KR102447660B1 - 워크 캐리어 및 워크 캐리어의 제조 방법 - Google Patents

워크 캐리어 및 워크 캐리어의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102447660B1
KR102447660B1 KR1020180027540A KR20180027540A KR102447660B1 KR 102447660 B1 KR102447660 B1 KR 102447660B1 KR 1020180027540 A KR1020180027540 A KR 1020180027540A KR 20180027540 A KR20180027540 A KR 20180027540A KR 102447660 B1 KR102447660 B1 KR 102447660B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
side recessed
hole
work
carrier
carrier substrate
Prior art date
Application number
KR1020180027540A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20180111523A (ko
Inventor
마사키 스기야마
Original Assignee
스피드팸 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스피드팸 가부시키가이샤 filed Critical 스피드팸 가부시키가이샤
Publication of KR20180111523A publication Critical patent/KR20180111523A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102447660B1 publication Critical patent/KR102447660B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/27—Work carriers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Gears, Cams (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

캐리어 기판이 얇은 경우여도, 수지 인서트부의 지름 방향으로 빠지거나 표리 방향으로 뽑아지는 것 등의 탈락을 방지하는 것이 가능한 워크 캐리어를 제공한다.
금속제의 캐리어 기판(1)에 형성된 워크 유지 구멍(2)의 내주면을 따라 수지 인서트부(3)가 마련된 워크 캐리어이다.
그리고, 워크 유지 구멍의 둘레부(13)로 되는 캐리어 기판에는, 둘레 방향으로 번갈아, 표리 방향으로 각각 움푹 패인 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B)가 형성되어 있음과 동시에, 표면측 오목부 및 이면측 오목부에 연속한 표리 방향으로 관통하는 관통 구멍부(8)가 마련되어 있다. 게다가, 표면측 오목부, 이면측 오목부 및 관통 구멍부 그리고 워크 유지 구멍의 내주면을 따른 부분에 수지 인서트부로 되는 합성수지 재료가 충전되어 있다.

