KR102558613B1 - 중간 전사 매체, 기록 매체, 가식 시트의 제조 방법, 가식 시트, 가식품의 제조 방법, 및 가식품 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광택감이 있는 화상을 간편하게 형성 가능한 중간 전사 매체, 기록 매체, 가식 시트 및 가식품을 제공하는 것이다: (1) 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 박리 가능하게 설치된 전사부를 포함하는 중간 전사 매체에 있어서, 상기 전사부는, 적어도, 상기 기재와는 반대측의 최표면에 위치하고, 화상이 형성되는 화상 형성층과, 상기 화상 형성층보다도 기재측에 위치하는 광택층을 포함하는 적층 구조로 하고, 또한, 상기 전사부의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율을 40% 이하로 한다. (2) 기재, 광택층 및 화상이 형성되는 화상 형성층이 이 순서로 적층되어 있고, 그 전체의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하인 기록 매체. (3) 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 설치된 가식부를 포함하는 가식 시트로서, 상기 가식부는, 적어도, 화상이 형성된 화상층과, 광택층을 포함하는 적층 구조를 가지며, 또한, 상기 가식 시트의 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하인 가식 시트. (4) 상기 (1)∼(3)를 사용한 가식품.

Description

중간 전사 매체, 기록 매체, 가식 시트의 제조 방법, 가식 시트, 가식품의 제조 방법, 및 가식품
본 개시는, 중간 전사 매체, 기록 매체, 가식 시트의 제조 방법, 가식 시트, 가식품(加飾品)의 제조 방법 및 가식품에 관한 것이다.
열전사 화상을 갖는 인화물을 제조하는 수단으로서, 색재층을 구비한 열전사 시트와, 수용층을 구비한 열전사 수상 시트를 조합하고, 열전사 시트에 에너지를 인가하여 열전사 수상 시트의 수용층에 열전사 화상을 형성하는 열전사 방법이 알려져 있다. 또한, 열전사 수상 시트의 수용층에 화상이 형성된 인화물이 아니라, 임의의 피전사체에 열전사 화상을 형성하는 경우에는, 화상 형성층을 포함하는 전사부를 구비하는 중간 전사 매체를 이용하고, 이 중간 전사 매체의 화상 형성층에 일단 화상을 형성하여 화상층으로 하고, 이 화상층을 포함하는 전사부를 피전사체에 전사함으로써, 피전사체에 화상을 형성하는 방법도 제안되어 있다.
특허문헌 1 : 일본특허공개 소62-238791호 공보
최근, 인화물의 다양화에 따라, 유리 등으로 대표되는 투명한 피전사체에 화상을 형성하여 가식하는 것이 행해지고 있지만, 아직 개발도상이다. 특히 투명한 피전사체에 광택감이 있는 화상을 형성하는 경우에 있어서는, 인쇄 공정이 번잡해져 개량의 여지가 있었다.
본 개시는, 광택감이 있는 화상을 간편하게 형성 가능하고, 투명한 피전사체에도 사용 가능한 중간 전사 매체, 기록 매체, 가식 시트의 제조 방법, 가식 시트, 가식품의 제조 방법 및 가식품을 제공하는 것을 주요 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 개시의 중간 전사 매체는, 적어도, 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 박리 가능하게 설치된 전사부를 포함하는 중간 전사 매체로서, 상기 전사부는, 적어도, 상기 기재와는 반대측의 최표면에 위치하고, 화상이 형성되는 화상 형성층과, 상기 화상 형성층보다도 기재측에 위치하는 광택층을 포함하는 적층 구조를 가지며, 또한, 상기 전사부의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하이다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 개시의 기록 매체는, 적어도, 기재, 광택층 및 화상이 형성되는 화상 형성층이 이 순서로 적층되어 있고, 그 전체의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하이다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 개시의 가식 시트의 제조 방법은, 본 개시의 중간 전사 매체에서의 화상 형성층에 화상을 형성하는 화상 형성 공정을 포함한다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 개시의 가식 시트의 제조 방법은, 본 개시의 기록 매체에서의 화상 형성층에 화상을 형성하는 화상 형성 공정을 포함한다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 개시의 가식 시트는, 적어도, 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 박리 가능하게 설치된 가식부를 포함하는 가식 시트로서, 상기 가식부는, 적어도, 화상이 형성된 화상층과, 광택층을 포함하는 적층 구조를 가지며, 또한, 상기 가식부의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하이다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 개시의 가식 시트는, 적어도, 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 설치된 가식부를 포함하는 가식 시트로서, 상기 가식부는, 적어도, 화상이 형성된 화상층과, 광택층을 포함하는 적층 구조를 가지며, 또한, 상기 가식 시트의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하이다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 개시의 가식품의 제조 방법은, 피전사체와, 본 개시의 가식 시트를 일체화시키는 일체화 공정을 포함한다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 개시의 가식품는, 본 개시의 가식 시트와 일체화되어 있다.
본 개시의 중간 전사 매체, 기록 매체, 가식 시트의 제조 방법, 가식 시트, 가식품의 제조 방법 및 가식품에 의하면, 예를 들면 투명한 피전사체에 대해서도, 광택감이 있는 화상을 간편하게 온디멘드로 형성할 수 있다.
도 1은 본 개시의 제1 실시형태에 관한 중간 전사 매체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 2는 본 개시의 제2 실시형태에 관한 중간 전사 매체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 3은 본 개시의 제3 실시형태에 관한 가식 시트의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 4는 본 개시의 제4 실시형태에 관한 가식 시트의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 5는 본 개시의 제5 실시형태에 관한 가식 시트의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 6은 본 개시의 제6 실시형태에 관한 가식품의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
이하, 본 개시의 실시형태에 관해 도면을 참조하면서 설명한다. 또, 본 개시는 다양한 양태로 실시하는 것이 가능하며, 이하에 예시하는 실시형태의 기재 내용에 한정하여 해석되는 것이 아니다. 또한, 도면은 설명을 보다 명확하게 하기 위해, 실제 양태에 비교하여, 각 층의 두께, 형상 등에 관해 모식적으로 표시되는 경우가 있지만, 어디까지나 일례이며, 본 개시의 해석을 한정하는 것은 아니다. 또한, 본원 명세서와 각 도면에서, 기출 도면에 관해 전술한 것과 동일한 요소에는 동일의 부호를 붙이고, 상세한 설명을 적절하게 생략하는 경우가 있다.
(1) 중간 전사 매체
이하, 본 개시의 실시형태에 관한 중간 전사 매체에 관해 설명한다.
도 1은, 본 개시의 제1 실시형태에 관한 중간 전사 매체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 1에 도시하는 바와 같이, 본 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)는, 기재(10)와, 이 기재(10)의 한쪽 면(도 1에서는 상면)에 박리 가능하게 설치된 전사부(20)를 포함하고 있다. 그리고, 전사부(20)는, 기재(10)와는 반대측의 최표면(도 1에서는 최상면)에 위치하고, 화상이 형성되는 화상 형성층(21)과, 이 화상 형성층(21)보다도 기재(10)측(도 1에서는 화상 형성층(21)의 하측)에 위치하는 광택층(22)을 포함하는 적층 구조를 갖고 있다. 그리고 또한, 본 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)를 구성하는 전사부(20)의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하인 것에 특징을 갖고 있다.
