噴柱將 的片狀，接 用一適合的 一鼓輪，只 開，且可支 物可由任何 理即可。因 專金屬、破 以不銹鋼為 專觀點而言 用表面粗韃 面表面之環 板片之課題 如此，可輕 學板片。 如此形 著回收 支撐物 要該環 持該拓 材質製此，較 璃、以 佳。 較佳使 度（Ra) 氧光學上，較 易製得 成之連續環氧光 〇 ，如一無端點皮 乳樹脂塗佈液可 展層並使其維持 造，只要其可承 佳之實例舉例而 及塑膠。其中， 支撐物的表面儘 在0 · 0 2微米或以 板片。因此，在 佳使該支樓物之 具有土 1 0%或更 鴦 =不中斷地於該支撐物上形成該樹脂層，彳不加限制 任何適合的可剝除透明樹脂，只要該樹脂決不會或 、乎黏在該支撐物上，並可輕易地自其上剝除即可。 此 Y爿曰之貫例包括脲酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、 聚乙燦醇樹脂（例如聚乙烯醇/乙烯乙烯醇共聚物）、氣乙

烯樹脂、以及二氯乙烯樹脂。 為了形成該樹脂層，亦可使用聚丙烯酸樹脂、现樹脂、 酿胺樹脂、醯亞胺樹脂、聚醚视樹脂、聚醚醯亞胺樹脂、 聚碳酸酿樹脂、矽酮樹脂、氟樹脂、聚烯烴樹脂、苯乙烯 476779 五、發明說明（6) 樹脂、乙烯呲咯酮樹脂、纖 可於該樹脂層之形成中使用兩種或以上脂等。亦 混合物。 飞以上適合之透明樹脂之 與以上所形成之該板片一起被剝除且 η & 片一侧之表面層之該樹脂層較 且里二％氧光學板 如透明性。將這些光學特性=二有優異光學特性者， 撐物）等列入考慮時，較佳使脲(特別是對不銹支 層。 佳使用脲@曰树月曰以形成該樹脂 声如亡二述，t該樹脂層作為該環氧光學板片之表面塗覆 曰攸硯點，该樹脂層之材質可經選擇以賦予哕板片各 ::能低：：：學抗性、表面硬度、光學各=^ ^生低透濕性、以及氣體阻隔性f，如低透氧性。因 此’該樹脂層可具有單層結構或層合結構，其中，例如在 二目的為賦予可剝除性之脲酯樹脂層上形成一目的為賦予 氣體阻隔性質之聚乙烯醇樹脂層。 該樹脂層之形成舉例而言可視情況將該樹脂溶於適合的 溶劑（有機溶劑、水等）中，將所得溶液以適當方式（滾軋 塗佈（roll coating)、鋼條塗佈（wire bar c〇ating)、擠 壓塗佈（extrusion coating)、簾幕式塗佈（curtain coating)、喷霧塗佈（Spray c〇ating)等）加至該支撐物的 特定側’若有必要，使其乾燥，然後視樹脂而定，以適合 的方法（加熱、照光等）使其硬化。 在以上塗佈方法之使用中，較佳將該樹脂溶液之黏度調 整至1至1 0 0宅泊，以達成均勻的塗佈。當以上述流動鑄造