Description

워크 캐리어 및 워크 캐리어의 제조 방법{WORK CARRIER AND MANUFACTURING METHOD OF WORK CARRIER}
본 발명은, 산화물 웨이퍼, 실리콘 웨이퍼, 유리, 사퍼이어, 세라믹스, 수정 등의 박판 모양의 워크를 연마 장치에 의해 연마 가공할 때에, 워크의 유지에 사용되는 워크 캐리어 및 워크 캐리어의 제조 방법에 관한 것이다.
실리콘 웨이퍼 등의 워크의 양쪽 면 또는 한쪽 면을 연마 장치에 의해 연마 가공할 때에, 워크 유지 구멍을 갖는 워크 캐리어에 워크를 유지시키는 것이 알려지고 있다 (특허문헌 1 내지 4 등 참조).
워크 캐리어의 본체로 되는 캐리어 기판은, SK강철이나 스텐레스강 등의 경질(硬質)의 금속 소재에 의해 형성되기 때문에, 캐리어 기판에 뚫은 워크 유지 구멍에 워크를 직접 유지시키면, 연마 가공 중에 워크가 워크 유지 구멍의 내주면에 접촉해 워크에 깨짐이나 흠결 등의 손상이 생길 우려가 있다.
그래서, 특허문헌 1 내지 4에 개시되어 있는 바와 같이, 워크 유지 구멍의 내주면을 따라 합성수지제(合成樹脂製)의 연질(軟質)의 인서트를 부착하여 연마 가공 중의 워크의 손상을 방지하는 처리가 행하여지고 있다.
특허문헌 1에는, 워크 유지 구멍의 내주면에 둘레 방향으로 간격을 두고 돌기부를 마련하고, 사출성형에 의해 돌기부 사이에도 수지부가 충전(充塡)되도록 하는 것으로 수지부를 금속판에 일체화시키는 것이 기재되어 있다. 게다가, 돌기부의 상방부(上方部) 및 하방부에 목귀질부를 형성하는 것으로, 수지부가 상하 방향으로 뽑아져 탈락하는 것을 방지할 수 있는 구조로 되어 있다.
또한, 특허문헌 2에는, 캐리어 기판의 워크 유지 구멍의 내주면을 따라 홈(溝)을 마련하고, 그 홈에 합성수지 재료가 진입하도록 사출성형하는 것에 의해, 연질의 링(ring) 모양의 인서트를 마련하는 것이 기재되어 있다.
한편, 특허문헌 3에는, 워크 유지 구멍을 형성하는 캐리어 본체의 내주면을, 지름 방향을 따라 오목한 모양으로 하는 것으로, 인서트의 상면부와 하면부의 지름 방향의 길이를 짧게 해서, 인서트의 마모나 변형을 적게 하는 구조가 기재되어 있다.
게다가, 특허문헌 4에는, 얇은 물건의 워크의 연마 가공에 사용하기 위한 금속 캐리어가 개시되어 있다. 이 금속 캐리어의 워크 유지 구멍에도 수지 코트 유지부(인서트)가 마련되지만, 수지 코트 유지부가 벗겨지지 않도록, 금속 캐리어에 지름이 작은 구멍을 마련하고, 그 구멍에 수지 코트 유지부의 일부로 되는 수지가 충전되도록 하고 있다.
[특허문헌1] 일본 공개특허공보 특개2002-18708호 [특허문헌2] 일본 공개특허공보 특개2009-12086호 [특허문헌3] 일본 공개특허공보 특개2010-179375호 [특허문헌4] 일본 실용신안등록공보 제3086591호
그러나, 특허문헌 1, 2에 개시된 워크 캐리어는, 캐리어 기판의 워크 유지 구멍의 내주면을 평면시(平面視)의 요철로 가공하여 있어, 돌기부로 되는 부분의 상표면이나 하표면에 목귀질을 해서 두께를 얇게 하면, 돌기부가 변형하기 쉬워진다. 이 때문에, 이러한 가공은, 특허문헌 4에 개시되어 있는 바와 같은 얇은 물건용의 워크 캐리어에는 적용하기가 어렵다.
그래서, 본 발명은, 캐리어 기판이 얇은 경우여도, 수지 인서트부의 지름 방향으로 빠지거나 표리(表裏) 방향으로 뽑아지는 것 등의 탈락을 방지하는 것이 가능한 워크 캐리어 및 워크 캐리어의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 워크 캐리어는, 금속제의 캐리어 기판에 형성된 워크 유지 구멍의 내주면을 따라 수지 인서트부가 마련되는 워크 캐리어로서, 상기 워크 유지 구멍의 둘레부로 되는 상기 캐리어 기판에는, 둘레 방향으로 번갈아, 표리 방향으로 각각 움푹 패인 표면측 오목부와 이면측 오목부가 형성되어 있음과 동시에, 상기 표면측 오목부 및 이면측 오목부에 연속한 상기 표리 방향으로 관통하는 관통 구멍부가 마련되며, 상기 표면측 오목부, 이면측 오목부 및 관통 구멍부 그리고 상기 워크 유지 구멍의 내주면을 따른 부분에 수지 인서트부로 되는 합성수지 재료가 충전되어 있는 것을 특징으로 한다.
그 중, 상기 표면측 오목부와 상기 이면측 오목부는, 둘레 방향으로 간격을 두고 마련되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 상기 관통 구멍부는, 상기 표면측 오목부와 상기 이면측 오목부 사이마다에 마련되어 있는 구성으로 할 수 있다.
게다가, 상기 표면측 오목부 및 이면측 오목부의 저면에는 돌기부 또는 구멍부가 마련되어 있고, 상기 돌기부의 주위 또는 상기 구멍부의 내부에는 상기 수지 인서트부의 일부가 충전되어 있는 구성으로 할 수 있다.
또한, 상기 표면측 오목부 및 이면측 오목부의 상기 워크 유지 구멍의 중심측에 좁음부가 마련되어 있는 구성으로 할 수 있다.
게다가, 워크 캐리어의 제조 방법의 발명은, 상기 캐리어 기판의 표면 및 이면을 소정의 묘화 패턴으로 마스킹을 하는 공정과, 마스킹된 상기 캐리어 기판에 에칭액을 부착시키는 공정과, 상기 에칭액에 의해 가공된 상기 캐리어 기판에 대해 상기 수지 인서트부를 마련하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
이와 같이 구성된 본 발명의 워크 캐리어는, 표리 방향으로 각각 움푹 패인 표면측 오목부와 이면측 오목부를 워크 유지 구멍의 둘레부의 둘레 방향으로 번갈아 마련한다. 이 때문에, 표면측 오목부 및 이면측 오목부에 충전된 합성수지 재료에 의해, 수지 인서트부가 표리 방향으로 뽑아지는 것을 방지할 수 있다.
또한, 표면측 오목부 및 이면측 오목부에 연속한 표리 방향으로 관통하는 관통 구멍부가 마련되어 합성수지 재료가 충전되기 때문에, 수지 인서트부가 지름 방향으로 빠지는 것을 방지할 수 있음과 동시에, 수지 인서트부가 벗겨지는 것을 어렵게 할 수 있다.
게다가, 표면측 오목부 및 이면측 오목부는, 워크 유지 구멍의 중심을 향해 지름 방향으로 돌출하지 않기 때문에, 캐리어 기판이 얇은 경우여도 적용할 수 있다. 특히, 표면측 오목부 및 이면측 오목부를 둘레 방향으로 간격을 두고 마련하는 것으로, 표면측 오목부 및 이면측 오목부의 양측에 전체 두께(캐리어 기판에 대해 에칭 가공을 하지 않은 부분의 두께)의 캐리어 기판이 남아있어, 캐리어 기판의 변형을 보다 생기기 어렵게 할 수 있다.
또한, 관통 구멍부를 표면측 오목부와 이면측 오목부 사이마다에 마련하는 것으로, 관통 구멍부를 통해 전부의 표면측 오목부와 이면측 오목부가 둘레 방향으로 연속하여 일체화되기 때문에, 수지 인서트부를 보다 벗겨지기 어렵게 할 수 있다.
게다가, 표면측 오목부 및 이면측 오목부의 저면에 돌기부 또는 구멍부를 마련하고, 그 주위 또는 구멍부의 내부에 수지 인서트부의 일부를 충전하는 것으로, 수지 인서트부의 지름 방향의 이동을 확실히 억제하고, 캐리어 기판과의 일체성을 높일 수 있다.
또한, 표면측 오목부 및 이면측 오목부의 워크 유지 구멍의 중심측에 좁음부를 마련하는 것으로, 수지 인서트부의 지름 방향의 이동을 확실히 억제하고, 캐리어 기판과의 일체성을 높일 수 있다.
게다가, 워크 캐리어의 제조 방법의 발명이면, 소정의 묘화 패턴으로 마스킹된 캐리어 기판에 에칭액을 부착시키는 것으로 에칭 가공을 하고, 수지 인서트부를 마련하는 공정을 경과하는 것으로, 캐리어 기판과 수지 인서트부의 일체성이 높은 워크 캐리어를 효율적으로 제조할 수 있다.