본 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)에 의하면, 전사부(20)의 최표면에 위치하는 화상 형성층(21)에, 원하는 화상을, 예를 들면 온디멘드로 형성한 후에, 화상이 형성된 화상 형성층(21)과 광택층(22)을 포함하는 전사부(20) 전체를 피전사체에 전사함으로써, 광택감을 갖는 원하는 화상을 피전사체에 간편하게 형성할 수 있다.
이하에 본 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)의 각 구성에 관해 설명한다.
·기재
기재(10)는, 그 위에 설치되는 전사부(20)나 그 밖의 각종 기능을 갖는 층을 지지한다. 따라서, 이 기능을 갖는 것이라면 특별히 한정되지는 않고, 종래의 중간 전사 매체에 있어서 이용되고 있는 기재에서 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 구체적으로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리페닐렌술파이드, 폴리에테르케톤 혹은 폴리에테르술폰 등의 내열성이 높은 폴리에스테르, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 아세트산셀룰로오스, 폴리에틸렌 유도체, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리스티렌, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리메틸펜텐 또는 아이오노머 등의 플라스틱의 연신 또는 미연신 필름을 예시할 수 있다. 또한, 이들 재료를 2종 이상 적층한 복합 필름도 사용할 수도 있다.
기재(10)의 두께는, 그의 강도 및 내열성 등이 적절해지도록 재료에 따라 적절하게 선택할 수 있지만, 통상은 1 μm 이상 100 μm 이하가 바람직하다.
·전사부
본 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)는, 상기 기재(10) 상에, 광택층(22)과 화상 형성층(21)의 적층 구조를 갖는 전사부(20)가 설치되어 있고, 이 전사부(20) 전체의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하인 것에 특징을 갖고 있다. 최종적으로 피전사체에 전사되는 전사부(20) 전체의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율을 40% 이하로 하는 것에 의해, 화상 형성층(21)에 형성된 화상에 대한 피전사체의 바탕 무늬의 영향이나 외광의 영향을 억제할 수 있어, 광택층(22)이 원래 갖는 광택감이 저감되지 않고, 원하는 의장성을 피전사체에 부여할 수 있다. 이러한 관점에서, 전사부(20) 전체의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율은, 30% 이하가 바람직하고, 20% 이하가 보다 바람직하다.
여기서, 본 명세서에서의 「380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율」은, 자외가시 분광광도계(UV-3100 PC(주)시마즈 제작소)에 적분구 부속 장치(ISR-3100(주)시마즈 제작소)를 부착한 장치에 의해 측정한 값이다. 보다 구체적으로는, 피전사체로서 두께 5 mm의 투명 유리판(GB300 애즈원(주))을 준비하고, 이 피전사체 상에 중간 전사 매체(1)로부터 전사부(20)를 전사하고, 상기 전사부(20)가 전사된 피전사체를, 상기 장치의 시료 광다발측에 설치하고, 대조 광다발측에 블랭크로서, 상기 피전사체와 동일한 투명 유리판을 설치하여, 380 nm∼780 nm에서의 투과율을 측정했을 때의 최대치이다.
또, 본 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)에서의 전사부(20)는, 화상 형성층(21)과 광택층(22)을 포함하지만, 화상 형성층(21)은 투명한 경우도 많고, 그 경우에는, 광택층(22)의 투과율이 전사부(20) 전체의 투과율이라고 할 수 있다.
·화상 형성층
전사부(20)를 구성하는 화상 형성층(21)은, 최종적으로 피전사체에 부여하고자 하는 원하는 화상을 형성하기 위한 층이다. 따라서, 본 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)에서의 화상 형성층(21)은, 아직 화상이 형성되지 않은 상태이다. 또, 본 명세서에서는, 화상이 형성된 후의 화상 형성층(21)을 화상층이라고 부른다. 그리고, 상기와 같이, 화상 형성층(21)은 화상을 형성하기 위한 층이기 때문에, 전사부(20)에 있어서 기재(10)와는 반대측의 최표면에 위치하고 있다.
화상 형성층(21)에 관해서는, 여러가지 수단에 의해 원하는 화상을 형성 가능한 층이라면 특별히 한정되지는 않고, 화상을 형성하는 수단 등에 따라 적절하게 설계할 수 있다. 예를 들면, 승화형의 열전사 시트를 이용하여 화상을 형성하는 경우에는, 승화성 염료를 수용 가능한 수용층을 화상 형성층(21)으로 하면 된다. 한편, 열용융형의 열전사 시트를 이용하여 화상을 형성하는 경우에는, 열용융 잉크를 정착 가능한, 각종 종이나 각종 플라스틱 필름을 화상 형성층(21)으로 하면 된다. 또, 어느 경우든, 화상 형성층(21)의 하측에 위치하는 광택층(22)의 광택감을 화상에 반영시키기 위해서는, 화상 형성층(21)은 투명 또는 반투명인 것이 바람직하다.
화상 형성층(21)의 형성 방법에 관해서도 특별히 한정되지는 않고, 예를 들면 각종 수지 재료를 적당한 용매에 분산 혹은 용해한 화상 형성층용 도공액을 조제하고, 이 도공액을 후술하는 광택층(22) 상에 도포 건조시킴으로써 형성해도 좋다. 한편, 각종 수지 재료로 이루어진 시트를 각종 접착제를 이용하여 광택층(22) 상에 접착해도 좋다.
화상 형성층(21)의 두께는, 예를 들면 1 μm 이상 10 μm 이하이다.
·광택층
전사부(20)를 구성하는 광택층(22)은, 상기 화상 형성층(21)에 형성된 화상에 광택감을 부여하고, 전사부(20)가 전사된 피전사체에 광택감이 있는 가식을 하기 위한 층이다. 광택층(22)은, 전사부(20)에 있어서 상기 화상 형성층(21)보다도 기재(10)측에 위치하고 있다. 또한, 광택층(22)은, 상기에 설명한 바와 같이, 상기 광택층(22)을 포함하는 전사부(20) 전체의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하가 되는 투과율인 것이 필요하고, 화상 형성층(21)이 투명한 경우에는, 상기 광택층의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하인 것이 필요해진다.