第12頁 476779 五、發明說明（7) _ 方法將該樹脂溶液加至該無端點皮帶處 觀點而言，較佳者為擠壓塗佈方法。 了 f效率等 樹脂溶液之黏度調整至丨至丨0毫泊。 | ，較佳將該 覆層欲藉照光硬化時，較佳使毛二 254/" - " ^ ^ ^, Λ Λ ^ ^ 。此形成之该樹脂層之厚度可適當加以 高可剝除性並避免在剝除步驟中破裂二^ 了達到 通常為1至1〇微米，較佳8微米或以下，==位1的厚度 為了製備欲拓展至該樹脂層上德至5微米。 用-環氧樹脂、一硬化劑、一硬塗佈液，至少使 =="旨不需特別限制，例如視所；：=二 用途而加以適當選擇。 丁衣承^尤學板片之 該，氧樹脂之實例包括雙盼樹脂（雙 專，母一個均視情況氫化）、 雙酚F、雙酚s =樹脂等）、含氮環形樹脂（異氰尿酸曰r(㈣樹脂、甲紛 ^)、脂環族樹月旨、脂肪族樹月旨:ϋ丙醋、乙内酿 2内醚樹脂、低吸水性樹脂 無树脂（萘等）、 =之觀點而言，較佳使用例含月性等光學 者）且幾乎無顏色變化之脂環 ，、和雙鍵（如苯環 言，以所得光學板片之機以=環氧樹脂。 :以f :較佳使用具有10。至1，。〇〇之if氧:V強度等） 下軟化點之環氧樹脂。而且， =虱虽$與120它 、，先，其在塗佈溫度或以τ，特別是二3兩部分液體系 __ ’皿卜為一液體形式， 第13頁 /0/79 五、發明說明（8) —__ 二，到可塗佈性與拓 〜 —-^— 、氧樹脂可單獨使=成板特性優異之環氧樹 ，化劑亦不受兩種或以上之混合物液 之此合物均可使用 ^彳。一種硬化劑或其兩種或 ，有機酸化合物（四\§亥&氧樹甲脂其而定。言亥硬化劑之實;： 酉夂、甲基六氳酞酸等）、-夂、甲基四氫酞酸、六氫酞 二亞乙基三胺、三亞乙其及f化合物（乙二胺、丙二胺、 胺、二胺基二苯基甲俨土四胺、其胺加成物、甲基苯二 該硬化劑之JL它實二：胺基二苯基碰等）。 月女荨）、醯肼化合物（二醯 U g ^ 一 聚醯 。坐十乙基+甲基咪：、肼乙4其)及咪哇化合物(甲基味 -甲基味峻、苯基味。坐、十一烧基味 二 唑、2〜苯基-4-甲基咪唑等）。 丁七烷基咪 該硬化劑又有其它實例包括味唾琳化合物（甲基咪嗤 2〜乙基-4-甲基咪唑啉、乙基咪唑啉、異丙基咪唑 、2 ，4—二甲基咪唑啉、苯基咪唑啉、十一烷基咪唑 啉、十七烷基咪唑啉、2-苯基-4-甲基咪唑啉等）、酚化合 物、尿素化合物、以及多硫化化合物。 此外，酸酐等可用作該硬化劑。那些酸酐因其低刺激性 所致之工作環境、因其在抗熱性上之改善所致之所得板片 之耐高溫性、以及避免褪色等立足點看來，較佳被使用。 那些酸酐之實例包括酞酸酐、順丁烯二酸酐、偏苯酸酸 酐、笨均四酸酐、那狄克酸酐（nadic anhydride)、戊二 酸酐、四氫欧酸酐、甲基四氫醜酸酐、六氫欧酸酐、甲基

476779 五、發明說明（9) =氫酞酸酐、曱基那狄克酸酐、亞十二烷基丁二酸酐、 氯丁二酸酐、二苯甲酮四羧酸酐、以及六氯内 ： 酞酸酐。 ^四氧 當然，車Η圭使用分子量約14〇至約2〇〇之無色或淡 酐硬化劑，如酞酸酐、目氫酞酸酐、六氫酞酸酐、或 六氫酞酸酐。 X T基 β :加入之該硬化劑之量視其型式、該環氧樹脂之環 直專而適當加以決定。換言 <，該量係根據環氧樹脂：： 般硬化情形而決I在酸酐硬化劑之例中，從所得板 色凋與避免抗濕性減弱方面而言，舉例來說，以每〜^ 基§里0. 5至1. 5當量之比例，較佳〇. 6至丨.4當量，更氣 〇. 7至1. 2當量加以使用。即使該硬化劑係單獨使用= 種或以上一起使用，其量亦根據以上的當量比率。"兩 類似地，該硬化加速劑亦不受特別限制。例如，使用，座 自三級胺、咪唑、四級銨鹽、有機金屬鹽、磷化合物= 合！中之一或多種適合者’視所使用之環氧樹脂與 更化剑而疋。该硬化加速劑之使用可加快硬化速度， 縮短硬化時間。結果，比起不使用硬化加速劑之例，^ 撐物之長度可縮短數倍。因此，欲加入之硬化加速= 視加速效果等而定。一般而言，從避免褪色等方面觀之， 所加入之硬化加速劑量為每丨〇〇份重量環氧樹脂中〇. Μ至7 份重量’較佳〇· i至5份重量，更佳〇. 2至3份重量。 該均化劑係加入以避免於硬化該環氧樹脂塗佈液之拓展 層之步驟中，當與空氣接觸的同時，因硬化劑等之散播所 第15頁 476779