도 1a는, 본 실시 형태의 워크 캐리어의 워크 유지 구멍의 둘레부 부근을 확대해 설명하는 평면도이다.
도 1b는, 본 실시 형태의 워크 캐리어의 워크 유지 구멍의 둘레부 부근을 확대해 설명하는 사시도이다.
도 2는, 워크 캐리어의 개략 구성을 설명하는 평면도이다.
도 3a는, 본 실시 형태의 워크 캐리어의 제조 방법의 공정을 설명하기 위한 캐리어 기판의 표면측의 평면도이다.
도 3b는, 본 실시 형태의 워크 캐리어의 제조 방법의 공정을 설명하기 위한 캐리어 기판의 이면측의 평면도이다.
도 4a는, 도 3a의 A-A화살 방향에서 본 단면도이다.
도 4b는, 도 3b의 B-B화살 방향에서 본 단면도이다.
도 5는, 캐리어 기판과 수지 인서트부가 일체화된 상태를 나타내는 사시도이다.
도 6은, 실시예 1의 워크 캐리어의 워크 유지 구멍의 둘레부 부근을 확대해 설명하는 사시도이다.
도 7a는, 도 6의 C-C화살 방향에서 본 단면도이다.
도 7b는, 도 6의 D-D화살 방향에서 본 단면도이다.
도 8은, 실시예 2의 워크 캐리어의 워크 유지 구멍의 둘레부 부근을 확대해 설명하는 사시도이다.
도 9a는, 도 8의 E-E화살 방향 위치에 있어서, 실시예 2의 워크 유지 구멍의 내주면에 수지 인서트부를 마련한 구성을 설명하는 단면도이다.
도 9b는, 도 8의 F-F화살 방향 위치에 있어서, 실시예 2의 워크 유지 구멍의 내주면에 수지 인서트부를 마련한 구성을 설명하는 단면도이다.
도 10은, 실시예 3의 워크 캐리어의 워크 유지 구멍의 둘레부 부근을 확대해 설명하는 평면도이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 관해 도면을 참조하면서 설명한다. 도 1a, 도 1b 및 도 2는, 본 실시 형태의 워크 캐리어(10)의 구성을 설명하는 도면이며, 도 2가 전체의 개략 구성을 나타내고, 도 1a 및 도 1b가 워크 유지 구멍(2)의 둘레부(13) 부근을 확대해 나타내고 있다.
워크 캐리어(10)는, 박판 모양의 워크의 양쪽 면 또는 한쪽 면을 연마 가공하는 평면 연마 장치에 장착해 사용된다. 예컨대, 워크의 양쪽 면을 연마 가공하는 평면 연마 장치는, 정반(定盤)인 상정반 및 하정반과, 이 상정반 및 하정반의 중심부에 배치된 태양 기어(sun gear)와, 상정반 및 하정반의 외주측에 배치된 인터널 기어(internal gear)를 구비하고 있다.
그리고, 도 2에 도시된 바와 같은 워크 캐리어(10)는, 평면 연마 장치의 상정반과 하정반 사이에 배치된다.
워크 캐리어(10)는, 금속제의 캐리어 기판(1)에 의해 원판 모양의 본체가 형성된다. 이 캐리어 기판(1)에는, 예컨대, 복수의 원형의 워크 유지 구멍(2,···)이 뚫어진다. 그리고, 워크 유지 구멍(2)의 내주면을 따라 수지 인서트부(3)가 마련된다.
이 워크 캐리어(10)에는, 외형부(11)에 태양 기어 및 인터널 기어에 맞물리는 톱니부(도시는 생략)가 마련되어 있고, 태양 기어 및 인터널 기어의 회전에 의해 자전 및 공전한다. 그리고, 워크 캐리어(10)가 자전 및 공전하는 것으로, 워크 캐리어(10)의 워크 유지 구멍(2) 내에 배치된 워크의 양쪽 면이 상정반과 하정반에 의해 연마된다.
캐리어 기판(1)은, 금속판에서 원판 모양으로 잘라낸다. 금속판으로서는, 스텐레스강(SUS), 고탄소 크롬 축받이강, 탄소 공구강(SK강), 고속도 공구강, 합금 공구강, 고장력강, 티탄 등을 사용할 수 있다.
특히, 박판 모양의 워크를 연마 가공하는 경우에는, 얇은 캐리어 기판(1)이 사용된다. 예컨대, 0.1mm 내지 1.0mm 정도의 두께(표리 방향의 높이)의 캐리어 기판(1)이 사용된다. 또한, 워크의 두께에 응해 0.7mm 이하, 심지어는 0.5mm 이하의 두께가 얇은 캐리어 기판(1)이 사용된다.
한편, 수지 인서트부(3)는, 합성수지 재료에 의해 형성된다. 합성수지 재료에는, 폴리 아미드(PA), 폴리 아세탈(POM), 폴리 이미드(PI), 폴리 염화비닐(PVC), 폴리 아미드이미드(PAI), 폴리 카보네이트(PC) , 에폭시(EP) 등의 수지나,*j 글라스에폭시, 면포 베이클라이트 등의 섬유 강화 플라스틱 등을 사용할 수 있다. 후술하는 바와 같이, 사출성형에 의해 수지 인서트부(3)를 마련하는 경우에는, 열가소성 수지가 사용된다. 또한, 열압착에 의해 수지 인서트부(3)를 마련하는 경우에는, 열경화성 수지가 사용된다.
본 실시 형태의 워크 유지 구멍(2)의 둘레부(13)로 되는 캐리어 기판(1)에는, 수지 인서트부(3)와의 일체성을 높이기 위해, 도 1a 및 도 1b에 도시된 바와 같이, 둘레 방향으로 번갈아, 표리 방향으로 각각 움푹 패인 표면측 오목부(4A)와 이면측(裏面側) 오목부(4B)가 형성된다.
표면측 오목부(4A)는, 캐리어 기판(1)의 표면측으로부터 이면측을 향해 움푹 패인 평면시에 장방형 모양으로 형성된다. 표면측 오목부(4A)의 표리 방향의 깊이는, 캐리어 기판(1)의 두께의 절반정도로 된다.
한편, 표면측 오목부(4A)로부터 워크 유지 구멍(2)의 둘레 방향으로 간격을 두고 마련되는 이면측 오목부(4B)는, 캐리어 기판(1)의 이면측으로부터 표면측을 향해 움푹 패인 평면시에 장방형 모양으로 형성된다. 이면측 오목부(4B)의 표리 방향의 깊이는, 캐리어 기판(1)의 두께의 절반정도로 된다.
여기에서, 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B) 사이는, 평면시에 격리하고 있기 때문에, 그 사이에는, 전체 두께의 캐리어 기판(1)의 본체가 남아있다. 즉, 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B)는, 워크 유지 구멍(2)의 중심측은 개방되어 있지만, 주방향의 양측 및 지름 방향의 안쪽(상기 중심측과는 반대측)은, 후술하는 구석부 부근을 제외하고는 캐리어 기판(1)의 본체에 지지된 상태로 되어 있다.
그리고, 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B) 사이마다에는, 관통 구멍부(8)가 마련된다. 이 관통 구멍부(8)는, 표리 방향으로 관통하는 구멍이고, 표면측 오목부(4A) 및 이면측 오목부(4B)에 각각 연속한 공간이 형성된다.
상세로는, 관통 구멍부(8)는, 표면측 오목부(4A)의 안쪽(워크 유지 구멍(2)의 중심과는 반대측)의 구석부와 이면측 오목부(4B)의 안쪽의 구석부를 연결하도록, 예컨대 평면시 타원 모양으로 형성된다. 이 때문에, 표면측 오목부(4A)(또는, 이면측 오목부(4B))와 관통 구멍부(8)가 겹치는 위치에서는, 캐리어 기판(1)의 표면측으로부터 이면측(또는, 캐리어 기판(1)의 이면측으로부터 표면측)을 향해서의 움푹 패인부분이 결여하여 관통한 구멍으로 된다.
또한, 표면측 오목부(4A)(또는, 이면측 오목부(4B))에 대해 접하도록 관통 구멍부를 마련할 수도 있다. 이 경우는, 캐리어 기판(1)의 표면측으로부터 이면측(또는, 캐리어 기판(1)의 이면측으로부터 표면측)을 향해서의 움푹 패인부분에 결여부는 생기지 않는다.
도 5에 도시한 바와 같이, 이 관통 구멍부(8)에 수지 인서트부(3)의 일부로 되도록 합성수지 재료가 충전되어 구멍 충전부(33)가 형성되면, 수지 인서트부(3)의 짐름 방향의 이동을 저지(沮止)하는 저항부로 된다.
구멍 충전부(33)는, 캐리어 기판(1)의 두께와 동일한 두께로 되기 ‹š문에, 강한 걸림부로 될 수 있다.