광택층(22)으로는, 예를 들면, 금속 안료 함유층, 금속 증착층, 나아가는 펄 안료 함유층 등을 들 수 있다. 금속 안료 함유층을 구성하는 금속 안료의 재질로는, 알루미늄, 니켈, 주석, 크롬, 인듐 등을 들 수 있고, 이들 금속 안료를 함유시키는 수지로는, 비닐 수지나 폴리에스테르 등을 들 수 있다. 금속 증착층을 구성하는 금속으로는, 인듐이나 주석 등을 들 수 있다. 또한, 펄 안료 함유층을 구성하는 펄 안료의 원료로는, 산화티탄 피복 실리카, 운모 티탄, 산화철 피복 운모, 산화철 피복 운모 티탄, 감청 피복 운모 티탄, 감청-산화철 피복 운모 티탄, 산화크롬 피복 운모 티탄, 카민 피복 운모 티탄, 유기 안료 피복 운모 티탄, 산화티탄 피복 운모, 산화티탄 피복 합성 운모 등의 산화물 피복 운모; 산화티탄 피복 유리 분말, 산화철 피복 유리 분말 등의 산화물 피복 유리 분말; 산화티탄 피복 알루미늄 분말 등의 산화물 피복 금속 입자; 염기성 탄산납, 비산수소납, 산화염화비스무트 등의 비늘조각형 박편; 물고기 비늘 가루, 조개껍질 조각, 펄 조각 등을 들 수 있고, 이것을 함유시키는 수지로는, 비닐 수지나 폴리에스테르 등을 들 수 있다.
광택층(22)의 형성 방법에 관해서도 특별히 한정되지는 않고, 예를 들면 금속 안료 함유층이나 펄 안료 함유층의 경우에는, 각종 안료 및 각종 수지 재료를 적당한 용매에 분산 혹은 용해한 광택층용 도공액을 조제하고, 이 도공액을 기재(10) 상에 도포 건조시킴으로써 형성해도 좋다. 금속 증착층의 경우에는, 각종 증착법에 의해, 기재(10) 상에 각종 금속을 증착해도 좋다.
광택층(22)의 두께에 관해서는, 전사부(20) 전체의 가시광 투과율 등을 고려하면서 적절하게 설계 가능하지만, 금속 안료 함유층의 경우에는 0.1 μm 이상 10 μm 이하 정도가 바람직하고, 금속 증착층의 경우에는 10 nm 이상 500 nm 이하 정도가 바람직하고, 펄 안료 함유층의 경우에는 0.3 μm 이상 10 μm 이하 정도가 바람직하다.
도시는 하지 않지만, 광택층(22)은, 반드시 전체면에 연속하여 형성되어 있을 필요는 없고, 원하는 의장이나 화상 형성층(21)에 형성되는 화상에 따라, 불연속적으로, 즉 부분적으로 형성되어 있어도 좋다.
도 2는, 본 개시의 제2 실시형태에 관한 중간 전사 매체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 2에 도시하는 제2 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)는, 화상 형성층(21) 및 광택층(22)에 더하여, 은폐층(23) 및 박리층(24)이 전사부(20)에 포함되고 있다는 점에서, 도 1에 도시하는 제1 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)와 상이하다. 이와 같이, 본 개시의 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)에서의 전사부(20)는, 화상 형성층(21)과 광택층(22)만으로 구성할 필요는 없고, 도 2에 도시하는 바와 같이, 은폐층(23)이나 박리층(24)을 포함해도 좋고, 그 이외의 각종 기능층을 포함해도 좋다. 또, 화상 형성층(21) 및 광택층(22) 이외의 층이 포함되는 경우에도, 전사부(20) 전체의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율은 40% 이하인 것이 필요한다.
·은폐층
전사부(20)의 일부가 되는 은폐층(23)은, 전사부(20) 전체의 은폐성을 향상시키기 위한 층이다. 전사부(20)에서의 은폐층(23)의 위치에 관해서는 특별히 한정되지는 않지만, 화상 형성층(21)에 형성된 화상과 광택층(22)에 의해 원하는 의장성을 발휘시키기 때문에, 화상 형성층(21)과 광택층(22)의 사이에 은폐층이 위치하지는 않고, 따라서, 광택층(22)보다도 기재측에 위치하는 것이 필요해진다.
은폐층(23)으로는, 원하는 은폐성을 갖는 층이라면 특별히 한정되지는 않고, 예를 들면 수지와 착색제가 포함되어 있어도 좋다. 이 경우의 수지로는, 우레탄 수지, 폴리올레핀, 폴리염화비닐 혹은 폴리염화비닐리덴 등의 할로겐화 수지, 폴리아세트산비닐, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리비닐부티랄, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리아미드, 셀룰로오스 수지, 폴리카보네이트, 아크릴 수지 등을 들 수 있다. 또한, 착색제로는, 공지의 착색제, 예를 들면, 산화티탄, 산화아연, 카본 블랙, 블랙 다이아몬드, 티탄 블랙, 산화철, 철황, 군청 등을 들 수 있다.
·박리층
전사부(20)의 일부가 되는 박리층(24)은, 전사부(20)를 피전사체에 전사할 때에, 상기 전사부의 박리성을 향상시키기 위한 층이다. 따라서, 전사부(20)에서의 박리층(24)은, 도 2에 도시하는 바와 같이, 전사부(20)의 화상 형성층(21)과는 반대측의 표면, 즉 기재(10)와 접하는 면에 위치하는 것이 필요해진다.
박리층(24)으로는, 예를 들면, 왁스류, 실리콘 왁스, 실리콘 수지, 실리콘 변성 수지, 불소 수지, 불소 변성 수지, 폴리비닐알콜, 아크릴 수지, 열가교성 에폭시-아미노 수지 및 열가교성 알키드-아미노 수지 등을 함유하고 있어도 좋고, 이들 중의 1종의 수지를 단독으로 함유하고 있어도 좋고, 2종 이상의 수지를 함유하고 있어도 좋다.
박리층(24)은, 전사후에는 최표면에 위치하기 때문에 보호층으로서의 기능을 부여해도 좋다.
박리층(24)의 형성 방법에 관해서도 특별히 한정되지 않지만, 상기 수지를 적당한 용매에 분산 혹은 용해한 박리층용 도공액을 조제하고, 이 도공액을, 예를 들면 기재(10) 상에 도포·건조시켜 형성할 수 있다. 박리층(24)의 두께에 관해서도 특별히 한정되지 않지만, 0.5 μm 이상 5 μm 이하로 해도 좋다.
(2) 기록 매체
이하, 본 개시의 실시형태에 관한 기록 매체에 관해 설명한다.
본 개시의 실시형태에 관한 기록 매체는, 적어도, 기재, 광택층 및 화상이 형성되는 화상 형성층이 이 순서로 적층되어 있고, 그 전체의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하이다. 기록 매체를 구성하는 기재, 광택층 및 화상 형성층의 각각에 관해서는, 상기 중간 전사 매체(1)에서의 각각과 동일하므로 여기서의 설명은 생략한다. 본 개시의 실시형태에 관한 기록 매체는, 기재, 광택층 및 화상 형성층 이외의 층이 포함되어 있어도 좋다. 구체적으로는, 상기 중간 전사 매체(1)와 동일하다.
본 개시의 실시형태에 관한 기록 매체는, 화상 형성층에 화상이 형성됨으로써 가식 시트가 된다. 따라서, 광택층 및 화상 형성층은 기재로부터 박리 불가능하며, 그 상태 그대로 피전사체와 일체화된다는 점에서 상기 중간 전사 매체와 상이하지만, 그 작용 효과는 상기 중간 전사 매체(1)와 동일하다.
(3) 가식 시트
다음으로, 본 개시의 실시형태에 관한 가식 시트에 관해 설명한다.