五、發明說明（11) ，10%或更小之厚度準確性。 度“及最小值據 疋，其係籍由在寬度方向上以規-^s之差值而 6〇毫米的間隔測量該板片上1〇 U $長度方向上以 從避免在應用至液晶單元等度而得之。 點而言，該環氧光學板片顯示出雙;而導致染色之觀 阻滞性可以-雙折射測量裝二“或更小之阻滞。該 液用於多種光學9的，例如 異，該環氧光學板片尤佳；：；求==表 強⑨、小阻滞性以及重量輕之光學目的上，；如液 本發明將參考以 並非以限制於如下 則所有份數、百分tm 下實例加以更詳細 之方式建構本發明 比、比率等等均以 說明，但應了解者為 。除非另外指出，否 重量表示。. 在攪拌下使100份3 ，4-環氧環己基甲基—3，4—環氧環 己烧羧酸酯、125份甲基六氫酞酸酐、3.75份〇,〇-二乙基 石粦二硫代酸四正丁基磷、2· 25份甘油、以及〇· 07份矽類f界 面活性劑（均化劑，由Kusumoto Kase i K. K.公司所製造之 Disparon LS-0 0 9 )混合，並使所得混合物於49t下熟化9〇 分鐘而製得一環氧樹脂塗佈液。 以圖1中所顯示之流動鑄造方法將一脲酯UV可硬化樹脂 (由 Shin-Nakamura Kagaku Κ· K·公司所製造之NK 01 igo 476779 五、發明說明（12) '—"一" " ----- 卯-〇1)於甲苯中之17 wt%溶液自一模具中排出，並加至 一以特定速度（0.2米/分鐘）旋轉驅動之無端點皮帶上。在 甲笨蒸發之後，以uv照光（中央波長：254 nm，光累積量· 2,〇〇〇 mJ/cmO使樹脂硬化，藉以形成一寬 度2微米之脲酯樹脂層。 毛卞与 接著，以100克/分鐘之速率將以上之環氧樹脂塗佈液加 至該硬化後之脲酯樹脂層上，並拓開成板片，同時繼續以 上步驟。該拓展層透過一加熱器於丨2 〇。〇下加熱3 〇分鐘而 更化在调整至1 5 0 C之偶合驅動鼓輪上，該硬化板片與 黏著至其上之該脲酯樹脂層一起與該無端點皮帶分離並回 收。然後將如此回收之板片以流動方向上4 9〇毫米之間隔 切割成片，藉以連續製得具有490毫米寬度與400微米平均 厚度之環氧光學板片，其具有土 4〇微米或更小之厚度準確 性、5奈米或更小之阻滞性、以及丨7〇艺或以上之玻璃轉化 溫度。 實例2

遵循實例1，但使用氟界面活性劑由（D a i n i ρ ρ 〇 η墨料與 化學品公司所製造之Defenser MCF-32 3 )取代該矽S同界面 活性劑’藉以連續製得4〇〇微米平均厚度之環氧光學板 片，其具有土 4 0微米或更小之厚度準確性、5奈米或更小 之阻滯性、以及1 7〇它或以上之玻璃轉化溫度。 實例3 遵循實例1，但使用丙稀酸界面活性劑（由Ku sumo to Kasei Κ·Κ·公司所製造之Disparon L-1980)取代該石夕酮界

第18頁 476779 五 發明說明（13) 面活性劑，藉以連續製得4 '' ~ 片，其具有±40微米或更小之厚、千二厚度之環氧光學板 _ 次以上之玻璃轉化溫度。飞更小 遵循實例1，但以7 5房/八妙 、 液，藉以連續製得30。微米刀平里均之速率排，^ 具有±3〇微米或更小之厚度準確性=學板片’其 性、以及17〇°C或以上之玻璃轉化溫度 或更小之阻滞 选較例1 遵循貫例1，❻不加人♦ _界面活 出紊亂的表面，無法用作光學板片。 所侍板片顯示 比較例2 遵循貫例1，但於1 20它下以丨5分鐘硬化該 之^層、1得之環氧光學板片具有低於17^之=佈隸夜 2溫度。當該板片在液晶顯示裝置之建構中用作一押― 質時，會因其抗熱性不足而變成彎曲。 早兀土 本發明已參考特定實例加以詳細說明，然而熟 之人士將明顯得知，在其中所做之各種變： 精神與範圍。 /、U飾不脫其

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Claims (1)

1. 4/0// 六 屮靖專利範固· —— 1· ，及形11光學板片’包括—含環氧樹脂之硬化板片 半侧上之另—樹脂層1中該板片具有5奈 ίϊΐΐΐ卩且滞、500微米或更小之平均厚度、±10%或更 j ί ^確性、以及17 0 °c或以上之玻璃轉化溫度，且 5亥板片具有平滑的表面。 樹2脂利範圍第1項之環氧光學板片’其中該環氧 具3有平Ϊ =以連續製造一環氧光學板片之方法，包括在一 i ·在节面之支撐物上不中斷地形成一可剝除之樹脂 ;’、硬 1匕？旨層上不中斷地括開-包含環氧樹脂、硬化 式’接著^^劑與=化劑之環氧樹脂塗佈液，使成板片形 化板片同，硬化處理，藉以形成-黏著至該樹脂層之硬 起回收，。°守，自5亥支撐物處將該硬化板片與該樹脂層一 匕中請專利範圍第3項之製造方法 酸酐化合物。 /又⑴W馮 .二t°!;專利範圍第3項之製造方法，，中該環氧樹脂 塗佈液包含一防泡劑。 π細