즉, 수지 인서트부(3)는, 워크 유지 구멍(2)의 지름과 같은 정도의 지름의 링 모양으로 형성되는 원환부(31)와, 표면측 오목부(4A) 및 이면측 오목부(4B)의 내부 공간에 형성되는 직방체 모양의 충전부(32,···)와, 관통 구멍부(8)의 내부 공간에 형성되는 구멍 충전부(33,···)에 의해 구성된다. 이 원환부(31)와 충전부(32,···)와 구멍 충전부(33,···)는, 합성수지 재료에 의해 일체로 형성된다.
다음으로, 본 실시 형태의 워크 캐리어(10)의 제조 방법에 대해, 도 3a, 도 3b 및 도 4a, 도 4b를 참조하면서 설명한다.
우선, 캐리어 기판(1)의 표면 및 이면에, 소정의 묘화 패턴으로 마스킹을 행한다. 상세로는, CAD/CAM시스템 등으로 작성된 데이터를 사용하여, 레이저 플로터 등으로 고정밀도의 묘화 패턴의 원판을 작성한다.
또한, 캐리어 기판(1)의 표면 및 이면에 대해서는, 산화막 제거를 위한 산처리 또는 전해 연마 등의 사전 처리를 행한다. 계속해, 캐리어 기판(1)의 표면 및 이면의 전체면에, 각각 포토레지스트를 도포한다.
그리고, 묘화 패턴 원판을 이용하여, 포토레지스트에 의해 코팅된 캐리어 기판(1)의 표면과 이면에 노광하는 것으로, 빛쬐임을 행한다. 도시된 마스킹부(5A, 5B)는, 빛쬐임 후에 현상하여 남은 포토레지스트층을 나타내고 있다.
요컨대, 캐리어 기판(1)의 표면에 있어서는, 도 3a 및 도 4a에 도시한 바와 같이, 표면측 오목부(4A,···) 및 관통 구멍부(8,···) 이외가 마스킹부(5A)로 된다. 또한, 캐리어 기판(1)의 이면에 있어서는, 도 3b 및 도 4b에 도시된 바와 같이, 이면측 오목부(4B,···) 및 관통 구멍부(8,···) 이외가 마스킹부(5B)로 된다.
게다가, 마스킹된 캐리어 기판(1)의 표면 및 이면에 대해서는, 에칭액을 분무하여 부착시킨다. 이 에칭액의 부착에 의해, 마스킹부(5A, 5B) 이외의 캐리어 기판(1)의 노출한 면이 제거되어, 표리 방향으로 움푹 패인 표면측 오목부(4A) 및 이면측 오목부(4B), 그리고 표리 방향으로 관통하는 관통 구멍부(8)가 형성되게 된다.
소망하는 깊이까지 표면측 오목부(4A) 및 이면측 오목부(4B)가 용해되고, 관통 구멍부(8)가 관통한 단계에서 마스킹부(5A, 5B)를 제거하고, 세정 및 건조를 행한다. 도 1b에 도시한 바와 같이, 여기까지의 공정으로 캐리어 기판(1)의 워크 유지 구멍(2)의 둘레부(13)에, 표면측 오목부(4A), 이면측 오목부(4B) 및 관통 구멍부(8)가 형성된다.
이와 같이 하여 에칭 가공된 캐리어 기판(1)의 워크 유지 구멍(2,···)의 내주면에 대해, 수지 인서트부(3)를 마련한다. 수지 인서트부(3)는, 합성수지 재료의 사출성형 또는 열압착에 의해 마련된다.
사출성형에서는, 워크 유지 구멍(2)의 내측면으로 되는 위치에 형틀을 설치하고, 그 형틀과 캐리어 기판(1)의 둘레부(13) 사이의 공간에 가열 용융시킨 합성수지 재료를 사출주입하고, 냉각에 의해 경화시킨다. 관통 구멍부(8)는 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B)에 연속하여 형성되어 있기 때문에, 합성수지 재료가 흘러 들어갈 수 있다.
한편, 열압착이면, 프리프레그를 적층하여 소망의 모양으로 하고, 가열가압 프레스하는 것에 의해, 수지 인서트부(3)를 마련할 수 있다.
다음으로, 본 실시 형태의 워크 캐리어(10) 및 워크 캐리어(10)의 제조 방법의 작용에 대해 설명한다.
이와 같이 구성된 본 실시 형태의 워크 캐리어(10)는, 표리 방향으로 각각 움푹 패인 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B)를 워크 유지 구멍(2)의 둘레부(13)의 둘레 방향으로 번갈아 마련한다. 게다가, 표면측 오목부(4A) 및 이면측 오목부(4B)에 연속한 표리 방향으로 관통하는 관통 구멍부(8)를 마련한다.
이 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B)와 관통 구멍부(8)에, 각각 수지 인서트부(3)의 일부인 충전부(32, 32) 및 구멍 충전부(33)가 마련되면, 수지 인서트부(3)가 둘레 방향으로 이동하는(편이(偏移)하는) 것을 방지할 수 있다.
게다가, 캐리어 기판(1)의 표면측과 이면측의 양쪽에, 둘레 방향으로 번갈아 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B)가 형성되고, 그 내부 공간에 각각 충전부(32, 32)가 마련되는 것에 의해, 캐리어 기판(1)이 충전부(32, 32)에 의해 끼워지는 것으로 되기 때문에, 캐리어 기판(1)의 표리의 어느 방향에 대해서도 수지 인서트부(3)가 탈락하는 것을 방지할 수 있게 된다.
예컨대, 사출성형이나 열압착에 의해 수지 인서트부(3)를 마련한 경우, 냉각하여 경화시켰을 때에 수축이 일어나지만, 캐리어 기판(1)의 양쪽 면에 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B)에 의한 충전부(32, 32)가 마련되어 있으면, 수지 인서트부(3)가 다소 수축하였다고 하여도 탈락을 방지할 수 있다.
또한, 표리 방향으로 관통하는 관통 구멍부(8)에 마련된 구멍 충전부(33)는, 수지 인서트부(3)의 지름 방향의 이동을 저지하는 저항부로 된다. 즉, 수지 인서트부(3)가 수축 등을 하여 워크 유지 구멍(2)의 중심을 향한 지름 방향의 편이가 일어날 듯이 되어도, 구멍 충전부(33)가 걸림부로 되어 빠지는 것(벗겨지는 것)을 방지할 수 있다.
게다가, 표면측 오목부(4A) 및 이면측 오목부(4B)는, 톱니처럼 워크 유지 구멍(2)의 중심을 향해 지름 방향으로 돌출하지 않기 때문에 , 캐리어 기판(1)이 얇은 경우여도 적용할 수 있다. 예컨대, 박판 모양의 워크 연마 가공에 사용되는 1.0mm 이하의 캐리어 기판(1)에 적용할 수 있다. 또한, 게다가 얇은 워크를 연마 가공할 경우에 사용되는 0.7 mm이하, 심지어는 0.5 mm이하의 두께가 얇은 캐리어 기판(1)이여도 적용할 수 있다.
본 실시 형태의 워크 캐리어(10)에 있어서는, 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B)를 둘레 방향으로 간격을 두고 마련하고 있기 때문에, 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B)의 양측에, 각각 전체 두께의 캐리어 기판(1)이 남아있다. 이 때문에, 두께가 얇아지는 표면측 오목부(4A) 및 이면측 오목부(4B)는, 양측과 배면측 세 변(구석부 부근을 제외)에서 지지되는 것으로 되어 변형이 생기기 어려워진다.
또한, 관통 구멍부(8)를 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B) 사이마다에 마련하는 것으로, 수지 인서트부(3)가 벗겨지는 것을, 보다 생기기 어렵게 할 수 있다. 즉, 연마 면에 노출된 수지 인서트부(3)는, 연마 가공 때에 캐리어 기판(1)보다도 마모나 변형이 일어나기 쉽지만, 관통 구멍부(8)에 형성되는 구멍 충전부(33)처럼 캐리어 기판(1)과 동일한 두께를 가지면, 반복하여 연마 가공에 사용해도 수지 인서트부(3)가 벗겨지는 것을 생기기 어렵게 할 수 있다.