도 3은, 본 개시의 제3 실시형태에 관한 가식 시트의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 3에 도시하는 바와 같이, 본 실시형태에 관한 가식 시트(2)는, 기재(10)와, 이 기재(10)의 한쪽 면(도 3에서는 상면)에 박리 가능하게 설치된 가식부(30)를 포함하고 있다. 그리고, 가식부(30)는, 화상이 형성된 화상층(31)과, 광택층(22)을 포함하는 적층 구조이다. 그리고 또한, 본 실시형태에 관한 가식 시트(2)를 구성하는 가식부(30)의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하인 것에 특징을 갖고 있다.
본 실시형태에 관한 가식 시트(2)에 의하면, 원하는 화상이 형성된 화상층(31)과 광택층(22)을 포함하는 가식부 전체를 피전사체에 전사함으로써, 피전사체에 광택감을 갖는 원하는 화상을 간편하게 형성할 수 있다.
여기서, 도 1과 도 3을 비교하면 알 수 있는 바와 같이, 본 실시형태에 관한 가식 시트(2)는, 도 1에 도시하는 제1 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)의 화상 형성층(21)에 화상이 형성됨으로써, 상기 화상 형성층(21)이 화상층(31)이 된 것이다. 따라서, 본 실시형태에 관한 가식 시트(2)를 구성하는 기재(10) 및 광택층(22)은, 제1 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)와 동일하므로 여기서의 설명은 생략한다.
·가식부
본 실시형태에 관한 가식 시트(2)를 구성하는 가식부(30)는, 광택층(22)과 화상층(31)의 적층 구조를 가지며, 가식부(30) 전체의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하인 것을 특징으로 하고 있다. 또, 본 실시형태에서의 가식부(30)는, 광택층(22)이 화상층(31)보다도 기재(10)측에 위치하고 있다. 상기 특징을 갖는 가식부(30)에 의하면, 가식부(30)를 피전사체에 전사했을 때에, 외광의 영향을 억제할 수 있고, 광택층(22)이 원래 갖는 광택감이 저감되지 않아, 원하는 의장성을 피전사체에 부여할 수 있다.
여기서, 가식부(30)의 「380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율」에 관해서는, 상기 중간 전사 매체(1)의 전사부(20)에서의 「380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율」과 동일하며, 시료 광다발측에 측정 대상인 가식 시트를 설치하여 측정할 수 있다.
·화상층
가식부(30)를 구성하는 화상층(31)은, 이미 화상이 형성되어 있는 층이다. 상기 화상층(31)은, 예를 들면 도 1에 도시하는 제1 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)에서의 화상 형성층(21)에 화상을 형성함으로써 얻어진다. 따라서, 중간 전사 매체에서의 화상 형성층(21)이 수용층인 경우에는, 승화형 열전사 시트를 이용하여 화상을 형성함으로써 얻어지는 한편, 열용융 잉크를 정착 가능한 층인 경우에는, 열용융형 열전사 시트를 이용하여 화상을 형성함으로써 얻어진다. 또, 화상층(31)은, 반드시 승화형 열전사 시트나 열용융형 열전사 시트를 이용하여 형성되어 있지 않아도 좋으며, 원하는 화상이 형성되어 있는 층이면 된다.
도 4는, 본 개시의 제4 실시형태에 관한 가식 시트의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
본 실시형태에 관한 가식 시트(2)는, 도 2에 도시하는 본 개시의 제2 실시형태에 관한 중간 전사 매체(1)의 화상 형성층(21)에 화상을 형성함으로써, 상기 화상 형성층(21)을 화상층(31)으로 한 것이다. 또, 본 실시형태에 관한 가식 시트(2)에서의 가식부(30)에 있어서도, 광택층(22)이 화상층(31)보다도 기재(10)측에 위치하고 있다. 본 실시형태에 관한 가식 시트(2)를 구성하는 각 층에 관해서는, 상기에서 설명했기 때문에 여기서의 설명은 생략한다.
도 5는, 본 개시의 제5 실시형태에 관한 가식 시트의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
본 실시형태에 관한 가식 시트(2)는, 도 4에 도시하는 본 개시의 제4 실시형태에 관한 가식 시트(2)에서의 가식부(30)의 표면(도 5에서는 상면)에 접착층(50)이 형성되어 있는 점에 특징을 갖고 있다. 이와 같이, 가식부(30)의 표면에 접착층(50)을 형성하는 것에 의해, 가식부(30)를 피전사체와 일체화할 때의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 특히, 가식부(30)를 구성하는 화상층(31) 자체에 밀착 성능이 없는 경우 및 밀착 성능이 낮은 경우에는 유효하다.
또, 본 실시형태에 관한 가식 시트(2)에서의 가식부(30)에 있어서도, 광택층(22)이 화상층(31)보다도 기재(10)측에 위치하고 있다. 또한, 본 실시형태에 관한 가식 시트(2)를 구성하는 각 층 중 접착층(50) 이외의 각 층에 관해서는, 상기에서 설명했기 때문에 여기서의 설명은 생략한다.
·접착층
본 실시형태에 관한 가식 시트(2)에서의 접착층(50)은 한정되지 않는다. 종래부터 가식 시트(2)의 가식부(30)를 피전사체에 접착·고정할 때에 이용되고 있는 각종 접착층을 적절하게 사용할 수 있다. 접착층(50)은, 접착성을 갖는 성분을 함유해도 좋다. 접착성을 갖는 성분으로는, 아크릴 수지, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 아세트산비닐 수지, 폴리에스테르, 에폭시 수지, 폴리이미드, 합성 고무 등을 예시할 수 있다. 접착층(50)은, 접착성을 갖는 성분으로서 복수의 성분을 함유해도 좋다. 접착층(50)은, 접착 필름이나 접착 시트이어도 좋다. 접착층(16)의 두께는, 1 μm 이상 1000 μm 이하가 바람직하다.
접착층(50)은 항상 점착성을 갖고 있는 소위 점착층이어도 좋다. 점착층의 성분은 특별히 한정되지 않는다. 점착층으로는, 예를 들면, 아크릴 수지, 비닐 수지, 폴리에스테르, 우레탄 수지, 폴리아미드, 에폭시 수지, 고무계 수지, 아이오노머 수지 등을 예시할 수 있다. 점착층의 두께에 관해서도 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 5 μm 이상 20 μm 이하가 일반적이고, 바람직하게는 8 μm 이상 10 μm 이하이다.
접착층(50)이 점착층인 경우에 있어서, 점착층의 형성 방법에 관해서도 특별히 한정되지는 않는다. 예를 들면, 상기 수지를 적당한 용매에 분산 혹은 용해한 점착층용 도공액을 조제하고, 이 도공액을, 가식부(30) 상에 도포·건조시켜 형성할 수 있다. 한편, 소위 마운트 필름이나 양면 테이프라고 부르고 있는 점착 시트를 가식부(30) 상에 접합함으로써 점착층으로 해도 좋다.