게다가, 이러한 구멍 충전부(33)를 통해 전부의 표면측 오목부(4A)와 이면측 오목부(4B)가, 캐리어 기판(1)의 내부측(워크 유지 구멍(2)의 중심과는 반대측)에서도 둘레 방향으로 연속해 일체화되어 있으면, 수지 인서트부(3)가 벗겨지는 것을 보다 어렵게 할 수 있다.
그리고, 본 실시 형태의 워크 캐리어(10)의 제조 방법이면, 소정의 묘화 패턴으로 마스킹된 캐리어 기판(1)에 에칭액을 부착시키는 것으로 에칭 가공을 하고, 수지 인서트부(3)를 마련하는 공정을 경과하는 것으로, 캐리어 기판(1)과 수지 인서트부(3)의 일체성이 높은 워크 캐리어(10)를 효율적으로 제조할 수 있다.
이하, 상기 실시 형태에서 설명한 워크 캐리어(10)와는 다른 형태의 실시예 1에 대해, 도 6, 도 7a, 도 7b를 참조하면서 설명한다. 또한, 상기 실시 형태에서 설명한 내용과 동일 또는 균등한 부분의 설명에 대해서는, 동일한 용어 또는 동일한 부호를 이용해 설명한다.
상기 실시 형태에서는, 저항부로서 관통 구멍부(8)에 형성되는 구멍 충전부(33)에 대해 설명하였다. 본 실시예 1에서는, 표면측 오목부(4C) 및 이면측 오목부(4D)의 저면(底面)에, 저항부로 되는 원주부(圓柱部)(42)를 추가해 마련하는 경우에 대해 설명한다.
본 실시예 1의 캐리어 기판(1A)에는, 표면측 오목부(4C)와 이면측 오목부(4D)에, 도 6에 도시한 바와 같이 원주부(42)가 평면시의 대략 중앙에 마련된다. 이 원주부(42)는, 표면측 오목부(4C)(또는, 이면측 오목부(4D))의 저면(41)으로부터 상방(또는, 하방)을 향해 연장되는 돌기부이다. 이 원주부(42)의 높이는, 표면측 오목부(4C)(또는, 이면측 오목부(4D))의 깊이와 동등하며 캐리어 기판(1A)의 절반정도로 된다.
이 원주부(42)의 주위에, 도 7a 및 도 7b에 도시한 바와 같이, 수지 인서트부(3A)의 일부로 되도록 합성수지 재료가 충전되어 충전부(32)가 형성되면, 원주부(42)는, 수지 인서트부(3A)의 지름 방향의 이동을 저지하는 저항부로 된다.
이 저항부로서의 기능의 높이(효과)는, 돌기부의 모양에 의해 다르다. 도 7a 및 도 7b에 도시한 바와 같이, 원주부(42)의 안쪽(워크 유지 구멍(2)의 중심과는 반대측)의 측면과 저면(41)이 이루는 각도θ는, 약 90°이다. 이 각도θ가 커질수록, 수지 인서트부(3A)의 워크 유지 구멍(2)의 중심방향으로의 이동을 저지하는 기능은 높아진다. 이 각도θ는, 70°이상이 바람직하지만, 보다 바람직하기는 90°이상이고, 각도θ가 둔각으로 되어 안쪽으로 기울어지면, 보다 강한 걸림부로 될 수 있다. 또한, 원주부(42)의 측면 모양도, 측면시(側面視)에 직선 모양에 한정되는 것은 아니고, 곡선 모양이나 요철이 있는 모양이여도 된다.
게다가는, 표면측 오목부(4C) 및 이면측 오목부(4D)에 마련되는 돌기부의 모양은, 원주 모양에 한정되는 것은 아니고, 직방체 모양, 다각주 모양 등 다양한 모양으로 할 수 있다. 돌기부가 어떠한 모양이여도, 수지 인서트부(3A)의 지름 방향의 이동을 저지하는 이동억제 기능을 발휘시킬 수 있다.
이 원주부(42)는, 마스킹 공정에 있어서, 표면측 오목부(4C) 내의 원주부(42)로 되는 곳에 마스킹을 행하고, 이면측 오목부(4D) 내의 원주부(42)로 되는 곳에도 마스킹을 행하는 것에 의해 형성될 수 있다.
사출 성형에서는, 워크 유지 구멍(2)의 내측면으로 되는 위치에 형틀을 설치하고, 그 형틀과 캐리어 기판(1A)의 둘레부(13) 사이의 공간에 가열 용융시킨 합성수지 재료를 사출주입하고, 냉각에 의해 경화시킨다. 돌기부가 원주부(42)이면, 합성수지 재료를 빈틈 없이 돌아 들어가도록 할 수 있다.
또한, 표면측 오목부(4C)와 이면측 오목부(4D)에 수지 인서트부(3A)의 지름 방향의 이동을 저지하는 저항부로서 원주부(42)가 추가로 마련되면, 수지 인서트부(3A)가 수축 등을 하여 워크 유지 구멍(2)의 중심을 향한 지름 방향의 편이가 일어날 듯이 되어도, 원주부(42)가 걸림부로 되어 빠지는 것(벗겨지는 것)을 방지할 수 있다. 요컨대, 구멍 충전부(33)의 빠짐방지 기능에, 원주부(42)의 효과가 가해진다.
게다가, 이 원주부(42)는, 캐리어 기판(1A) 자체이고 경질의 금속 소재에 의해 형성되어 있기 때문에, 수지 인서트부(3A)의 이동에 대해 강한 저항으로 되어, 빠지거나 벗겨지는 것을 확실히 저지할 수 있다.
또한, 실시예 1의 기타 구성 및 작용 효과에 대해서는, 상기 실시 형태 또는 다른 실시예와 거의 같기 때문에 설명을 생략한다.
이하, 상기 실시 형태 및 실시예 1에서 설명한 워크 캐리어(10)와는 다른 형태의 실시예 2에 대해, 도 8, 도 9a, 도 9b를 참조하면서 설명한다. 또한, 상기 실시 형태 또는 실시예 1에서 설명한 내용과 동일 또는 균등한 부분의 설명에 대해서는, 동일한 용어 또는 동일한 부호를 이용해 설명한다.
상기 실시예 1에서는, 저항부로서 표면측 오목부(4C)와 이면측 오목부(4D)의 저면(41)에 원주부(42)를 추가한 경우에 대해 설명하였다. 본 실시예 2에서는, 표면측 오목부(6A) 및 이면측 오목부(6B)의 저면(61)에, 저항부로 되는 구멍부로서 원통부(62)를 원주부(42)의 대신으로 마련한 경우에 대해 설명한다.
본 실시예 2의 캐리어 기판(1B)에는, 워크 유지 구멍(2)의 둘레부(13)에 마련되는 표면측 오목부(6A) 및 이면측 오목부(6B)에, 도 8에 도시한 바와 같이 원통부(62)가 평면시의 대략 중앙에 마련된다. 이 원통부(62)는, 표면측 오목부(6A)(또는, 이면측 오목부(6B))의 저면(61)으로부터 하방(또는,상방)의 면을 향해 관통된 구멍부이다. 이 원통부(62)의 깊이는, 캐리어 기판(1B)의 절반정도로 된다.
이 원통부(62)의 내부에, 도 9a 및 도 9b에 도시한 바와 같이, 수지 인서트부(3B)의 일부로 되도록 합성수지 재료가 충전되어 주상부(柱狀部)(35)가 형성되면, 주상부(35)는, 수지 인서트부(3B)의 지름 방향의 이동을 저지하는 저항부로 된다.
수지 인서트부(3B)는, 링 모양으로 형성되는 원환부(31)와, 표면측 오목부(6A) 및 이면측 오목부(6B)의 내부 공간에 형성되는 직방체 모양의 충전부(34,···)와, 원통부(62,···)의 내부에 형성되는 원주 모양의 주상부(35,···)와, 관통 구멍부(8)의 내부 공간에 형성되는 구멍 충전부(33,···)에 의해 구성된다. 이 원환부(31)와 충전부(34,···)와 주상부(35,···)와 구멍 충전부(33,···)는, 합성수지 재료에 의해 일체로 형성된다.
이와 같이 구성된 실시예 2의 워크 캐리어(10)는, 표리 방향으로 각각 움푹 패인 표면측 오목부(6A)와 이면측 오목부(6B)가 워크 유지 구멍(2)의 둘레부(13)의 둘레 방향으로 번갈아 마련됨과 동시에, 표면측 오목부(6A) 및 이면측 오목부(6B)의 원통부(62)에는, 수지 인서트부(3B)의 일부인 주상부(35)가 마련된다.
이 원통부(62)의 내부로 연장되는 주상부(35)는, 수지 인서트부(3B)가 수축 등을 하여 워크 유지 구멍(2)의 중심을 향한 지름 방향의 편이가 일어날 듯이 되어도, 걸림부로 되어 빠지는 것을 방지하는 저항부로 된다. 요컨대, 구멍 충전부(33)의 빠짐방지 기능에, 주상부(35)의 효과가 가해진다.
여기에서, 표면측 오목부(6A) 및 이면측 오목부(6B)에 마련되는 구멍부의 모양은, 원통 모양에 한정되는 것은 아니고, 직방체통(直方體筒) 모양, 다각체통(多角體筒) 모양 등 다양한 모양으로 할 수 있다. 구멍부가 어떠한 모양이여도, 수지 인서트부(3B)의 지름 방향의 이동을 저지하는 이동억제 기능을 발휘시킬 수 있다.
또한, 실시예 2의 워크 캐리어(10)에서는, 표면측 오목부(6A) 및 이면측 오목부(6B)에 마련되는 충전부(34,···)에 의해 둘레 방향으로 회전하는 것을 정지시키는 기능 및 표리 방향으로 뽑아지는 것을 방지하는 기능이 발휘되고, 관통 구멍부(8)에 마련되는 구멍 충전부(33,···)와 원통부(62,···)에 마련되는 주상부(35,···)에 의해 둘레 방향으로 회전하는 것을 정지시키는 기능 및 지름 방향의 이동억제 기능이 발휘되기 때문에, 캐리어 기판(1B)과 수지 인서트부(3B)의 높은 일체성을 확보할 수 있다.
또한, 실시예 2의 기타 구성 및 작용 효과에 대해서는, 상기 실시 형태 또는 다른 실시예와 거의 같기 때문에 설명을 생략한다.
이하, 상기 실시 형태 및 실시예 1, 2에서 설명한 워크 캐리어(10)와는 다른 형태의 실시예 3에 대해, 도 10을 참조하면서 설명한다. 또한, 상기 실시 형태 또는 실시예 1, 2에서 설명한 내용과 동일 또는 균등한 부분의 설명에 대해서는, 동일한 용어 또는 동일한 부호를 이용해 설명한다.
상기 실시 형태 및 실시예 1, 2에서는, 관통 구멍부(8)의 구멍 충전부(33) 그리고 표면측 오목부(4C, 6A) 및 이면측 오목부(4D, 6B)의 저면에 원주부(42) 또는 원통부(62)를 마련해 저항부로 하는 경우에 대해 설명하였다. 본 실시예 3에서는, 표면측 오목부(7A) 및 이면측 오목부(7B)의 평면시의 모양에 의해 저항부를 형성하는 경우에 대해 설명한다.
본 실시예 3의 저항부는, 도 10에 도시한 바와 같이, 표면측 오목부(7A) 및 이면측 오목부(7B)의 경사면으로 되는 측면(71, 71)에 의해 형성되는 좁음부이다. 즉, 측면(71)은, 워크 유지 구멍(2)의 중심측으로부터 외측을 향해 넓어지는 방향으로 경사하고 있다. 이 결과, 표면측 오목부(7A) 및 이면측 오목부(7B)는, 평면시에 개방측(워크 유지 구멍(2)의 중심측)이 좁아진 좁음부를 갖는 것으로 되고, 전체로는 안쪽이 넓은 사다리꼴 모양(쐐기 모양)으로 형성된다.
여기에서, 저항부로서는, 표면측 오목부(7A) 및 이면측 오목부(7B)에, 평면시에 워크 유지 구멍(2)의 중심측이 좁아지는 좁음부가 형성되어 있으면 되기 때문에, 측면(71)은 직선적인 경사면에 한정되는 것은 아니고, 곡선적이여도 된다. 예컨대, 표면측 오목부(7A) 및 이면측 오목부(7B)를, 평면시에 T자 모양이나 Y자 모양이나 플라스크 모양으로 형성하는 것으로, 워크 유지 구멍(2)의 중심측에 좁음부를 마련할 수도 있다.
그리고, 관통 구멍부(8A)는, 표면측 오목부(7A)의 안쪽(워크 유지 구멍(2)의 중심과는 반대측)의 정점부(頂點部)와 이면측 오목부(7B)의 안쪽의 정점부를 연결하도록, 예컨대 평면시 타원형으로 형성된다. 이 때문에, 표면측 오목부(7A)(또는, 이면측 오목부(7B))와 관통 구멍부(8A)가 겹치는 위치에서는, 캐리어 기판(1C)의 표면측으로부터 이면측(또는, 캐리어 기판(1C)의 이면측으로부터 표면측)을 향해서의 움푹 패인부분이 결여하여 관통한 구멍으로 된다.
이 관통 구멍부(8A)에, 수지 인서트부(3C)의 일부로 되는 합성수지 재료가 충전되어 구멍 충전부(33A)가 형성되면, 수지 인서트부(3C)의 지름 방향의 이동을 저지하는 저항부로 된다.
구멍 충전부(33A)는, 캐리어 기판(1)의 두께와 동일한 두께로 되기 때문에, 강한 걸림부로 될 수 있다.
게다가, 사다리꼴 모양의 표면측 오목부(7A) 및 이면측 오목부(7B)의 내부 공간에, 수지 인서트부(3C)의 일부로 되도록 합성수지 재료가 충전되어 충전부(36)가 형성되면, 쐐기 모양의 충전부(36)는, 좁음부에 있어서 워크 유지 구멍(2)의 중심측으로는 이동하기 어려운 상태로 되어 수지 인서트부(3C)의 지름 방향의 이동을 저지하는 저항부로 된다.
수지 인서트부(3C)는, 링 모양으로 형성되는 원환부(31)와, 표면측 오목부(7A) 및 이면측 오목부(7B)의 내부 공간에 형성되는 충전부(36, ···)와, 관통 구멍부(8A)의 내부 공간에 형성되는 구멍 충전부(33A, ···)에 의해 구성된다. 이 원환부(31)과 충전부(36,···)와 구멍 충전부(33A,···)는, 합성수지 재료에 의해 일체로 형성된다.
이와 같이 구성된 실시예 3의 워크 캐리어(10)는, 표리 방향으로 각각 움푹 패인 평면시 대략 쐐기 모양의 표면측 오목부(7A)와 이면측 오목부(7B)가 워크 유지 구멍(2)의 둘레부(13)의 둘레 방향으로 번갈아 마련된다.
이 표면측 오목부(7A) 및 이면측 오목부(7B)에 마련되는 평면시 대략 쐐기 모양의 충전부(36,···)에 의해 둘레 방향으로 회전하는 것을 정지시키는 기능 및 표리 방향으로 뽑아지는 것을 방지하는 기능이 발휘됨과 동시에, 지름 방향의 이동억제 기능이 발휘되기 때문에, 관통 구멍부(8A)에 형성되는 구멍 충전부(33A)의 기능에 더해 캐리어 기판(1C)과 수지 인서트부(3C)의 높은 일체성을 확보할 수 있다.
또한, 좁음부에 의한 저항부에는, 돌기부나 구멍부에 의한 저항부를 조합시킬 수도 있다. 이 경우도, 수지 인서트부(3C)의 지름 방향의 이동을 저지하는 이동억제 기능을 향상시킬 수 있다.
또한, 실시예 3의 기타 구성 및 작용 효과에 대해서는, 상기 실시 형태 또는 다른 실시예와 거의 같기 때문에 설명을 생략한다.
이상, 도면을 참조하여, 본 발명의 실시 형태 및 실시예를 상세히 설명하였지만, 구체적인 구성은, 이 실시 형태 및 실시예에 한하지 않고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 정도의 설계적 변경은, 본 발명에 포함된다.
예컨대, 상기 실시 형태 및 실시예에서는, 워크 유지 구멍(2)이 원형의 워크 캐리어(10)에 대해 설명하였지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 직사각형(정방형을 포함)의 워크 유지 구멍을 갖는 워크 캐리어에 대해서도 본 발명을 적용할 수 있다. 요컨대, 직사각형의 워크 유지 구멍의 내주면의 둘레 방향으로 번갈아, 표리 방향으로 각각 움푹 패인 표면측 오목부와 이면측 오목부를 형성함과 동시에 표면측 오목부 및 이면측 오목부에 연속한 관통 구멍부를 형성하고, 그 내주면을 따라 직사각형의 수지 인서트부를 마련할 수 있다. 게다가, 워크 유지 구멍은, 원형 및 직사각형 이외의 다른 모양이여도 된다.
또한, 상기 실시 형태 및 실시예에서는, 관통 구멍부(8, 8A)가 표면측 오목부(4A, 4C, 6A, 7A)와 이면측 오목부(4B, 4D, 6B, 7B) 사이마다에 마련되어 있는 경우에 대해 설명하였지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 하나 간격이나 두개 간격 등을 두는 것에 의해 전부의 사이에 마련할 필요는 없다.
10: 워크 캐리어
1: 캐리어 기판
13: 둘레부
2: 워크 유지 구멍
3: 수지 인서트부
4A: 표면측 오목부
4B: 이면측 오목부
5A, 5B: 마스킹부
1A: 캐리어 기판
3A: 수지 인서트부
4C: 표면측 오목부
4D: 이면측 오목부
41: 저면
42: 원주부(돌기부)
1B: 캐리어 기판
6A: 표면측 오목부
6B: 이면측 오목부
61: 저면
62: 원통부(구멍부)
1C: 캐리어 기판
3C: 수지 인서트부
7A: 표면측 오목부
7B: 이면측 오목부