접착층(50)은, 열에 의해 점착성을 발현하는 소위 히트 시일층이어도 좋다. 히트 시일층에는, 피전사체와의 접착성이 양호한 재료를 이용하는 것이 바람직하고, 구체적으로는, 에틸셀룰로오스, 아세틸부틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리스티렌, 폴리α-메틸스티렌 등의 스티렌 공중합체, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸메타크릴레이트, 폴리에틸아크릴레이트 등의 아크릴 수지, 폴리염화비닐, 폴리아세트산비닐, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 폴리비닐부티랄 등의 비닐 수지, 폴리에스테르, 나일론 수지, 에폭시 수지, 폴리우레탄 등을 예시할 수 있다.
접착층(50)이 히트 시일층인 경우에 있어서, 히트 시일층의 형성 방법에 관해서도 특별히 한정되지는 않는다. 예를 들면, 상기 수지를 적당한 용매에 분산 혹은 용해한 히트 시일층용 도공액을 조제하고, 이 도공액을 가식부(30) 상에 도포·건조시켜 형성할 수 있다. 한편, 기재 상에 히트 시일층이 적층된 히트 시일층 전사 시트를 준비하고, 이 전사 시트를 이용하여 가식부(30) 상에 히트 시일층을 전사하여 형성해도 좋다. 히트 시일층의 두께도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 0.1 μm 이상 20 μm 이하가 바람직하다.
또, 접착층(50)은, 자외선 흡수제 및 자외선 산란제의 어느 한쪽 또는 양쪽을 포함해도 좋다. 자외선 흡수제나 자외선 산란제를 포함하는 것에 의해, 접착층(50)에 자외선 차단 성능을 부여할 수 있다.
자외선 흡수제나 자외선 산란제의 종류는 한정되지 않는다. 자외선 흡수재로는, 벤조트리아졸, 벤조페논, 히드록시페닐트리아진 등을 예시할 수 있다. 자외선 산란제로는, 산화티탄, 산화아연, 산화세륨 등을 예시할 수 있다. 이들 중에서도, 벤조트리아졸이 특히 바람직하다.
자외선 흡수제나 자외선 산란제의 함유량은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 접착층(50)의 질량에 대하여 0.1 질량% 이상 15 질량% 이하로 해도 좋고, 0.5 질량% 이상 10 질량% 이하가 바람직하다.
다음으로, 상기에서 설명한 본 개시의 실시형태에 관한 가식 시트의 변형예에 관해 설명한다.
·가식 시트의 변형예(1)
본 개시의 가식 시트에 있어서는, 가식 시트를 구성하는 기재의 일부 또는 전부가 분리 가능해도 좋다. 이것에 의해, 기재가 두꺼운 상태에서 가식 시트를 제조함과 더불어 가식 시트를 피전사체와 일체화할 때에는, 기재가 없는 상태 또는 기재가 얇은 상태로 할 수 있다. 기재를 분리 가능하게 하기 위한 구체적인 수단에 관해서는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 기재를 적층 구조로 하면서, 적층 구조를 구성하는 층간의 밀착력을 조정해도 좋고, 적층 구조를 구성하는 층에 표면 처리를 함으로써, 임의의 층간을 분리 계면으로 할 수 있다.
·가식 시트의 변형예(2)
본 개시의 가식 시트는, 적어도, 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 설치된 가식부를 포함하는 가식 시트로서, 상기 가식부는, 적어도, 화상이 형성된 화상층과, 광택층을 포함하는 적층 구조를 가지며, 또한, 상기 가식 시트의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하이어도 좋다. 상기에 설명한 가식 시트는, 가식부가 기재로부터 전사 가능하게 설치되어 있고, 이 가식부만을 피전사체에 전사하는 것을 전제로 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니며, 가식 시트 전체의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율을 40% 이하로 하는 것에 의해, 가식 시트 전체를 피전사체와 일체화하더라도 상기와 동일한 작용 효과를 발휘할 수 있다. 즉, 이 가식 시트는, 상기에 설명한 본 개시의 기록 매체에서의 화상 형성층에 화상이 형성된 것이라고 할 수 있다.
이 경우에도 가식 시트의 구성 자체는 상기에 설명한 여러가지 구성을 채용할 수 있다.
또한, 이 경우의 가식 시트와 피전사체의 일체화의 방법에 관해서도 특별히 한정되지는 않고, 상기에 설명한 각종 접착층이나, 마운트 필름이나 양면 테이프 등의 점착 시트를 사용할 수 있다.
가식 시트의 전체를 피전사체와 일체화할 때에는, 가식 시트에서의 기재측에서 피전사체와 일체화해도 좋고, 가식 시트에서의 가식부측에서 피전사체와 일체화해도 좋다.
가식 시트에서의 기재측에서 피전사체와 일체화하는 경우, 피전사체는 자유롭게 선택할 수 있다. 이 경우에 가식 시트의 가식부는 가식 시트측에서 인식된다.
한편, 가식 시트에서의 가식부측에서 피전사체와 일체화하는 경우, 피전사체로는 아크릴판, 아크릴 블록이나 유리 등 투명한 것이 선택된다. 이 경우에 가식 시트의 가식부는 투명한 피전사체측에서, 피전사체를 통해 인식되기 때문에, 가식부의 화상에 깊이감이나 광택감이 부여되어, 높은 의장성을 부여할 수 있다. 또, 본 개시에서 투명하다는 것은, 380 nm 이상 700 nm 이하의 파장광 영역에서의 평균 투과율이 50% 이상인 것을 의미한다.
(4) 가식품
다음으로, 본 개시의 실시형태에 관한 가식품에 관해 설명한다.
도 6은, 본 개시의 제6 실시형태에 관한 가식품의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 6에 도시하는 바와 같이, 가식품(3)은, 가식 대상이 되는 피전사체(70) 상에, 본 개시의 제5 실시형태에 관한 가식 시트(2)에서의 가식부(30)가 접착층(50)으로서의 히트 시일층을 통해 일체화되어 있다. 이 타입의 가식품(3)은, 화상층(31)이 광택층(22)보다 피전사체(70)측에 위치하기 때문에, 도면 중의 화살표로 나타내는 바와 같이, 피전사체(70)를 통해 화상층(31) 및 광택층(22)이 시인되게 된다. 따라서, 이 경우의 피전사체(70)는 투명한 것이 바람직하다. 이 가식품(3)에 의하면, 가식부(30)의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하이므로, 피전사체(70)와는 반대측으로부터 침입하는 외광에 영향을 받지 않고, 화상층(31)에 형성된 원하는 화상과 광택층(22)에 의한 광택감을 피전사체(70)측에서 시인할 수 있다.
피전사체(70)로는, 유리, 아크릴 수지, 폴리카보네이트, 폴리에스테르 등으로 이루어진 물품을 들 수 있다. 피전사체(70)가 유리 등 강도가 있는 재질인 경우에는, 화상 시인면의 내구성을 향상시킬 수 있다는 점에서 바람직하다.
(5) 가식 시트의 제조 방법
다음으로, 본 개시의 실시형태에 관한 가식 시트의 제조 방법에 관해 설명한다.
본 개시의 실시형태에 관한 가식 시트의 제조 방법은, 상기에 설명한 본 개시의 실시형태에 관한 중간 전사 매체에서의 화상 형성층에 화상을 형성하는 화상 형성 공정을 포함하는 것을 특징으로 하고 있다. 여기서 화상 형성층에 화상을 형성하는 방법에 관해서는 특별히 한정되지는 않고, 상기에 설명한 바와 같이 승화형의 열전사 시트나 열용융형의 열전사 시트를 이용해도 좋고, 그 밖의 화상 형성 방법을 이용해도 좋다. 그 중에서도, 원하는 의장의 재현성의 관점에서는 승화형 열전사 시트를 이용하는 것이 바람직하다.
(6) 가식품의 제조 방법
다음으로, 본 개시의 실시형태에 관한 가식품의 제조 방법에 관해 설명한다.
본 개시의 실시형태에 관한 가식품의 제조 방법은, 상기에 설명한 본 개시의 실시형태에 관한 가식 시트 또는 그의 변형예를 이용하여, 피전사체와 가식 시트를 일체화시키는 일체화 공정을 포함하는 것을 특징으로 하고 있다.
일체화 공정에 관해서는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 피전사체에서의 소정의 부위에 가식 시트의 가식부를 전사하는 전사 공정이어도 좋다. 한편, 피전사체에서의 소정의 부위에 가식 시트를 접합하는 공정이어도 좋은 전사 공정에 관해서는 특별히 한정되지는 않고, 종래 공지의 전사 공정을 채용 가능하다. 또한, 접합하는 공정에 관해서도 특별히 한정되지는 않고, 상기에 설명한 접착층, 마운트 필름, 양면 테이프 등을 이용하여 접합해도 좋다.
본 개시의 중간 전사 매체는, 적어도, 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 박리 가능하게 설치된 전사부를 포함하는 중간 전사 매체로서, 상기 전사부는, 적어도, 상기 기재와는 반대측의 최표면에 위치하고, 화상이 형성되는 화상 형성층과, 상기 화상 형성층보다도 기재측에 위치하는 광택층을 포함하는 적층 구조를 가지며, 또한, 상기 전사부의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하이며, 하기 (i)∼(v)의 하나 또는 복수를 만족시키고, 복수를 만족시키는 경우에는 하기 (i)∼(v)의 어느 것을 조합해도 좋다.
(i) 상기 전사부가 상기 기재에 가장 가깝게 위치하는 박리층을 포함한다.
(ii) 상기 전사부가 상기 광택층보다도 기재측에 위치하는 은폐층을 포함한다.
(iii) 상기 광택층이 금속 안료 함유층, 금속 증착층 및 펄 안료 함유층에서 선택되는 1 또는 2 이상이다.
(iv) 상기 광택층이 인듐 증착층 또는 주석 증착층이다.
(v) 상기 광택층이 불연속이다.
본 개시의 기록 매체는, 적어도, 기재, 광택층 및 화상이 형성되는 화상 형성층이 이 순서로 적층되어 있고, 그 전체의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하이며, 하기 (i)을 만족시켜도 좋다.
(i) 상기 기재의 일부 또는 전부가 분리 가능하다.
본 개시의 가식 시트의 제조 방법은, 본 개시의 중간 전사 매체에서의 화상 형성층에 화상을 형성하는 화상 형성 공정을 포함하며, 하기 (i)을 조합해도 좋다.
(i) 상기 화상 형성 공정이 승화형 열전사에 의한 화상 형성이다.
본 개시의 가식 시트의 제조 방법은, 본 개시의 기록 매체에서의 화상 형성층에 화상을 형성하는 화상 형성 공정을 포함하며, 하기 (i)을 조합해도 좋다.
(i) 상기 화상 형성 공정이 승화형 열전사에 의한 화상 형성이다.
본 개시의 가식 시트는, 적어도, 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 박리 가능하게 설치된 가식부를 포함하는 가식 시트로서, 상기 가식부는, 적어도, 화상이 형성된 화상층과, 광택층을 포함하는 적층 구조를 가지며, 또한, 상기 가식부의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하이거나, 또는 적어도, 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 설치된 가식부를 포함하는 가식 시트로서, 상기 가식부는, 적어도, 화상이 형성된 화상층과, 광택층을 포함하는 적층 구조를 가지며, 또한, 상기 가식 시트의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하이며, 하기 (i)∼(v)의 하나 또는 복수를 만족시키고, 복수를 만족시키는 경우에는 하기 (i)∼(v)의 어느 것을 조합해도 좋다.
(i) 상기 광택층이 상기 화상층보다도 기재측에 위치한다.
(ii) 상기 가식부의 상기 기재와는 반대측의 표면에 접착층이 위치한다.
(iii) 상기 접착층이 자외선 흡수제 및 자외선 산란제의 어느 한쪽 또는 양쪽을 포함한다.
(iv) 상기 접착층이 점착층 또는 히트 시일층이다.
(v) 상기 기재의 일부 또는 전부가 분리 가능하다.
본 개시의 가식품의 제조 방법은, 피전사체와, 본 개시의 가식 시트를 일체화시키는 일체화 공정을 포함하며, 하기 (i)∼(iii)의 하나 또는 복수를 만족시키고, 복수를 만족시키는 경우에는 하기 (i)∼(iii)의 어느 것을 조합해도 좋다.
(i) 상기 일체화 공정이, 피전사체에서의 소정의 부분에, 본 개시의 가식 시트에서의 가식부를 전사하는 전사 공정이다.
(ii) 상기 일체화 공정이, 피전사체에서의 소정의 부위에, 본 개시의 가식 시트를 접합하는 공정이다.
(iii) 상기 피전사체에서의 소정의 부분이 투명하다.
실시예
이하, 실시예와 비교예를 들어 본 개시의 실시형태에 관한 중간 전사 매체 및 가식 시트에 관해 설명한다. 또, 명세서 중의 「부」는 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다. 또, 고형분 비율의 기재가 있는 성분의 배합량은, 고형분으로 환산하기 전의 질량을 나타낸다.
(실시예 1)
기재로서, 두께 16 μm의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 준비했다.
이어서, 상기 기재 상에 하기 조성의 박리층용 도공액을 도포·건조시켜, 두께 1 μm의 박리층을 형성했다.
<박리층용 도공액>
·아크릴 수지 29부
(다이아날(등록상표) BR-873 미쯔비시 케미컬(주))
·폴리에스테르 1부
(바일론(등록상표) 200 도요보(주))
·메틸에틸케톤 35부
·톨루엔 35부
이어서, 상기 박리층 상에 진공 증착법에 의해 알루미늄을 증착하여, 두께 100 nm의 광택층(알루미늄 증착층)을 형성했다.
이어서, 상기 광택층 상에 하기 조성의 수용층용 도공액을 도포·건조시켜, 두께 2 μm의 화상 형성층(수용층)을 형성하여, 실시예 1의 중간 전사 매체를 얻었다.
<수용층용 도공액>
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 17.6부
(솔바인(등록상표) CNL 닛신 화학 공업(주))
·실리콘 오일 2.4부
(X-22-3000T 신에츠 화학 공업(주))
·메틸에틸케톤 40부
·톨루엔 40부
(실시예 2)
광택층(알루미늄 증착층)의 두께를 300 nm로 한 것 외에는 전부 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 중간 전사 매체를 얻었다.
(실시예 3)
기재로서, 두께 16 μm의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 준비했다.
이어서, 상기 기재 상에 상기 조성의 박리층용 도공액을 도포·건조시켜, 두께 1 μm의 박리층을 형성했다.
이어서, 상기 박리층 상에 하기 조성의 은폐층용 도공액을 도포·건조시켜, 두께 2 μm의 은폐층을 형성했다.
<은폐층용 도공액>
·카본 블랙 20부
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 20부
(솔바인(등록상표) CNL 닛신 화학 공업(주))
·메틸에틸케톤 30부
·톨루엔 30부
이어서, 상기 은폐층 상에 진공 증착법에 의해 알루미늄을 증착하여, 두께 100 nm의 광택층(알루미늄 증착층)을 형성했다.
이어서, 상기 광택층 상에 상기 조성의 수용층용 도공액을 도포·건조시켜, 두께 2 μm의 화상 형성층(수용층)을 형성하여, 실시예 3의 중간 전사 매체를 얻었다.
(실시예 4)
실시예 1의 광택층(알루미늄 증착층) 대신에, 주석을 진공 증착하여 두께 200 nm의 광택층(주석 증착층)을 형성한 것 외에는 전부 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 4의 중간 전사 매체를 얻었다.
(실시예 5)
실시예 1의 광택층(알루미늄 증착층) 대신에, 인듐을 진공 증착하여 두께 200 nm의 광택층(인듐 증착층)을 형성한 것 외에는 전부 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 5의 중간 전사 매체를 얻었다.
(실시예 6)
실시예 1의 광택층(알루미늄 증착층) 대신에, 하기 알루미늄 안료층용 도공액을 도포·건조시켜, 두께 2 μm의 광택층(알루미늄 안료층)을 형성한 것 외에는 전부 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 6의 중간 전사 매체를 얻었다.
<알루미늄 안료층용 도공액>
·알루미늄 안료 20부
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 20부
(솔바인(등록상표) CNL 닛신 화학 공업(주))
·메틸에틸케톤 30부
·톨루엔 30부
(실시예 7)
실시예 3의 광택층(알루미늄 증착층) 대신에, 상기 알루미늄 안료층용 도공액을 도포·건조시켜, 두께 2 μm의 광택층(알루미늄 안료층)을 형성한 것 외에는 전부 실시예 3과 동일하게 하여, 실시예 7의 중간 전사 매체를 얻었다.
(실시예 8)
실시예 3의 광택층(알루미늄 증착층) 대신에, 하기 펄 안료층용 도공액을 도포·건조시켜, 두께 4 μm의 광택층(펄 안료층)을 형성한 것 외에는 전부 실시예 3과 동일하게 하여, 실시예 8의 중간 전사 매체를 얻었다.
<펄 안료층용 도공액>
·실버펄 안료(입자 직경 : 5∼25 μm) 30부
(이리오딘(등록상표) 123 브라이트 러스터 새틴 머크(주))
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 10부
(솔바인(등록상표) CNL 닛신 화학 공업(주))
·메틸에틸케톤 30부
·톨루엔 30부
(실시예 9)
실시예 6의 광택층(알루미늄 증착층) 대신에, 하기 광휘 안료층용 도공액을 도포·건조시켜, 두께 2 μm의 광택층(광휘 안료층)을 형성하고, 은폐층으로서 실시예 6의 알루미늄 안료층용 도공액을 도포·건조시켜, 두께 2 μm의 은폐층을 형성한 것 외에는 전부 실시예 3과 동일하게 하여, 실시예 9의 중간 전사 매체를 얻었다.
<광휘 안료층용 도공액>
·광휘 안료(평균 입자 직경 : 18 μm 입자 두께 : 1 μm 은 피복 플레이크) 20부
(메타샤인(등록상표) ST1018PSR1 니혼 이타가라스(주))
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 20부
(솔바인(등록상표) CNL 닛신 화학 공업(주))
·메틸에틸케톤 30부
·톨루엔 30부
(실시예 10)
박리층을 형성하지 않은 것 외에는 전부 실시예 9와 동일하게 하여, 실시예 10의 기록 매체를 얻었다.
(비교예 1)
실시예 1의 광택층(알루미늄 증착층) 대신에 산화티탄을 진공 증착하여, 두께 50 nm의 고굴절율 투명층(산화티탄 증착층)을 형성한 것 외에는 전부 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예의 중간 전사 매체를 얻었다.
(투과율의 측정)
자외가시 분광광도계(UV-3100PC (주)시마즈 제작소)에 적분구 부속 장치(ISR-3100 (주)시마즈 제작소)를 부착한 장치를 이용하여, 실시예 및 비교예의 중간 전사 매체의 전사부의 380 nm∼780 nm에서의 투과율을 측정했다. 또한, 실시예의 기록 매체에 관해서는, 기록 매체 전체의 380 nm∼780 nm에서의 투과율을 측정했다. 구체적으로는, 피전사체로서 두께 5 mm의 투명 유리판(GB300 애즈원(주))을 준비하고, 이 피전사체 상에 실시예 및 비교예의 중간 전사 매체로부터 전사부를 전사하고, 상기 전사부가 전사된 피전사체를 상기 장치의 시료 광다발측에 설치하고, 대조 광다발측에 블랭크로서, 상기 피전사체와 동일한 투명 유리판을 설치하여, 380 nm∼780 nm에서의 투과율을 측정했다.
(화상층의 형성)
실시예 및 비교예의 중간 전사 매체 및 기록 매체와, 열전사 잉크 리본(승화형 프린터 DS620(다이니폰인쇄(주)) 전용의 잉크 리본)을 조합하고, 하기 프린터에 의해, 각 중간 전사 매체 및 기록 매체의 수용층 상에 그레이 화상(화상계조 : 128/256)을 형성했다.
<프린터>
서멀 헤드 : KEE-57-12GAN2-STA(교세라(주))
발열체 평균 저항치 : 3303(Ω)
주주사 방향 인자 밀도 : 300(dpi)
부주사 방향 인자 밀도 : 300(dpi)
라인 주기 : 3.0(msec./line)
인자 개시 온도 : 35(℃)
펄스 Duty비 : 85(%)
인화 전압 : 18.0(V)
(히트 시일층 전사 시트의 작성)
기재로서, 두께 5 μm의 이접착층 구비 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 이용하고, 이 기재의 이접착층측에, 하기 조성의 이형층용 도공액을, 건조시의 두께가 0.2 μm이 되도록 도포·건조시켜 이형층을 형성했다. 이어서, 이형층 상에, 하기 조성의 히트 시일층용 도공액을 건조시의 두께가 1 μm이 되도록 도포·건조시켜 히트 시일층을 형성함으로써, 기재 상에, 이형층, 히트 시일층이 이 순으로 형성된 히트 시일층 전사 시트를 얻었다.
<이형층용 도공액>
·폴리비닐알콜(PVA-110 (주)쿠라레) 10부
·물 70부
·이소프로필알콜 20부
<히트 시일층용 도공액>
·폴리에스테르(Tg : 60℃, Mn : 10000) 20부
(바일론(등록상표) GK250 도요보(주))
·메틸에틸케톤 40부
·톨루엔 40부
(가식 시트의 제조)
이어서, 상기 프린터를 이용하여, 55/255 계조(에너지 계조)의 에너지로, 실시예 및 비교예의 중간 전사 매체 및 기록 매체에서의 화상층 상에, 상기 히트 시일층 전사 시트의 히트 시일층을 전사함으로써 실시예 및 비교예의 가식 시트를 얻었다.
(가식품의 제조)
이어서, 피전사체로서 두께 5 mm의 투명 유리판(GB300 애즈원(주))을 준비하고, 그 한쪽 면 위에, 상기 실시예 및 비교예의 가식 시트에서의 가식부, 구체적으로는, 박리층과 은폐층과 광택층과 화상층으로 이루어진 적층 구조를 갖는 가식부를, 상기 히트 시일층을 통해 하기 전사 조건으로 전사함으로써, 실시예 및 비교예의 가식품을 얻었다. 또, 실시예 10은, 기재와 은폐층과 광택층과 화상층으로 이루어진 적층 구조를 갖는 가식 시트를, 상기 히트 시일층을 통해 일체화했다.
<전사 조건>
전사 장치 : 카드용 라미네이터(SIP사)
전사 온도 : 180℃
전사 속도 : 2 inch/sec.
(화상 선명성의 평가)
실시예의 가식품에 관해 각각 육안으로, 피전사체인 투명 유리판 너머로 화상이 어떻게 보이는지를 평가했다.
<평가 기준>
A···광택감, 고휘도감이 있다.
B···광택감, 고휘도감이 약간 떨어진다.
C···광택감, 고휘도감이 약간 떨어진다. 입상감이 있다.
NG···광택감, 고휘도감이 부족하다.
(백라이트 은폐성의 평가)
실시예 및 비교예의 가식품에 관해, 상기 가식품에서의 가식부측 표면으로부터 10 cm 떨어진 곳에 20 W 형광등을 설치한 뒤에, 각각 육안으로 피전사체인 투명 유리판 너머로 화상이 어떻게 보이는지를 평가했다.
<평가 기준>
A···형광등의 광을 거의 통과시키지 않고, 화상이 선명하다.
B···형광등의 광을 조금 통과시키지만, 화상은 인식할 수 있다.
NG···투과하는 형광등의 광에 의해 화상을 인식하기 어렵다.
화상 선명성 및 백라이트 은폐성의 평가 결과를 이하의 표 1에 나타낸다.
[표 1]
Figure 112021073699090-pct00001
1 : 중간 전사 매체
2 : 가식 시트
3 : 가식품
10 : 기재
20 : 전사부
21 : 화상 형성층
22 : 광택층
23 : 은폐층
24 : 박리층
30 : 가식부
31 : 화상층
50 : 접착층(히트 시일층)
70 : 피전사체

Claims (24)

  1. 적어도, 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 박리 가능하게 설치된 전사부를 포함하는 중간 전사 매체로서,
    상기 전사부는, 적어도, 상기 기재와는 반대측의 최표면에 위치하고, 화상이 형성되는 화상 형성층과, 상기 화상 형성층보다도 기재측에 위치하는 광택층을 포함하는 적층 구조를 가지며,
    또한, 상기 전사부의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하이고,
    상기 전사부가 상기 광택층보다도 기재측에 위치하는 은폐층을 포함하는 중간 전사 매체.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전사부가 상기 기재에 가장 가깝게 위치하는 박리층을 포함하는 중간 전사 매체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광택층이 금속 안료 함유층, 금속 증착층 및 펄 안료 함유층에서 선택되는 1 또는 2 이상인 중간 전사 매체.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광택층이 인듐 증착층 또는 주석 증착층인 중간 전사 매체.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광택층이 불연속인 중간 전사 매체.
  6. 적어도, 기재, 은폐층, 광택층 및 화상이 형성되는 화상 형성층이 이 순서로 적층되어 있고, 그 전체의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하인 기록 매체.
  7. 제6항에 있어서, 상기 기재의 일부 또는 전부가 분리 가능한 기록 매체.
  8. 제1항 또는 제2항에 기재된 중간 전사 매체에서의 화상 형성층에 화상을 형성하는 화상 형성 공정을 포함하는 가식 시트의 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 화상 형성 공정이 승화형 열전사에 의한 화상 형성인 가식 시트의 제조 방법.
  10. 제6항 또는 제7항에 기재된 기록 매체에서의 화상 형성층에 화상을 형성하는 화상 형성 공정을 포함하는 가식 시트의 제조 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 화상 형성 공정이 승화형 열전사에 의한 화상 형성인 가식 시트의 제조 방법.
  12. 적어도, 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 박리 가능하게 설치된 가식부를 포함하는 가식 시트로서,
    상기 가식부는, 상기 기재측으로부터, 적어도, 은폐층, 광택층, 화상이 형성된 화상층이 이 순서로 적층된 적층 구조를 가지며,
    또한, 상기 가식부의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하인 가식 시트.
  13. 적어도, 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 설치된 가식부를 포함하는 가식 시트로서,
    상기 가식부는, 상기 기재측으로부터, 적어도, 은폐층, 광택층, 화상이 형성된 화상층이 이 순서로 적층된 적층 구조를 가지며,
    또한, 상기 가식 시트의, 380 nm부터 780 nm까지의 파장 영역에서의 최대 투과율이 40% 이하인 가식 시트.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 가식부의 상기 기재와는 반대측의 표면에 접착층이 위치하는 가식 시트.
  15. 제14항에 있어서, 상기 접착층이 자외선 흡수제 및 자외선 산란제의 어느 한쪽 또는 양쪽을 포함하는 가식 시트.
  16. 제14항에 있어서, 상기 접착층이 점착층 또는 히트 시일층인 가식 시트.
  17. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 기재의 일부 또는 전부가 분리 가능한 가식 시트.
  18. 피전사체와, 제12항 또는 제13항에 기재된 가식 시트를 일체화시키는 일체화 공정을 포함하는 가식품(加飾品)의 제조 방법.
  19. 제18항에 있어서, 상기 일체화 공정이, 피전사체에서의 소정의 부분에, 상기 가식 시트에서의 가식부를 전사하는 전사 공정인 가식품의 제조 방법.
  20. 제18항에 있어서, 상기 일체화 공정이, 피전사체에서의 소정의 부위에, 상기 가식 시트를 접합하는 공정인 가식품의 제조 방법.
  21. 제18항에 있어서, 상기 피전사체에서의 소정의 부분이 투명인 가식품의 제조 방법.
  22. 제12항 또는 제13항에 기재된 가식 시트와 일체화되어 있는 가식품.
  23. 삭제
  24. 삭제
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