Claims (7)

  1. 금속제의 캐리어 기판에 형성된 워크 유지 구멍의 내주면을 따라 수지 인서트부가 마련되는 워크 캐리어에 있어서,
    상기 워크 유지 구멍의 둘레부로 되는 상기 캐리어 기판에는, 둘레 방향으로 번갈아, 표리 방향으로 각각 움푹 패인 표면측 오목부와 이면측 오목부가 형성되어 있음과 동시에,
    상기 표면측 오목부 및 이면측 오목부에 연속한 상기 표리 방향으로 관통하는 관통 구멍부가 마련되며,
    상기 표면측 오목부, 이면측 오목부 및 관통 구멍부 그리고 상기 워크 유지 구멍의 내주면을 따른 부분에 수지 인서트부로 되는 합성수지 재료가 충전되어 있는 것을 특징으로 하는 워크 캐리어.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 표면측 오목부와 상기 이면측 오목부는, 둘레 방향으로 간격을 두고 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 워크 캐리어.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 관통 구멍부는, 상기 표면측 오목부와 상기 이면측 오목부 사이마다에 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 워크 캐리어.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 임의 한항에 있어서,
    상기 표면측 오목부 및 이면측 오목부의 저면에는 돌기부 또는 구멍부가 마련되어 있고, 상기 돌기부의 주위 또는 상기 구멍부의 내부에는 상기 수지 인서트부의 일부가 충전되어 있는 것을 특징으로 하는 워크 캐리어.
  5. 제 1항 내지 제 3항 중 임의 한항에 있어서,
    상기 표면측 오목부 및 이면측 오목부의 상기 워크 유지 구멍의 중심측에 좁음부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 워크 캐리어.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 표면측 오목부 및 이면측 오목부의 상기 워크 유지 구멍의 중심측에 좁음부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 워크 캐리어.
  7. 제 1항에 기재된 워크 캐리어의 제조 방법으로서,
    상기 캐리어 기판의 표면 및 이면을 소정의 묘화 패턴으로 마스킹을 하는 공정과,
    마스킹된 상기 캐리어 기판에 에칭액을 부착시키는 공정과,
    상기 에칭액에 의해 가공된 상기 캐리어 기판에 대해 상기 수지 인서트부를 마련하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 워크 캐리어의 제조 방법.
KR1020180027540A 2017-03-30 2018-03-08 워크 캐리어 및 워크 캐리어의 제조 방법 KR102447660B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2017-068834 2017-03-30
JP2017068834A JP6792106B2 (ja) 2017-03-30 2017-03-30 ワークキャリア及びワークキャリアの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180111523A KR20180111523A (ko) 2018-10-11
KR102447660B1 true KR102447660B1 (ko) 2022-09-26

Family

ID=63844586

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180027540A KR102447660B1 (ko) 2017-03-30 2018-03-08 워크 캐리어 및 워크 캐리어의 제조 방법

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6792106B2 (ko)
KR (1) KR102447660B1 (ko)
CN (1) CN108687656B (ko)
TW (1) TWI723256B (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102434418B1 (ko) * 2022-03-10 2022-08-22 (주)뉴이스트 반도체 웨이퍼의 연마 공정에 사용되는 캐리어 제조 방법
CN115847281A (zh) * 2022-12-07 2023-03-28 西安奕斯伟材料科技有限公司 一种硅片的双面抛光用的载具以及装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1186326A (zh) 1996-10-31 1998-07-01 株式会社半导体能源研究所 结晶半导体的制造方法
JP2009012086A (ja) * 2007-07-02 2009-01-22 Speedfam Co Ltd ワークキャリア

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3086591B2 (ja) 1994-06-15 2000-09-11 三洋電機株式会社 監視用ビデオカメラ
JP3482130B2 (ja) * 1998-07-10 2003-12-22 株式会社岸田製作所 脆性薄板の平面研磨における保持装置
JP2001179615A (ja) * 1999-12-27 2001-07-03 Seiko Epson Corp 研磨用キャリア、表面研磨装置及び表面研磨方法
DK1300398T3 (da) * 2000-07-05 2006-07-17 Astellas Pharma Inc Propan-1,3-dionderivat
MY118114A (en) * 2000-07-10 2004-08-30 Sumitomo Bakelite Co Holder for polished work and manufacturing method thereof
JP3439726B2 (ja) * 2000-07-10 2003-08-25 住友ベークライト株式会社 被研磨物保持材及びその製造方法
KR20020018708A (ko) 2000-09-04 2002-03-09 구광시 자기기록매체의 제조방법
KR100398141B1 (ko) * 2000-10-12 2003-09-13 아남반도체 주식회사 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 이를 이용한반도체소자의 제조방법
KR100890458B1 (ko) 2007-07-27 2009-03-26 (주식회사)문창 스테인레스 강판제 물탱크
JP2009260272A (ja) * 2008-03-25 2009-11-05 Panasonic Corp 基板の加工方法および半導体チップの製造方法ならびに樹脂接着層付き半導体チップの製造方法
JP2010179375A (ja) 2009-02-03 2010-08-19 Sumco Corp 被研磨物キャリア及び研磨製品の製造方法
JP5578704B2 (ja) * 2010-03-09 2014-08-27 Ｓｈマテリアル株式会社 半導体素子搭載用基板及びその製造方法
JP2012169316A (ja) * 2011-02-10 2012-09-06 Think Laboratory Co Ltd エッチングマスク付基材及びその製造方法
CN105792988B (zh) * 2013-11-29 2018-07-20 Hoya株式会社 磨削或研磨处理用载体、磨削或研磨处理用载体的制造方法及磁盘用基板的制造方法
CN104759983A (zh) * 2015-02-11 2015-07-08 苏州新美光纳米科技有限公司 游星轮
CN205835021U (zh) * 2016-07-18 2016-12-28 湖南普照信息材料有限公司 游星轮
JP6800402B2 (ja) * 2016-10-06 2020-12-16 スピードファム株式会社 ワークキャリア及びワークキャリアの製造方法
CN107457689B (zh) * 2017-10-03 2024-04-05 德清晶生光电科技有限公司 用于单面打磨的游星轮

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1186326A (zh) 1996-10-31 1998-07-01 株式会社半导体能源研究所 结晶半导体的制造方法
JP2009012086A (ja) * 2007-07-02 2009-01-22 Speedfam Co Ltd ワークキャリア

Also Published As

Publication number Publication date
CN108687656A (zh) 2018-10-23
TWI723256B (zh) 2021-04-01
KR20180111523A (ko) 2018-10-11
JP2018167383A (ja) 2018-11-01
CN108687656B (zh) 2021-05-28
TW201836768A (zh) 2018-10-16
JP6792106B2 (ja) 2020-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102447660B1 (ko) 워크 캐리어 및 워크 캐리어의 제조 방법
KR102327479B1 (ko) 워크 캐리어 및 워크 캐리어의 제조 방법
TWI601197B (zh) The method of segmenting the circular plate
JP2009012086A (ja) ワークキャリア
TWI354325B (ko)
JP6800402B2 (ja) ワークキャリア及びワークキャリアの製造方法
KR102333519B1 (ko) 적층 웨이퍼의 가공 방법
US9676114B2 (en) Wafer edge trim blade with slots
JPH0691463A (ja) 板状体の保持装置
CN111341715B (zh) 电子装置及其制作方法
JP7088522B2 (ja) ワークキャリアの製造方法及びワークキャリアの研磨用拡幅部材
TW202147427A (zh) 晶圓的加工方法
CN111993267A (zh) 工件游星轮及工件游星轮的制造方法
JP7356709B2 (ja) ワークキャリア及びワークキャリアの製造方法
TWI704207B (zh) 附有黏著劑零件的製造方法及附有黏著劑零件
JP3980995B2 (ja) ボール位置決め治具の製造方法
JP7471746B2 (ja) チャックテーブル、及びチャックテーブルの製造方法
KR20200135175A (ko) 양면연마장치용 캐리어 및 그의 제조방법
JPH07156062A (ja) ラッピングキャリア
JP2022090797A (ja) ウェーハの加工方法
JP2022180843A (ja) ウェーハの加工方法
CN203426835U (zh) 切削工具
JP4390623B2 (ja) 薄膜形成方法
JP2512631B2 (ja) 外周補強部材を備えた半導体ウェハ、その製造方法及び装置
JP2008277610A (ja) ウエハのダイシング方法

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant